JP3633028B2 - 厚膜印刷基板及びその製造方法 - Google Patents

厚膜印刷基板及びその製造方法 Download PDF

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Description

【0001】
【産業上の利用分野】
本発明は、セラミック基板上に厚膜導体と厚膜抵抗体とを印刷形成した厚膜印刷基板及びその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来、厚膜印刷基板は、セラミック基板上に厚膜導体を焼成によってスクリーン印刷し、その上に、回路に必要な複数のシート抵抗を個別に印刷し、一括して焼成することによって形成される。その際、図10に示すように、厚膜抵抗体3と厚膜導体2とは、厚膜導体2上に厚膜抵抗体3が適当量重なるように配置される。なお、図10において(a)は平面図、(b)は(a)のA−A’断面図である。
【0003】
ここで、厚膜導体2をCu系材料とした場合、厚膜抵抗体3は、シート抵抗値が10Ω/□〜10kΩ/□となるLaB系(ほう化ランタン系)の抵抗体ペーストが用いられる。このLaB系の抵抗体ペーストにより形成した厚膜抵抗体3をLaB抵抗体と以下称する。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
このような厚膜印刷基板において、LaB抵抗体3のシート抵抗値が10Ω/□〜50Ω/□と小さい時、厚膜導体2が抵抗値異常となり製造上の歩留りの低下や抵抗体の信頼性の低下を引き起こす。
また、LaB抵抗体3のシート抵抗値が5kΩ/□〜10kΩ/□と大きい時にも同じく抵抗値が著しく増加し抵抗値異常となることがあった。
【0005】
本発明は上記問題に鑑みたもので、厚膜印刷基板において厚膜抵抗体の抵抗値を適正に保つことを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段、作用及び効果】
図12に、LaB抵抗体3のシート抵抗値を10Ω/□、50Ω/□、100Ω/□と変化させたものについて、20個のサンプルの平均の抵抗値を調べた結果を示す。縦軸は、その平均の抵抗値を示しており、1mm×1mmの大きさでの焼成後の抵抗値である。なお、後述する図3、図5、図8、図13に示すグラフも、この図12と同様にして調べたものである。
【0007】
図12に示すように、LaB抵抗体3のシート抵抗値を10Ω/□、50Ωとした場合には、設計値から大きく抵抗値が増加している。
また、LaB抵抗体3のシート抵抗値を、図13に示すように、1kΩ/□、5kΩ/□、10kΩ/□と変化させたものについても検討した。この図から分かるように、LaB抵抗体3のシート抵抗値を5kΩ/□、10kΩ/□とした場合には、抵抗値が設計値から大きく増加している。
【0008】
本発明者等は、上記の点について種々考察したところ、上記のような抵抗値異常が生じている原因として、図11のように厚膜導体2に亀裂(クラック)2aが生じて断線を起こすこと、及び図14のように厚膜導体に含まれるガラス中の成分と厚膜抵抗体中の成分とが反応することによるとの結論を得た。すなわち、LaB6 抵抗体3の抵抗値が低い場合(少なくとも50Ω以下の場合)には、厚膜導体2中の成分と抵抗体中のLaB6 が反応し、厚膜導体2が変質する。これは、抵抗体の端部下で強く現れ、厚膜導体2に断線を引き起こす。
【0009】
また、LaB抵抗体3の抵抗値が大きい場合(少なくとも5kΩ/□以上の場合)には、厚膜導体2中の成分とLaBとが反応して、図14に示すように、LaB抵抗体3側にガラス化した抵抗体層3aが形成され、このガラス化した抵抗体層3aの抵抗値が大きいため、抵抗値異常が生じる。
