JP3749498B2 - 結晶成長用基板およびＺｎＯ系化合物半導体デバイス - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、酸化亜鉛系（ＺｎＯ系）化合物半導体結晶を成長させるのに好適な結晶成長用基板、ＺｎＯ系化合物半導体デバイス、およびＺｎＯ系化合物半導体結晶の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
ＺｎＯ等のＺｎＯ系化合物半導体はワイドギャップ半導体の１つであり、その励起子結合エネルギーは６０ｍｅＶ程度と大きい。このＺｎＯ系化合物半導体を活性層材料として用いて発光素子を構成することにより、窒化ガリウム系（ＧａＮ系）化合物半導体を活性層材料として用いた発光素子よりも発光効率の高い素子を得ることが理論上可能である。
【０００３】
このため、ＺｎＯ系化合物半導体は、青色発光素子または紫外発光素子での活性層の材料等として期待されている。
ＺｎＯ系化合物半導体を発光素子の活性層材料として利用するためには、まず、この化合物半導体の単結晶層を得ることが必要となる。
【０００４】
ＺｎＯ系化合物半導体の単結晶層は、例えばＭＢＥ（分子線エピタキシ）法やレーザアブレーション蒸着法によって、ａ面サファイア基板上もしくはｃ面サファイア基板上に直接またはテンプレート層を介して形成される。
【０００５】
ＺｎＯ系化合物半導体の結晶構造は六方晶系の１つであるウルツ鉱型であり、ａ面サファイア基板上あるいはｃ面サファイア基板上での結晶成長は、通常、−ｃ軸（酸素（Ｏ）面）方向に起こる。テンプレート層として例えばガリウム（Ｇａ）面ＧａＮ膜を用いた場合には、ＺｎＯ系化合物半導体をその＋ｃ軸（亜鉛（Ｚｎ）面）方向に結晶成長させることも可能である。また、Ｚｎ面ＺｎＯ基板上においても、＋ｃ軸方向に結晶成長させることができる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
ＺｎＯ系化合物半導体を例えば発光素子の活性層として用いるためには、結晶欠陥の少ない単結晶層を得ることが望まれる。しかしながら、ＺｎＯ系化合物半導体の単結晶中には結晶欠陥が生じやすい。
【０００７】
本発明の目的は、結晶性の良好なＺｎＯ系化合物半導体結晶を得ることが容易な、ＺｎＯ系化合物半導体結晶用の結晶成長用基板を提供することである。
本発明の他の目的は、ＺｎＯ系化合物半導体単結晶層を備え、この単結晶層の結晶性が良好なものを得やすいＺｎＯ系化合物半導体デバイスを提供することである。
【０００８】
本発明の更に他の目的は、結晶性の良好なＺｎＯ系化合物半導体結晶を得ることが容易なＺｎＯ系化合物半導体結晶の製造方法を提供することである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明の一観点によれば、ａ軸方向に階段状に連なった複数の（０００１）面を表面に有する六方晶結晶構造の化合物単結晶層を備え、該化合物単結晶層上に、ａ軸方向に傾斜した六方晶結晶構造のＺｎＯ系化合物半導体が成長される結晶成長用基板が提供される。
【００１０】
本発明の他の観点によれば、ａ軸方向に階段状に連なった複数の（０００１）面を表面に有する六方晶結晶構造の化合物単結晶層を備えた結晶成長用基板と、前記化合物単結晶層上に形成され、ａ軸方向に傾斜した六方晶結晶構造のＺｎＯ系化合物半導体単結晶層とを備えたＺｎＯ系化合物半導体デバイスが提供される。
【００１１】
本発明の更に他の観点によれば、（Ａ）ａ軸方向に階段状に連なった複数の（０００１）面を表面に有する六方晶結晶構造の化合物単結晶層を備えた結晶成長用基板を準備する工程と、（Ｂ）前記複数の（０００１）面上に、ａ軸方向に傾斜した六方晶結晶構造のＺｎＯ系化合物半導体単結晶を成長させる工程とを含むＺｎＯ系化合物半導体結晶の製造方法が提供される。
【００１２】
本件発明者らの知見によれば、ＺｎＯ系化合物半導体単結晶の結晶性を向上させるうえからは、ＺｎＯ系化合物半導体をその＋ｃ軸（Ｚｎ面）方向に成長させることが好ましい。
【００１３】
上述の結晶成長用基板を用いることにより、上記化合物単結晶層上に、ＺｎＯ系化合物半導体を＋ｃ軸（Ｚｎ面）方向に結晶成長させることができ、かつ、結晶性の良好なＺｎＯ系化合物半導体単結晶を得ることができる。
【００１４】
【発明の実施の形態】
図１は、実施例によるＺｎＯ系化合物半導体結晶用の結晶成長用基板１０を概略的に示す。図示の結晶成長用基板１０は、六方晶結晶構造を有する単結晶サファイア（α−Ａｌ2Ｏ3）基板２（以下、単に「サファイア基板２」という。）と、このサファイア基板２の一表面上に形成された単結晶窒化ガリウム層５（以下、単に「ＧａＮ層５」という。）とを有する。
【００１５】
単結晶窒化ガリウムの結晶構造は六方晶系の１つであるウルツ鉱型であり、ＧａＮ層５はテンプレート層として機能する。
図２（Ａ）は、図１に示した結晶成長用基板１０の一部を拡大して示す分解斜視図である。
【００１６】
図２（Ｂ）に示す座標系Ｃ１は、図２（Ａ）に示したＧａＮ層５での結晶軸（ａ軸、ｃ軸、およびｍ軸）の方向を示し、図２（Ｃ）に示す座標系Ｃ２は、図２（Ａ）に示したサファイア基板２での結晶軸（ａ軸、ｃ軸、およびｍ軸）の方向を示す。
【００１７】
座標系Ｃ１およびＣ２のいずれにおいても、ミラー指数［０００１］で示されるｃ軸、ミラー指数［１−１００］で示されるｍ軸、および、ミラー指数［１１−２０］で示されるａ軸は、互いに直行する。
【００１８】
なお、ミラー指数を表記する場合、負の値については数字の上に「バア(bar) 」を付すのが本来の表記法であるが、本明細書および図面においては、左側にマイナス記号「−」を付して、その右側の数値が負であることを表すものとする。
【００１９】
図２（Ａ）に示すＧａＮ層５の結晶構造は、サファイア基板２と同じ六方晶構造であり、そのｃ軸はサファイア基板２でのｃ軸と同一方向に延在し、また、そのａ軸方向はサファイア基板２でのｍ軸方向と同じ方向である。
【００２０】
このＧａＮ層５は、サファイア基板２上において＋ｃ面（Ｇａ面）方向にエピタキシャル成長しており、ａ軸方向（ＧａＮ層５でのａ軸方向）に階段状に連なった多数の（０００１）面５ａ（以下、個々の（０００１）面５ａを「第１テラス５ａ」という。）を有する。
【００２１】
１つの第１テラス５ａと、この第１テラス５ａに隣接する他の第１テラス５ａとの段差は、概ね１分子ステップまたは２分子ステップとすることが好ましい。１分子分ステップは１分子のＧａＮの大きさに相当し、ほぼ０．２６ｎｍである。２分子分ステップは２分子のＧａＮの大きさに相当し、ほぼ０．５２ｎｍである。
【００２２】
このようなＧａＮ層５は、例えば有機金属気相成長（ＭＯＣＶＤ）法、分子線エピタキシ（ＭＢＥ）法、気相エピタキシ（ＶＰＥ）法等によって形成される。また、下段の第１テラス５ａから上段の第１テラス５ａにかけての傾斜角は、概ね０．５°以下となるように、好適には０．１〜０．３°の範囲内となるように、選定される。
【００２３】
このとき、個々の第１ステップ５ａでのＧａＮ層５の膜厚は、概ね１〜４μｍの範囲内で選定することが好ましい。上記の膜厚が１μｍ未満では、サファイア基板２との格子不整合の影響が大きく、ＧａＮ層５の結晶性が悪くなりやすい。一方、上記の膜厚を４μｍより厚くすると、製造コストが高くなる。
【００２４】
結晶成長用基板１０は、サファイア基板２とＧａＮ層５という格子不整合材料によって形成されるので、ＧａＮ層５での上記の傾斜角が上述の範囲から外れると、ＧａＮ層５の表面モフォロジーが悪化しやすい。ＧａＮ層５の表面モフォロジーが悪化すると、その上に形成されるＺｎＯ系化合物半導体単結晶層の表面モフォロジーも悪化する傾向がある。ＧａＮ層５での上記の傾斜角が０．５°を超えると、その上に形成されるＺｎＯ系化合物半導体単結晶層での結晶性向上の効果が薄れる。
【００２５】
ＧａＮ層５での上記の傾斜角は、その下地であるサファイア基板２の表面形状を選定することによって調整可能である。
このサファイア基板２は、そのｍ軸方向に階段状に連なった多数の（０００１）面２ａ（以下、個々の（０００１）面２ａを「第２テラス２ａ」という。）を有する。
【００２６】
１つの第２テラス２ａと、この第２テラス２ａに隣接する他の第２テラス２ａとの段差は、概ね１分子ステップまたは２分子ステップとすることが好ましい。１分子分ステップは１分子のα−Ａｌ2Ｏ3の大きさに相当し、ほぼ０．２２ｎｍである。２分子分ステップは２分子のα−Ａｌ2Ｏ3の大きさに相当し、ほぼ０．４４ｎｍである。
【００２７】
下段の第２テラス２ａから上段の第２テラス２ａにかけての傾斜角は、ＧａＮ層５での前述の傾斜角が所定の値となるように選定される。ＧａＮ層５での前述の傾斜角を例えば０．１〜０．３°とする場合には、下段の第２テラス２ａから上段の第２テラス２ａにかけての傾斜角を、その上に形成しようとするＧａＮ層５での前述の傾斜角とほぼ同じ値にすることが好ましい。
【００２８】
サファイア基板２での上記の傾斜角とＧａＮ層５での前述の傾斜角とが上述の関係から外れると、格子不整合の影響により、所望のＧａＮ層５を得ることが困難になる。
【００２９】
上述の第２ステップ２ａを有するサファイア基板２は、例えば、平坦な（０００１）面を有するサファイア基板に、研磨、エッチング、酸素雰囲気中でのアニール等の処理を施すことによって作製することができる。
【００３０】
エッチングによってサファイア基板２を作製する場合には、例えば、リン酸（Ｈ3ＰＯ4）と硫酸（Ｈ2ＳＯ4）との混液（Ｈ3ＰＯ4：Ｈ2ＳＯ4＝１：３）をエッチャントとして用いることができる。この場合のエッチング条件は、例えば１１０℃、３０分とすることができる。
【００３１】
酸素雰囲気中でのアニールによってサファイア基板２を作製する場合には、アニール条件を、例えば１０００℃、１時間とすることができる。
なお、サファイア基板２やＧａＮ層５の結晶構造、および、上述の各傾斜角は、例えばＸ線回折装置を用いて確認することができる。
【００３２】
上述した構成を有する結晶成長用基板１０は、特に、ＺｎＯ系化合物半導体結晶を成長させるための基板として好適である。
ＧａＮ層５をテンプレート層として利用してその上にＺｎＯ系化合物半導体結晶を成長させることにより、結晶性の良好なＺｎＯ系化合物半導体単結晶層を得ることが可能である。結晶性の良好なＺｎＯ系化合物半導体単結晶層を備えたＺｎＯ系化合物半導体デバイスを得ることが可能である。
