JP3718921B2 - 単結晶保持方法および単結晶成長方法 - Google Patents
単結晶保持方法および単結晶成長方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP3718921B2 JP3718921B2 JP26780796A JP26780796A JP3718921B2 JP 3718921 B2 JP3718921 B2 JP 3718921B2 JP 26780796 A JP26780796 A JP 26780796A JP 26780796 A JP26780796 A JP 26780796A JP 3718921 B2 JP3718921 B2 JP 3718921B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- crystal
- seed
- grown
- growth
- single crystal
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B15/00—Single-crystal growth by pulling from a melt, e.g. Czochralski method
- C30B15/32—Seed holders, e.g. chucks
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B15/00—Single-crystal growth by pulling from a melt, e.g. Czochralski method
- C30B15/30—Mechanisms for rotating or moving either the melt or the crystal
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S117/00—Single-crystal, oriented-crystal, and epitaxy growth processes; non-coating apparatus therefor
- Y10S117/911—Seed or rod holders
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T117/00—Single-crystal, oriented-crystal, and epitaxy growth processes; non-coating apparatus therefor
- Y10T117/10—Apparatus
- Y10T117/1024—Apparatus for crystallization from liquid or supercritical state
- Y10T117/1032—Seed pulling
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T117/00—Single-crystal, oriented-crystal, and epitaxy growth processes; non-coating apparatus therefor
- Y10T117/10—Apparatus
- Y10T117/1024—Apparatus for crystallization from liquid or supercritical state
- Y10T117/1032—Seed pulling
- Y10T117/1072—Seed pulling including details of means providing product movement [e.g., shaft guides, servo means]
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、いわゆるチョクラルスキー法(CZ法)によって単結晶を引上げる場合において、高重量の単結晶の引き上げのため結晶成長中に成長結晶の一部を機械的に保持し、種結晶および種絞りの強度にかかわらず、高重量の単結晶の引き上げを可能とする方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来、シリコン等の半導体材料を製造する方法として、例えば図3(A)に示すように、シードホルダ51が保持する種結晶52をルツボ53内の原料融液54の表面に接触させ、種結晶52をその回転軸回りに回転させつつ引上げるとともに引上速度を調整して、種結晶52の下方に種絞り55を形成し、引続いて径の大きい単結晶の直胴部56を形成するようなチョクラルスキー法が知られている。
【0003】
この場合、種絞り55を形成することで、その下方の結晶の直胴部56を無転位化することが出来るが、近年では単結晶の大径化又は生産効率向上等のため、結晶重量が高重量化し、種結晶52および種絞り55の強度が不足しがちとなってきた。そして、結晶の引上げ中に万が一種絞りが破断して結晶が落下するようなことがあると、重大事故につながる恐れがある。そこで最近、例えば図3(B)に示すような結晶成長中に成長結晶の一部を機械的に保持する方法及び装置が採用されるようになってきている。
【0004】