本発明は、上記した検討に基づき、抵抗値異常が厚膜導体と厚膜抵抗体との反応によって生じることに着目し、厚膜導体と厚膜抵抗体との間に、厚膜抵抗体の焼成形成時に厚膜導体と厚膜抵抗体とが反応するのを阻止する中間層を設けたことを特徴としている。
【0010】
従って、厚膜導体と厚膜抵抗体との間に中間層を設けることによって、厚膜抵抗体の焼成形成時に厚膜導体と厚膜抵抗体とが反応するのが阻止され、その反応によって生じるクラックの発生、あるいはガラス化した抵抗体層の形成が抑制され、厚膜抵抗体の抵抗値を適正なものに維持することができる。
なお、中間層としては、厚膜導体及び厚膜抵抗体と反応しない抵抗体又は導体を用いることができる。
【0011】
また、本発明は、シート抵抗値が50Ω/□以下のほう化ランタン系の抵抗体に対し、厚膜導体とほう化ランタン系の抵抗体との間に、シート抵抗値が100Ω/□以上のほう化ランタン系の抵抗体中間層を設けたことを特徴としている。
ほう化ランタン系の抵抗体のシート抵抗値が50Ω/□以下の場合には、図12に示すように抵抗値が増大するが、シート抵抗値が100Ω/□以上のほう化ランタン系の抵抗体中間層を介在させることにより、後述する図3、図5の結果に示すように抵抗値の増大を防ぐことができる。
【0012】
これは、ほう化ランタン系の抵抗体のシート抵抗値が50Ω/□以下の場合には、抵抗体中にLaBが過剰にあるため、厚膜導体中の成分とLaBが反応しやすくなるが、シート抵抗値が100Ω/□以上のほう化ランタン系の抵抗体では、その中のLaBが適量であるため、厚膜導体中の成分とLaBとの反応が生じにくくなるからである。
【0013】
また、本発明は、ほう化ランタン系の抵抗体の端部と厚膜導体との間に、ほう化ランタン系の抵抗体中間層が形成され、厚膜抵抗体の端部以外の領域においてほう化ランタン系の抵抗体と厚膜導体とが直接接触していることを特徴としている。
このように厚膜抵抗体の端部以外の領域において、ほう化ランタン系の抵抗体と厚膜導体とを直接接触させるように構成することにより、ほう化ランタン系の抵抗体中間層を介在させたことによる抵抗値の増大を防ぐことができる。
【0014】
また、本発明は、シート抵抗値が5kΩ/□以上のほう化ランタン系の抵抗体に対し、厚膜導体とほう化ランタン系の抵抗体との間に、シート抵抗値が1kΩ/□以下のほう化ランタン系の抵抗体層を設けたことを特徴としている。
ほう化ランタン系の抵抗体のシート抵抗値が5kΩ/□以上の場合には、図13に示すように抵抗値が増大するが、シート抵抗値が1kΩ/□以下のほう化ランタン系の抵抗体中間層を介在させることにより、ガラス化抵抗体層の形成が抑制され、後述する図8の結果に示すように抵抗値の増大を防ぐことができる。なお、この図8において抵抗体にはシート抵抗値として10kΩ/□を用いた。
【0015】
これは、ほう化ランタン系の抵抗体のシート抵抗値が5kΩ/□以上の場合には、その中のLaBは少なく、厚膜導体中のガラス中の成分とLaBとが反応すると、LaBが非常に少なくなり、抵抗値が増大するのに対し、1kΩ以下のほう化ランタン系の抵抗体ではLaBが減少してもその影響が少ないため、抵抗値の増加が防止されるからである。
【0016】
また、本発明は、厚膜導体とほう化ランタン系の抵抗体とはオーバーラップしない状態でセラミック基板上に形成され、ほう化ランタン系の抵抗体中間層は、厚膜導体とほう化ランタン系の抵抗体のそれぞれに電気的接続のための重なり部をもって形成されていることを特徴としている。
このように厚膜導体、抵抗体及び中間層の全てが重なり合うことを無くすことにより、表面の凹凸段差を通常の基板と同等にすることができる。
【0017】