【００３３】
図３（Ａ）は、実施例によるＺｎＯ系化合物半導体デバイス２０を模式的に示す分解斜視図である。同図に示した構成部材のうち、図２（Ａ）に示した構成部材と共通するものには図２（Ａ）で用いた参照符号と同じ参照符号を付して、その説明を省略する。
【００３４】
図３（Ｂ）に示す座標系Ｃ３は、図３（Ａ）に示すＺｎＯ系化合物半導体単結晶層１５での結晶軸（ａ軸、ｃ軸、およびｍ軸）の方向を示す。同図においてミラー指数［０００１］で示されるｃ軸、ミラー指数［１−１００］で示されるｍ軸、および、ミラー指数［１１−２０］で示されるａ軸は、互いに直交する。
【００３５】
図３（Ａ）に示すように、ＺｎＯ系化合物半導体デバイス２０は、上述した結晶成長用基板１０と、この結晶成長用基板１０を構成しているＧａＮ層５上に形成されたＺｎＯ系化合物半導体単結晶層１５（以下、「ＺｎＯ系単結晶層１５」と略記する。）とを有する。必要に応じて、ＧａＮ層５とＺｎＯ系単結晶層１５との間に、ＺｎＯ系化合物半導体によって形成された膜厚１０〜４０ｎｍ程度のバッファ層を設けることができる。
【００３６】
ＺｎＯ系単結晶層１５でのｍ軸およびａ軸は、テンプレート層であるＧａＮ層５でのｍ軸およびａ軸に各々平行であり、そのｃ軸はＧａＮ層５でのｃ軸に平行である。
【００３７】
このＺｎＯ系単結晶層１５は、ＧａＮ層５上に＋ｃ面（Ｚｎ面）で成長しており、ａ軸方向（ＺｎＯ系単結晶層１５でのａ軸方向）に階段状に連なった多数の（０００１）面１５ａ（以下、個々の（０００１）面１５ａを「第３テラス１５ａ」という。）を有する。
【００３８】
１つの第３テラス１５ａと、この第３テラス１５ａに隣接する他の第３テラス１５ａとの段差は、概ね１分子ステップまたは２分子ステップとすることが好ましい。１分子分ステップは１分子のＺｎＯの大きさに相当し、ほぼ０．２６ｎｍである。２分子分ステップは２分子のＺｎＯの大きさに相当し、ほぼ０．５２ｎｍである。
【００３９】
下段の第３テラス１５ａから上段の第３テラス１５ａにかけての傾斜角は、概ね０．５°以下となるように、好適には０．１〜０．３°の範囲内となるように、選定される。この傾斜角は、その下地であるＧａＮ層５での前述の傾斜角を選定することによって、調整可能である。なお、ＺｎＯ系単結晶層の結晶構造、および上記の傾斜角は、例えばＸ線回折装置を用いて確認することができる。
【００４０】
上述のようにしてＧａＮ層５上にＺｎＯ系化合物半導体を結晶成長させることにより、結晶性の良好なＺｎＯ系単結晶層１５を得ることができる。結晶性の良好なＺｎＯ系単結晶層１５を備えたＺｎＯ系化合物半導体デバイス２０を得ることができる。
【００４１】
以下、ＭＢＥ（分子線エピタキシ）法によって酸化亜鉛（ＺｎＯ）単結晶層を形成する場合を例にとり、結晶成長用基板１０を用いたＺｎＯ系単結晶層１５の製造方法、ひいてはＺｎＯ系化合物半導体デバイス２０の製造方法について説明する。
【００４２】
まず、上述の結晶成長用基板１０を用意し、ＧａＮ層５をメタンクロライド系洗浄剤（例えば（株）トクヤマ製のメタクレン）やアセトン等の有機溶剤で洗浄することによって脱脂する。
【００４３】
この結晶成長用基板１０をＭＢＥ装置における成長室内の基板ホルダに装着し、成長室内を例えば１×１０-7Ｐａ以下にまで減圧する。ＧａＮ層５に原子状水素を照射しながら概ね７００℃程度で３０分間程度熱処理を施し、ＧａＮ層５の表面を清浄化する。
【００４４】
次いで、基板温度を概ね５００℃以下（例えば３５０℃）にまで下げ、この状態でＧａＮ層５に亜鉛（Ｚｎ）ビーム（亜鉛の分子線）および酸素（Ｏ）ラジカルビーム（酸素ラジカルの分子線）を照射して、膜厚が１０〜４０ｎｍ程度の酸化亜鉛（ＺｎＯ）バッファ層を形成する。
【００４５】
ＺｎビームおよびＯラジカルビームの照射を一旦中止し、ＺｎＯバッファ層表面の平坦性を改善する。この平坦性の改善は、例えば基板温度を７００℃程度にまで上げて数分間熱処理を施すことによって行うことができる。
【００４６】
基板温度をＺｎＯ結晶の成長温度、例えば６５０℃程度にしてから、ＺｎＯバッファ層にＺｎビームおよびＯラジカルビームを同時に照射し、ＺｎＯバッファ層上においてＺｎＯ結晶をその＋ｃ面（亜鉛（Ｚｎ）面）方向に成長させる。結晶性の良好なＺｎＯ単結晶層、ひいては、結晶性の良好なＺｎＯ単結晶層を備えたＺｎＯ系化合物半導体デバイスを得ることができる。
【００４７】
なお、ＧａＮ層５の表面が酸化されている、すなわち、ＧａＮ層５がＧａ2Ｏ3膜によって覆われていると、このＧａ2Ｏ3膜上においては、ＺｎＯ結晶がその−ｃ面（酸素（Ｏ）面）方向に成長する。ＺｎＯ結晶を＋ｃ面（Ｚｎ面）方向に成長させるうえからは、上述のように低温でＺｎＯバッファ層を形成し、これによってＧａＮ層５表面の酸化を抑制することが好ましい。
【００４８】
上述した方法に従って、結晶性が互いに異なる３種類のＺｎＯ単結晶層（以下、これらのＺｎＯ単結晶層を第１〜第３のＺｎＯ単結晶層という。）をそれぞれ別個の結晶成長用基板上にＲＦ−ＭＢＥ（高周波プラズマアシスト分子線エピタキシ）装置を用いて形成した。
【００４９】
また、比較のため、ｃ面に傾斜がないことをＸ線回折で確認したｃ面サファイア基板上にＧａＮ層（第１テラスは有していない。）が形成されている結晶成長用基板を用いて、ＺｎＯ単結晶層（以下、「第１の比較例によるＺｎＯ単結晶層」という。）を形成した。さらに、他の比較のため、ｍ軸方向に０．２°の傾斜角の下に連なった多数の第１テラスを有するｃ面サファイア基板上にＧａＮ層が形成されている結晶成長用基板を用いて、ＺｎＯ単結晶層（以下、「第２の比較例によるＺｎＯ単結晶層」という。）を形成した。
【００５０】
表１は、第１〜第３のＺｎＯ単結晶層および第１〜第２の比較例によるＺｎＯ単結晶層を形成する際に用いた結晶成長用基板での第１および第２テラスそれぞれの配列方向、隣り合う第１または第２テラス同士の段差、および下段の第１または第２テラスから上段の第１または第２テラスにかけての傾斜角、ならびにＧａＮ層の膜厚を示す。
【００５１】
表２は、第１〜第３のＺｎＯ単結晶層および第１〜第２の比較例によるＺｎＯ単結晶層を形成する際の成長条件、ならびに、これらのＺｎＯ単結晶層それぞれでの第３テラスの配列方向、隣り合う第３テラス同士の段差、下段の第３テラスから上段の第３テラスにかけての傾斜角、およびＺｎＯ単結晶層の膜厚を示す。これらのＺｎＯ単結晶層は、いずれも、ＺｎＯ結晶をその＋ｃ軸（Ｚｎ面）方向に成長させたものである。
【００５２】
【表１】
【００５３】
【表２】
【００５４】
図４は、第１〜第３のＺｎＯ単結晶層および第１〜第２の比較例によるＺｎＯ単結晶層についての成長速度を示す。同図の横軸は、各ＺｎＯ単結晶層を得るにあたって用いた結晶成長用基板での第２テラスの傾斜角、ひいては第１テラスの傾斜角を示し、縦軸は成長速度である。
【００５５】
同図中のプロットＰ１が第１のＺｎＯ単結晶層の成長速度を示し、プロットＰ２が第２のＺｎＯ単結晶層の成長速度を示し、プロットＰ３が第３のＺｎＯ単結晶層の成長速度を示す。第１の比較例によるＺｎＯ単結晶層の成長速度は同図中にプロットＰ５で示され、第２の比較例によるＺｎＯ単結晶層の成長速度は同図中にプロットＰ６で示されている。
【００５６】
第１の比較例によるＺｎＯ単結晶層と他のＺｎＯ単結晶層との比較から明らかなように、結晶成長用基板に第１および第２テラスを形成すると、これらのテラスを形成しない場合に比べて、ＺｎＯ単結晶層の成長速度が遅くなる。ＺｎＯ単結晶層の成長速度には、第１および第２テラスの傾斜角が大きくなるほど遅くなる傾向が認められる。
【００５７】
また、第２の比較例によるＺｎＯ単結晶層と第２のＺｎＯ単結晶層との比較から明らかなように、結晶成長用基板に第１および第２テラスを形成する場合、これらのテラスをｍ軸方向に連ならせるよりもａ軸方向に連ならせた方が、ＺｎＯ単結晶層の成長速度が遅くなる。
【００５８】
ＺｎＯ単結晶層の成長速度の相違が何に起因するものであるのかを調べるために、まず、各ＺｎＯ単結晶層の表面性状を高エネルギー反射電子回折（reflection high energy electron diffraction； 以下、「ＲＨＥＥＤ」と略記する。）によって評価した。
【００５９】
図５（Ａ）は第１のＺｎＯ単結晶層についての、図５（Ｂ）は第２のＺｎＯ単結晶層についてのＲＨＥＥＤによる回折パターンを示す。
図６（Ａ）は第１の比較例によるＺｎＯ単結晶層についての、図６（Ｂ）は第２の比較例によるＺｎＯ単結晶層についてのＲＨＥＥＤによる回折パターンを示す。
【００６０】
図５〜図６に示したいずれの回折パターンも、加速電圧２０ｋＶの電子線を用いて得たものである。
図５（Ｂ）に示したように、第２のＺｎＯ単結晶層からはきれいなストリーク状の回折パターンが得られた。このことから、第２のＺｎＯ単結晶層の表面には原子層ステップがあるものと考えられる。他のＺｎＯ単結晶層の表面は、スポット状の回折パターンが得られていることから、なだらかな凹凸表面であるか、または荒れた表面であるものと考えられる。
【００６１】
各ＺｎＯ単結晶層の表面性状を確認するために、これらのＺｎＯ単結晶層の表面を原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）により観察した。
図７（Ａ）は第１のＺｎＯ単結晶層についての、図７（Ｂ）は第２のＺｎＯ単結晶層についてのＡＦＭ写真を示す。
【００６２】
図８（Ａ）は第１の比較例によるＺｎＯ単結晶層についての、図８（Ｂ）は第２の比較例によるＺｎＯ単結晶層についてのＡＦＭ写真を示す。
図７〜図８に示したいずれの写真も、画像部分は、ＺｎＯ単結晶層表面での１×１μｍの大きさの領域を示す。各図中の白抜きの矢印とその先に示された「ａ−ａｘｉｓ」という文字は、ＺｎＯ単結晶のａ軸方向を示す。図８（Ｂ）中の白抜きの矢印とその先に示された「ｍ−ａｘｉｓ」という文字は、ＺｎＯ単結晶のｍ軸方向を示す。
【００６３】
図７（Ａ）〜図７（Ｂ）と図８（Ａ）〜図８（Ｂ）との対比から明らかなように、第１〜第２のＺｎＯ単結晶層では個々のＺｎＯ結晶が（０００１）面（ｃ面）内で２次元的に大きく成長してグレインサイズが大きいのに対し、第１〜第２の比較例によるＺｎＯ単結晶層ではｃ面内での個々のＺｎＯ結晶の成長が少なく、グレインサイズも小さい。
【００６４】
