JP3684769B2 - シリコン単結晶の製造方法および保持する方法 - Google Patents

シリコン単結晶の製造方法および保持する方法 Download PDF

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、チョクラルスキー法(Czochralski Method=CZ法)によるシリコン単結晶の製造方法において、いわゆる種絞り(ネッキング)を行うことなく、シリコン単結晶を製造する方法と、結晶の育成中に結晶の一部を機械的に保持して引き上げる方法を組み合わせた技術に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来、シリコン等の半導体材料を製造する方法として、例えば図3(A)に示すように、種ホルダ51が保持する種結晶52をルツボ53内の原料融液54の表面に接触させ、種結晶52をその回転軸回りに回転させつつ引上げるとともに引上速度および温度を調整して、種結晶52の下方にいわゆるネッキングを行い種絞り55を形成し、引続いて径の大きい単結晶の直胴部56を形成するようなチョクラルスキー法が知られている。
【0003】
この場合、種絞り55を形成することで、その下方の結晶の直胴部56を無転位化することが出来るが、近年では単結晶の大直径化又は生産効率向上等のため、結晶重量が高重量化し、例えば100Kg以上にもおよぶ結晶が引き上げられるようになってきており、これに伴い種結晶52および種絞り55の強度が不足しがちとなってきた。そして、結晶の引上げ中に万が一種絞りが破断して結晶が落下するようなことがあると、重大事故につながる恐れがある。そこで最近、例えば図3(B)に示すような結晶成長中に成長結晶の一部を機械的に保持する方法及び装置が採用されるようになってきている。
【0004】
この装置では、種絞り55と直胴部56との間に、拡径部と縮径部からなる係合段部57を形成し、この係合段部57を結晶保持治具58、58で挟持して引上げるようにしている。そしてこのような技術として、例えば特開昭62−288191号とか、特開昭63−252991号とか、特開平3−285893号とか、特開平3−295893号等の技術が知られているが、例えば特開平3−285893号の場合は、係合段部を成形しながら種結晶を引上げる際、係合段部が所定位置に配置される把持レバーの位置まで来ると、把持レバーが係合段部を把持して引上げるようにしている。
【0005】
一方、本出願人は直径が細く、強度上一番の問題となるネッキングによる種絞り部を形成することなく、結晶を単結晶化させることができ、大直径かつ長尺な高重量のシリコン単結晶を、上記結晶保持機構のような装置を使用することなく、極めて簡単に引上げることができる、シリコン単結晶の製造方法およびこれに用いられるシリコン種結晶を開発することに成功し、先に提案した(特願平9−17687号)。
【0006】
この方法では、種結晶としてシリコン融液に接触させる先端部の形状が、例えば図2(A)〜(D)に示したような、尖った形状または尖った先端を切り取った形状であるものを用いる。この種結晶の先端部は、例えば円錐形状7、あるいは角錐形状8となっており、先端に向かって縮径するテーパ部を構成している。
【0007】
そして、このような種結晶を用い、まず該種結晶の先端をシリコン融液にしずかに接触させた後、種結晶を低速度で下降させることによって種結晶の先端部が所望の太さとなるまで溶融し、その後、種結晶をゆっくりと上昇させ、ネッキングを行うことなく、所望径まで太らせれば、種絞りを形成することなくシリコン単結晶棒を育成させることが出来る。
【0008】
この方法では、ネッキングを行わないので、絞り部を形成することに伴う結晶落下の問題を根本的に解決することができる、きわめて優れた方法である。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】
前記成長結晶の一部を機械的に保持する方法における問題としては、成長結晶の一部を機械的に保持するためには、原則として結晶がある程度成長してからでないと保持できないが、種絞り部の破断による結晶の落下を防止するためには、結晶が高重量にまで成長する前のできるだけ早くに結晶を保持するのが望ましい。