さらに、本発明は、厚膜導体とほう化ランタン系の抵抗体との間に、シート抵抗値が100Ω/□以上1kΩ/□以下のほう化ランタン系の抵抗体中間層を設けたことを特徴している。
ほう化ランタン系の抵抗体中間層のシート抵抗値を100Ω/□以上1kΩ/□以下にすることにより、その上に形成されるほう化ランタン系の抵抗体の抵抗値がどのようなものであっても、ほう化ランタン系の抵抗体の抵抗値を適正なものに維持することができる。
【0018】
また、本発明に係る厚膜印刷基板の製造方法においては、抵抗体ペーストを印刷する前に、その抵抗体ペーストの焼成により抵抗体ペーストと焼成された導体とが反応するのを阻止する中間層を介在させたことを特徴としている。
このような製造方法を用いることにより、請求項1に記載と同様、厚膜抵抗体の抵抗値を適正なものに維持することができる。
【0019】
また、本発明は、抵抗体ペーストを印刷する工程において、抵抗体ペーストと同じ材料の抵抗体ペーストで、焼成された導体と抵抗体ペーストとの間に、その抵抗体ペーストの焼成により導体と抵抗体ペーストとが反応するのを阻止する中間層をも印刷するものであることを特徴としている。
このように、中間層を、厚膜抵抗体を形成するための抵抗体ペーストと同じ材料で形成することにより、中間層形成のための製造工程を簡略化することができる。
【0020】
【実施例】
以下本発明を図に示す実施例について説明する。
(第1実施例)
図1は本発明の第1実施例に係る厚膜印刷基板の構成を示すもので、(a)は平面図、(b)は(a)中のA−A’断面図である。
【0021】
この第1実施例は、シート抵抗値が小さい厚膜抵抗体を用いた場合の実施例である。図1において、セラミック基板1上にCu系の厚膜導体2が形成され、厚膜導体2とLaB抵抗体3との間に、それぞれに電気的接続のための重なり部をもつ中間層4が形成されている。
この中間層4の材料としては、厚膜導体2及びLaB抵抗体3と反応しない抵抗体又は導体を用いることができる。しかし、セラミック基板1に印刷されるLaB抵抗体3と同じ材料で中間層4を形成するのが製造上好ましい。すなわち、セラミック基板1上には種々の抵抗値のLaB抵抗体3が個別に印刷形成されるので、中間層4をそのうちの1つのLaB抵抗体とすれば、他のLaB抵抗体と同じようにして形成することができ、印刷回数及び焼成回数を増加することなく中間層4を形成することができるという効果を有する。
【0022】
以下、中間層4としてLaB抵抗体を用い、それをLaB中間抵抗体4と称して説明する。
図2に、図1に示す厚膜印刷基板の概略製造工程を示す。
まず、セラミック基板1上にCu系の厚膜導体を印刷し乾燥させ(ステップ101)、その後、導体を900℃で焼成する(ステップ102)。その上にLaB系の抵抗体ペーストを印刷し乾燥させる。この抵抗体の印刷・乾燥は、LaB中間抵抗体を含み必要なシート抵抗分繰り返し行う(ステップ103)。その後、一括して抵抗体を焼成する(ステップ104)。従って、中間層としてLaB抵抗体を用いれば、他のLaB抵抗体の形成と同時に製造することができる。
【0023】
図3に、LaB抵抗体3としてシート抵抗値が10Ω/□のものを用い、中間層4の無いものとLaB中間抵抗体4のシート抵抗値を100Ω/□、1kΩ/□、10kΩ/□としたものそれぞれについて検討を行った結果を示す。
この図に示すように、中間層4の無いものでは、平均の抵抗値が10Ωから大きく増加しているが、LaB中間抵抗体4のシート抵抗値を100Ω/□、1kΩ/□とした場合には、安定した所望の抵抗値を得ることができた。しかし、LaB中間抵抗体4のシート抵抗値を10kΩ/□とした場合には、抵抗値が増加した。
【0024】