図４に示したＺｎＯ単結晶層の成長速度の相違は、個々のＺｎＯ結晶のｃ面内での成長の多寡を大きく反映しているものと考えられる。また、第１のＺｎＯ単結晶層と第２の比較例によるＺｎＯ単結晶層との比較から明らかなように、同じ成長速度であっても、結晶成長用基板にａ軸方向に連なる多数の第１ステップを形成した場合には、ｍ軸方向に連なる多数の第１ステップを形成した場合に比べてＺｎＯ結晶がｃ面内で大きく成長し、グレインサイズが大きくなる。
【００６５】
これら第１〜第２のＺｎＯ単結晶層および第１〜第２の比較例によるＺｎＯ単結晶層について、フォトルミネッセンス法（以下、「ＰＬ法」と略記する。）およびＸ線回折法（以下、「ＸＲＤ法」と略記する。）によって、その結晶性を評価した。
【００６６】
図９は、第１〜第２のＺｎＯ単結晶層および第１〜第２の比較例によるＺｎＯ単結晶層についてのＰＬ法によるフォトルミネッセンス（以下、「ＰＬ」と略記する。）強度の測定結果を示す。
【００６７】
同図中の実線Ｌ１が第１のＺｎＯ単結晶層についてのＰＬ強度の測定結果を示し、実線Ｌ２が第２のＺｎＯ単結晶層についてのＰＬ強度の測定結果を示す。第１の比較例によるＺｎＯ単結晶層についてのＰＬ強度の測定結果は同図中に実線Ｌ５で示され、第２の比較例によるＺｎＯ単結晶層についてのＰＬ強度の測定結果は同図中に実線Ｌ６で示されている。
【００６８】
いずれのＰＬ強度も、Ｈｅ−Ｃｄ+ レーザで発振したレーザ光（波長３２５ｎｍ、出力０．１ｍＷ）を測定光として用い、４．２Ｋの測定温度下で得たものである。
【００６９】
図９に示したように、第１〜第２のＺｎＯ単結晶層から得られたスペクトルでは、約３．３７ｅＶのエネルギーを有する束縛励起子発光の強度が強く、しかも、この束縛励起子発光が支配的となっている。これらのＺｎＯ単結晶層では、非発光センターが少ない。
【００７０】
これに対し、第１〜第２の比較例によるＺｎＯ単結晶層から得られたスペクトルでは、３．２５ｅＶ程度のエネルギーを有するブロードな発光が支配的となっている。この発光は、結晶欠陥に起因するものであると考えられる。
【００７１】
ＰＬ法による測定結果から、第１〜第２のＺｎＯ単結晶層は、いずれも、第１〜第２の比較例によるＺｎＯ単結晶層に比べて結晶性の良好なＺｎＯ単結晶によって形成されていることが判る。
【００７２】
図１０は、第１〜第２のＺｎＯ単結晶層および第１〜第２の比較例によるＺｎＯ単結晶層についてのＸＲＤによる測定結果を示す。同図の横軸は、各ＺｎＯ単結晶層を得るにあたって用いた結晶成長用基板（サファイア基板２）での第２テラスの傾斜角を示し、縦軸はＸ線ロッキングカーブ（以下、「ＸＲＣ」と略記する。）の半値幅を示す。
【００７３】
同図中のプロットＰ１１が第１のＺｎＯ単結晶層についての測定結果を示し、プロットＰ１２が第２のＺｎＯ単結晶層につての測定結果を示す。第１の比較例によるＺｎＯ単結晶層についての測定結果は同図中にプロットＰ１５で示され、第２の比較例によるＺｎＯ単結晶層についての測定結果は同図中にプロットＰ１６で示されている。
【００７４】
図１０に示したように、第１〜第２のＺｎＯ単結晶層では、ＸＲＣの半値幅が８arcmin以下と小さい。これに対して、第１〜第２の比較例によるＺｎＯ単結晶層では、ＸＲＣの半値幅が２６arcminを超える。
【００７５】
この測定結果から、第１〜第２のＺｎＯ単結晶層は、いずれも、第１〜第２の比較例によるＺｎＯ単結晶層に比べて非常に高い結晶性を有していることが判る。
【００７６】
このように、ａ軸方向に連なった多数の第１テラスを有するＧａＮ層上においてＺｎＯ結晶をその＋ｃ軸（Ｚｎ面）方向に成長させることにより、結晶性の良好なＺｎＯ単結晶層を得ることができる。
【００７７】
これらの測定ないし評価結果は、＋ｃ軸（Ｚｎ面）方向に成長させたＺｎＯ単結晶層の結晶性を向上させるうえからは、ＺｎＯ結晶をｃ面内で十分に成長させることが重要であることを示唆する。＋ｃ軸（Ｚｎ面）方向に成長するＺｎＯ結晶では、ａ軸方向での成長速度がｍ軸方向での成長速度よりも速い。テンプレート層であるＧａＮ層に、ａ軸方向に連なる多数のテラスを形成することにより、その上に成長するＺｎＯ結晶がａ軸方向へステップフローしやすくなる。その結果として、ＺｎＯ結晶が２次元方向にも十分に成長し、結晶性が向上するものと考えられる。
【００７８】
なお、第３のＺｎＯ単結晶層についても、その成長速度から、第１〜第２のＺｎＯ単結晶層と同様に、ＺｎＯ結晶が（０００１）面（ｃ面）内で２次元的に大きく成長しているものと考えられる。
【００７９】
以上は、図１〜図２に示した結晶成長用基板１０上にＺｎＯ単結晶を成長させた例であるが、結晶成長用基板１０に代えて例えばＺｎＯ単結晶からなる結晶成長用基板を用いても、その上に結晶性の良好なＺｎＯ単結晶を成長させることができる。
【００８０】
この場合には、六方晶系のウルツ鉱型結晶構造を有するＺｎＯ単結晶からなる結晶成長用基板（以下、「ＺｎＯ単結晶基板」という。）を用いることが好ましい。そして、このＺｎＯ単結晶基板には、例えば図２に示した第１テラス５ａのように、ａ軸方向に階段状に連なった複数の（０００１）面（以下、個々の（０００１）面を「第４テラス」という。）を形成することが好ましい。第４テラスは、形状的には図２に示した第１テラス５ａと同様であるので、ここではその図示を省略する。
【００８１】
１つの第４テラスと、この第４テラスに隣接する他の第４テラスとの段差は、概ね１分子ステップまたは２分子ステップとすることが好ましい。１分子分ステップは１分子のＺｎＯの大きさに相当し、ほぼ０．２６ｎｍである。２分子分ステップは２分子のＺｎＯの大きさに相当し、ほぼ０．５２ｎｍである。
【００８２】
また、下段の第４テラスから面から上段の第４テラスにかけての傾斜角は、概ね０．１〜２．０°の範囲内で選定することが好ましく、０．１〜１．０°の範囲内で選定することが更に好ましい。
【００８３】
この傾斜角が０．１°未満では、上記複数の第４テラスを形成したとしても、それらの上に結晶性の良好なＺｎＯ単結晶を成長させにくくなる。一方、上記の傾斜角が２．０°を超えると、ＺｎＯ単結晶の成長に先立って一般に行われるサーマルクリーニング（熱処理）によってＺｎＯ単結晶基板の表面モフォロジーが悪化して、その上に結晶性の良好なＺｎＯ単結晶を成長させにくくなる。上記の傾斜角は、特に、０．２〜１．０°の範囲内で選定することが好ましい。
【００８４】
複数の第４テラスを有する上述のＺｎＯ単結晶基板は、例えば、平坦な（０００１）面を有するＺｎＯ単結晶基板に研磨、酸素雰囲気中でのアニール等の処理を施すことによって作製することができる。
【００８５】
酸素雰囲気中でのアニールによってＺｎＯ単結晶基板に複数の第４テラスを形成する場合、そのアニール条件は、例えば１０００℃、１時間とすることができる。
【００８６】
なお、ＺｎＯ単結晶基板の結晶構造、および上述の傾斜角は、例えばＸ線回折装置を用いて確認することができる。
上記の傾斜角を０．５°としたＺｎＯ単結晶基板を用意し、このＺｎＯ単結晶基板における複数の第４テラス上に、前述した第１または第２のＺｎＯ単結晶層を形成する場合と同様にして、ＺｎＯ単結晶層（以下、「第４のＺｎＯ単結晶層」という。）を形成した。
【００８７】
比較のため、ｃ面（（０００１）面）に傾斜がないことをＸ線回折で確認したＺｎＯ単結晶基板を用意し、このＺｎＯ単結晶基板のｃ面上にも、同様にしてＺｎＯ単結晶層（以下、「第３の比較例によるＺｎＯ単結晶層」という。）を成長させた。
【００８８】
これら第４のＺｎＯ単結晶層および第３の比較例によるＺｎＯ単結晶層について、前述した第１または第２のＺｎＯ単結晶層について行ったＲＨＥＥＤと同条件でＲＨＥＥＤによる回折パターンを調べ、また、その表面のＡＦＭ写真を撮影した。さらに、前述した第１または第２のＺｎＯ単結晶層について行ったＰＬ強度の測定と同条件でＰＬ強度を測定した。
【００８９】
図１１（Ａ）は第４のＺｎＯ単結晶層についての、図１１（Ｂ）は第３の比較例によるＺｎＯ単結晶層についてのＲＨＥＥＤによる回折パターンを示す。
図１２（Ａ）は第４のＺｎＯ単結晶層についての、図１２（Ｂ）は第３の比較例によるＺｎＯ単結晶層についてのＡＦＭ写真を示す。これらの図に示したいずれの写真も、画像部分は、ＺｎＯ単結晶層表面での１×１μｍの大きさの領域を示す。
【００９０】
図１３は、第４のＺｎＯ単結晶層および第３の比較例によるＺｎＯ単結晶層についてのＰＬ強度の測定結果を示す。図中の実線Ｌ１０が第４のＺｎＯ単結晶層についてのＰＬ強度の測定結果を示し、実線Ｌ１１が第３の比較例によるＺｎＯ単結晶層についてのＰＬ強度の測定結果を示す。
【００９１】
これら図１１〜図１３から明らかなように、ＺｎＯ単結晶基板上にＺｎＯ単結晶を成長させる場合でも、ａ軸方向に連なった複数の第４テラスをＺｎＯ単結晶基板に予め形成しておくことにより、結晶性が良好なＺｎＯ結晶からなる第４のＺｎＯ単結晶層を成長させることができる。
【００９２】
結晶性が良好なＺｎＯ系化合物半導体単結晶層に対しては、ドーピング効率を容易に高めることができる。ガリウム（Ｇａ）、アルミニウム（Ａｌ）等のIII 属元素をドープすることにより、ｎ型のＺｎＯ系化合物半導体単結晶層を得ることができる。また、窒素（Ｎ）、ナトリウム（Ｎａ）等をドープすることにより、ｐ型のＺｎＯ系化合物半導体単結晶層を得ることができる。窒素とガリウムとをコ・ドーピングしても、ｐ型のＺｎＯ系化合物半導体単結晶層を得ることができる。
【００９３】
例えば、ｎ型のＺｎＯ系化合物半導体単結晶層とｐ型のＺｎＯ系化合物半導体単結晶層とを所望形状、所望箇所に形成することによって、発光素子等として機能するＺｎＯ系化合物半導体デバイスを得ることができる。
【００９４】
次に、他の実施例によるＺｎＯ系化合物半導体デバイスについて説明する。
図１４は、実施例によるＺｎＯ系化合物半導体デバイス５０（以下、「半導体デバイス５０」と略記する。）を概略的に示す。同時に示した構成要素のうち、図２に示した構成要素と共通するものについては図２で用いた参照符号と同じ参照符号を付してその説明を省略する。
【００９５】
図示の半導体デバイス５０では、ＺｎＯ系化合物半導体単結晶層の製造方法についての説明の中で述べたバッファ層３０がＧａＮ層５上に形成され、その上にｎ型ＺｎＯ単結晶層３２とｐ型ＺｎＯ単結晶層３４とがこの順番で積層される。
【００９６】
バッファ層３０は、前述のようにＺｎＯ系化合物半導体、例えばＺｎＯによって形成される。