この装置では、種絞り55と直胴部56との間に、拡径部と縮径部からなる係合段部57を形成し、この係合段部57を吊り治具58、58で挟持して引上げるようにしている。そしてこのような技術として、例えば特開昭62−288191号とか、特開昭63−252991号とか、特開平3−285893号とか、特開平3−295893号等の技術が知られているが、例えば特開平3−285893号の場合は、係合段部を成形しながら種結晶を引上げる際、係合段部が所定位置に配置される把持レバーの位置まで来ると、把持レバーが係合段部を把持して引上げるようにしている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
ところが、この成長結晶の一部を実際に機械的に保持しようとした場合、いったいどのようなタイミングで保持するかは、後述するような種々の点から簡単には決定できず大きな問題となっていた。
【0006】
すなわち、成長結晶の一部を機械的に保持するためには、当然結晶がある程度成長してからでないと保持できないが、種絞り部の破断による結晶の落下を防止するためには、結晶が高重量にまで成長する前のできるだけ早くに結晶を保持するのが望ましい。
【0007】
それでは、結晶成長開始後、成長結晶の保持対象となる保持する部分を形成後ただちに保持すれば良いかというと、このように原料融液直上で成長結晶を保持すると、保持装置が高温の原料融液(シリコンでは1400℃以上)に直接曝され、部材の変質、作動不良を起こしてしまうほか、原料融液の不純物汚染の原因にもなってしまう。
【0008】
また、このように成長結晶が高温のうちに機械的に保持しストレスをかけると、結晶に塑性変形が生じ、成長結晶中にスリップ転位が発生することがある。そして、このように成長結晶中にスリップ転位等が生じると、結晶のその部分は機械的強度が低下し、その後成長結晶が高重量化した場合に、破断の危険性がある。
【0009】
一方、ある重量以上の結晶成長を行ってしまうと、結晶重量に耐えきれずに、種結晶または種絞り部の破断が起きる可能性があり、このような破断が生じる臨界の成長結晶重量より少ない重量で結晶を成長するか、臨界成長結晶重量に達する前に結晶を機械的に保持する必要がある。
【0010】
特に、近年のデバイスの高集積化にともない、チョクラルスキー法で育成される単結晶は、ますます大直径化しており、例えばシリコンでは8インチ以上、特には12インチ以上の単結晶が求められている。
【0011】
そして、このような大直径の結晶の育成においては、わずかな長さの結晶を成長しただけで、結晶の重量は高重量化してしまい、できるだけ早く成長結晶を機械的に保持することが要請される反面、大直径結晶の育成では必然的に高温部領域が広がっており、結晶をかなり成長させてからでないと、成長結晶の保持する部分の温度が塑性変形を起こさないような温度まで下がらない。
またさらには、そもそも前記臨界の成長結晶重量は、種結晶または種絞り部の形状、特に直径、結晶質、温度、かかった応力種(引っ張り応力、ねじれ応力、曲げ応力)等の種々のファクターに影響される複雑なもので、計算等によって正確に決定することは困難である。
【0012】
したがって、本発明はチョクラルスキー法において、成長結晶の一部を機械的に保持する場合において、いつ成長結晶を実際に機械的に保持すれば良いか、その条件を見いだし、成長結晶を安全かつ確実に引き上げることを目的としている。
【0013】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するため本発明は、原料融液に接触せしめた種結晶を回転させつつ引上げてシリコン単結晶を成長させるチョクラルスキー法であって、結晶成長中に成長結晶の一部を機械的に保持し、種結晶および種絞りの強度にかかわらず、単結晶の引き上げを可能とする場合において、前記成長結晶の機械的保持は、成長結晶の重量(Wkg)が、下記の(1)式を満足するように行うことを特徴とするシリコン単結晶保持方法である。
W < 12.5×πD2 /4 ・・・・(1)
(ここで、Dは種絞りの最小径(mm)である。)
【0014】
このように、成長結晶の一部を機械的に保持する際に、成長結晶の重量(Wkg)が、(1)式を満足するように行えば、種絞り部が破断して成長結晶が落下するといった危険性をきわめて低くすることができる。
【0015】
そして、本発明は、原料融液に接触せしめた種結晶を回転させつつ引上げてシリコン単結晶を成長させるチョクラルスキー法であって、結晶成長中に成長結晶の一部を機械的に保持し、種結晶および種絞りの強度にかかわらず、単結晶の引き上げを可能とする場合において、前記成長結晶の機械的保持は、成長結晶の保持する部分の温度を550℃以下として行うことを特徴とするシリコン単結晶保持方法である。
【0016】
このように、成長結晶の機械的保持は、成長結晶の保持する部分の温度を550℃以下として行えば、成長結晶が十分に冷却されているために、ストレスによる結晶の塑性変形が生じず、成長結晶中にスリップ転位が発生することもない。したがって、結晶の保持する部分の機械的強度が低下し、その後成長結晶が高重量化した場合に、この部分が破断するといった危険もない。
【0017】
この場合、成長結晶の機械的保持を、成長結晶の重量は(1)式を満足し、成長結晶の保持する部分の温度を550℃以下として行えば、成長結晶の重量により種絞り部が破断する危険性が少ないとともに、成長結晶の保持する部分に塑性変形が生じることもない。