【0010】
それでは、結晶成長開始後、成長結晶の保持対象となる係合段部を形成後ただちに保持すれば良いかというと、このように原料融液直上で成長結晶を保持すると、保持装置が高温の原料融液(シリコンの融点は1400℃以上)に直接曝され、部材の変質、作動不良を起こしてしまうほか、原料融液の不純物汚染の原因にもなってしまう。
【0011】
また、このように成長結晶が高温のうちに機械的に保持しストレスをかけると、結晶に塑性変形が生じ、成長結晶中にスリップ転位が発生することがある。そして、このように成長結晶中にスリップ転位等が生じると、結晶のその部分は機械的強度が低下し、その後成長結晶が高重量化した場合に、破断の危険性がある。
【0012】
一方、ある重量以上の結晶成長を行ってしまうと、結晶重量に耐えきれずに、種結晶または種絞り部の破断が起きる可能性があり、このような破断が生じるような重量より少ない重量で結晶を成長するか、このような結晶重量に達する前に結晶を機械的に保持する必要がある。
【0013】
そして、近年の例えば8インチ以上といった大直径の結晶の育成においては、わずかな長さの結晶を成長しただけで、結晶の重量は高重量化してしまい、特に近年開発が進められている直径12〜16インチといった結晶では、1cm成長させただけで、1.6〜3Kgも重量が増加し、1本の結晶の総重量は200〜300Kgにもなる。したがって、できるだけ早く成長結晶を機械的に保持することが要請される反面、大直径結晶の育成では必然的に高温部領域が広がっており、結晶をかなり成長させてからでないと、成長結晶の保持する部分の温度が塑性変形を起こさないような温度まで下がらない。
【0014】
またさらには、そもそも結晶の一部を機械的に保持する方法においては、保持対象である係合段部を形成する必要があるが、このような係合段部の形成は生産性、歩留の両面で無駄であるばかりか、所望の形状にするのが困難で、必ずしも保持出来るものが形成されるとは限らない。
【0015】
一方、ネッキングを行わないチョクラルスキー法においては、上記のような問題は生ぜず、種絞り部を形成することに伴う種々の問題を根本的に解決することができる。
ところが、近年のデバイスの高集積化にともなう、単結晶の大直径化により、引き上げられる結晶の重量は、予想以上に高重量化している。これにともない強度上問題となるのは、ネッキングによる種絞り部に限られず、種結晶の種ホルダ取り付け部での破損、あるいは種ホルダ自体の破損、ワイヤの破断等々の問題が生じてきた。
【0016】
そこで、本発明は上記のような問題に鑑みてなされたもので、チョクラルスキー法によって製造される単結晶の大直径・高重量化にともなう、成長単結晶棒の落下の危険を完全に取り除くシリコン単結晶の製造方法を提供することを目的とする。
【0017】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、本発明の請求項1に記載した発明は、種結晶をシリコン融液に接触させた後、これを回転させながらゆっくりと引き上げることによって、シリコン単結晶棒を成長させるチョクラルスキー法によるシリコン単結晶の製造方法において、
該種結晶のシリコン融液に接触させる先端部の形状が、尖った形状または尖った先端を切り取った形状である種結晶を使用し、
まず該種結晶の先端をシリコン融液にしずかに接触させた後、該種結晶を低速度で下降させることによって種結晶の先端部が所望の太さとなるまで溶融し、
その後、該種結晶をゆっくりと上昇させ、ネッキングを行うことなく、所望径のシリコン単結晶棒を育成させ、
該単結晶棒の育成中に結晶の一部を機械的に保持する、
ことを特徴とするシリコン単結晶の製造方法である。
【0018】
このように、ネッキングを行うことなく、シリコン単結晶を製造する方法と、結晶の育成中に結晶の一部を機械的に保持して引き上げる方法を組み合わせることによって、双方の欠点を補い、両方法の利点を生かすことが出来、完全に単結晶棒の高重量化にともなう結晶落下の問題を解決することが出来る。
【0019】