ｎ型ＺｎＯ単結晶層３２は、例えばガリウム（Ｇａ）やアルミニウム（Ａｌ）等のIII 族元素が１０18ｃｍ-3程度ドープされた膜厚０．５〜２μｍ程度のＺｎＯ単結晶層である。このｎ型ＺｎＯ単結晶層３２の表層が一部除去され、これによって露出した表面の一領域上に、中央部に貫通孔を有する電気的絶縁膜３６が例えば窒化ケイ素によって形成されると共に、当該貫通孔を埋めるようにして第１電極３８が形成される。
【００９７】
ｎ型ＺｎＯ単結晶層３２と第１電極３８とをオーミックコンタクトさせるうえからは、例えばインジウム（Ｉｎ）、アルミニウム（Ａｌ）等によって第１電極３８を形成することが好ましい。
【００９８】
膜厚が０．１〜１μｍ程度のｐ型ＺｎＯ単結晶層３４をｎ型ＺｎＯ単結晶層３２上に例えば円板状に設けて、ｐｎ接合を形成する。
ｐ型ＺｎＯ単結晶層３４の縁部および外周部は、例えば前述した電気的絶縁膜３８によって、平面視上、環状に覆われる。
【００９９】
例えば環状を呈する第２電極４０が、ｐ型ＺｎＯ単結晶層３４の露出面の内周部から電気的絶縁膜３８上にかけて形成される。ｐ型ＺｎＯ単結晶層３４と第２電極４０とをオーミックコンタクトさせるうえからは、例えばニッケル（Ｎｉ）、ロジウム（Ｒｈ）、白金（Ｐｔ）、パラジウム（Ｐｄ）、金（Ａｕ）等の金属や、これらの金属の２種以上からなる合金、あるいは、これらの金属の薄膜を２種以上積層した積層膜等によって第２電極４０を形成することが好ましい。
【０１００】
このように構成された半導体デバイス５０では、第１電極３８に対して正の電圧を第２電極４０に印加することにより、上記のｐｎ接合に順方向電流を流すことができ、ｐ型ＺｎＯ単結晶層３４に注入された電子と当該ｐ型ＺｎＯ単結晶層３４中の正孔との再結合によって、禁制帯のエネルギーギャップにほぼ等しいエネルギーを有する発光をｐ型ＺｎＯ単結晶層３４の上面から得ることが可能であろう。すなわち、発光ダイオードとして機能させることが可能であろう。
【０１０１】
以上、実施例による結晶成長用基板、ＺｎＯ系化合物半導体結晶の製造方法、およびＺｎＯ系化合物半導体デバイスについて説明したが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
【０１０２】
例えば、結晶成長用基板にテンプレート層を設ける場合、このテンプレート層は、ＧａＮ単結晶によって形成する他に、六方晶結晶構造を有する他の化合物の単結晶、例えば、窒化アルミニウム（ＡｌＮ）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、炭化ケイ素（６Ｈ−ＳｉＣ，４Ｈ−ＳｉＣ、２Ｈ−ＳｉＣ）等の単結晶によって形成することもできる。
【０１０３】
これらの単結晶によって形成されたテンプレート層にも、ａ軸方向に階段状に連なった複数の（０００１）面（テラス）を形成する。
その上に結晶性の良好なＺｎＯ単結晶を成長させるうえからは、テンプレート層に設けた複数のテラスの傾斜角、すなわち、下段のテラスから上段のテラスにかけての傾斜角を、０．１〜０．５°の範囲内で選定することが好ましい。
【０１０４】
テンプレート層の材料としては、特に、六方晶系のウルツ鉱型結晶構造を有するＧａＮ、ＡｌＮ、ＺｎＯ、および６Ｈ−ＳｉＣの単結晶が好適である。
テンプレート層の下地となる基板としては、ｍ軸方向に階段状に連なった複数の（０００１）面（ｃ面；以下、「テラス」という。）を有する単結晶サファイア基板（例えば図２に示したサファイア基板２）の他に、ａ軸方向に階段状に連なった複数の（０００１）面（ｃ面；以下、「テラス」という。）を有する単結晶６Ｈ−ＳｉＣ基板や、ｃ軸方向に階段状に連なった複数の（１１−２０）面（ａ面；以下、「テラス」という。）を有する単結晶サファイア（α−Ａｌ2Ｏ3）基板等を用いることもできる。
【０１０５】
いずれの基板を用いる場合でも、これらの基板における下段のテラスから上段のテラスにかけての傾斜角は、その上に形成されるテンプレート層でのテラスの傾斜角が０．１〜０．５°の範囲内となるように、概ね０．１〜０．５°の範囲内で選定することが好ましい。テンプレート層の下地となる基板におけるテラスは、研磨、エッチング、酸素雰囲気中でのアニール等の方法によって形成することができる。
【０１０６】
テンプレート層を設けずに結晶成長用基板を単層構造にする場合、この結晶成長用基板は、前述したＺｎＯ単結晶以外に、六方晶系のウルツ鉱型結晶構造を有するＧａＮ、ＡｌＮ、６Ｈ−ＳｉＣ等の単結晶によって形成することができる。
【０１０７】
この場合でも、結晶成長用基板（単結晶基板）には、ａ軸方向に階段状に連なった複数の（０００１）面（テラス）を形成し、これらのテラス上にＺｎＯ単結晶を成長させることが好ましい。下段のテラスから上段のテラスにかけての傾斜角は、０．１〜２．０°の範囲内で選定することが好ましく、０．２〜１．０°の範囲内で選定することが更に好ましい。
【０１０８】
テンプレート層を設ける場合および設けない場合のいずれにおいても、その上にＺｎＯ単結晶が成長するテラス同士の間の段差は、１分子ステップまたは２分子ステップとすることが好ましく、できるだけ１分子ステップとすることが好ましい。
【０１０９】
その上にＺｎＯ単結晶が成長する個々のテラスの幅（傾斜角方向の平面視上の幅）は、テンプレート層においては概ね３０〜１５０ｎｍ程度、テンプレート層を設けない単結晶基板においては概ね７．５〜１５０ｎｍ程度の範囲内とすることが好ましい。
【０１１０】
なお、結晶軸のミラー指数はその結晶の結晶構造に応じて変化する。例えば「ａ軸」という同じ名称の結晶軸であっても、結晶構造が異なれば、異なるミラー指数によって表される。
【０１１１】
ｎ型のＺｎＯ系化合物半導体単結晶層とｐ型のＺｎＯ系化合物半導体単結晶層とを用いれば、発光ダイオードやレーザ発振器等の発光素子、電界効果トランジスタやバイポーラトランジスタ等の回路素子、あるいは受光素子等、種々の半導体デバイスを構成することが可能である。
【０１１２】
その他、種々の変更、改良、組み合わせ等が可能であることは、当業者に自明であろう。
【０１１３】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、結晶性の良好なＺｎＯ系化合物単結晶層を得ることが容易になる。ＺｎＯ系化合物単結晶層を用いた半導体デバイスの性能を向上させやすくなる。
【図面の簡単な説明】
【図１】実施例による結晶成長用基板を概略的に示す側面図である。
【図２】図２（Ａ）は、図１に示した結晶成長用基板の一部を拡大して示す分解斜視図であり、図２（Ｂ）は、図２（Ａ）に示したＧａＮ層での結晶軸（ａ軸、ｃ軸、およびｍ軸）の方向に対応した座標系を示す図であり、図２（Ｃ）は、図２（Ａ）に示したサファイア基板での結晶軸（ａ軸、ｃ軸、およびｍ軸）の方向に対応した座標系を示す図である。
【図３】図３（Ａ）は、実施例による半導体単結晶層付き基板を模式的に示す分解斜視図であり、図３（Ｂ）は、図３（Ａ）に示したＺｎＯ系化合物半導体単結晶層での結晶軸（ａ軸、ｃ軸、およびｍ軸）の方向に対応した座標系を示す図である。
【図４】第１〜第３のＺｎＯ単結晶層および第１〜第２の比較例によるＺｎＯ単結晶層それぞれの成長速度を示すグラフである。
【図５】図５（Ａ）は、第１のＺｎＯ単結晶層についてのＲＨＥＥＤ法による回折パターンを示す図であり、図５（Ｂ）は、第２のＺｎＯ単結晶層についてのＲＨＥＥＤ法による回折パターンを示す図である。
【図６】図６（Ａ）は、第１の比較例によるＺｎＯ単結晶層についてのＲＨＥＥＤ法による回折パターンを示す図であり、図６（Ｂ）は、第２の比較例によるＺｎＯ単結晶層についてのＲＨＥＥＤ法による回折パターンを示す図である。
【図７】図７（Ａ）は、第１のＺｎＯ単結晶層についてのＡＦＭ写真であり、図７（Ｂ）は、第２のＺｎＯ単結晶層についてのＡＦＭ写真である。
【図８】図８（Ａ）は、第１の比較例によるＺｎＯ単結晶層についてのＡＦＭ写真であり、図８（Ｂ）は第２の比較例によるＺｎＯ単結晶層についてのＡＦＭ写真である。
【図９】第１〜第２のＺｎＯ単結晶層および第１〜第２の比較例によるＺｎＯ単結晶層についてのＰＬ法によるＰＬ強度の測定結果を示すグラフである。
【図１０】第１〜第２のＺｎＯ単結晶層および第１〜第２の比較例によるＺｎＯ単結晶層についてのＸＲＤによる測定結果を示すグラフである。
【図１１】図１１（Ａ）は、第４のＺｎＯ単結晶層についてのＲＨＥＥＤ法による回折パターンを示す図であり、図１１（Ｂ）は、第３の比較例によるＺｎＯ単結晶層についてのＲＨＥＥＤ法による回折パターンを示す図である。
【図１２】図１２（Ａ）は、第４のＺｎＯ単結晶層についてのＡＦＭ写真であり、図１２（Ｂ）は、第３の比較例によるＺｎＯ単結晶層についてのＡＦＭ写真である。
【図１３】第４のＺｎＯ単結晶層および第３の比較例によるＺｎＯ単結晶層についてのＰＬ法によるＰＬ強度の測定結果を示すグラフである。
【図１４】他の実施例によるＺｎＯ系化合物半導体デバイスを概略的に示す断面図である。
【符号の説明】
２…単結晶サファイア基板、 ２ａ…第２テラス、 ５…ＧａＮ層、 ５ａ…第１テラス、 １０…結晶成長用基板、 １５…ＺｎＯ系化合物半導体単結晶層、 １５ａ…第３テラス、 ２０、５０…ＺｎＯ系化合物半導体デバイス、 ３２…ｎ型ＺｎＯ単結晶層、 ３４…ｐ型ＺｎＯ単結晶層。
【発明の属する技術分野】
本発明は、酸化亜鉛系（ＺｎＯ系）化合物半導体結晶を成長させるのに好適な結晶成長用基板、ＺｎＯ系化合物半導体デバイス、およびＺｎＯ系化合物半導体結晶の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
ＺｎＯ等のＺｎＯ系化合物半導体はワイドギャップ半導体の１つであり、その励起子結合エネルギーは６０ｍｅＶ程度と大きい。このＺｎＯ系化合物半導体を活性層材料として用いて発光素子を構成することにより、窒化ガリウム系（ＧａＮ系）化合物半導体を活性層材料として用いた発光素子よりも発光効率の高い素子を得ることが理論上可能である。
【０００３】
このため、ＺｎＯ系化合物半導体は、青色発光素子または紫外発光素子での活性層の材料等として期待されている。
ＺｎＯ系化合物半導体を発光素子の活性層材料として利用するためには、まず、この化合物半導体の単結晶層を得ることが必要となる。
【０００４】
ＺｎＯ系化合物半導体の単結晶層は、例えばＭＢＥ（分子線エピタキシ）法やレーザアブレーション蒸着法によって、ａ面サファイア基板上もしくはｃ面サファイア基板上に直接またはテンプレート層を介して形成される。
