JP3651966B2 - エポキシ基含有シロキサン類およびこれらとポリカーボネート類の混合物 - Google Patents
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Description
【０００１】
本発明は、式１
【０００２】
【化３】
【０００３】
（式１）
［式中、
Ａは、エポキシ基を有するＣ1−Ｃ20アルキル基を意味し、
Ｂは、Ｒ1またはＡを意味し、
Ｒ1、Ｒ2は、互いに独立して、Ｃ1−Ｃ20アルキルまたはＣ6−Ｃ10アリールを意味し、
ａは、ゼロまたは１−１００の整数を意味し、
ｂは、１−１００の整数を意味し、
ｃは、１−５の整数を意味する］
で表されるエポキシ基含有シロキサン類に関する。
【０００４】
好適には、シリコン原子の少なくとも４０％が基Ａで置換されており、そしてこのポリマー内に含まれている構造成分Ｉ、ＩＩおよびＩＩＩはブロックとしてか或はランダムに分布している。
【０００５】
式１で表される特に好適なシロキサン類は、一般基が下記の意味を有するシロキサン類である、即ち
１）
Ｒ1、Ｒ2＝互いに独立して、メチル、エチル、プロピル、ブチル、オクチル、イソオクチル、２−エチルヘキシル、フェニル、ナフチル、
Ｂ＝Ｒ1またはＡ、
ａ＝０−５０、
ｂ＝１−５０、
ｃ＝１から５、
Ａ＝γ−グリシドキシプロピル、４，５−エポキシペンチル、γ−グリシドキシブチル、γ−グリシドキシヘキシル、γ−グリシドキシオクチル、グリシドキシ−ｏ，ｐ−フェニル、５，６−エポキシヘキシル、７，８−エポキシオクチル、９，１０−エポキシデシル、β−３，４−（エポキシシクロヘキシル）−エチル、β−３，４−（エポキシシクロヘキシル）−プロピル、
２）
Ｒ1＝ＣＨ3、
Ｒ2＝Ｃ6Ｈ5、
Ｂ＝Ｒ1、
ａ＝０−２５、
ｂ＝１−２５、
ｃ＝１−５、
Ａ＝γ−グリシドキシプロピル、
３）
Ｒ1、Ｒ2＝互いに独立して、ＣＨ3、Ｃ6Ｈ5、
Ｂ＝Ｒ1、
ａ＝０−２５、
ｂ＝１−２５、
ｃ＝１−５、
Ａ＝γ−グリシドキシプロピル、
であるシロキサン類である。
【０００６】
上記シロキサン類は低い揮発性を示すことによって特徴づけられ、そしてこれらは、α，β−不飽和エポキシ化合物に適切なＳｉ−Ｈシロキサン類を付加させること（加水分解）によって製造可能である。
【０００７】
本発明はまた、混合物全体を基準にして上記シロキサン類を０．００１から２．５重量％、好適には０．００５から０．２５重量％の量で含んでいる、芳香族ポリカーボネート類と上記シロキサン類の混合物にも関係している。上記混合物は、公知様式で、２６０℃から３６０℃の温度で溶融コンパンド化もしくは溶融押し出しを行うことによって直接的に製造可能である。これらは、温度老化の意味で際だった特性を示すこと、例えば黄色化がほとんどないこと、透過率の損失が低いこと、並びに分子量の低下がほとんどないことなどによって特徴づけられる。
【０００８】
更に、加水分解に対する抵抗力も改良されている。
【０００９】
この混合物で用いるに適切なポリカーボネート類は、少なくとも１０，０００、好適には２０，０００から３００，０００のＭw（分子量の重量平均）を有する高分子量の熱可塑性芳香族ポリカーボネート類であり、好適には式（Ｉ）
【００１０】
【化４】
【００１１】
［式中、
Ｒ1およびＲ2は、互いに独立して、水素、ハロゲン、好適には塩素または臭素、Ｃ1−Ｃ8アルキル、Ｃ5−Ｃ6シクロアルキル、Ｃ6−Ｃ10アリール、好適にはフェニル、そしてＣ7−Ｃ12アラルキル、好適にはフェニル−Ｃ1−Ｃ4アルキル、特にベンジルを意味し、
ｍは、４から７の整数、好適には４または５を意味し、
Ｒ3およびＲ4は、互いに独立して各Ｘに関して個別に選択可能であり、水素またはＣ1−Ｃ6アルキルを意味し、そして
Ｘは、炭素を意味するが、
但し、少なくとも１個の原子Ｘ上において、Ｒ3とＲ4が同時にアルキルを意味することを条件とする］
で表される二官能のカーボネート構造単位を含んでいるポリカーボネート類である。
【００１２】
このポリカーボネート類Ａの出発生成物は、式（Ｉａ）
【００１３】
【化５】
【００１４】
［式中、
Ｘ、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4およびｍは、式（Ｉ）で与えた意味を有する］
で表されるジヒドロキシジフェニルシクロアルカン類である。
【００１５】
好適には、１−２個の原子Ｘ上、特に１個のみの原子Ｘ上において、Ｒ3とＲ4が同時にアルキルである。
【００１６】
好適なアルキル基はメチルであり、そしてジフェニル置換されているＣ原子（Ｃ−１）に対してα位にあるＸ原子は好適にはジアルキル置換されておらず、他方、Ｃ−１に対するβ位がアルキルで二置換されているのが好適である。
【００１７】
環状脂肪族基内に５および６個の環Ｃ原子を有するジヒドロキシジフェニルシクロアルカン類（式（Ｉａ）においてｍ＝４または５）が好適であり、例えば式（Ｉｂ）から（Ｉｄ）
【００１８】
【化６】
【００１９】
で表されるジフェノール類が好適であり、１，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン（Ｒ1とＲ2がＨに等しい式（Ｉｂ））が特に好適である。ドイツ特許出願公開第Ｐ ３ ８３２ ３９６．６（Ｌｅ Ａ ２６ ３４４）に従い、式（Ｉａ）で表されるジフェノール類からポリカーボネート類Ａを製造することができる。
【００２０】
式（Ｉａ）で表されるジフェノールを１種用いてホモポリカーボネート類を生じさせることができると共に、式（Ｉａ）で表されるジフェノールを数種用いてコポリカーボネート類を生じさせることも可能である。
【００２１】
高分子量の熱可塑性芳香族ポリカーボネート類の製造では、更にまた、式（Ｉａ）で表されるジフェノール類を他のジフェノール類、例えば式（Ｉｅ）
ＨＯ−Ｚ−ＯＨ （Ｉｅ）
で表されるジフェノール類と混合して用いることができると共にまた、式（Ｉｅ）で表されるジフェノール類を単独で用いることも可能である。
【００２２】
式（Ｉｅ）で表される他の適切なジフェノール類は、Ｚが６から３０個のＣ原子を有する芳香族基であるジフェノール類であり、これらは、芳香核を１個以上含んでいてもよく、置換されていてもよく、そして式（Ｉａ）で表されるもの以外の脂肪族基または環状脂肪族基か或はヘテロ原子をブリッジ員として含んでいてもよい。