すなわち、ネッキングを行わないので、種絞りの強度にかかる問題は解決されるし、単結晶の成長の早期の段階で、結晶を機械的に保持する必要はない。そしてその後、結晶の保持する部分が低温化するまで結晶を成長させた後、成長結晶を機械的に保持するようにすれば、種結晶の種ホルダ取り付け部での破損、あるいは種ホルダ自体の破損、ワイヤの破断等々の問題についても解決することが出来る。
【0020】
次に、本発明の請求項2に記載した発明は、前記請求項1に記載のシリコン単結晶の製造方法において、結晶の一部の機械的な保持は、先端部の形状が尖った形状または尖った先端を切り取った形状の種結晶のテーパ部を保持するようにすることを特徴とする。
【0021】
このように、結晶の一部の機械的な保持は、先端部の形状が尖った形状または尖った先端を切り取った形状の種結晶のテーパ部を保持するようにすれば、わざわざ保持のための係合段部を形成する必要がないので、極めて簡単であるとともに、形状もあらかじめ精度良く所望の形状となっているので、確実に単結晶を保持することが出来る。
【0022】
また、本発明の請求項3に記載した発明は、種結晶をシリコン融液に接触させた後、これを回転させながらゆっくりと引き上げることによって、シリコン単結晶棒を成長させるチョクラルスキー法であって、該単結晶棒の育成中に結晶の一部を機械的に保持する方法において、
該種結晶のシリコン融液に接触させる先端部の形状が、尖った形状または尖った先端を切り取った形状である種結晶を使用し、
前記結晶の一部の機械的な保持は、前記先端部形状を有する種結晶のテーパ部を保持するようにする、ことを特徴とする育成中に結晶の一部を機械的に保持する方法である。
【0023】
このように、本発明の結晶保持方法は、簡単かつ確実に成長結晶を機械的に保持することが出来るので、ネッキングを行わない方法を行うか否かにかかわらず、高重量単結晶を機械的に保持して引き上げる場合において有用である。
【0024】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
まず、ネッキングを行うことなくチョクラルスキー法によってシリコン単結晶を製造する方法につき簡単に説明すると、この方法は、
種結晶をシリコン融液に接触させた後、これを回転させながらゆっくりと引き上げることによって、シリコン単結晶棒を成長させるチョクラルスキー法によるシリコン単結晶の製造方法において、
該種結晶のシリコン融液に接触させる先端部の形状が、尖った形状または尖った先端を切り取った形状である種結晶を使用し、
まず該種結晶の先端をシリコン融液にしずかに接触させた後、該種結晶を低速度で下降させることによって種結晶の先端部が所望の太さとなるまで溶融し、
その後、該種結晶をゆっくりと上昇させ、ネッキングを行うことなく、所望径のシリコン単結晶棒を育成させる、というようなシリコン単結晶の製造方法である。
【0025】
この方法では、種結晶がシリコン融液に接触していない状態からシリコン融液に接触・溶融する場合であるにもかかわらず、最初に接触する部分の面積が小さく、熱容量が小さいので、シリコン融液への接触による熱衝撃が種結晶に与えられず、またその後ゆっくりと種結晶を下降させることによって、徐々に接触面積が大きくなるため、溶融中にも種結晶内に急激な温度勾配が形成されない。したがって、種結晶をシリコン融液に無転位で接触・溶融することが出来る。
【0026】
すなわち、チョクラルスキー法によるシリコン単結晶棒の製造において、種結晶のシリコン融液に接触させる先端部の形状が、接触面積の小さい尖った形状または尖った先端を切り取った形状である種結晶を使用し、この種結晶の先端をシリコン融液にしずかに接触させ、その後この種結晶を低速度でゆっくりと下降させることによって、種結晶の先端部がその後の高重量単結晶棒の重量に耐え得る所望の太さとなるまで溶融し、次いで、種結晶をゆっくりと上昇させ、そのまま所望径まで単結晶を太らせれば、ネッキングを行うことなくシリコン単結晶棒を育成させることができる。
【0027】