【0018】
そして、上記のように、前記(1)式を満足しおよび/または成長結晶の保持する部分の温度を550℃以下とするためには、成長結晶の保持する部分の下から、直胴部を形成する部分までの長さを調整するようにすればよい。
【0019】
そして、本発明は、原料融液に接触せしめた種結晶を回転させつつ引上げてシリコン単結晶を成長させるチョクラルスキー法であって、結晶成長中に成長結晶の一部を機械的に保持し、種結晶および種絞りの強度にかかわらず、単結晶を成長させる方法において、成長結晶を機械的に保持する方法は、前記のシリコン単結晶保持方法を用いることを特徴とするシリコン単結晶成長方法である。
【0020】
このように、前記の方法によれば、種絞り部の破断、結晶保持する部分の塑性変形のない成長結晶の保持ができるので、高重量の単結晶を安全かつ確実に引き上げることができる。
【0021】
そして、本法は近年ますます大直径化し、結晶重量が高重量化しているシリコン単結晶の引き上げにおいて、特に有用である。
【0022】
以下、本発明につき成長させる結晶をシリコン単結晶として、更に詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
本発明者らは、成長結晶を機械的に保持するタイミングをどのような条件で行い、成長結晶を安全かつ確実に引き上げることができるかを検討したところ、これには種絞りの耐荷重性(臨界の成長結晶重量)とストレスにより成長結晶に塑性変形が起こる温度をどうしても知る必要があることがわかった。
【0023】
しかし、前述のように耐荷重性や塑性変形温度は、種々のファクターによって影響され、計算等により正確にこれを求めるのは困難である。そこで、種絞り部の耐荷重性および塑性変形温度を実際に測定し、安全率、実験のばらつきを考慮してこれらの条件を決定することに成功したものである。
【0024】
すなわち、実際にチョクラルスキー法で作製された種絞り部を、引っ張り試験機により引っ張り試験を行い、種絞りの引っ張り強度として、平均値で16.2kgf/mm2 、n=125、標準偏差(σ)=3.7kgf/mm2 の結果が得られた。そして、これらのデータは、全て(平均値±1σ)の範囲内であった。
そこで、種絞りの強度としては、平均値−標準偏差の(16.2−3.7=12.5)という値を考えれば良いことがわかった。この12.5kgf/mm2 は、単位面積あたりの強度なので、これを種絞り(直径:D)あたりの強度に換算すると(12.5×πD2 /4)となる。そして、この場合Dは、破断の危険の一番大きい種絞りの最小径とすれば、その種絞りの耐荷重が算出できる。したがって、成長結晶の重量(Wkg)が、下記の(1)式を満足すれば、種絞り部の破断による成長結晶の落下の危険は、非常に少ないものとなる。
W < 12.5×πD2 /4 ・・・・(1)
【0025】
一方、塑性変形の温度についても、実際にチョクラルスキー法で作製された種絞り部を、引っ張り試験機により荷重20kgで引っ張りつつ、種絞り部を加熱し、種絞り部の温度を400℃〜800℃の範囲で変えて、どの温度でスリップ転位が入るかを見た。その結果、600℃以上の温度でスリップ転位が発生し、550℃以下では塑性変形は見られなかった。したがって、成長結晶を機械的に保持する場合には、結晶の保持する部分の温度を550℃以下として行えば、保持する部分の結晶に塑性変形は起こらず、強度低下による破断の危険もなくなる。
【0026】
【発明の実施の形態】
本発明の実施の形態について、成長させる結晶をシリコン単結晶とした場合につき、添付した図面に基づき説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
ここで、図1は本発明の方法を実施して結晶の引き上げを行う場合の一例を示した説明図である。また、図2は本発明において行った種絞り部の引っ張り試験の概略説明図である。
【0027】
まず、本発明で行った引っ張り試験について、図2を用いて説明する。
引っ張り試験機としては、通常の金属等の引っ張り試験に用いられる不図示の万能試験機を用い、これに試験体15の周囲を抵抗加熱ヒータ16により加熱できるようにしたものとした。加熱雰囲気は常圧の空気とした。
【0028】
試験体は、実際にチョクラルスキー法によって結晶を作製したもので、通常の結晶の引き上げに用いられる種結晶8から種絞り9を行い、その後直径を拡大して図2のような形状の試験体15を作製した。したがって、種絞り9の途中から、直径を拡大し、尾部までの部分は無転位の単結晶である。種結晶8は、10mm角、拡大した部分の最大直径は約50mmである。
【0029】
このような試験体15の種結晶8側は、通常の結晶成長に使用するのと同じシードホルダ13で保持し、拡径部側も通常成長結晶を機械的に保持するのと同様な保持装置11で保持した。
そして、これを前記の加熱機構付き万能試験機にセットして、引っ張り試験を行った。
【0030】
ここで、上記のような装置・構成で実際に引っ張り試験を行った試験結果の一例を示す。測定条件としては、温度は各設定温度で固定し、結晶成長時の速度とほぼ同様な1mm/minの速度で引っ張り、荷重が150kgfに達した時点で引っ張りを中止し、そのまま10分間保持した後、試験体を取り出した。こうして、引っ張り中に種絞りの破断が生じるか否か、あるいは引っ張り試験後の試験体をエッチングして、スリップ転位の発生が有るか否かを調べた。