【０００５】
ＺｎＯ系化合物半導体の結晶構造は六方晶系の１つであるウルツ鉱型であり、ａ面サファイア基板上あるいはｃ面サファイア基板上での結晶成長は、通常、−ｃ軸（酸素（Ｏ）面）方向に起こる。テンプレート層として例えばガリウム（Ｇａ）面ＧａＮ膜を用いた場合には、ＺｎＯ系化合物半導体をその＋ｃ軸（亜鉛（Ｚｎ）面）方向に結晶成長させることも可能である。また、Ｚｎ面ＺｎＯ基板上においても、＋ｃ軸方向に結晶成長させることができる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
ＺｎＯ系化合物半導体を例えば発光素子の活性層として用いるためには、結晶欠陥の少ない単結晶層を得ることが望まれる。しかしながら、ＺｎＯ系化合物半導体の単結晶中には結晶欠陥が生じやすい。
【０００７】
本発明の目的は、結晶性の良好なＺｎＯ系化合物半導体結晶を得ることが容易な、ＺｎＯ系化合物半導体結晶用の結晶成長用基板を提供することである。
本発明の他の目的は、ＺｎＯ系化合物半導体単結晶層を備え、この単結晶層の結晶性が良好なものを得やすいＺｎＯ系化合物半導体デバイスを提供することである。
【０００８】
本発明の更に他の目的は、結晶性の良好なＺｎＯ系化合物半導体結晶を得ることが容易なＺｎＯ系化合物半導体結晶の製造方法を提供することである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明の一観点によれば、ａ軸方向に階段状に連なった複数の（０００１）面を表面に有する六方晶結晶構造の化合物単結晶層を備え、該化合物単結晶層上に、ａ軸方向に傾斜した六方晶結晶構造のＺｎＯ系化合物半導体が成長される結晶成長用基板が提供される。
【００１０】
本発明の他の観点によれば、ａ軸方向に階段状に連なった複数の（０００１）面を表面に有する六方晶結晶構造の化合物単結晶層を備えた結晶成長用基板と、前記化合物単結晶層上に形成され、ａ軸方向に傾斜した六方晶結晶構造のＺｎＯ系化合物半導体単結晶層とを備えたＺｎＯ系化合物半導体デバイスが提供される。
【００１１】
本発明の更に他の観点によれば、（Ａ）ａ軸方向に階段状に連なった複数の（０００１）面を表面に有する六方晶結晶構造の化合物単結晶層を備えた結晶成長用基板を準備する工程と、（Ｂ）前記複数の（０００１）面上に、ａ軸方向に傾斜した六方晶結晶構造のＺｎＯ系化合物半導体単結晶を成長させる工程とを含むＺｎＯ系化合物半導体結晶の製造方法が提供される。
【００１２】
本件発明者らの知見によれば、ＺｎＯ系化合物半導体単結晶の結晶性を向上させるうえからは、ＺｎＯ系化合物半導体をその＋ｃ軸（Ｚｎ面）方向に成長させることが好ましい。
【００１３】
上述の結晶成長用基板を用いることにより、上記化合物単結晶層上に、ＺｎＯ系化合物半導体を＋ｃ軸（Ｚｎ面）方向に結晶成長させることができ、かつ、結晶性の良好なＺｎＯ系化合物半導体単結晶を得ることができる。
【００１４】
【発明の実施の形態】
図１は、実施例によるＺｎＯ系化合物半導体結晶用の結晶成長用基板１０を概略的に示す。図示の結晶成長用基板１０は、六方晶結晶構造を有する単結晶サファイア（α−Ａｌ2Ｏ3）基板２（以下、単に「サファイア基板２」という。）と、このサファイア基板２の一表面上に形成された単結晶窒化ガリウム層５（以下、単に「ＧａＮ層５」という。）とを有する。
【００１５】
単結晶窒化ガリウムの結晶構造は六方晶系の１つであるウルツ鉱型であり、ＧａＮ層５はテンプレート層として機能する。
図２（Ａ）は、図１に示した結晶成長用基板１０の一部を拡大して示す分解斜視図である。
【００１６】
図２（Ｂ）に示す座標系Ｃ１は、図２（Ａ）に示したＧａＮ層５での結晶軸（ａ軸、ｃ軸、およびｍ軸）の方向を示し、図２（Ｃ）に示す座標系Ｃ２は、図２（Ａ）に示したサファイア基板２での結晶軸（ａ軸、ｃ軸、およびｍ軸）の方向を示す。
【００１７】
座標系Ｃ１およびＣ２のいずれにおいても、ミラー指数［０００１］で示されるｃ軸、ミラー指数［１−１００］で示されるｍ軸、および、ミラー指数［１１−２０］で示されるａ軸は、互いに直行する。
【００１８】
なお、ミラー指数を表記する場合、負の値については数字の上に「バア(bar) 」を付すのが本来の表記法であるが、本明細書および図面においては、左側にマイナス記号「−」を付して、その右側の数値が負であることを表すものとする。
【００１９】
図２（Ａ）に示すＧａＮ層５の結晶構造は、サファイア基板２と同じ六方晶構造であり、そのｃ軸はサファイア基板２でのｃ軸と同一方向に延在し、また、そのａ軸方向はサファイア基板２でのｍ軸方向と同じ方向である。
【００２０】
このＧａＮ層５は、サファイア基板２上において＋ｃ面（Ｇａ面）方向にエピタキシャル成長しており、ａ軸方向（ＧａＮ層５でのａ軸方向）に階段状に連なった多数の（０００１）面５ａ（以下、個々の（０００１）面５ａを「第１テラス５ａ」という。）を有する。
【００２１】
１つの第１テラス５ａと、この第１テラス５ａに隣接する他の第１テラス５ａとの段差は、概ね１分子ステップまたは２分子ステップとすることが好ましい。１分子分ステップは１分子のＧａＮの大きさに相当し、ほぼ０．２６ｎｍである。２分子分ステップは２分子のＧａＮの大きさに相当し、ほぼ０．５２ｎｍである。
【００２２】
このようなＧａＮ層５は、例えば有機金属気相成長（ＭＯＣＶＤ）法、分子線エピタキシ（ＭＢＥ）法、気相エピタキシ（ＶＰＥ）法等によって形成される。また、下段の第１テラス５ａから上段の第１テラス５ａにかけての傾斜角は、概ね０．５°以下となるように、好適には０．１〜０．３°の範囲内となるように、選定される。
【００２３】
このとき、個々の第１ステップ５ａでのＧａＮ層５の膜厚は、概ね１〜４μｍの範囲内で選定することが好ましい。上記の膜厚が１μｍ未満では、サファイア基板２との格子不整合の影響が大きく、ＧａＮ層５の結晶性が悪くなりやすい。一方、上記の膜厚を４μｍより厚くすると、製造コストが高くなる。
【００２４】
結晶成長用基板１０は、サファイア基板２とＧａＮ層５という格子不整合材料によって形成されるので、ＧａＮ層５での上記の傾斜角が上述の範囲から外れると、ＧａＮ層５の表面モフォロジーが悪化しやすい。ＧａＮ層５の表面モフォロジーが悪化すると、その上に形成されるＺｎＯ系化合物半導体単結晶層の表面モフォロジーも悪化する傾向がある。ＧａＮ層５での上記の傾斜角が０．５°を超えると、その上に形成されるＺｎＯ系化合物半導体単結晶層での結晶性向上の効果が薄れる。
【００２５】
ＧａＮ層５での上記の傾斜角は、その下地であるサファイア基板２の表面形状を選定することによって調整可能である。
このサファイア基板２は、そのｍ軸方向に階段状に連なった多数の（０００１）面２ａ（以下、個々の（０００１）面２ａを「第２テラス２ａ」という。）を有する。
【００２６】
１つの第２テラス２ａと、この第２テラス２ａに隣接する他の第２テラス２ａとの段差は、概ね１分子ステップまたは２分子ステップとすることが好ましい。１分子分ステップは１分子のα−Ａｌ2Ｏ3の大きさに相当し、ほぼ０．２２ｎｍである。２分子分ステップは２分子のα−Ａｌ2Ｏ3の大きさに相当し、ほぼ０．４４ｎｍである。
【００２７】
下段の第２テラス２ａから上段の第２テラス２ａにかけての傾斜角は、ＧａＮ層５での前述の傾斜角が所定の値となるように選定される。ＧａＮ層５での前述の傾斜角を例えば０．１〜０．３°とする場合には、下段の第２テラス２ａから上段の第２テラス２ａにかけての傾斜角を、その上に形成しようとするＧａＮ層５での前述の傾斜角とほぼ同じ値にすることが好ましい。
【００２８】
サファイア基板２での上記の傾斜角とＧａＮ層５での前述の傾斜角とが上述の関係から外れると、格子不整合の影響により、所望のＧａＮ層５を得ることが困難になる。
【００２９】
上述の第２ステップ２ａを有するサファイア基板２は、例えば、平坦な（０００１）面を有するサファイア基板に、研磨、エッチング、酸素雰囲気中でのアニール等の処理を施すことによって作製することができる。
【００３０】
エッチングによってサファイア基板２を作製する場合には、例えば、リン酸（Ｈ3ＰＯ4）と硫酸（Ｈ2ＳＯ4）との混液（Ｈ3ＰＯ4：Ｈ2ＳＯ4＝１：３）をエッチャントとして用いることができる。この場合のエッチング条件は、例えば１１０℃、３０分とすることができる。
【００３１】
酸素雰囲気中でのアニールによってサファイア基板２を作製する場合には、アニール条件を、例えば１０００℃、１時間とすることができる。
なお、サファイア基板２やＧａＮ層５の結晶構造、および、上述の各傾斜角は、例えばＸ線回折装置を用いて確認することができる。
【００３２】
上述した構成を有する結晶成長用基板１０は、特に、ＺｎＯ系化合物半導体結晶を成長させるための基板として好適である。
ＧａＮ層５をテンプレート層として利用してその上にＺｎＯ系化合物半導体結晶を成長させることにより、結晶性の良好なＺｎＯ系化合物半導体単結晶層を得ることが可能である。結晶性の良好なＺｎＯ系化合物半導体単結晶層を備えたＺｎＯ系化合物半導体デバイスを得ることが可能である。
【００３３】
図３（Ａ）は、実施例によるＺｎＯ系化合物半導体デバイス２０を模式的に示す分解斜視図である。同図に示した構成部材のうち、図２（Ａ）に示した構成部材と共通するものには図２（Ａ）で用いた参照符号と同じ参照符号を付して、その説明を省略する。
【００３４】
図３（Ｂ）に示す座標系Ｃ３は、図３（Ａ）に示すＺｎＯ系化合物半導体単結晶層１５での結晶軸（ａ軸、ｃ軸、およびｍ軸）の方向を示す。同図においてミラー指数［０００１］で示されるｃ軸、ミラー指数［１−１００］で示されるｍ軸、および、ミラー指数［１１−２０］で示されるａ軸は、互いに直交する。
【００３５】
図３（Ａ）に示すように、ＺｎＯ系化合物半導体デバイス２０は、上述した結晶成長用基板１０と、この結晶成長用基板１０を構成しているＧａＮ層５上に形成されたＺｎＯ系化合物半導体単結晶層１５（以下、「ＺｎＯ系単結晶層１５」と略記する。）とを有する。必要に応じて、ＧａＮ層５とＺｎＯ系単結晶層１５との間に、ＺｎＯ系化合物半導体によって形成された膜厚１０〜４０ｎｍ程度のバッファ層を設けることができる。
【００３６】
ＺｎＯ系単結晶層１５でのｍ軸およびａ軸は、テンプレート層であるＧａＮ層５でのｍ軸およびａ軸に各々平行であり、そのｃ軸はＧａＮ層５でのｃ軸に平行である。
【００３７】