このようなネッキングを行わないチョクラルスキー法においては、用いる種結晶の先端部の形状を、例えば図2に示したような、尖った形状または尖った先端を切り取った形状とする必要がある。このような形状であれば、最初に種結晶の先端がシリコン融液に接触した時、融液への接触面積が小さく、先端部の熱容量が小さいために、種結晶に熱衝撃あるいは急激な温度勾配が形成されないので、スリップ転位が導入されないからである。
【0028】
そして、その後種結晶をゆっくりと下降させて種結晶の先端部が、所望の太さとなるまで溶融すれば、融液中種結晶と融液の接触面積は徐々に増加していくため、種結晶内に急激な温度勾配を形成することなく種結晶を溶融することができ、溶融時にもスリップ転位が種結晶内に導入されない。
【0029】
このようなネッキングを行わないチョクラルスキー法においては、種絞り部が存在しないので、この部分の強度の問題を完全に解決することが出来る。しかし、高重量結晶を引き上げる場合に問題になるのは、種絞り部に限らず、種結晶の種ホルダとの接合部や種ホルダ自体、ワイヤの破断等の問題もあるので、本発明では、さらに成長単結晶を機械的に保持するようにする。
【0030】
以下、本発明の方法につき、図面に基づき具体的に説明する。
ここで、図1は、本発明の方法を工程順に示した説明図である。
まず、図1(A)のように、種ホルダ1にシリコン融液2に接触させる先端部の形状が、尖った形状である種結晶3をセットし、ワイヤ4を下降させることによって、シリコン融液2直上でしばらく種結晶3を保温する。
【0031】
次に、ワイヤ4を低速度で下降させることによって、種結晶3の尖った先端をシリコン融液2にしずかに接触させた後、さらに種結晶3を低速度で下降し続けることによって、種結晶3の先端部が高重量の単結晶の引上げに耐え得る所望の太さとなるまで溶融する。
【0032】
種結晶3の先端部が所望の太さまで溶融できたなら、種結晶3をゆっくりと上昇させ、ネッキングを行うことなく、そのまま所望径まで結晶を太らせた後、直胴部5を形成し、シリコン単結晶棒を育成させる(図1(B))。
【0033】
そのまま単結晶の直胴部5の成長を継続し、種結晶3のテーパ部6が、結晶保持治具9の挟持する先端部が望む位置となるまで単結晶を育成させる(図1(C))。
この場合、結晶保持治具9は、高温による動作不良、部材の変質等を起こさないように、また結晶にストレスをかけることによる塑性変形、スリップ転位を生じないように、あらかじめ充分に低温化した高さ位置で待機させておく。
【0034】
この時、育成される単結晶棒が大直径である場合、既に高重量化していることもあるが、ネッキングを行っていないので、従来のように絞り部の破断の心配はないし、この段階ではまだ種結晶3と種ホルダ1の接合部の破損や種ホルダ1の破損、ワイヤ4の破断といった心配が生じるほど高重量化していない。
【0035】
そして、種結晶3のテーパ部6が所定の位置まで来たならば、結晶保持治具9によって種結晶3のテーパ部6を挟み込むようにして、機械的に保持する(図1(D))。単結晶棒を機械的に保持したなら、結晶保持治具9をゆっくりと上昇させることによって、単結晶の荷重が結晶保持治具9にかかるようにし、以後結晶保持治具9の上昇を継続することによって、単結晶の育成を継続する。
【0036】
さらに単結晶の育成を継続すれば、単結晶棒の重量はますます高重量化するが、結晶棒の荷重は、結晶保持治具9と種結晶のテーパ部6の間にかかっており、従来のごとく種結晶3と種ホルダ1の接合部や種ホルダ1、あるいはワイヤ4には高荷重がかかっていないので、これらの破損や破断といったことは起こらない。
【0037】
尚、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は、例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。
【0038】
例えば、本発明は、通常のチョクラルスキー法のみならず、シリコン単結晶の引上げ時に磁場を印加するMCZ法(Magnetic field applied Czochralski crystal growth method)にも同様に適用できることは言うまでもなく、本明細書中で使用したチョクラルスキー法という用語には、通常のチョクラルスキー法だけでなく、MCZ法も含まれる。