【００２３】
式（Ｉｅ）で表されるジフェノール類の例は、ヒドロキノン、レゾルシノール、ジヒドロキシジフェニル類、ビ−（ヒドロキシフェニル）アルカン類、ビス−（ヒドロキシフェニル）シクロアルカン類、ビス−（ヒドロキシフェニル）スルフィド類、ビス−（ヒドロキシフェニル）エーテル類、ビス−（ヒドロキシフェニル）ケトン類、ビス−（ヒドロキシフェニル）スルホン類、ビス−（ヒドロキシフェニル）スルホキサイド類、α，α’−ビス−（ヒドロキシフェニル）−ジイソプロピルベンゼン類、並びにそれらの核がアルキル化されている化合物およびハロゲン化されている化合物などである。
【００２４】
これらのおよび他の適切なジフェノール類は、例えば米国特許第３ ０２８ ３６５、２ ９９９ ８３５、３ １４８ １７２、３ ２７５ ６０１、２ ９９１ ２７３、３ ２７１ ３６７、３ ０６２ ７８１、２ ９７０ １３１および２ ９９９ ８４６、ドイツ特許出願公開第１ ５７０ ７０３、２ ０６３ ０５０、２ ０６３ ０５２、２ ２１１ ９５６、フランス特許出願公開第１ ５６１ ５１８号、並びにＨ．Ｓｃｈｎｅｌｌの専攻論文「Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ａｎｄ Ｐｈｙｓｉｃｓ ｏｆ Ｐｏｌｙｃａｒｂｏｎａｔｅｓ」、Ｉｎｔｅｒｓｉｃｅｎｃｅ Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒｓ、Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ、１９６４などの中に記述されている。
【００２５】
他の好適なジフェノール類は例えば下記のものである：４，４’−ジヒドロキシジフェニル、２，２−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，４−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−２−メチルブタン、１，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、α，α−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−ｐ−ジイソプロピルベンゼン、２，２−ビス−（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス−（３−クロロ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、ビス−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）メタン、２，２−ビス−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、ビス−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）スルホン、２，４−ビス−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−２−メチルブタン、１，１−ビス−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、α，α−ビス−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−ｐ−ジイソプロピルベンゼン、２，２−ビス−（３，５−ジクロロ−４−ヒドロキシフェニル）プロパンおよび２，２−ビス−（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン。
【００２６】
式（Ｉｅ）で表される特に好適なジフェノール類は、例えば２，２−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス−（３，５−ジクロロ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス−（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）プロパンおよび１，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサンである。
【００２７】
２，２−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）プロパンが特に好適である。これらの他のジフェノール類は個別に使用可能であると共に混合物として使用可能である。
【００２８】
式（Ｉａ）で表されるジフェノール類を用いる場合、この式（Ｉａ）で表されるジフェノール類と、任意に同時に用いる式（Ｉｅ）で表される他のジフェノール類とのモル比は、１００モル％の（Ｉａ）：０モル％の（Ｉｅ）から２モル％の（Ｉａ）：９８モル％の（Ｉｅ）、好適には１００モル％の（Ｉａ）：０モル％の（Ｉｅ）から５モル％の（Ｉａ）：９５モル％の（Ｉｅ）、特に１００モル％の（Ｉａ）：０モル％の（Ｉｅ）から１０モル％の（Ｉａ）：９０モル％の（Ｉｅ）、極めて特別には１００モル％の（Ｉａ）：０モル％の（Ｉｅ）から２０モル％の（Ｉａ）：８０モル％の（Ｉｅ）である。
【００２９】
式（Ｉｅ）で表されるジフェノール類および／または（Ｉａ）で表されるジフェノール類からの高分子量ポリカーボネート類は、公知のポリカーボネート製造方法に従って製造可能である。これを行う場合、ランダム様式およびブロック状態の両方で種々のジフェノール類を互いに連結させることができる。
【００３０】