このＺｎＯ系単結晶層１５は、ＧａＮ層５上に＋ｃ面（Ｚｎ面）で成長しており、ａ軸方向（ＺｎＯ系単結晶層１５でのａ軸方向）に階段状に連なった多数の（０００１）面１５ａ（以下、個々の（０００１）面１５ａを「第３テラス１５ａ」という。）を有する。
【００３８】
１つの第３テラス１５ａと、この第３テラス１５ａに隣接する他の第３テラス１５ａとの段差は、概ね１分子ステップまたは２分子ステップとすることが好ましい。１分子分ステップは１分子のＺｎＯの大きさに相当し、ほぼ０．２６ｎｍである。２分子分ステップは２分子のＺｎＯの大きさに相当し、ほぼ０．５２ｎｍである。
【００３９】
下段の第３テラス１５ａから上段の第３テラス１５ａにかけての傾斜角は、概ね０．５°以下となるように、好適には０．１〜０．３°の範囲内となるように、選定される。この傾斜角は、その下地であるＧａＮ層５での前述の傾斜角を選定することによって、調整可能である。なお、ＺｎＯ系単結晶層の結晶構造、および上記の傾斜角は、例えばＸ線回折装置を用いて確認することができる。
【００４０】
上述のようにしてＧａＮ層５上にＺｎＯ系化合物半導体を結晶成長させることにより、結晶性の良好なＺｎＯ系単結晶層１５を得ることができる。結晶性の良好なＺｎＯ系単結晶層１５を備えたＺｎＯ系化合物半導体デバイス２０を得ることができる。
【００４１】
以下、ＭＢＥ（分子線エピタキシ）法によって酸化亜鉛（ＺｎＯ）単結晶層を形成する場合を例にとり、結晶成長用基板１０を用いたＺｎＯ系単結晶層１５の製造方法、ひいてはＺｎＯ系化合物半導体デバイス２０の製造方法について説明する。
【００４２】
まず、上述の結晶成長用基板１０を用意し、ＧａＮ層５をメタンクロライド系洗浄剤（例えば（株）トクヤマ製のメタクレン）やアセトン等の有機溶剤で洗浄することによって脱脂する。
【００４３】
この結晶成長用基板１０をＭＢＥ装置における成長室内の基板ホルダに装着し、成長室内を例えば１×１０-7Ｐａ以下にまで減圧する。ＧａＮ層５に原子状水素を照射しながら概ね７００℃程度で３０分間程度熱処理を施し、ＧａＮ層５の表面を清浄化する。
【００４４】
次いで、基板温度を概ね５００℃以下（例えば３５０℃）にまで下げ、この状態でＧａＮ層５に亜鉛（Ｚｎ）ビーム（亜鉛の分子線）および酸素（Ｏ）ラジカルビーム（酸素ラジカルの分子線）を照射して、膜厚が１０〜４０ｎｍ程度の酸化亜鉛（ＺｎＯ）バッファ層を形成する。
【００４５】
ＺｎビームおよびＯラジカルビームの照射を一旦中止し、ＺｎＯバッファ層表面の平坦性を改善する。この平坦性の改善は、例えば基板温度を７００℃程度にまで上げて数分間熱処理を施すことによって行うことができる。
【００４６】
基板温度をＺｎＯ結晶の成長温度、例えば６５０℃程度にしてから、ＺｎＯバッファ層にＺｎビームおよびＯラジカルビームを同時に照射し、ＺｎＯバッファ層上においてＺｎＯ結晶をその＋ｃ面（亜鉛（Ｚｎ）面）方向に成長させる。結晶性の良好なＺｎＯ単結晶層、ひいては、結晶性の良好なＺｎＯ単結晶層を備えたＺｎＯ系化合物半導体デバイスを得ることができる。
【００４７】
なお、ＧａＮ層５の表面が酸化されている、すなわち、ＧａＮ層５がＧａ2Ｏ3膜によって覆われていると、このＧａ2Ｏ3膜上においては、ＺｎＯ結晶がその−ｃ面（酸素（Ｏ）面）方向に成長する。ＺｎＯ結晶を＋ｃ面（Ｚｎ面）方向に成長させるうえからは、上述のように低温でＺｎＯバッファ層を形成し、これによってＧａＮ層５表面の酸化を抑制することが好ましい。
【００４８】
上述した方法に従って、結晶性が互いに異なる３種類のＺｎＯ単結晶層（以下、これらのＺｎＯ単結晶層を第１〜第３のＺｎＯ単結晶層という。）をそれぞれ別個の結晶成長用基板上にＲＦ−ＭＢＥ（高周波プラズマアシスト分子線エピタキシ）装置を用いて形成した。
【００４９】
また、比較のため、ｃ面に傾斜がないことをＸ線回折で確認したｃ面サファイア基板上にＧａＮ層（第１テラスは有していない。）が形成されている結晶成長用基板を用いて、ＺｎＯ単結晶層（以下、「第１の比較例によるＺｎＯ単結晶層」という。）を形成した。さらに、他の比較のため、ｍ軸方向に０．２°の傾斜角の下に連なった多数の第１テラスを有するｃ面サファイア基板上にＧａＮ層が形成されている結晶成長用基板を用いて、ＺｎＯ単結晶層（以下、「第２の比較例によるＺｎＯ単結晶層」という。）を形成した。
【００５０】
表１は、第１〜第３のＺｎＯ単結晶層および第１〜第２の比較例によるＺｎＯ単結晶層を形成する際に用いた結晶成長用基板での第１および第２テラスそれぞれの配列方向、隣り合う第１または第２テラス同士の段差、および下段の第１または第２テラスから上段の第１または第２テラスにかけての傾斜角、ならびにＧａＮ層の膜厚を示す。
【００５１】
表２は、第１〜第３のＺｎＯ単結晶層および第１〜第２の比較例によるＺｎＯ単結晶層を形成する際の成長条件、ならびに、これらのＺｎＯ単結晶層それぞれでの第３テラスの配列方向、隣り合う第３テラス同士の段差、下段の第３テラスから上段の第３テラスにかけての傾斜角、およびＺｎＯ単結晶層の膜厚を示す。これらのＺｎＯ単結晶層は、いずれも、ＺｎＯ結晶をその＋ｃ軸（Ｚｎ面）方向に成長させたものである。
【００５２】
【表１】
【表２】
図４は、第１〜第３のＺｎＯ単結晶層および第１〜第２の比較例によるＺｎＯ単結晶層についての成長速度を示す。同図の横軸は、各ＺｎＯ単結晶層を得るにあたって用いた結晶成長用基板での第２テラスの傾斜角、ひいては第１テラスの傾斜角を示し、縦軸は成長速度である。
【００５５】
同図中のプロットＰ１が第１のＺｎＯ単結晶層の成長速度を示し、プロットＰ２が第２のＺｎＯ単結晶層の成長速度を示し、プロットＰ３が第３のＺｎＯ単結晶層の成長速度を示す。第１の比較例によるＺｎＯ単結晶層の成長速度は同図中にプロットＰ５で示され、第２の比較例によるＺｎＯ単結晶層の成長速度は同図中にプロットＰ６で示されている。
【００５６】
第１の比較例によるＺｎＯ単結晶層と他のＺｎＯ単結晶層との比較から明らかなように、結晶成長用基板に第１および第２テラスを形成すると、これらのテラスを形成しない場合に比べて、ＺｎＯ単結晶層の成長速度が遅くなる。ＺｎＯ単結晶層の成長速度には、第１および第２テラスの傾斜角が大きくなるほど遅くなる傾向が認められる。
【００５７】
また、第２の比較例によるＺｎＯ単結晶層と第２のＺｎＯ単結晶層との比較から明らかなように、結晶成長用基板に第１および第２テラスを形成する場合、これらのテラスをｍ軸方向に連ならせるよりもａ軸方向に連ならせた方が、ＺｎＯ単結晶層の成長速度が遅くなる。
【００５８】
ＺｎＯ単結晶層の成長速度の相違が何に起因するものであるのかを調べるために、まず、各ＺｎＯ単結晶層の表面性状を高エネルギー反射電子回折（reflection high energy electron diffraction； 以下、「ＲＨＥＥＤ」と略記する。）によって評価した。
【００５９】
図５（Ａ）は第１のＺｎＯ単結晶層についての、図５（Ｂ）は第２のＺｎＯ単結晶層についてのＲＨＥＥＤによる回折パターンを示す。
図６（Ａ）は第１の比較例によるＺｎＯ単結晶層についての、図６（Ｂ）は第２の比較例によるＺｎＯ単結晶層についてのＲＨＥＥＤによる回折パターンを示す。
【００６０】
図５〜図６に示したいずれの回折パターンも、加速電圧２０ｋＶの電子線を用いて得たものである。
図５（Ｂ）に示したように、第２のＺｎＯ単結晶層からはきれいなストリーク状の回折パターンが得られた。このことから、第２のＺｎＯ単結晶層の表面には原子層ステップがあるものと考えられる。他のＺｎＯ単結晶層の表面は、スポット状の回折パターンが得られていることから、なだらかな凹凸表面であるか、または荒れた表面であるものと考えられる。
【００６１】
各ＺｎＯ単結晶層の表面性状を確認するために、これらのＺｎＯ単結晶層の表面を原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）により観察した。
図７（Ａ）は第１のＺｎＯ単結晶層についての、図７（Ｂ）は第２のＺｎＯ単結晶層についてのＡＦＭ写真を示す。
【００６２】
図８（Ａ）は第１の比較例によるＺｎＯ単結晶層についての、図８（Ｂ）は第２の比較例によるＺｎＯ単結晶層についてのＡＦＭ写真を示す。
図７〜図８に示したいずれの写真も、画像部分は、ＺｎＯ単結晶層表面での１×１μｍの大きさの領域を示す。各図中の白抜きの矢印とその先に示された「ａ−ａｘｉｓ」という文字は、ＺｎＯ単結晶のａ軸方向を示す。図８（Ｂ）中の白抜きの矢印とその先に示された「ｍ−ａｘｉｓ」という文字は、ＺｎＯ単結晶のｍ軸方向を示す。
【００６３】
図７（Ａ）〜図７（Ｂ）と図８（Ａ）〜図８（Ｂ）との対比から明らかなように、第１〜第２のＺｎＯ単結晶層では個々のＺｎＯ結晶が（０００１）面（ｃ面）内で２次元的に大きく成長してグレインサイズが大きいのに対し、第１〜第２の比較例によるＺｎＯ単結晶層ではｃ面内での個々のＺｎＯ結晶の成長が少なく、グレインサイズも小さい。
【００６４】
図４に示したＺｎＯ単結晶層の成長速度の相違は、個々のＺｎＯ結晶のｃ面内での成長の多寡を大きく反映しているものと考えられる。また、第１のＺｎＯ単結晶層と第２の比較例によるＺｎＯ単結晶層との比較から明らかなように、同じ成長速度であっても、結晶成長用基板にａ軸方向に連なる多数の第１ステップを形成した場合には、ｍ軸方向に連なる多数の第１ステップを形成した場合に比べてＺｎＯ結晶がｃ面内で大きく成長し、グレインサイズが大きくなる。
【００６５】
これら第１〜第２のＺｎＯ単結晶層および第１〜第２の比較例によるＺｎＯ単結晶層について、フォトルミネッセンス法（以下、「ＰＬ法」と略記する。）およびＸ線回折法（以下、「ＸＲＤ法」と略記する。）によって、その結晶性を評価した。
【００６６】
図９は、第１〜第２のＺｎＯ単結晶層および第１〜第２の比較例によるＺｎＯ単結晶層についてのＰＬ法によるフォトルミネッセンス（以下、「ＰＬ」と略記する。）強度の測定結果を示す。
【００６７】
同図中の実線Ｌ１が第１のＺｎＯ単結晶層についてのＰＬ強度の測定結果を示し、実線Ｌ２が第２のＺｎＯ単結晶層についてのＰＬ強度の測定結果を示す。第１の比較例によるＺｎＯ単結晶層についてのＰＬ強度の測定結果は同図中に実線Ｌ５で示され、第２の比較例によるＺｎＯ単結晶層についてのＰＬ強度の測定結果は同図中に実線Ｌ６で示されている。
【００６８】
いずれのＰＬ強度も、Ｈｅ−Ｃｄ+ レーザで発振したレーザ光（波長３２５ｎｍ、出力０．１ｍＷ）を測定光として用い、４．２Ｋの測定温度下で得たものである。