【0039】
また、結晶保持治具についても、上記で説明したようなものに限られるものではなく、育成結晶の一部を機械的に保持するものであれば、その形態、機構、保持方法は特に限定されるものではない。
【0040】
また、結晶保持治具が保持する位置につき、本発明では種結晶のテーパ部を保持する場合を中心に説明したが、本発明は必ずテーパ部を保持しなければならないものではなく、必要とあらば係合段部を形成した上で保持してもよいし、単結晶棒の直胴部を保持するようにしても良い。
【0041】
さらに、本発明で言う種結晶のテーパ部とは、厳密な意味に解すべきものではなく、種結晶の先端部に向けて徐々に縮径する場合に限るものではない。すなわち、種結晶の下方の先端部にむけて太さが細くなっており、結晶保持治具によって保持可能な形状であればこの文言に含むものとして解されるべきものである。
【0042】
【発明の効果】
以上詳述したように、本発明では、チョクラルスキー法によるシリコン単結晶の製造方法において、ネッキングを行うことなくシリコン単結晶を製造する方法と、結晶の育成中に結晶の一部を機械的に保持して引き上げる方法を組み合わせたので、製造される単結晶の大直径・高重量化にともなう、成長単結晶棒の落下の危険を完全に取り除くことが出来る。
【0043】
すなわち、ネッキングを行わないので、種絞り部の形成にともなう問題を根本的に解決することができるとともに、結晶を機械的に保持するので、種結晶の種ホルダ取り付け部での破損、あるいは種ホルダ自体の破損、ワイヤの破断等々の問題についても解決することが出来る。
【0044】
しかも、この場合に結晶を充分に低温化してから保持するので、結晶棒の塑性変形、スリップ転位の発生、さらには高温による結晶保持治具の作動不良等の問題もないとともに、係合段部を形成することも必要ではないので、極めて簡単かつ確実に成長結晶棒を保持することが出来る。
【図面の簡単な説明】
【図1】(A)〜(E)は、本発明の方法を工程順に示した説明図である。
【図2】本発明において用いられる種結晶の形状の例を示した斜視図である。
(A) 円柱状の種結晶の先端部を円錐形状としたもの、
(B) 四角柱状の種結晶の先端部を角錐形状としたもの、
(C) 先端部が円錐形状の先端を水平に切り取った形状としたもの、
(D) 先端部が円錐形状の先端を斜めに切り取った形状としたもの。
【図3】従来の方法の説明図である。
(A)従来のチョクラルスキー法、
(B)従来の結晶を保持する方法。
【符号の説明】
1…種ホルダ、 2…シリコン融液、
3…種結晶、 4…ワイヤ、
5…直胴部、 6…テーパ部、
7…円錐部、 8…角錐部、
9…結晶保持治具。
51…種ホルダ、
52…種結晶、 53…ルツボ、
54…原料融液、 55…種絞り、
56…直胴部、 57…係合段部、
58…結晶保持治具。

Claims (3)

  1. 種結晶をシリコン融液に接触させた後、これを回転させながらゆっくりと引き上げることによって、シリコン単結晶棒を成長させるチョクラルスキー法によるシリコン単結晶の製造方法において、
    該種結晶のシリコン融液に接触させる先端部の形状が、尖った形状または尖った先端を切り取った形状である種結晶を使用し、
    まず該種結晶の先端をシリコン融液にしずかに接触させた後、該種結晶を低速度で下降させることによって種結晶の先端部が所望の太さとなるまで溶融し、
    その後、該種結晶をゆっくりと上昇させ、ネッキングを行うことなく、所望径のシリコン単結晶棒を育成させ、
    該単結晶棒の育成中に結晶の一部を機械的に保持する、
    ことを特徴とするシリコン単結晶の製造方法。
  2. 前記結晶の一部の機械的な保持は、先端部の形状が尖った形状または尖った先端を切り取った形状の種結晶のテーパ部を保持するようにする、ことを特徴とする請求項1に記載のシリコン単結晶の製造方法。
  3. 種結晶をシリコン融液に接触させた後、これを回転させながらゆっくりと引き上げることによって、シリコン単結晶棒を成長させるチョクラルスキー法であって、該単結晶棒の育成中に結晶の一部を機械的に保持する方法において、