このポリカーボネート類を本質的に知られている様式で分枝させてもよい。分枝させることが望まれている場合、三官能またはそれ以上の官能性を示す化合物、特にフェノール系ヒドロキシル基を３個以上有する化合物を少量、好適には０．０５から２．０モル％（使用するジフェノール類を基準）の量で縮合させることによる公知様式でこれを達成することができる。フェノール系ヒドロキシル基を３個以上有する分枝剤のいくつかは下記のものである：フロログルシノール、４，６−ジメチル−２，４，６−トリ−（４−ヒドロキシフェニル）ヘプテン−２、４，６−ジメチル−２，４，６−トリ−（４−ヒドロキシフェニル）ヘプタン、１，３，５−トリ−（４−ヒドロキシフェニル）ベンゼン、１，１，１−トリ−（４−ヒドロキシフェニル）エタン、トリ−（４−ヒドロキシフェニル）フェニルメタン、２，２−ビス−［４，４−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキシル］プロパン、２，４−ビス−（４−ヒドロキシフェニルイソプロピル）フェノール、２，６−ビス−（２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−４−メチルフェノール、２−（４−ヒドロキシフェノール）−２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）プロパン、ヘキサ−［４−（４−ヒドロキシフェニルイソプロピル）フェニル］−オルソ−テレフタル酸エステル、テトラ−（４−ヒドロキシフェニル）メタン、テトラ−［４−（４−ヒドロキシフェニルイソプロピル）フェノキシ］メタンおよび１，４−ビス−［４’，４”−ジヒドロキシトリフェニル）メチル−ベンゼン。
【００３１】
他の三官能化合物のいくつかは、２，４−ジヒドロキシ安息香酸、トリメシン酸、シアヌール酸クロライドおよび３，３−ビス−（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）−２−オキソ−２，３−ジヒドロインドールである。
【００３２】
ポリカーボネート類Ａの分子量を調節することが本質的に知らている連鎖停止剤として単官能化合物を通常の濃度で用いることができる。適切な化合物は、例えばフェノール、ｔ−ブチルフェノール類または他のアルキル−Ｃ1−Ｃ7−置換フェノール類などである。分子量の調節では、特に、式（Ｉｆ）
【００３３】
【化７】
【００３４】
［式中、
Ｒは、分枝Ｃ8および／またはＣ9アルキル基を意味する］
で表されるフェノール類を少量用いるのが適切である。好適には、このアルキル基Ｒ内のＣＨ3プロトンの割合は４７から８９％であり、そしてＣＨおよびＣＨ2プロトンの割合は５３から１１％であり、同様に好適には、ＲはＯＨ基に対してｏ−位および／またはｐ−位にあり、そして特に好適には、このオルソの比率の上限は２０％である。一般に、使用するジフェノール類を基準にして０．５から１０、好適には１．５から８モル％の量で連鎖停止剤を用いる。
【００３５】
好適には、本質的に知られている様式で、界面挙動に従ってこのポリカーボネートＡを製造することができる（Ｈ．Ｓｃｈｎｅｌｌ著「Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ａｎｄ Ｐｈｙｓｉｃｓ ｏｆ Ｐｏｌｙｃａｒｂｏｎａｔｅｓ」、Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｒｅｖｉｅｗｓ、ＩＸ巻、３３頁ｆｆ以降、Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ Ｐｕｂｌ．１９６４参照）。
【００３６】
この場合、水系のアルカリ相の中に式（Ｉｅ）および／または（Ｉａ）で表されるジフェノール類を溶解させる。例えば、式（Ｉｆ）で表される連鎖停止剤を添加することで分子量を調節することができる。この場合、界面縮合方法に従い、好適にはポリカーボネートを溶かす不活性有機相の存在下で、ホスゲンを用いてこの反応を実施する。この反応温度は０℃から４０℃である。
【００３７】
任意に同時に用いる分枝剤（好適には０．０５から２．０モル％）は、該ジフェノール類と一緒に水系のアルカリ相の中に入れて仕込み可能であるか、或はホスゲン化を行う前に該有機溶媒の中に溶解させて添加することも可能である。式（Ｉａ）および／または（Ｉｅ）で表されるジフェノール類とは別に、それらのモノ−および／またはビス−クロロ蟻酸エステルも使用可能であり、この場合、これらを有機溶媒に溶解させて添加してもよい。この場合、連鎖停止剤の量および分枝剤の量は、ジフェノラート基のモル量に依存しており、クロロ蟻酸エステルを同時に使用する場合、それに相応させて、公知様式でホスゲンの量を低くすることができる。
【００３８】
連鎖停止剤に適切な有機溶媒、並びに任意の分枝剤およびクロロ蟻酸エステルに適切な有機溶媒は、例えば塩化メチレン、クロロベンゼン、アセトン、アセトニトリル、並びに上記溶媒の混合物であり、特に塩化メチレンとクロロベンゼンの混合物である。使用する連鎖停止剤と分枝剤を任意に同じ溶媒に溶解させてもよい。
【００３９】
界面重縮合反応では、例えば塩化メチレン、クロロベンゼン、並びに塩化メチレンとクロロベンゼンの混合物を有機相として用いる。
【００４０】
水系アルカリ相として例えばＮａＯＨ溶液を用いる。この界面方法に従うポリカーボネート類Ａの製造では、通常様式で、第三アミン類、特に脂肪族の第三アミン類、例えばトリブチルアミンまたはトリエチルアミンなどを触媒として用いてもよく、この触媒は、使用するジフェノール類のモル量に対して０．０５から１０モル％の量で使用可能である。この触媒は、ホスゲン化を始める前か、ホスゲン化中か、或はその後、添加可能である。
【００４１】
このポリカーボネート類Ａは、公知方法である「ピリジン方法」に従い均一相内で製造可能であると共に、例えばホスゲンの代わりにジフェニルカーボネートを用いた公知の溶融エステル交換方法に従って製造可能である。
【００４２】
このポリカーボネート類Ａの分子量Ｍw（予め目盛り定めを行った後ゲルクロマトグラフィーで測定した重量平均）は、好適には少なくとも２，０００、特に好適には２０，０００から３００，０００、特に２０，０００から８０，０００である。これらは線状もしくは分枝していてもよく、そしてこれらは式（Ｉｅ）および／または（Ｉａ）で表されるジフェノール類を基とするホモポリカーボネート類もしくはコポリカーボネート類である。
【００４３】
式（Ｉａ）で表されるジフェノール類を組み込む結果として、加熱下で良好な寸法安定性を示すと共にまた他の面でも良好な範囲の特性を示す新規なポリカーボネート類がもたらされた。このことは、特に、ｍが４または５である式（Ｉａ）で表されるジフェノール類を基とするポリカーボネート類に当てはまり、極めて特別には、Ｒ1とＲ2が互いに独立して式（Ｉａ）で与えた意味を有しそして特に好適には水素であるジフェノール類（Ｉｂ）を基とするポリカーボネート類に当てはまる。