【0031】
結果を表1に示す。
【表1】
【0032】
表1の結果を見ると、前記(1)式を満足しない、種絞りの最小径Dが3mmの場合は、種絞りの破断が起こっているが、(1)式を満足する最小径Dが4mm以上の場合は、破断は生じていないことがわかる。
また、結晶の保持する部分の温度が600℃以上では、結晶が塑性変形してスリップ転位が発生しているが、550℃以下ではスリップ転位が生じていないことがわかる。
【0033】
次に、図1を用いて、本発明の方法によって成長結晶の一部を機械的に保持して引き上げを行う場合の一例を説明する。
図1において1はシリコン融液2を収容する石英ルツボで、このルツボはその回転軸3にしたがって回転することができる。ルツボ1の外周には例えばグラファイトからなる円筒状のヒーター5が配置されている。このヒーター5の外側には必要に応じ円筒状の断熱筒4が配設される。そして、チャンバー6の外側には、必要に応じ永久磁石、あるいは電磁石からなる不図示の磁場発生装置が配置される場合もある。
【0034】
8は単結晶シリコンからなる種結晶で、引上げ駆動機構(図示せず)によって単結晶はその中心軸にそって、回転しながら引き上げられるようになっている。そして、11は結晶保持装置で、成長結晶が一定の長さになったらこれを機械的に保持できるようになっている。
【0035】
このような装置において、本発明は以下のように実施される。
ワイヤ12先端のシードホルダ13に取りつけられた種結晶8をルツボの原料融液2の表面に接触させ、不図示の引上げ機構によりしずかに回転させつつワイヤを所定速度で引上げると、種結晶8の下方に単結晶が成長するが、この際結晶を単結晶化するための種絞り9を成形した後、結晶を機械的に保持するための凸部14を形成した後、直胴部10を成形する。この際、結晶保持装置11の左右の挟持部11a,11aは開いており、結晶がワイヤ12によって引上げられる途中で、種絞り9と直胴部10の間に存在する凸部14が一定の高さに達し、挟持部11a,11aの前方附近に達すると不図示のセンサで検知し、結晶保持装置が作動し、凸部14を挟持部11a,11aで挟み込むようにして、機械的に保持する。
【0036】
この際、既に成長した結晶の重量(Wkg)が、前記(1)式を満足するように行う。すなわち、(1)式を満足しなくなるような高重量にまで、結晶が成長する前に、結晶を機械的に保持するようにする。
またこの場合、成長結晶の保持する部分である凸部14の温度が550℃以下にまで冷却されてから結晶を機械的に保持するようにする。
【0037】
ここで、成長する単結晶の具体的な結晶重量について説明すれば、種絞りの最小径が3mmの場合において(1)式を満足する臨界の結晶重量は約88Kgであり、直径が12インチ(直径305mm)の結晶を成長させる場合、コーン部の重量を5Kgとすると、直胴部分の長さが約48cmで88Kgを越えることになる。
【0038】
こうして、チョクラルスキー法によって高重量の結晶を引き上げる場合において、種絞り部の破断、保持する部分の塑性変形等の問題を生じることなく、確実に成長結晶を保持して引き上げることが可能となる。
【0039】
この場合において、成長結晶がさらに大直径化すると、わずかな長さの結晶を成長しただけで、結晶の重量は高重量化してしまい、凸部14が所定高さまで到達する前に、(1)式の重量を越えてしまう危険が有る。
一方、大直径結晶の育成では必然的に高温部領域が広がっており、凸部14の温度も高温化しており、成長結晶を機械的に保持する位置を上昇させなければ、凸部が550℃以下とはならない。
【0040】
このような場合、本発明は実際には実施できないのではないかとの疑いも生じ得るが、以下のように結晶を保持する部分の下から、直胴部を形成する部分までの長さを調整することによって、簡単に実施することができる。
【0041】
すなわち、種絞り9により結晶を単結晶化し、続いて凸部14を形成し、その後すぐに直胴部10を形成すると、本発明の条件を満足することができない可能性が有るが、凸部14形成後、直胴部10を形成するまで、より正確に言うならば、結晶を保持する部分の下から、直胴部を形成する部分までの7の部分の長さを長くすれば、(1)式を満足するとともに、凸部14の温度を550℃以下とすることができる。
【0042】
この場合、7の部分を必要以上に長く、あるいは太くすると、結晶の歩留、生産性を悪化させてしまうので、長さは凸部14の温度が550℃以下となり、太さは種絞り部の最小径Dが前記(1)式を満足するような値以上となるようにすればよい。
そして、このように凸部14が550℃以下となる位置は、成長結晶の温度は、その雰囲気温度とほぼ一致するので、予め結晶引き上げ装置内の炉内温度測定をしておくことで簡単に知ることができる。
【0043】
尚、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は、例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。
【0044】
【発明の効果】