    該種結晶のシリコン融液に接触させる先端部の形状が、尖った形状または尖った先端を切り取った形状である種結晶を使用し、
    前記結晶の一部の機械的な保持は、前記先端部形状を有する種結晶のテーパ部を保持するようにする、ことを特徴とする育成中に結晶の一部を機械的に保持する方法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE69802864T2 (de) 1997-05-21 2002-08-29 Shin-Etsu Handotai Co., Ltd. Silizium-Impfkristall, Verfahren zu seiner Herstellung und Verfahren zur Herstellung eines Silizium-Einkristalls unter Verwendung des Silizium-Impfkristalls
DE19737581B4 (de) * 1997-08-28 2007-03-08 Sumitomo Mitsubishi Silicon Corp. Verfahren zum (Aus)Ziehen eines Einkristalls
KR100685919B1 (ko) * 2000-12-29 2007-02-22 엘지.필립스 엘시디 주식회사 세정 장치
KR20030034357A (ko) * 2001-10-22 2003-05-09 주식회사 실트론 단결정 잉곳 성장장치에서의 잉곳 직경 조절장치 및 잉곳직경 조절 방법
EP1498517B1 (en) * 2002-04-24 2016-08-31 Shin-Etsu Handotai Co., Ltd. Method of manufacturing silicon single crystal
KR100826472B1 (ko) * 2007-07-16 2008-04-30 주식회사 성우하이텍 차량의 프론트 엔드 모듈용 캐리어
JP2012513950A (ja) * 2008-12-30 2012-06-21 エムイーエムシー・シンガポール・プライベイト・リミテッド シリコン溶融物から多結晶シリコンインゴットを引き上げるための方法及び引上アセンブリ
KR101022918B1 (ko) 2009-02-18 2011-03-16 주식회사 엘지실트론 무네킹 공정을 이용한 단결정 제조 방법
JP5488597B2 (ja) 2009-06-18 2014-05-14 株式会社Sumco シリコン単結晶の製造方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62288191A (ja) * 1986-06-06 1987-12-15 Kyushu Denshi Kinzoku Kk 単結晶成長方法及びその装置
JPS63252991A (ja) * 1987-04-09 1988-10-20 Mitsubishi Metal Corp 落下防止保持部を有するcz単結晶
DE69112463T2 (de) * 1990-03-30 1996-02-15 Shinetsu Handotai Kk Vorrichtung zur Herstellung von Monokristallen nach dem Czochralski-Verfahren.
JPH07515B2 (ja) * 1990-04-11 1995-01-11 信越半導体株式会社 結晶引上装置
JPH07103000B2 (ja) * 1990-03-30 1995-11-08 信越半導体株式会社 結晶引上装置
JP2848067B2 (ja) * 1991-11-12 1999-01-20 信越半導体株式会社 シリコン単結晶の種結晶
JPH10203898A (ja) * 1997-01-17 1998-08-04 Shin Etsu Handotai Co Ltd シリコン単結晶の製造方法および種結晶

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