【００４４】
従って、特に好適なポリカーボネート類Ａは、式（Ｉ）で表される構造単位のｍ＝４または５であるポリカーボネート類であり、極めて特別には、式（Ｉｇ）
【００４５】
【化８】
【００４６】
［式中、
Ｒ1とＲ2は、式（Ｉ）で与えた意味を有し、特に好適には水素である］
で表される単位で構成されているポリカーボネート類である。
【００４７】
特にＲ1とＲ2が水素である式（Ｉｂ）で表されるジフェノール類を基とする上記ポリカーボネート類は、加熱下で良好な寸法安定性を示すことに加えて、良好なＵＶ安定性を示すと共に、それの溶融物は良好な流れ挙動を示し、これは予想外であった。
【００４８】
他のジフェノール類、特に式（Ｉｅ）で表されるジフェノール類をこの組成物に任意に含める結果として、また、このポリカーボネートの特性を好ましい様式で変化させることができる。このようなコポリカーボネート類では、このポリカーボネート類に、式（Ｉａ）で表されるジフェノール類を、ジフェノール単位の全量１００モル％を基準にして１００モル％から２モル％の量、好適には１００モル％から５モル％の量、特に１００モル％から１０モル％の量、極めて特別には１００モル％から２０モル％の量で含める。
【００４９】
このようなポリカーボネート類はよく知られている。
【００５０】
【実施例】
適切なＳｉＨシロキサン類の製造
実施例１
撹拌機、還流分配器、還流コンデンサ、温度計およびＮ2ブランケットが備わっているフラスコの中に、［（ＣＨ3）3ＳｉＯ1/2］3［Ｏ3/2ＳｉＣ6Ｈ5］を１８５ｇ（０．５モル）、３０個のメチル水素シロキシ単位から成る平均鎖長を有するトリメチルシリル末端メチル水素ポリシロキサンを４９０ｇ（０．２５モル）、硫酸を０．７ｇおよびパーフルオロブタンスルホン酸を０．３５ｇ入れた後、１００℃で４時間撹拌する。この混合物を２ｇの炭酸アンモニウムで中和した後、このシロキサンオリゴマーをフィルターポンプ内で１００℃になるまで加熱する。濾過後、1Ｈ−ＮＭＲスペクトルで計算した平均組成が下記であるポリシロキサンが得られる。
【００５１】
ＴPh（ＤH）11Ｍ3.3
実施例２
撹拌機、還流分配器、還流コンデンサ、温度計およびＮ2ブランケットが備わっているフラスコの中に、［（ＣＨ3）3ＳｉＯ1/2］3［Ｏ3/2ＳｉＣ6Ｈ5］を１８５ｇ（０．５モル）、３０個のメチル水素シロキシ単位から成る平均鎖長を有するトリメチルシリル末端メチル水素ポリシロキサンを９８．１ｇ（０．０５モル）、硫酸を０．７ｇおよびパーフルオロブタンスルホン酸を０．３５ｇ入れた後、１００℃で４時間撹拌する。この混合物を２ｇの炭酸アンモニウムで中和した後、このシロキサンオリゴマーをフィルターポンプ内で１００℃になるまで加熱する。濾過後、1Ｈ−ＮＭＲスペクトルで計算した平均組成が下記であるポリシロキサンが得られる。
【００５２】
ＴPh（ＤH）2.8Ｍ2.3
実施例３
撹拌機、還流分配器、温度計およびＮ2ブランケットが備わっているフラスコの中に、［（ＣＨ3）3ＳｉＯ1/2ＳｉＣ6Ｈ5］2を２９１ｇ（０．５モル）、３０個のメチル水素シロキシ単位から成る平均鎖長を有するトリメチルシリル末端メチル水素ポリシロキサンを４９０ｇ（０．２５モル）、硫酸を０．７ｇおよびパーフルオロブタンスルホン酸を０．３５ｇ入れた後、１００℃で４時間撹拌する。この混合物を２ｇの炭酸アンモニウムで中和した後、このシロキサンオリゴマーをフィルターポンプ内で１００℃になるまで加熱する。濾過後、1Ｈ−ＮＭＲスペクトルで計算した平均組成が下記であるポリシロキサンが得られる。
【００５３】
（ＴPh）2（ＤH）12.8Ｍ3.6
実施例４
撹拌機、還流分配器、還流コンデンサ、温度計およびＮ2ブランケットが備わっているフラスコの中に、［（ＣＨ3）3ＳｉＯ1/2ＳｉＣ6Ｈ5］3を３６９ｇ（０．５モル）、３０個のメチル水素シロキシ単位から成る平均鎖長を有するトリメチルシリル末端メチル水素ポリシロキサンを９８１ｇ（０．５モル）、硫酸を１．４ｇおよびパーフルオロブタンスルホン酸を０．７ｇ入れた後、１００℃で４時間撹拌する。この混合物を３．７ｇの炭酸アンモニウムで中和した後、このシロキサンオリゴマーを真空ポンプ内で１００℃になるまで加熱する。
【００５４】
濾過後、1Ｈ−ＮＭＲスペクトルで計算した平均組成が下記であるポリシロキサンが得られる。
【００５５】
（ＴPh）3（ＤH）27Ｍ5
付加（実施例１−４の生成物を用いたヒドロシリル化）
撹拌機、還流分配器、還流コンデンサ、温度計、滴下漏斗およびＮ2ブランケットが備わっているフラスコの中に、反応させるべきＳｉＨの１モルに対して１４２ｇ（１．２５モル）のアリルグリシジルエーテルを入れる。支持体としての活性炭の上に支持されているＨ2ＰｔＣｌ6（Ｎｏｒｉｔｅ ＣＮ １）として、全反応混合物を基準にして５０ｐｐｍの量で白金を触媒として加える。この混合物を６０℃に加熱した後、１００℃以上にならないようにＳｉＨ成分を計量して入れる。１００℃で撹拌を３時間継続する。ＳｉＨ基が完全に変換されたことをメタノール系ＫＯＨ溶液を用いて試験した後、＜１０ミリバールの圧力下で１３０℃にまで加熱することによって、過剰量のアリルグリシジルエーテルを除去する。
【００５６】
【００５７】
【化９】
【００５８】
実施例１に従う主要成分
【００５９】
【化１０】
【００６０】
実施例２に従う主要成分
【００６１】
【化１１】
【００６２】
実施例３に従う主要成分
【００６３】
【化１２】
【００６４】
実施例４に従う主要成分
【００６５】
【化１３】
本発明は、式１
【０００２】
【化３】
（式１）
［式中、
Ａは、エポキシ基を有するＣ1−Ｃ20アルキル基を意味し、
Ｂは、Ｒ1またはＡを意味し、
Ｒ1、Ｒ2は、互いに独立して、Ｃ1−Ｃ20アルキルまたはＣ6−Ｃ10アリールを意味し、
ａは、ゼロまたは１−１００の整数を意味し、
ｂは、１−１００の整数を意味し、
ｃは、１−５の整数を意味する］
で表されるエポキシ基含有シロキサン類に関する。
【０００４】
好適には、シリコン原子の少なくとも４０％が基Ａで置換されており、そしてこのポリマー内に含まれている構造成分Ｉ、ＩＩおよびＩＩＩはブロックとしてか或はランダムに分布している。
【０００５】
式１で表される特に好適なシロキサン類は、一般基が下記の意味を有するシロキサン類である、即ち
１）
Ｒ1、Ｒ2＝互いに独立して、メチル、エチル、プロピル、ブチル、オクチル、イソオクチル、２−エチルヘキシル、フェニル、ナフチル、
Ｂ＝Ｒ1またはＡ、
ａ＝０−５０、
ｂ＝１−５０、
ｃ＝１から５、
Ａ＝γ−グリシドキシプロピル、４，５−エポキシペンチル、γ−グリシドキシブチル、γ−グリシドキシヘキシル、γ−グリシドキシオクチル、グリシドキシ−ｏ，ｐ−フェニル、５，６−エポキシヘキシル、７，８−エポキシオクチル、９，１０−エポキシデシル、β−３，４−（エポキシシクロヘキシル）−エチル、β−３，４−（エポキシシクロヘキシル）−プロピル、
２）
Ｒ1＝ＣＨ3、
Ｒ2＝Ｃ6Ｈ5、
Ｂ＝Ｒ1、
ａ＝０−２５、
ｂ＝１−２５、
ｃ＝１−５、
Ａ＝γ−グリシドキシプロピル、
３）
Ｒ1、Ｒ2＝互いに独立して、ＣＨ3、Ｃ6Ｈ5、
Ｂ＝Ｒ1、
ａ＝０−２５、
ｂ＝１−２５、
ｃ＝１−５、
Ａ＝γ−グリシドキシプロピル、
であるシロキサン類である。
【０００６】
上記シロキサン類は低い揮発性を示すことによって特徴づけられ、そしてこれらは、α，β−不飽和エポキシ化合物に適切なＳｉ−Ｈシロキサン類を付加させること（加水分解）によって製造可能である。
【０００７】
本発明はまた、混合物全体を基準にして上記シロキサン類を０．００１から２．５重量％、好適には０．００５から０．２５重量％の量で含んでいる、芳香族ポリカーボネート類と上記シロキサン類の混合物にも関係している。上記混合物は、公知様式で、２６０℃から３６０℃の温度で溶融コンパンド化もしくは溶融押し出しを行うことによって直接的に製造可能である。これらは、温度老化の意味で際だった特性を示すこと、例えば黄色化がほとんどないこと、透過率の損失が低いこと、並びに分子量の低下がほとんどないことなどによって特徴づけられる。
【０００８】
更に、加水分解に対する抵抗力も改良されている。
【０００９】
この混合物で用いるに適切なポリカーボネート類は、少なくとも１０，０００、好適には２０，０００から３００，０００のＭw（分子量の重量平均）を有する高分子量の熱可塑性芳香族ポリカーボネート類であり、好適には式（Ｉ）
【００１０】
【化４】
［式中、
Ｒ1およびＲ2は、互いに独立して、水素、ハロゲン、好適には塩素または臭素、Ｃ1−Ｃ8アルキル、Ｃ5−Ｃ6シクロアルキル、Ｃ6−Ｃ10アリール、好適にはフェニル、そしてＣ7−Ｃ12アラルキル、好適にはフェニル−Ｃ1−Ｃ4アルキル、特にベンジルを意味し、
ｍは、４から７の整数、好適には４または５を意味し、
Ｒ3およびＲ4は、互いに独立して各Ｘに関して個別に選択可能であり、水素またはＣ1−Ｃ6アルキルを意味し、そして
Ｘは、炭素を意味するが、
但し、少なくとも１個の原子Ｘ上において、Ｒ3とＲ4が同時にアルキルを意味することを条件とする］
で表される二官能のカーボネート構造単位を含んでいるポリカーボネート類である。
【００１２】
このポリカーボネート類Ａの出発生成物は、式（Ｉａ）
【００１３】
【化５】
［式中、
Ｘ、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4およびｍは、式（Ｉ）で与えた意味を有する］
で表されるジヒドロキシジフェニルシクロアルカン類である。
【００１５】
好適には、１−２個の原子Ｘ上、特に１個のみの原子Ｘ上において、Ｒ3とＲ4が同時にアルキルである。
【００１６】
好適なアルキル基はメチルであり、そしてジフェニル置換されているＣ原子（Ｃ−１）に対してα位にあるＸ原子は好適にはジアルキル置換されておらず、他方、Ｃ−１に対するβ位がアルキルで二置換されているのが好適である。
【００１７】
環状脂肪族基内に５および６個の環Ｃ原子を有するジヒドロキシジフェニルシクロアルカン類（式（Ｉａ）においてｍ＝４または５）が好適であり、例えば式（Ｉｂ）から（Ｉｄ）
【００１８】
【化６】
で表されるジフェノール類が好適であり、１，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン（Ｒ1とＲ2がＨに等しい式（Ｉｂ））が特に好適である。ドイツ特許出願公開第Ｐ ３ ８３２ ３９６．６（Ｌｅ Ａ ２６ ３４４）に従い、式（Ｉａ）で表されるジフェノール類からポリカーボネート類Ａを製造することができる。
【００２０】
式（Ｉａ）で表されるジフェノールを１種用いてホモポリカーボネート類を生じさせることができると共に、式（Ｉａ）で表されるジフェノールを数種用いてコポリカーボネート類を生じさせることも可能である。
【００２１】
高分子量の熱可塑性芳香族ポリカーボネート類の製造では、更にまた、式（Ｉａ）で表されるジフェノール類を他のジフェノール類、例えば式（Ｉｅ）
ＨＯ−Ｚ−ＯＨ （Ｉｅ）
で表されるジフェノール類と混合して用いることができると共にまた、式（Ｉｅ）で表されるジフェノール類を単独で用いることも可能である。
【００２２】
式（Ｉｅ）で表される他の適切なジフェノール類は、Ｚが６から３０個のＣ原子を有する芳香族基であるジフェノール類であり、これらは、芳香核を１個以上含んでいてもよく、置換されていてもよく、そして式（Ｉａ）で表されるもの以外の脂肪族基または環状脂肪族基か或はヘテロ原子をブリッジ員として含んでいてもよい。
【００２３】
式（Ｉｅ）で表されるジフェノール類の例は、ヒドロキノン、レゾルシノール、ジヒドロキシジフェニル類、ビ−（ヒドロキシフェニル）アルカン類、ビス−（ヒドロキシフェニル）シクロアルカン類、ビス−（ヒドロキシフェニル）スルフィド類、ビス−（ヒドロキシフェニル）エーテル類、ビス−（ヒドロキシフェニル）ケトン類、ビス−（ヒドロキシフェニル）スルホン類、ビス−（ヒドロキシフェニル）スルホキサイド類、α，α’−ビス−（ヒドロキシフェニル）−ジイソプロピルベンゼン類、並びにそれらの核がアルキル化されている化合物およびハロゲン化されている化合物などである。
【００２４】