以上のように本発明では、チョクラルスキー法によって結晶成長中に成長結晶の一部を機械的に保持し、種結晶および種絞りの強度にかかわらず、高重量の単結晶を成長させる方法において、種絞り部の破断、あるいは成長結晶の保持する部分に塑性変形等を生じることなく、安全かつ確実に高重量の単結晶を保持して成長させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の方法を実施して結晶の引き上げを行う場合の一例を示した説明図である。
【図2】本発明において行った種絞り部の引っ張り試験の概略説明図である。
【図3】従来の方法の説明図である。
(A)従来のチョクラルスキー法、
(B)従来の結晶を保持する方法。
【符号の説明】
1…ルツボ、 2…原料融液、
3…ルツボ回転軸、 4…断熱筒、
5…ヒーター、 6…チャンバー、
8…種結晶、
9…種絞り、 10…直胴部、
11…結晶保持装置、
11a…挟持部、 12…ワイヤ、
13…シードホルダ、 14…凸部、
15 試験体、 16 抵抗加熱ヒータ、
51…シードホルダ、
52…種結晶、 53…ルツボ、
54…原料融液、 55…種絞り、
56…直胴部、 57…係合段部、
58…吊り治具。
Claims (2)
- 原料融液に接触せしめた種結晶を回転させつつ引上げてシリコン単結晶を成長させるチョクラルスキー法であって、結晶成長中に成長結晶の一部を機械的に保持し、種結晶および種絞りの強度にかかわらず、単結晶の引き上げを可能とする場合において、前記成長結晶の機械的保持をする際に、成長結晶の保持する部分の下から、直胴部を形成する部分までの長さを調整することによって、成長結晶の重量(Wkg)が、下記の(1)式を満足し、および成長結晶の保持する部分の温度を550℃以下とすることを特徴とするシリコン単結晶保持方法。
W < 12.5×πD2 /4 ・・・・(1)
(ここで、Dは種絞りの最小径(mm)である。) - 原料融液に接触せしめた種結晶を回転させつつ引上げてシリコン単結晶を成長させるチョクラルスキー法であって、結晶成長中に成長結晶の一部を機械的に保持し、種結晶および種絞りの強度にかかわらず、単結晶を成長させる方法において、成長結晶を機械的に保持する方法は、前記請求項1に記載のシリコン単結晶保持方法を用いることを特徴とするシリコン単結晶成長方法。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26780796A JP3718921B2 (ja) | 1996-09-18 | 1996-09-18 | 単結晶保持方法および単結晶成長方法 |
US08/923,963 US5911821A (en) | 1996-09-18 | 1997-09-05 | Method of holding a monocrystal, and method of growing the same |
TW086112960A TW422896B (en) | 1996-09-18 | 1997-09-08 | Method of holding a monocrystal, and method of growing the same |
DE69712428T DE69712428T2 (de) | 1996-09-18 | 1997-09-09 | Verfahren zum Halten von Einkristallen und Verfahren zu deren Züchtung |
EP97306982A EP0831158B1 (en) | 1996-09-18 | 1997-09-09 | Method of holding a monocrystal and method of growing the same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26780796A JP3718921B2 (ja) | 1996-09-18 | 1996-09-18 | 単結晶保持方法および単結晶成長方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH1095697A JPH1095697A (ja) | 1998-04-14 |
JP3718921B2 true JP3718921B2 (ja) | 2005-11-24 |
Family
ID=17449883
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP26780796A Expired - Fee Related JP3718921B2 (ja) | 1996-09-18 | 1996-09-18 | 単結晶保持方法および単結晶成長方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5911821A (ja) |
EP (1) | EP0831158B1 (ja) |
JP (1) | JP3718921B2 (ja) |
DE (1) | DE69712428T2 (ja) |
TW (1) | TW422896B (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1998010125A1 (fr) * | 1996-09-03 | 1998-03-12 | Sumitomo Metal Industries, Ltd. | Appareil pour tirage de monocristal |