これは、図1のように厚膜導体2とLaB抵抗体3の接合部全体にLaB中間抵抗体4を形成すると、中間抵抗体4の抵抗値の影響がでるためである。従って、図1のように構成した場合には、LaB中間抵抗体4のシート抵抗値は、100Ω/□〜1kΩ/□とする必要がある。
(第2実施例)
この第2実施例は、上述したLaB中間抵抗体4の抵抗値の影響をなくすように構成したものである。
【0025】
厚膜導体2に発生するクラックは、抵抗体中の成分との反応によってLaB抵抗体3の端部下に発生する。この点に着目して、この第2実施例では、図4に示すように、LaB抵抗体3の端部と厚膜導体2との間にのみLaB中間抵抗体4を形成している。この場合、LaB中間抵抗体4の形成されていない部分においてはLaB抵抗体3と厚膜導体2とが直接接触するため、抵抗値は変化しない。なお、図4(a)は平面図、(b)はA−A’断面図である。
【0026】
図5に、そのように構成した場合の実験結果を示す。LaB中間抵抗体4のシート抵抗値を100Ω/□、1KΩ/□、10KΩ/□のいずれにしても安定した所望の抵抗値を得ることができた。
上述した第1、第2実施例における図3、図5の実験結果から分かるように、LaB抵抗体3のシート抵抗値が小さい場合には、LaB中間抵抗体4のシート抵抗値を100Ω/□以上とすることによりクラックの発生を防止することができる。
【0027】
これは、LaB中間抵抗体4のシート抵抗値が50Ω/□以下の場合には、LaB中間抵抗体4中にLaBが過剰にあることになり、厚膜導体2に含まれる成分とLaBとが反応しやすくなるのに対し、シート抵抗値が100Ω/□以上であればLaB中間抵抗体4中のLaBが適量になり、厚膜導体2に含まれるガラス中の成分とLaBとの反応が生じにくくなるからである。
(第3実施例)
図6に、上記第2実施例を変形させた例を示す。(a)は平面図、(b)はそのA−A’断面図、(c)はB−B’断面図である。この実施例は、厚膜導体2がセラミック基板1上に平行に形成されている時に、2つの厚膜導体2を覆うようにしてLaB抵抗体3を形成し、厚膜導体2上でLaB抵抗体3の端部が存在する領域のみにLaB中間抵抗体4を形成している。
【0028】
このように構成することによって、第2実施例と同様、抵抗値変動を防止することができるとともに、LaB中間抵抗体4を形成したことによる抵抗体長手方向(図の左右方向)のサイズを小さくすることができる。
すなわち、第2実施例のように厚膜導体2とLaB抵抗体3の間にLaB中間抵抗体4を形成した場合には、図7に示すような形状になるが、この場合、L〜Lの重なり部が必要となる。これは、厚膜印刷基板の製造において、印刷ずれ等を考慮する必要があるからである。L〜Lとしては、それぞれ例えば0.2mm程度である。これに対し、図6のように、厚膜導体2を覆うようにLaB抵抗体3を形成した場合には、厚膜導体2の配線方向にLaB中間抵抗体4が部分的に形成され、抵抗体長手方向においては厚膜導体2とLaB抵抗体3が並ぶのみとなるので、LaB中間抵抗体4を設けたことによる重なり部が不要となり、その分サイズを小さくすることができる。
(第4実施例)
この第4実施例は、シート抵抗値が大きい(5k/□〜10kΩ/□程度)LaB抵抗体3を用いた場合の実施例である。構成は図1に示すものと同じである。
【0029】
LaB抵抗体3としてシート抵抗値10kΩ/□のものを用い、中間層4の無いものとLaB中間抵抗体4のシート抵抗値を100Ω/□及び1kΩ/□としたものそれぞれについて、平均の抵抗値を調べた結果を図8に示す。
中間層4の無いものでは、抵抗値が著しく大きくなるが、LaB中間抵抗体4のシート抵抗値を100Ω/□、1kΩ/□とした場合には、いずれも安定した所望の抵抗値を得ている。