【００６９】
図９に示したように、第１〜第２のＺｎＯ単結晶層から得られたスペクトルでは、約３．３７ｅＶのエネルギーを有する束縛励起子発光の強度が強く、しかも、この束縛励起子発光が支配的となっている。これらのＺｎＯ単結晶層では、非発光センターが少ない。
【００７０】
これに対し、第１〜第２の比較例によるＺｎＯ単結晶層から得られたスペクトルでは、３．２５ｅＶ程度のエネルギーを有するブロードな発光が支配的となっている。この発光は、結晶欠陥に起因するものであると考えられる。
【００７１】
ＰＬ法による測定結果から、第１〜第２のＺｎＯ単結晶層は、いずれも、第１〜第２の比較例によるＺｎＯ単結晶層に比べて結晶性の良好なＺｎＯ単結晶によって形成されていることが判る。
【００７２】
図１０は、第１〜第２のＺｎＯ単結晶層および第１〜第２の比較例によるＺｎＯ単結晶層についてのＸＲＤによる測定結果を示す。同図の横軸は、各ＺｎＯ単結晶層を得るにあたって用いた結晶成長用基板（サファイア基板２）での第２テラスの傾斜角を示し、縦軸はＸ線ロッキングカーブ（以下、「ＸＲＣ」と略記する。）の半値幅を示す。
【００７３】
同図中のプロットＰ１１が第１のＺｎＯ単結晶層についての測定結果を示し、プロットＰ１２が第２のＺｎＯ単結晶層につての測定結果を示す。第１の比較例によるＺｎＯ単結晶層についての測定結果は同図中にプロットＰ１５で示され、第２の比較例によるＺｎＯ単結晶層についての測定結果は同図中にプロットＰ１６で示されている。
【００７４】
図１０に示したように、第１〜第２のＺｎＯ単結晶層では、ＸＲＣの半値幅が８arcmin以下と小さい。これに対して、第１〜第２の比較例によるＺｎＯ単結晶層では、ＸＲＣの半値幅が２６arcminを超える。
【００７５】
この測定結果から、第１〜第２のＺｎＯ単結晶層は、いずれも、第１〜第２の比較例によるＺｎＯ単結晶層に比べて非常に高い結晶性を有していることが判る。
【００７６】
このように、ａ軸方向に連なった多数の第１テラスを有するＧａＮ層上においてＺｎＯ結晶をその＋ｃ軸（Ｚｎ面）方向に成長させることにより、結晶性の良好なＺｎＯ単結晶層を得ることができる。
【００７７】
これらの測定ないし評価結果は、＋ｃ軸（Ｚｎ面）方向に成長させたＺｎＯ単結晶層の結晶性を向上させるうえからは、ＺｎＯ結晶をｃ面内で十分に成長させることが重要であることを示唆する。＋ｃ軸（Ｚｎ面）方向に成長するＺｎＯ結晶では、ａ軸方向での成長速度がｍ軸方向での成長速度よりも速い。テンプレート層であるＧａＮ層に、ａ軸方向に連なる多数のテラスを形成することにより、その上に成長するＺｎＯ結晶がａ軸方向へステップフローしやすくなる。その結果として、ＺｎＯ結晶が２次元方向にも十分に成長し、結晶性が向上するものと考えられる。
【００７８】
なお、第３のＺｎＯ単結晶層についても、その成長速度から、第１〜第２のＺｎＯ単結晶層と同様に、ＺｎＯ結晶が（０００１）面（ｃ面）内で２次元的に大きく成長しているものと考えられる。
【００７９】
以上は、図１〜図２に示した結晶成長用基板１０上にＺｎＯ単結晶を成長させた例であるが、結晶成長用基板１０に代えて例えばＺｎＯ単結晶からなる結晶成長用基板を用いても、その上に結晶性の良好なＺｎＯ単結晶を成長させることができる。
【００８０】
この場合には、六方晶系のウルツ鉱型結晶構造を有するＺｎＯ単結晶からなる結晶成長用基板（以下、「ＺｎＯ単結晶基板」という。）を用いることが好ましい。そして、このＺｎＯ単結晶基板には、例えば図２に示した第１テラス５ａのように、ａ軸方向に階段状に連なった複数の（０００１）面（以下、個々の（０００１）面を「第４テラス」という。）を形成することが好ましい。第４テラスは、形状的には図２に示した第１テラス５ａと同様であるので、ここではその図示を省略する。
【００８１】
１つの第４テラスと、この第４テラスに隣接する他の第４テラスとの段差は、概ね１分子ステップまたは２分子ステップとすることが好ましい。１分子分ステップは１分子のＺｎＯの大きさに相当し、ほぼ０．２６ｎｍである。２分子分ステップは２分子のＺｎＯの大きさに相当し、ほぼ０．５２ｎｍである。
【００８２】
また、下段の第４テラスから面から上段の第４テラスにかけての傾斜角は、概ね０．１〜２．０°の範囲内で選定することが好ましく、０．１〜１．０°の範囲内で選定することが更に好ましい。
【００８３】
この傾斜角が０．１°未満では、上記複数の第４テラスを形成したとしても、それらの上に結晶性の良好なＺｎＯ単結晶を成長させにくくなる。一方、上記の傾斜角が２．０°を超えると、ＺｎＯ単結晶の成長に先立って一般に行われるサーマルクリーニング（熱処理）によってＺｎＯ単結晶基板の表面モフォロジーが悪化して、その上に結晶性の良好なＺｎＯ単結晶を成長させにくくなる。上記の傾斜角は、特に、０．２〜１．０°の範囲内で選定することが好ましい。
【００８４】
複数の第４テラスを有する上述のＺｎＯ単結晶基板は、例えば、平坦な（０００１）面を有するＺｎＯ単結晶基板に研磨、酸素雰囲気中でのアニール等の処理を施すことによって作製することができる。
【００８５】
酸素雰囲気中でのアニールによってＺｎＯ単結晶基板に複数の第４テラスを形成する場合、そのアニール条件は、例えば１０００℃、１時間とすることができる。
【００８６】
なお、ＺｎＯ単結晶基板の結晶構造、および上述の傾斜角は、例えばＸ線回折装置を用いて確認することができる。
上記の傾斜角を０．５°としたＺｎＯ単結晶基板を用意し、このＺｎＯ単結晶基板における複数の第４テラス上に、前述した第１または第２のＺｎＯ単結晶層を形成する場合と同様にして、ＺｎＯ単結晶層（以下、「第４のＺｎＯ単結晶層」という。）を形成した。
【００８７】
比較のため、ｃ面（（０００１）面）に傾斜がないことをＸ線回折で確認したＺｎＯ単結晶基板を用意し、このＺｎＯ単結晶基板のｃ面上にも、同様にしてＺｎＯ単結晶層（以下、「第３の比較例によるＺｎＯ単結晶層」という。）を成長させた。
【００８８】
これら第４のＺｎＯ単結晶層および第３の比較例によるＺｎＯ単結晶層について、前述した第１または第２のＺｎＯ単結晶層について行ったＲＨＥＥＤと同条件でＲＨＥＥＤによる回折パターンを調べ、また、その表面のＡＦＭ写真を撮影した。さらに、前述した第１または第２のＺｎＯ単結晶層について行ったＰＬ強度の測定と同条件でＰＬ強度を測定した。
【００８９】
図１１（Ａ）は第４のＺｎＯ単結晶層についての、図１１（Ｂ）は第３の比較例によるＺｎＯ単結晶層についてのＲＨＥＥＤによる回折パターンを示す。
図１２（Ａ）は第４のＺｎＯ単結晶層についての、図１２（Ｂ）は第３の比較例によるＺｎＯ単結晶層についてのＡＦＭ写真を示す。これらの図に示したいずれの写真も、画像部分は、ＺｎＯ単結晶層表面での１×１μｍの大きさの領域を示す。
【００９０】
図１３は、第４のＺｎＯ単結晶層および第３の比較例によるＺｎＯ単結晶層についてのＰＬ強度の測定結果を示す。図中の実線Ｌ１０が第４のＺｎＯ単結晶層についてのＰＬ強度の測定結果を示し、実線Ｌ１１が第３の比較例によるＺｎＯ単結晶層についてのＰＬ強度の測定結果を示す。
【００９１】
これら図１１〜図１３から明らかなように、ＺｎＯ単結晶基板上にＺｎＯ単結晶を成長させる場合でも、ａ軸方向に連なった複数の第４テラスをＺｎＯ単結晶基板に予め形成しておくことにより、結晶性が良好なＺｎＯ結晶からなる第４のＺｎＯ単結晶層を成長させることができる。
【００９２】
結晶性が良好なＺｎＯ系化合物半導体単結晶層に対しては、ドーピング効率を容易に高めることができる。ガリウム（Ｇａ）、アルミニウム（Ａｌ）等のIII 属元素をドープすることにより、ｎ型のＺｎＯ系化合物半導体単結晶層を得ることができる。また、窒素（Ｎ）、ナトリウム（Ｎａ）等をドープすることにより、ｐ型のＺｎＯ系化合物半導体単結晶層を得ることができる。窒素とガリウムとをコ・ドーピングしても、ｐ型のＺｎＯ系化合物半導体単結晶層を得ることができる。
【００９３】
例えば、ｎ型のＺｎＯ系化合物半導体単結晶層とｐ型のＺｎＯ系化合物半導体単結晶層とを所望形状、所望箇所に形成することによって、発光素子等として機能するＺｎＯ系化合物半導体デバイスを得ることができる。
【００９４】
次に、他の実施例によるＺｎＯ系化合物半導体デバイスについて説明する。
図１４は、実施例によるＺｎＯ系化合物半導体デバイス５０（以下、「半導体デバイス５０」と略記する。）を概略的に示す。同時に示した構成要素のうち、図２に示した構成要素と共通するものについては図２で用いた参照符号と同じ参照符号を付してその説明を省略する。
【００９５】
図示の半導体デバイス５０では、ＺｎＯ系化合物半導体単結晶層の製造方法についての説明の中で述べたバッファ層３０がＧａＮ層５上に形成され、その上にｎ型ＺｎＯ単結晶層３２とｐ型ＺｎＯ単結晶層３４とがこの順番で積層される。
【００９６】
バッファ層３０は、前述のようにＺｎＯ系化合物半導体、例えばＺｎＯによって形成される。
ｎ型ＺｎＯ単結晶層３２は、例えばガリウム（Ｇａ）やアルミニウム（Ａｌ）等のIII 族元素が１０18ｃｍ-3程度ドープされた膜厚０．５〜２μｍ程度のＺｎＯ単結晶層である。このｎ型ＺｎＯ単結晶層３２の表層が一部除去され、これによって露出した表面の一領域上に、中央部に貫通孔を有する電気的絶縁膜３６が例えば窒化ケイ素によって形成されると共に、当該貫通孔を埋めるようにして第１電極３８が形成される。
【００９７】
ｎ型ＺｎＯ単結晶層３２と第１電極３８とをオーミックコンタクトさせるうえからは、例えばインジウム（Ｉｎ）、アルミニウム（Ａｌ）等によって第１電極３８を形成することが好ましい。
【００９８】
膜厚が０．１〜１μｍ程度のｐ型ＺｎＯ単結晶層３４をｎ型ＺｎＯ単結晶層３２上に例えば円板状に設けて、ｐｎ接合を形成する。
ｐ型ＺｎＯ単結晶層３４の縁部および外周部は、例えば前述した電気的絶縁膜３８によって、平面視上、環状に覆われる。
【００９９】
例えば環状を呈する第２電極４０が、ｐ型ＺｎＯ単結晶層３４の露出面の内周部から電気的絶縁膜３８上にかけて形成される。ｐ型ＺｎＯ単結晶層３４と第２電極４０とをオーミックコンタクトさせるうえからは、例えばニッケル（Ｎｉ）、ロジウム（Ｒｈ）、白金（Ｐｔ）、パラジウム（Ｐｄ）、金（Ａｕ）等の金属や、これらの金属の２種以上からなる合金、あるいは、これらの金属の薄膜を２種以上積層した積層膜等によって第２電極４０を形成することが好ましい。