これらのおよび他の適切なジフェノール類は、例えば米国特許第３ ０２８ ３６５、２ ９９９ ８３５、３ １４８ １７２、３ ２７５ ６０１、２ ９９１ ２７３、３ ２７１ ３６７、３ ０６２ ７８１、２ ９７０ １３１および２ ９９９ ８４６、ドイツ特許出願公開第１ ５７０ ７０３、２ ０６３ ０５０、２ ０６３ ０５２、２ ２１１ ９５６、フランス特許出願公開第１ ５６１ ５１８号、並びにＨ．Ｓｃｈｎｅｌｌの専攻論文「Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ａｎｄ Ｐｈｙｓｉｃｓ ｏｆ Ｐｏｌｙｃａｒｂｏｎａｔｅｓ」、Ｉｎｔｅｒｓｉｃｅｎｃｅ Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒｓ、Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ、１９６４などの中に記述されている。
【００２５】
他の好適なジフェノール類は例えば下記のものである：４，４’−ジヒドロキシジフェニル、２，２−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，４−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−２−メチルブタン、１，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、α，α−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−ｐ−ジイソプロピルベンゼン、２，２−ビス−（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス−（３−クロロ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、ビス−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）メタン、２，２−ビス−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、ビス−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）スルホン、２，４−ビス−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−２−メチルブタン、１，１−ビス−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、α，α−ビス−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−ｐ−ジイソプロピルベンゼン、２，２−ビス−（３，５−ジクロロ−４−ヒドロキシフェニル）プロパンおよび２，２−ビス−（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン。
【００２６】
式（Ｉｅ）で表される特に好適なジフェノール類は、例えば２，２−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス−（３，５−ジクロロ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス−（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）プロパンおよび１，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサンである。
【００２７】
２，２−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）プロパンが特に好適である。これらの他のジフェノール類は個別に使用可能であると共に混合物として使用可能である。
【００２８】
式（Ｉａ）で表されるジフェノール類を用いる場合、この式（Ｉａ）で表されるジフェノール類と、任意に同時に用いる式（Ｉｅ）で表される他のジフェノール類とのモル比は、１００モル％の（Ｉａ）：０モル％の（Ｉｅ）から２モル％の（Ｉａ）：９８モル％の（Ｉｅ）、好適には１００モル％の（Ｉａ）：０モル％の（Ｉｅ）から５モル％の（Ｉａ）：９５モル％の（Ｉｅ）、特に１００モル％の（Ｉａ）：０モル％の（Ｉｅ）から１０モル％の（Ｉａ）：９０モル％の（Ｉｅ）、極めて特別には１００モル％の（Ｉａ）：０モル％の（Ｉｅ）から２０モル％の（Ｉａ）：８０モル％の（Ｉｅ）である。
【００２９】
式（Ｉｅ）で表されるジフェノール類および／または（Ｉａ）で表されるジフェノール類からの高分子量ポリカーボネート類は、公知のポリカーボネート製造方法に従って製造可能である。これを行う場合、ランダム様式およびブロック状態の両方で種々のジフェノール類を互いに連結させることができる。
【００３０】
このポリカーボネート類を本質的に知られている様式で分枝させてもよい。分枝させることが望まれている場合、三官能またはそれ以上の官能性を示す化合物、特にフェノール系ヒドロキシル基を３個以上有する化合物を少量、好適には０．０５から２．０モル％（使用するジフェノール類を基準）の量で縮合させることによる公知様式でこれを達成することができる。フェノール系ヒドロキシル基を３個以上有する分枝剤のいくつかは下記のものである：フロログルシノール、４，６−ジメチル−２，４，６−トリ−（４−ヒドロキシフェニル）ヘプテン−２、４，６−ジメチル−２，４，６−トリ−（４−ヒドロキシフェニル）ヘプタン、１，３，５−トリ−（４−ヒドロキシフェニル）ベンゼン、１，１，１−トリ−（４−ヒドロキシフェニル）エタン、トリ−（４−ヒドロキシフェニル）フェニルメタン、２，２−ビス−［４，４−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキシル］プロパン、２，４−ビス−（４−ヒドロキシフェニルイソプロピル）フェノール、２，６−ビス−（２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−４−メチルフェノール、２−（４−ヒドロキシフェノール）−２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）プロパン、ヘキサ−［４−（４−ヒドロキシフェニルイソプロピル）フェニル］−オルソ−テレフタル酸エステル、テトラ−（４−ヒドロキシフェニル）メタン、テトラ−［４−（４−ヒドロキシフェニルイソプロピル）フェノキシ］メタンおよび１，４−ビス−［４’，４”−ジヒドロキシトリフェニル）メチル−ベンゼン。
【００３１】
他の三官能化合物のいくつかは、２，４−ジヒドロキシ安息香酸、トリメシン酸、シアヌール酸クロライドおよび３，３−ビス−（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）−２−オキソ−２，３−ジヒドロインドールである。
【００３２】
ポリカーボネート類Ａの分子量を調節することが本質的に知らている連鎖停止剤として単官能化合物を通常の濃度で用いることができる。適切な化合物は、例えばフェノール、ｔ−ブチルフェノール類または他のアルキル−Ｃ1−Ｃ7−置換フェノール類などである。分子量の調節では、特に、式（Ｉｆ）
【００３３】
【化７】
［式中、
Ｒは、分枝Ｃ8および／またはＣ9アルキル基を意味する］
で表されるフェノール類を少量用いるのが適切である。好適には、このアルキル基Ｒ内のＣＨ3プロトンの割合は４７から８９％であり、そしてＣＨおよびＣＨ2プロトンの割合は５３から１１％であり、同様に好適には、ＲはＯＨ基に対してｏ−位および／またはｐ−位にあり、そして特に好適には、このオルソの比率の上限は２０％である。一般に、使用するジフェノール類を基準にして０．５から１０、好適には１．５から８モル％の量で連鎖停止剤を用いる。
【００３５】
好適には、本質的に知られている様式で、界面挙動に従ってこのポリカーボネートＡを製造することができる（Ｈ．Ｓｃｈｎｅｌｌ著「Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ａｎｄ Ｐｈｙｓｉｃｓ ｏｆ Ｐｏｌｙｃａｒｂｏｎａｔｅｓ」、Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｒｅｖｉｅｗｓ、ＩＸ巻、３３頁ｆｆ以降、Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ Ｐｕｂｌ．１９６４参照）。
【００３６】
この場合、水系のアルカリ相の中に式（Ｉｅ）および／または（Ｉａ）で表されるジフェノール類を溶解させる。例えば、式（Ｉｆ）で表される連鎖停止剤を添加することで分子量を調節することができる。この場合、界面縮合方法に従い、好適にはポリカーボネートを溶かす不活性有機相の存在下で、ホスゲンを用いてこの反応を実施する。この反応温度は０℃から４０℃である。
【００３７】
任意に同時に用いる分枝剤（好適には０．０５から２．０モル％）は、該ジフェノール類と一緒に水系のアルカリ相の中に入れて仕込み可能であるか、或はホスゲン化を行う前に該有機溶媒の中に溶解させて添加することも可能である。式（Ｉａ）および／または（Ｉｅ）で表されるジフェノール類とは別に、それらのモノ−および／またはビス−クロロ蟻酸エステルも使用可能であり、この場合、これらを有機溶媒に溶解させて添加してもよい。この場合、連鎖停止剤の量および分枝剤の量は、ジフェノラート基のモル量に依存しており、クロロ蟻酸エステルを同時に使用する場合、それに相応させて、公知様式でホスゲンの量を低くすることができる。
【００３８】
連鎖停止剤に適切な有機溶媒、並びに任意の分枝剤およびクロロ蟻酸エステルに適切な有機溶媒は、例えば塩化メチレン、クロロベンゼン、アセトン、アセトニトリル、並びに上記溶媒の混合物であり、特に塩化メチレンとクロロベンゼンの混合物である。使用する連鎖停止剤と分枝剤を任意に同じ溶媒に溶解させてもよい。
【００３９】
界面重縮合反応では、例えば塩化メチレン、クロロベンゼン、並びに塩化メチレンとクロロベンゼンの混合物を有機相として用いる。
【００４０】
水系アルカリ相として例えばＮａＯＨ溶液を用いる。この界面方法に従うポリカーボネート類Ａの製造では、通常様式で、第三アミン類、特に脂肪族の第三アミン類、例えばトリブチルアミンまたはトリエチルアミンなどを触媒として用いてもよく、この触媒は、使用するジフェノール類のモル量に対して０．０５から１０モル％の量で使用可能である。この触媒は、ホスゲン化を始める前か、ホスゲン化中か、或はその後、添加可能である。
【００４１】
このポリカーボネート類Ａは、公知方法である「ピリジン方法」に従い均一相内で製造可能であると共に、例えばホスゲンの代わりにジフェニルカーボネートを用いた公知の溶融エステル交換方法に従って製造可能である。
【００４２】
このポリカーボネート類Ａの分子量Ｍw（予め目盛り定めを行った後ゲルクロマトグラフィーで測定した重量平均）は、好適には少なくとも２，０００、特に好適には２０，０００から３００，０００、特に２０，０００から８０，０００である。これらは線状もしくは分枝していてもよく、そしてこれらは式（Ｉｅ）および／または（Ｉａ）で表されるジフェノール類を基とするホモポリカーボネート類もしくはコポリカーボネート類である。
【００４３】
式（Ｉａ）で表されるジフェノール類を組み込む結果として、加熱下で良好な寸法安定性を示すと共にまた他の面でも良好な範囲の特性を示す新規なポリカーボネート類がもたらされた。このことは、特に、ｍが４または５である式（Ｉａ）で表されるジフェノール類を基とするポリカーボネート類に当てはまり、極めて特別には、Ｒ1とＲ2が互いに独立して式（Ｉａ）で与えた意味を有しそして特に好適には水素であるジフェノール類（Ｉｂ）を基とするポリカーボネート類に当てはまる。
【００４４】
従って、特に好適なポリカーボネート類Ａは、式（Ｉ）で表される構造単位のｍ＝４または５であるポリカーボネート類であり、極めて特別には、式（Ｉｇ）
【００４５】
【化８】
［式中、
Ｒ1とＲ2は、式（Ｉ）で与えた意味を有し、特に好適には水素である］
で表される単位で構成されているポリカーボネート類である。
【００４７】
特にＲ1とＲ2が水素である式（Ｉｂ）で表されるジフェノール類を基とする上記ポリカーボネート類は、加熱下で良好な寸法安定性を示すことに加えて、良好なＵＶ安定性を示すと共に、それの溶融物は良好な流れ挙動を示し、これは予想外であった。
【００４８】
他のジフェノール類、特に式（Ｉｅ）で表されるジフェノール類をこの組成物に任意に含める結果として、また、このポリカーボネートの特性を好ましい様式で変化させることができる。このようなコポリカーボネート類では、このポリカーボネート類に、式（Ｉａ）で表されるジフェノール類を、ジフェノール単位の全量１００モル％を基準にして１００モル％から２モル％の量、好適には１００モル％から５モル％の量、特に１００モル％から１０モル％の量、極めて特別には１００モル％から２０モル％の量で含める。
【００４９】
このようなポリカーボネート類はよく知られている。
【００５０】
【実施例】
適切なＳｉＨシロキサン類の製造
実施例１
撹拌機、還流分配器、還流コンデンサ、温度計およびＮ2ブランケットが備わっているフラスコの中に、［（ＣＨ3）3ＳｉＯ1/2］3［Ｏ3/2ＳｉＣ6Ｈ5］を１８５ｇ（０．５モル）、３０個のメチル水素シロキシ単位から成る平均鎖長を有するトリメチルシリル末端メチル水素ポリシロキサンを４９０ｇ（０．２５モル）、硫酸を０．７ｇおよびパーフルオロブタンスルホン酸を０．３５ｇ入れた後、１００℃で４時間撹拌する。この混合物を２ｇの炭酸アンモニウムで中和した後、このシロキサンオリゴマーをフィルターポンプ内で１００℃になるまで加熱する。濾過後、1Ｈ−ＮＭＲスペクトルで計算した平均組成が下記であるポリシロキサンが得られる。
【００５１】
ＴPh（ＤH）11Ｍ3.3
実施例２
撹拌機、還流分配器、還流コンデンサ、温度計およびＮ2ブランケットが備わっているフラスコの中に、［（ＣＨ3）3ＳｉＯ1/2］3［Ｏ3/2ＳｉＣ6Ｈ5］を１８５ｇ（０．５モル）、３０個のメチル水素シロキシ単位から成る平均鎖長を有するトリメチルシリル末端メチル水素ポリシロキサンを９８．１ｇ（０．０５モル）、硫酸を０．７ｇおよびパーフルオロブタンスルホン酸を０．３５ｇ入れた後、１００℃で４時間撹拌する。この混合物を２ｇの炭酸アンモニウムで中和した後、このシロキサンオリゴマーをフィルターポンプ内で１００℃になるまで加熱する。濾過後、1Ｈ−ＮＭＲスペクトルで計算した平均組成が下記であるポリシロキサンが得られる。
【００５２】
ＴPh（ＤH）2.8Ｍ2.3
実施例３
撹拌機、還流分配器、温度計およびＮ2ブランケットが備わっているフラスコの中に、［（ＣＨ3）3ＳｉＯ1/2ＳｉＣ6Ｈ5］2を２９１ｇ（０．５モル）、３０個のメチル水素シロキシ単位から成る平均鎖長を有するトリメチルシリル末端メチル水素ポリシロキサンを４９０ｇ（０．２５モル）、硫酸を０．７ｇおよびパーフルオロブタンスルホン酸を０．３５ｇ入れた後、１００℃で４時間撹拌する。この混合物を２ｇの炭酸アンモニウムで中和した後、このシロキサンオリゴマーをフィルターポンプ内で１００℃になるまで加熱する。濾過後、1Ｈ−ＮＭＲスペクトルで計算した平均組成が下記であるポリシロキサンが得られる。
【００５３】
（ＴPh）2（ＤH）12.8Ｍ3.6
実施例４
撹拌機、還流分配器、還流コンデンサ、温度計およびＮ2ブランケットが備わっているフラスコの中に、［（ＣＨ3）3ＳｉＯ1/2ＳｉＣ6Ｈ5］3を３６９ｇ（０．５モル）、３０個のメチル水素シロキシ単位から成る平均鎖長を有するトリメチルシリル末端メチル水素ポリシロキサンを９８１ｇ（０．５モル）、硫酸を１．４ｇおよびパーフルオロブタンスルホン酸を０．７ｇ入れた後、１００℃で４時間撹拌する。この混合物を３．７ｇの炭酸アンモニウムで中和した後、このシロキサンオリゴマーを真空ポンプ内で１００℃になるまで加熱する。
【００５４】
濾過後、1Ｈ−ＮＭＲスペクトルで計算した平均組成が下記であるポリシロキサンが得られる。
【００５５】
（ＴPh）3（ＤH）27Ｍ5
付加（実施例１−４の生成物を用いたヒドロシリル化）
撹拌機、還流分配器、還流コンデンサ、温度計、滴下漏斗およびＮ2ブランケットが備わっているフラスコの中に、反応させるべきＳｉＨの１モルに対して１４２ｇ（１．２５モル）のアリルグリシジルエーテルを入れる。支持体としての活性炭の上に支持されているＨ2ＰｔＣｌ6（Ｎｏｒｉｔｅ ＣＮ １）として、全反応混合物を基準にして５０ｐｐｍの量で白金を触媒として加える。この混合物を６０℃に加熱した後、１００℃以上にならないようにＳｉＨ成分を計量して入れる。１００℃で撹拌を３時間継続する。ＳｉＨ基が完全に変換されたことをメタノール系ＫＯＨ溶液を用いて試験した後、＜１０ミリバールの圧力下で１３０℃にまで加熱することによって、過剰量のアリルグリシジルエーテルを除去する。
【００５６】
【化９】
実施例１に従う主要成分
【００５９】
【化１０】
実施例２に従う主要成分
【００６１】
【化１１】
実施例３に従う主要成分
【００６３】
【化１２】
実施例４に従う主要成分
【００６５】
【化１３】
Claims (3)
- 式１
［式中、
Ａは、エポキシ基を有するＣ1−Ｃ20アルキル基を意味し、
Ｂは、Ｒ1またはＡを意味し、
Ｒ1、Ｒ2は、互いに独立して、Ｃ1−Ｃ20アルキルまたはＣ6−Ｃ10アリールを意味し、
ａは、ゼロまたは１−１００の整数を意味し、
ｂは、１−１００の整数を意味し、
ｃは、１−５の整数を意味する］
で表されるエポキシ基含有シロキサン類。 - 混合物全体を基準にして請求項１のシロキサン類を０．００１から２．５重量％の量で含んでいる、芳香族ポリカーボネート類とシロキサン類の混合物。
- 式（Ｉ）
Ｒ1およびＲ2は、互いに独立して、水素、ハロゲン、好適には塩素または臭素、Ｃ1−Ｃ8アルキル、Ｃ5−Ｃ6シクロアルキル、Ｃ6−Ｃ10アリール、好適にはフェニル、そしてＣ7−Ｃ12アラルキル、好適にはフェニル−Ｃ1−Ｃ4アルキル、特にベンジルを意味し、
ｍは、４から７の整数、好適には４または５を意味し、
Ｒ3およびＲ4は、互いに独立して各Ｘに関して個別に選択可能であり、水素またはＣ1−Ｃ6アルキルを意味し、そして
Ｘは、炭素を意味するが、
但し、少なくとも１個の原子Ｘ上において、Ｒ3とＲ4が同時にアルキルを意味することを条件とする］
で表される二官能のカーボネート構造単位を含んでいる、少なくとも１０，０００、好適には２０，０００から３００，０００のＭw（分子量の重量平均）を有する高分子量の熱可塑性芳香族ポリカーボネート類を含んでいる請求項２記載の混合物。
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