【0030】
従って、LaB抵抗体3のシート抵抗値が大きい場合には、LaB中間抵抗体4のシート抵抗値を1kΩ/□以下とすることにより抵抗値の増加を防ぐことができる。
これは、LaB中間抵抗体4のシート抵抗値を大きくすると、LaB中間抵抗体4中のLaBは少なくなり、厚膜導体2に含まれる成分とLaBとが反応してLaBが一層少なくなり、抵抗値が増大するからである。従って、LaB中間抵抗体4のシート抵抗値を1kΩ/□以下とすれば、LaB中間抵抗体4中のLaBの減少の影響がそれほどなく、抵抗値の増大を抑制することができる。
(第5実施例)
LaB抵抗体3のシート抵抗値が大きい場合には、厚膜導体2とLaB抵抗体3の接合部全体にLaB中間抵抗体4を形成してもそれによる抵抗値変動への影響は少ない。このため、図1に示すような構成としてもよいが、その場合には、LaB中間抵抗体4を設けた分だけ表面の凹凸段差が大きくなる。
【0031】
そこで、この実施例においては、図9に示すように、厚膜導体2とLaB抵抗体3とがオーバラップしないように構成し、その間にLaB中間抵抗体4を介在させるようにしている。このように構成したことにより、表面の凹凸段差を小さくすることができる。なお、図9(a)は平面図、(b)はA−A’断面図である。
【0032】
上記した実施例によれば、LaB抵抗体3のシート抵抗値が小さい場合にはLaB中間抵抗体4のシート抵抗値を100Ω/□以上とし、LaB抵抗体3のシート抵抗値が大きい場合にはLaB中間抵抗体4のシート抵抗値を1kΩ/□以下とした。従って、LaB中間抵抗体4のシート抵抗値を100Ω/□〜1kΩ/□とすれば、LaB抵抗体3のシート抵抗値がどのようなものであっても、クラックの発生あるいはガラス化抵抗体層の形成による抵抗値の異常を防ぐことができる。
(第6実施例)
この第6実施例は、第1実施例あるいは第2実施例を変形させたもので、LaB抵抗体3の横方向の4つの端部と厚膜導体2間に、LaB中間抵抗体4を形成し、LaB抵抗体3の縦方向の端部を厚膜導体2と直接接触するようにしている。
【0033】
この実施例では、LaB抵抗体3の横方向に電流を流すようにしたものであるため、LaB抵抗体3の縦方向の端部下の厚膜導体2中にクラックが発生したとしても、LaB抵抗体3に流れる電流には影響せず、従って抵抗値の異常を防ぐことができる。
なお、上記いずれの実施例においても厚膜導体2としてCu系の材料を用いるものを示したが、Ag系の材料を用いてもよく、また厚膜抵抗4においてもLaB抵抗体に限らずRuO(酸化ルテニウム)を用いるようにしてもよい。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1実施例に係る厚膜印刷基板の構成を示す図である。
【図2】本発明の第1実施例に係る厚膜印刷基板の製造工程を示す図である。
【図3】図1に示す構成に対し、中間層の無いものとLaB中間抵抗体のシート抵抗値を100Ω/□、1kΩ/□、10kΩ/□としたものそれぞれについて平均の抵抗値を調べた結果を示す図である。
【図4】本発明の第2実施例に係る厚膜印刷基板の構成を示す図である。
【図5】図4に示す構成に対し、中間層の無いものとLaB中間抵抗体のシート抵抗値を100Ω/□、1kΩ/□、10kΩ/□としたものそれぞれについて平均の抵抗値を調べた結果を示す図である。
【図6】本発明の第3実施例に係る厚膜印刷基板の構成を示す図である。
【図7】図6に示す構成のものがサイズ的に小さくなることを比較説明するための図である。
【図8】本発明の第4実施例に係る厚膜印刷基板の構成において、中間層の無いものとLaB中間抵抗体のシート抵抗値を100Ω/□及び1kΩ/□としたものそれぞれについて平均の抵抗値を調べた結果を示す図である。
【図9】本発明の第5実施例に係る厚膜印刷基板の構成を示す図である。
【図10】従来の厚膜印刷基板の構成を示す図である。
【図11】LaB抵抗体3のシート抵抗値が小さい時に厚膜導体2にクラックが生じて断線が生じることを示す説明図である。
【図12】LaB抵抗体のシート抵抗値を10Ω/□、50Ω/□、100Ω/□と変化させた場合に抵抗値が増大していることを示す図である。
【図13】LaB抵抗体のシート抵抗値を1kΩ/□、5kΩ/□、10kΩ/□と変化させたに抵抗値が増大していることを示す図である。
【図14】LaB抵抗体の抵抗値が大きい場合にLaB抵抗体3側にガラス化した抵抗体層が形成されることを示す図である。
【図15】本発明の第6実施例に係る厚膜印刷基板の構成を示す図である。
【符号の説明】
1…セラミック基板、2…厚膜導体、3…LaB抵抗体、
4…LaB中間抵抗体。

Claims (6)

  1. セラミック基板上に厚膜導体とほう化ランタン系の抵抗体とを印刷し焼成して形成した厚膜印刷基板において、
    前記ほう化ランタン系の抵抗体はシート抵抗値が50Ω/□以下であり、前記厚膜導体と前記ほう化ランタン系の抵抗体との間に、前記焼成時に前記厚膜導体と前記ほう化ランタン系の抵抗体とが反応するのを阻止する中間層として、シート抵抗値が100Ω/□以上のほう化ランタン系の抵抗体中間層を設けたことを特徴とする厚膜印刷基板。
  2. 前記ほう化ランタン系の抵抗体の端部と前記厚膜導体との間に前記ほう化ランタン系の抵抗体中間層が形成され、前記厚膜抵抗体の端部以外の領域において前記ほう化ランタン系の抵抗体と前記厚膜導体とが直接接触していることを特徴とする請求項に記載の厚膜印刷基板。
  3. セラミック基板上に厚膜導体とほう化ランタン系の抵抗体とを印刷し焼成して形成した厚膜印刷基板において、
    前記ほう化ランタン系の抵抗体はシート抵抗値が5kΩ/□以上であり、前記厚膜導体と前記ほう化ランタン系の抵抗体との間に、前記焼成時に前記厚膜導体と前記ほう化ランタン系の抵抗体とが反応するのを阻止する中間層として、シート抵抗値が1kΩ/□以下のほう化ランタン系の抵抗体中間層を設けたことを特徴とする厚膜印刷基板。
  4. 前記厚膜導体と前記ほう化ランタン系の抵抗体とはオーバーラップしない状態で前記セラミック基板上に形成され、前記ほう化ランタン系の抵抗体中間層は、前記厚膜導体と前記ほう化ランタン系の抵抗体のそれぞれに電気的接続のための重なり部をもって形成されていることを特徴とする請求項に記載の厚膜印刷基板。
  5. セラミック基板上に厚膜導体とほう化ランタン系の抵抗体とを印刷し焼成して形成した厚膜印刷基板において、
    前記厚膜導体と前記ほう化ランタン系の抵抗体との間に、前記焼成時に前記厚膜導体と前記ほう化ランタン系の抵抗体とが反応するのを阻止する中間層として、シート抵抗値が100Ω/□以上1kΩ/□以下のほう化ランタン系の抵抗体中間層を設けたことを特徴とする厚膜印刷基板。
  6. セラミック基板上に導体ペーストを印刷し焼成する工程と、複数のほう化ランタン系の抵抗体ペーストを個別に印刷する工程と、この印刷された複数の抵抗体ペーストを一括して焼成する工程とを有する厚膜印刷基板の製造方法において、
    前記抵抗体ペーストを印刷する工程は、前記抵抗体ペーストと同じ材料の抵抗体ペーストで、前記焼成された導体と前記抵抗体ペーストとの間に、その抵抗体ペーストの焼成により前記導体と前記抵抗体ペーストとが反応するのを阻止する中間層をも印刷するものであることを特徴とする厚膜印刷基板の製造方法。
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