【０１００】
このように構成された半導体デバイス５０では、第１電極３８に対して正の電圧を第２電極４０に印加することにより、上記のｐｎ接合に順方向電流を流すことができ、ｐ型ＺｎＯ単結晶層３４に注入された電子と当該ｐ型ＺｎＯ単結晶層３４中の正孔との再結合によって、禁制帯のエネルギーギャップにほぼ等しいエネルギーを有する発光をｐ型ＺｎＯ単結晶層３４の上面から得ることが可能であろう。すなわち、発光ダイオードとして機能させることが可能であろう。
【０１０１】
以上、実施例による結晶成長用基板、ＺｎＯ系化合物半導体結晶の製造方法、およびＺｎＯ系化合物半導体デバイスについて説明したが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
【０１０２】
例えば、結晶成長用基板にテンプレート層を設ける場合、このテンプレート層は、ＧａＮ単結晶によって形成する他に、六方晶結晶構造を有する他の化合物の単結晶、例えば、窒化アルミニウム（ＡｌＮ）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、炭化ケイ素（６Ｈ−ＳｉＣ，４Ｈ−ＳｉＣ、２Ｈ−ＳｉＣ）等の単結晶によって形成することもできる。
【０１０３】
これらの単結晶によって形成されたテンプレート層にも、ａ軸方向に階段状に連なった複数の（０００１）面（テラス）を形成する。
その上に結晶性の良好なＺｎＯ単結晶を成長させるうえからは、テンプレート層に設けた複数のテラスの傾斜角、すなわち、下段のテラスから上段のテラスにかけての傾斜角を、０．１〜０．５°の範囲内で選定することが好ましい。
【０１０４】
テンプレート層の材料としては、特に、六方晶系のウルツ鉱型結晶構造を有するＧａＮ、ＡｌＮ、ＺｎＯ、および６Ｈ−ＳｉＣの単結晶が好適である。
テンプレート層の下地となる基板としては、ｍ軸方向に階段状に連なった複数の（０００１）面（ｃ面；以下、「テラス」という。）を有する単結晶サファイア基板（例えば図２に示したサファイア基板２）の他に、ａ軸方向に階段状に連なった複数の（０００１）面（ｃ面；以下、「テラス」という。）を有する単結晶６Ｈ−ＳｉＣ基板や、ｃ軸方向に階段状に連なった複数の（１１−２０）面（ａ面；以下、「テラス」という。）を有する単結晶サファイア（α−Ａｌ2Ｏ3）基板等を用いることもできる。
【０１０５】
いずれの基板を用いる場合でも、これらの基板における下段のテラスから上段のテラスにかけての傾斜角は、その上に形成されるテンプレート層でのテラスの傾斜角が０．１〜０．５°の範囲内となるように、概ね０．１〜０．５°の範囲内で選定することが好ましい。テンプレート層の下地となる基板におけるテラスは、研磨、エッチング、酸素雰囲気中でのアニール等の方法によって形成することができる。
【０１０６】
テンプレート層を設けずに結晶成長用基板を単層構造にする場合、この結晶成長用基板は、前述したＺｎＯ単結晶以外に、六方晶系のウルツ鉱型結晶構造を有するＧａＮ、ＡｌＮ、６Ｈ−ＳｉＣ等の単結晶によって形成することができる。
【０１０７】
この場合でも、結晶成長用基板（単結晶基板）には、ａ軸方向に階段状に連なった複数の（０００１）面（テラス）を形成し、これらのテラス上にＺｎＯ単結晶を成長させることが好ましい。下段のテラスから上段のテラスにかけての傾斜角は、０．１〜２．０°の範囲内で選定することが好ましく、０．２〜１．０°の範囲内で選定することが更に好ましい。
【０１０８】
テンプレート層を設ける場合および設けない場合のいずれにおいても、その上にＺｎＯ単結晶が成長するテラス同士の間の段差は、１分子ステップまたは２分子ステップとすることが好ましく、できるだけ１分子ステップとすることが好ましい。
【０１０９】
その上にＺｎＯ単結晶が成長する個々のテラスの幅（傾斜角方向の平面視上の幅）は、テンプレート層においては概ね３０〜１５０ｎｍ程度、テンプレート層を設けない単結晶基板においては概ね７．５〜１５０ｎｍ程度の範囲内とすることが好ましい。
【０１１０】
なお、結晶軸のミラー指数はその結晶の結晶構造に応じて変化する。例えば「ａ軸」という同じ名称の結晶軸であっても、結晶構造が異なれば、異なるミラー指数によって表される。
【０１１１】
ｎ型のＺｎＯ系化合物半導体単結晶層とｐ型のＺｎＯ系化合物半導体単結晶層とを用いれば、発光ダイオードやレーザ発振器等の発光素子、電界効果トランジスタやバイポーラトランジスタ等の回路素子、あるいは受光素子等、種々の半導体デバイスを構成することが可能である。
【０１１２】
その他、種々の変更、改良、組み合わせ等が可能であることは、当業者に自明であろう。
【０１１３】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、結晶性の良好なＺｎＯ系化合物単結晶層を得ることが容易になる。ＺｎＯ系化合物単結晶層を用いた半導体デバイスの性能を向上させやすくなる。
【図面の簡単な説明】
【図１】実施例による結晶成長用基板を概略的に示す側面図である。
【図２】図２（Ａ）は、図１に示した結晶成長用基板の一部を拡大して示す分解斜視図であり、図２（Ｂ）は、図２（Ａ）に示したＧａＮ層での結晶軸（ａ軸、ｃ軸、およびｍ軸）の方向に対応した座標系を示す図であり、図２（Ｃ）は、図２（Ａ）に示したサファイア基板での結晶軸（ａ軸、ｃ軸、およびｍ軸）の方向に対応した座標系を示す図である。
【図３】図３（Ａ）は、実施例による半導体単結晶層付き基板を模式的に示す分解斜視図であり、図３（Ｂ）は、図３（Ａ）に示したＺｎＯ系化合物半導体単結晶層での結晶軸（ａ軸、ｃ軸、およびｍ軸）の方向に対応した座標系を示す図である。
【図４】第１〜第３のＺｎＯ単結晶層および第１〜第２の比較例によるＺｎＯ単結晶層それぞれの成長速度を示すグラフである。
【図５】図５（Ａ）は、第１のＺｎＯ単結晶層についてのＲＨＥＥＤ法による回折パターンを示す図であり、図５（Ｂ）は、第２のＺｎＯ単結晶層についてのＲＨＥＥＤ法による回折パターンを示す図である。
【図６】図６（Ａ）は、第１の比較例によるＺｎＯ単結晶層についてのＲＨＥＥＤ法による回折パターンを示す図であり、図６（Ｂ）は、第２の比較例によるＺｎＯ単結晶層についてのＲＨＥＥＤ法による回折パターンを示す図である。
【図７】図７（Ａ）は、第１のＺｎＯ単結晶層についてのＡＦＭ写真であり、図７（Ｂ）は、第２のＺｎＯ単結晶層についてのＡＦＭ写真である。
【図８】図８（Ａ）は、第１の比較例によるＺｎＯ単結晶層についてのＡＦＭ写真であり、図８（Ｂ）は第２の比較例によるＺｎＯ単結晶層についてのＡＦＭ写真である。
【図９】第１〜第２のＺｎＯ単結晶層および第１〜第２の比較例によるＺｎＯ単結晶層についてのＰＬ法によるＰＬ強度の測定結果を示すグラフである。
【図１０】第１〜第２のＺｎＯ単結晶層および第１〜第２の比較例によるＺｎＯ単結晶層についてのＸＲＤによる測定結果を示すグラフである。
【図１１】図１１（Ａ）は、第４のＺｎＯ単結晶層についてのＲＨＥＥＤ法による回折パターンを示す図であり、図１１（Ｂ）は、第３の比較例によるＺｎＯ単結晶層についてのＲＨＥＥＤ法による回折パターンを示す図である。
【図１２】図１２（Ａ）は、第４のＺｎＯ単結晶層についてのＡＦＭ写真であり、図１２（Ｂ）は、第３の比較例によるＺｎＯ単結晶層についてのＡＦＭ写真である。
【図１３】第４のＺｎＯ単結晶層および第３の比較例によるＺｎＯ単結晶層についてのＰＬ法によるＰＬ強度の測定結果を示すグラフである。
【図１４】他の実施例によるＺｎＯ系化合物半導体デバイスを概略的に示す断面図である。
【符号の説明】
２…単結晶サファイア基板、 ２ａ…第２テラス、 ５…ＧａＮ層、 ５ａ…第１テラス、 １０…結晶成長用基板、 １５…ＺｎＯ系化合物半導体単結晶層、 １５ａ…第３テラス、 ２０、５０…ＺｎＯ系化合物半導体デバイス、 ３２…ｎ型ＺｎＯ単結晶層、 ３４…ｐ型ＺｎＯ単結晶層。
Claims (9)
- ａ軸方向に階段状に連なった複数の（０００１）面を表面に有する六方晶結晶構造の化合物単結晶層を備え、該化合物単結晶層上に、ａ軸方向に傾斜した六方晶結晶構造のＺｎＯ系化合物半導体が成長される結晶成長用基板。
- 前記化合物単結晶層が、窒化ガリウム、窒化アルミニウム、酸化亜鉛、または炭化ケイ素によって形成される請求項１に記載の結晶成長用基板。
- 前記化合物単結晶層が、窒化ガリウム、窒化アルミニウム、酸化亜鉛、２Ｈ型炭化ケイ素、４Ｈ型炭化ケイ素、または６Ｈ型炭化ケイ素からなり、該化合物単結晶層が単結晶サファイア基板上または単結晶炭化ケイ素基板上に形成されている請求項１または請求項２に記載の結晶成長用基板。
- 前記複数の（０００１）面が０．１〜０．５°の傾斜角の下に階段状に連なる請求項３に記載の結晶成長用基板。
- 前記化合物単結晶層からなる単層構造を有し、該化合物単結晶層が窒化ガリウム、窒化アルミニウム、酸化亜鉛、または６Ｈ型炭化ケイ素によって形成されると共に、前記複数の（０００１）面が０．１〜２．０°の傾斜角の下に階段状に連なる請求項１または請求項２に記載の結晶成長用基板。
- ａ軸方向に階段状に連なった複数の（０００１）面を表面に有する六方晶結晶構造の化合物単結晶層を備えた結晶成長用基板と、
前記化合物単結晶層上に形成され、ａ軸方向に傾斜した六方晶結晶構造のＺｎＯ系化合物半導体単結晶層と
を備えたＺｎＯ系化合物半導体デバイス。 - 前記結晶成長用基板と前記ＺｎＯ系化合物半導体単結晶層との間に、亜鉛（Ｚｎ）面方向に成長した酸化亜鉛バッファ層を有する請求項６に記載のＺｎＯ系化合物半導体デバイス。
- （Ａ）ａ軸方向に階段状に連なった複数の（０００１）面を表面に有する六方晶結晶構造の化合物単結晶層を備えた結晶成長用基板を準備する工程と、
（Ｂ）前記複数の（０００１）面上に、ａ軸方向に傾斜した六方晶結晶構造のＺｎＯ系化合物半導体単結晶を成長させる工程と
を含むＺｎＯ系化合物半導体結晶の製造方法。 - 前記結晶成長用基板として、(i) 前記化合物単結晶層が基板上に形成され、前記複数の（０００１）面が０．１〜０．５°の傾斜角の下に階段状に連なった結晶成長用基板、または、(ii)前記化合物単結晶層からなる単層構造を有し、前記複数の（０００１）面が０．１〜２．０°の傾斜角の下に階段状に連なった結晶成長用基板を準備する請求項８に記載のＺｎＯ系化合物半導体結晶の製造方法。
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