US6042644A (en) * | 1997-07-25 | 2000-03-28 | Komatsu Electronic Metals Co., Ltd. | Single crystal pulling method |
JPH11199374A (ja) * | 1998-01-07 | 1999-07-27 | Komatsu Ltd | 単結晶の引き上げ装置および落下防止装置 |
JP4052753B2 (ja) * | 1999-02-24 | 2008-02-27 | 株式会社スーパーシリコン研究所 | 単結晶成長装置及び単結晶成長方法 |
US6203614B1 (en) * | 1999-05-28 | 2001-03-20 | Memc Electronic Materials, Inc. | Cable assembly for crystal puller |
CN108866621A (zh) * | 2017-05-16 | 2018-11-23 | 上海新昇半导体科技有限公司 | 一种硅单晶引晶结构及工艺 |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4190630A (en) * | 1978-01-03 | 1980-02-26 | Vsesojuzny Nauchno-Isslekovatelsky Institut Monokristallov Stsintillyatsionnykh Materialov I Osobo Chistykh Khimicheskikh Veschestv | Apparatus for pulling single crystals from melt |
JPS62288191A (ja) * | 1986-06-06 | 1987-12-15 | Kyushu Denshi Kinzoku Kk | 単結晶成長方法及びその装置 |
US5196086A (en) * | 1987-04-09 | 1993-03-23 | Mitsubishi Materials Corporation | Monocrystal rod pulled from a melt |
JPS63252991A (ja) * | 1987-04-09 | 1988-10-20 | Mitsubishi Metal Corp | 落下防止保持部を有するcz単結晶 |
JPH07103000B2 (ja) * | 1990-03-30 | 1995-11-08 | 信越半導体株式会社 | 結晶引上装置 |
JPH07515B2 (ja) * | 1990-04-11 | 1995-01-11 | 信越半導体株式会社 | 結晶引上装置 |
DE69112463T2 (de) * | 1990-03-30 | 1996-02-15 | Shinetsu Handotai Kk | Vorrichtung zur Herstellung von Monokristallen nach dem Czochralski-Verfahren. |
US5501172A (en) * | 1994-03-11 | 1996-03-26 | Shin-Etsu Handotai Co., Ltd. | Method of growing silicon single crystals |
US5487355A (en) * | 1995-03-03 | 1996-01-30 | Motorola, Inc. | Semiconductor crystal growth method |
JP3402012B2 (ja) * | 1995-04-21 | 2003-04-28 | 信越半導体株式会社 | 単結晶の成長方法及び装置 |
US5578284A (en) * | 1995-06-07 | 1996-11-26 | Memc Electronic Materials, Inc. | Silicon single crystal having eliminated dislocation in its neck |
-
1996
- 1996-09-18 JP JP26780796A patent/JP3718921B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1997
- 1997-09-05 US US08/923,963 patent/US5911821A/en not_active Expired - Lifetime
- 1997-09-08 TW TW086112960A patent/TW422896B/zh not_active IP Right Cessation
- 1997-09-09 EP EP97306982A patent/EP0831158B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1997-09-09 DE DE69712428T patent/DE69712428T2/de not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW422896B (en) | 2001-02-21 |
JPH1095697A (ja) | 1998-04-14 |
EP0831158A3 (en) | 1998-07-22 |
US5911821A (en) | 1999-06-15 |
