JPS59227101A - 厚膜抵抗 - Google Patents

厚膜抵抗

Info

Publication number
JPS59227101A
JPS59227101A JP58102112A JP10211283A JPS59227101A JP S59227101 A JPS59227101 A JP S59227101A JP 58102112 A JP58102112 A JP 58102112A JP 10211283 A JP10211283 A JP 10211283A JP S59227101 A JPS59227101 A JP S59227101A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
resistor
thick film
resistors
pair
conductor
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP58102112A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0320041B2 (ja
Inventor
規仁 戸倉
寿 河合
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Soken Inc
Original Assignee
Nippon Soken Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Soken Inc filed Critical Nippon Soken Inc
Priority to JP58102112A priority Critical patent/JPS59227101A/ja
Priority to US06/617,478 priority patent/US4584553A/en
Publication of JPS59227101A publication Critical patent/JPS59227101A/ja
Publication of JPH0320041B2 publication Critical patent/JPH0320041B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01CRESISTORS
    • H01C17/00Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors
    • H01C17/22Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors adapted for trimming
    • H01C17/23Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors adapted for trimming by opening or closing resistor geometric tracks of predetermined resistive values, e.g. snapistors

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は少なくとも一対の抵抗を有する厚膜抵抗に関す
る。
従来一対の厚膜抵抗は、第2図に示す如く例え。
ば電気絶縁基板としてのアルミナセラミック基板1上に
、抵抗R1の電極としての導体電極11及び12と抵抗
R2の電極としての導体電極22及び25をスクリーン
印−にくし成し、次に抵抗R1の導体電極11.12に
一部が重なるように抵抗体10を、また抵抗R2の導体
電極22.25に一部が重なるように抵抗体21をそれ
ぞれスクリーン印刷にて形成し、重なった部分が電気的
に接続されるべく熱処理が施されている構成を有するの
を普通である。
又、従来の一対の厚膜抵抗は、抵抗比に高精度が要求さ
れる場合には同一の抵抗ペーストを用いて同時にスクリ
ーン印刷する方法がとられるため、大きな抵抗比が必要
な場合は、第2図に示す如く例えば抵抗R1と抵抗R2
の比R2/R1を大きくするために、抵抗R1の抵抗体
10の長さ君+と幅d、の比z 1 / d (を小さ
くし、抵抗R2の抵抗体21の長さp2と幅d2の比j
! 2/d2を大きくするのを普通である。
ところで、上述した従来の一対の厚膜抵抗の構成によれ
ば、抵抗R1の導体電極11.12と抵抗10が重なっ
た部分及び抵抗R2の導体電極22.23と抵抗体21
が重なった部分を電気的に接続するために熱処理を行な
う際に、導体電極の成分(たとえば銀、白金)が抵抗体
部分に拡散し、抵抗体の電気的特性が変質した部分13
.14.26および27ができる。この変質部分は特に
抵抗体の抵抗温度係数(TCR)が大きく変化すること
が知られており、第2図に示す例においても同一抵抗ペ
ーストを用いて同時に抵抗RI % R2を形成するよ
うに配慮しても、抵抗比R2/R1を大きくする都合上
抵抗体10,21の長さIl、、12の関係が7!l<
R2となり、抵抗体の変質部分のTCRが抵抗体全体に
与える影響力5異なるため、結局抵抗R1とR2のTC
Rに差が生じる。
このため周囲温度が変化すると抵抗比R2/ R1が変
化する結果、高精度の抵抗比を得ることが困難であった
又、一対の抵抗R,とR2のTCRを一致させるために
抵抗RIとR2の抵抗体の長さllIと12を等しくす
る方法もあるが、抵抗比R2/ R1を大きくするため
に抵抗体の幅d1とd2にd。
〉d2の関係を与える必要があり、抵抗R1の寸法を非
常に大きくしなければならないという困難があった。
依って本発明は、上述した従来の欠点を解消でき、抵抗
温度特性が良好でかつ抵抗比の大きな少なくとも一対の
厚膜抵抗の構造を提案するものである。
第1図(A)、(B)はブリッジ回路用は増11器の利
得設定用などに用いられる本発明による1対の厚膜抵抗
の一例を示す平面図と断面図、第1−図(C’)はこれ
ら厚膜抵抗の配線例を示す図である。第2図との対応部
分には同一符号を付し詳細説明は省略するが、第2図の
場合と同様にアルミナセラミック基板1上に導体電極1
1.12.22及び25をスクリーン印刷するが、この
時導体電極と同一材料のペーストを中間導体23.24
として同時に印刷するところが異なっている。次に抵抗
体10.21を前記導体電極11.12.25及び中間
電極23.24に重なる様にスクリーン印刷にて形成す
る。
又抵抗R2の抵抗体21が中間導体23.24によって
3個に分割された抵抗体211.212及び213の各
長さは等しくlとし、さらにこの長さpは抵抗R1の抵
抗体10の長さにも一致させるよう構成するところが異
なっている。
以上にて本発明による一対の厚膜抵抗の一例構成が明ら
かとなったが、本発明による1対の厚膜抵抗によれば、
第1図に示した抵抗R2の抵抗体21は長さが等しくi
である3個の抵抗体211、212及び213に分割さ
れており、このlが抵抗R1の長さlに等しくしである
ため、抵抗R。
の抵抗体10のTCRと抵抗R2の3等分された抵抗体
211.212及び123のTCRが等しくなり、これ
らの抵抗体211212及び213を直列接続して得ら
れる抵抗R2のTCRは抵抗R1のTCRに等しくなる
結果、周囲温度が変化しても抵抗比R2/R1はほとん
ど変化せず高精度が得られる。
すなわち、第1図において説明したように、厚膜抵抗の
熱処理を行なう際導体電極成分(たとえば銀、白金)が
抵抗体部分に拡散し、抵抗体のTCRを変質させること
が知られているが、第3図に示す如く、抵抗体40の長
さR3を変化させると変質部分43.44が全抵抗R3
に与える影響が第4図に示ず如く変化し、抵抗体の長さ
13を同一にすればTCRも同一になることから、前記
第1図で説明した抵抗R1、R2の抵抗体の長さlを等
しくすれば抵抗RI SR2のTGRが一致し、抵抗比
R2/R1が周囲温度によって変化しないことが容易に
理解できるであろう。
以上にて本発明による1対の厚膜抵抗の一例が明らかと
なったが、斬る本発明による1対の厚膜抵抗によれば、
第1図に示した1対の抵抗パターンの高抵抗R2の実効
的な抵抗体の長さは31にすることができ、またβの整
数倍であればいくらでも大きくとることができるので、
低抵抗R1の抵抗体の幅d1を大きくして抵抗パターン
の面積をいたずらに大きくしなくても大きな抵抗比R2
/RIを小さい面積の抵抗パターンで実現でき、しかも
高精度な抵抗比が確保できるという効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
第1図(A)、(B)及び(C)は本発明による一対の
厚膜抵抗の一例を示す平面図と断面図及び配線図である
。第2図(A)、(B)は従来の一対の厚膜抵抗の一例
を示す平面図と断面図、第3.4図は導体電極成分が抵
抗体部に拡散してTCRを変化させることを説明する図
である。 ■・・・アルミナセラミック基板、R+・・・低抵抗。 R2・・・高抵抗、11,21,22,25,41゜4
2・・・導体電極、23.24・・・中間導体、10゜
21.40・・・抵抗体、13,14,26,27゜4
3.44・・・抵抗体の変質部分。 代理人弁理士 岡 部   隆 第1図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 第1、第2の抵抗を有し、両者の抵抗比が大きく設定さ
    れた厚膜抵抗であって、前記第1、第2の抵抗は抵抗体
    及びこの抵抗体の両端に設けた導体電極からなり、かつ
    前記第2の抵抗の抵抗体の中間には1つ以上の中間導体
    が設けられ、この中間導体相互の距離、及びこの中間導
    体と導体電極の距離が前記第1の抵抗の導体電極間の距
    離と一致するように構成されてなる厚膜抵抗。
JP58102112A 1983-06-07 1983-06-07 厚膜抵抗 Granted JPS59227101A (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP58102112A JPS59227101A (ja) 1983-06-07 1983-06-07 厚膜抵抗
US06/617,478 US4584553A (en) 1983-06-07 1984-06-05 Coated layer type resistor device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP58102112A JPS59227101A (ja) 1983-06-07 1983-06-07 厚膜抵抗

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS59227101A true JPS59227101A (ja) 1984-12-20
JPH0320041B2 JPH0320041B2 (ja) 1991-03-18

Family

ID=14318715

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP58102112A Granted JPS59227101A (ja) 1983-06-07 1983-06-07 厚膜抵抗

Country Status (2)

Country Link
US (1) US4584553A (ja)
JP (1) JPS59227101A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09129825A (ja) * 1995-09-05 1997-05-16 Delco Electron Corp 厚膜抵抗を形成する方法

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4912306A (en) * 1987-07-14 1990-03-27 Grise Frederick Gerard J Electric resistance heater
US4849255A (en) * 1987-07-14 1989-07-18 Grise Frederick Gerard J Electric resistance heater
WO1992019081A1 (en) * 1991-04-11 1992-10-29 Flexwatt Corporation Electrical sheet heating
US5506494A (en) * 1991-04-26 1996-04-09 Nippondenso Co., Ltd. Resistor circuit with reduced temperature coefficient of resistance
JP3049843B2 (ja) * 1991-04-26 2000-06-05 株式会社デンソー 抵抗体電極構造の形成方法
JP3633028B2 (ja) * 1995-04-28 2005-03-30 株式会社デンソー 厚膜印刷基板及びその製造方法
US5929746A (en) * 1995-10-13 1999-07-27 International Resistive Company, Inc. Surface mounted thin film voltage divider
US6229428B1 (en) * 2000-05-30 2001-05-08 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy Microcircuit resistor stack
EP1258891A2 (en) * 2001-05-17 2002-11-20 Shipley Co. L.L.C. Resistors
US6732422B1 (en) * 2002-01-04 2004-05-11 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Method of forming resistors
US7253074B2 (en) * 2004-11-05 2007-08-07 Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. Temperature-compensated resistor and fabrication method therefor

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB727505A (en) * 1952-10-14 1955-04-06 British Insulated Callenders Improvements in electric resistors
DE1958679A1 (de) * 1969-11-22 1971-05-27 Preh Elektro Feinmechanik Schichtspannungsteiler mit zusaetzlichen Impedanzen
US3669733A (en) * 1969-12-12 1972-06-13 Rca Corp Method of making a thick-film hybrid circuit
US3692987A (en) * 1970-07-06 1972-09-19 Western Electric Co Methods and apparatus for allocating the measured noise and resistance of a thin-film resistor between the resistor proper and the contact pads therefor
US3771095A (en) * 1972-12-21 1973-11-06 Ibm Monolithic integrated circuit resistor design for optimum resistor tracking
FI52780C (fi) * 1974-06-18 1977-11-10 Paramic Ab Oy Vastusarvoltaan aseteltava vastusverkko.
US3916366A (en) * 1974-10-25 1975-10-28 Dale Electronics Thick film varistor and method of making the same
US4199745A (en) * 1977-12-15 1980-04-22 Trx, Inc. Discrete electrical components
DE2812497C3 (de) * 1978-03-22 1982-03-11 Preh, Elektrofeinmechanische Werke, Jakob Preh, Nachf. Gmbh & Co, 8740 Bad Neustadt Gedruckte Schaltung
DE2916425C2 (de) * 1979-04-23 1981-04-09 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Dehnungsmeßstreifen und Verfahren zu seiner Herstellung
US4371861A (en) * 1980-12-11 1983-02-01 Honeywell Inc. Ni-fe thin-film temperature sensor

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09129825A (ja) * 1995-09-05 1997-05-16 Delco Electron Corp 厚膜抵抗を形成する方法

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0320041B2 (ja) 1991-03-18
US4584553A (en) 1986-04-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS59227101A (ja) 厚膜抵抗
JPH05234725A (ja) チップ型複合電子部品の製造方法
KR910010163A (ko) 저항 온도 센서
JPH09205004A (ja) チップ抵抗器及びその製造方法
JPS595935Y2 (ja) 厚膜印刷回路
JPS58123795A (ja) 回路基板
JPS63140558A (ja) 厚膜回路基板
JPS63141388A (ja) 厚膜回路基板の製造方法
JPS61229302A (ja) 並置型抵抗体装置
JPS62120001A (ja) 抵抗器
JPS6145464Y2 (ja)
JPH0431534Y2 (ja)
JP2979892B2 (ja) 電子部品
JPH0219922Y2 (ja)
JPS61230351A (ja) 混成集積回路
JPH02148801A (ja) 膜状抵抗体及びそのトリミング方法
JPH06317617A (ja) 異方導電性フィルムの絶縁抵抗測定方法
JPS585754U (ja) 配線パタ−ン付サ−マルヘツド
JPH0346961B2 (ja)
JPS6248594B2 (ja)
JP3044704B2 (ja) ハイブリッドic及びその製造方法
JPS6347905A (ja) 印刷抵抗体の形成方法
JPS60202983A (ja) 集積回路
JPS6369261A (ja) 厚膜回路基板
JPS6365601A (ja) ネツトワ−ク抵抗の製造方法