DE69712428T2 (de) | 2003-01-09 |
DE69712428D1 (de) | 2002-06-13 |
EP0831158B1 (en) | 2002-05-08 |
EP0831158A2 (en) | 1998-03-25 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH10203898A (ja) | シリコン単結晶の製造方法および種結晶 | |
JP4165068B2 (ja) | シリコン単結晶の製造方法 | |
JP4858019B2 (ja) | シリコン単結晶の製造方法 | |
JP3718921B2 (ja) | 単結晶保持方法および単結晶成長方法 | |
US20090260564A1 (en) | Method for growing silicon single crystal | |
JP2937115B2 (ja) | 単結晶引き上げ方法 | |
JP3684769B2 (ja) | シリコン単結晶の製造方法および保持する方法 | |
US6042644A (en) | Single crystal pulling method | |
JP2822904B2 (ja) | シリコン単結晶の製造方法 | |
JPH04104988A (ja) | 単結晶成長方法 | |
KR100497216B1 (ko) | 단결정보지방법및단결정성장방법 | |
JPH10120487A (ja) | 単結晶引上装置および引上方法 | |
JP3750525B2 (ja) | 単結晶の製造方法および引上げ装置 | |
US6159283A (en) | Apparatus and method for measuring mechanical strength of neck portion of seed crystal and method for producing silicon single crystal | |
JP3473477B2 (ja) | シリコン単結晶の製造方法 | |
JP3991813B2 (ja) | シリコン単結晶成長方法 | |
JPH07277874A (ja) | シリコン単結晶の引上げ方法 | |
KR100388884B1 (ko) | 단결정 성장장치 및 단결정 성장방법 | |
JP3559506B2 (ja) | 単結晶成長装置及び単結晶成長方法 | |
JP4173216B2 (ja) | 単結晶の製造方法 | |
JP2000264772A (ja) | 単結晶成長装置及び単結晶成長方法 | |
JPH09165297A (ja) | シリコン単結晶の育成方法及びその種結晶 | |
JP2004043202A (ja) | 単結晶引き上げ用ワイヤーロープ、単結晶引き上げ装置及び単結晶の製造方法 | |
JPH0891983A (ja) | シリコン単結晶の引上げ方法 | |
JPH09235179A (ja) | 単結晶引上げ装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20050517 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050712 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20050719 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20050816 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20050829 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080916 Year of fee payment: 3 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080916 Year of fee payment: 3 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080916 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090916 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090916 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100916 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100916 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110916 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120916 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130916 Year of fee payment: 8 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |