JP3570887B2 - 高周波用配線基板 - Google Patents
高周波用配線基板 Download PDFInfo
- Publication number
- JP3570887B2 JP3570887B2 JP11821398A JP11821398A JP3570887B2 JP 3570887 B2 JP3570887 B2 JP 3570887B2 JP 11821398 A JP11821398 A JP 11821398A JP 11821398 A JP11821398 A JP 11821398A JP 3570887 B2 JP3570887 B2 JP 3570887B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- transmission line
- signal transmission
- dielectric substrate
- wiring board
- ground layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/161—Cap
- H01L2924/1615—Shape
- H01L2924/16152—Cap comprising a cavity for hosting the device, e.g. U-shaped cap
Landscapes
- Structure Of Printed Boards (AREA)
- Waveguides (AREA)
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は高周波用配線基板に関するもので、特に、マイクロ波帯からミリ波帯領域の高周波用の半導体素子を収納あるいは搭載する高周波用半導体パッケ−ジに好適であり、外部回路基板に対して精度の高い実装が容易に行うことのできる配線基板に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来、マイクロ波やミリ波の信号を取り扱う高周波用半導体パッケージは、一般には、誘電体基板と枠体により形成されたキャビティ内に半導体素子を収納して気密に封止されており、半導体素子はキャビティ内の誘電体基板表面に形成された第1の高周波伝送線路と接続されている。また、誘電体基板の裏面には、外部電気回路基板との接続部を具備する第2の高周波伝送線路が設けられている。
【0003】
そして、キャビティ内の第1の高周波伝送線路と、誘電体基板裏面に形成された第2の高周波伝送線路は、キャビティ内の高周波伝送線路を枠体を貫通してキャビティ外に引き出し、これを更に誘電体基板の端面を経由して裏面に配設された高周波伝送線路と接続される。また、他の接続方法としては、第1の高周波伝送線路と第2の高周波伝送線路とを誘電体基板内を貫通するスルーホール導体によって接続することも提案されている。
【0004】
そして、このような誘電体基板の裏面に形成された第2の高周波伝送線路の接続部を外部回路基板の実装部とを半田等の接着剤を介して接続し実装することにより、外部回路基板と半導体素子とは電気的な信号の伝達が行われる。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、前記の高周波用半導体パッケージをミリ波帯で用いた場合、ストリップ線路等の信号伝送線路を枠体を通してキャビティ外に引き出した際、枠体貫通部で信号線路がマイクロストリップ線路からストリップ線路へと変換されるため、信号線路幅を狭くする必要がある。その結果、この貫通部で反射損、放射損が発生しやすいため高周波信号の特性劣化が起こりやすくなるという問題があった。また、信号伝送線路を絶縁基板の端面で曲折することから、反射が大きくなり特性の劣化が生じた。
【0006】
また、スルーホール導体を絶縁基板の底面に形成し、信号線路として用いると、40GHz以上で急激な特性の劣化が生じるため、高周波領域で使用することが困難であった。
【0007】
そこで、本発明者等は、高周波用の半導体パッケージとして、電磁結合の機構を組み込み、低損失で信号線路を伝送することができるパッケージを提案した(特願平9−186268号)。しかしながら、この高周波用半導体パッケージを外部配線基板の配線層に実装する場合、高周波用半導体パッケージの信号線路をマイクロストリップ線路で形成し、外部回路基板の配線層をマイクロストリップ線路で形成して両者を接続し、信号を伝送すると、電磁界分布が高周波用半導体パッケージ部と外部回路基板部で逆方向に形成されるため、接続部でモードが不連続となることから伝送特性が劣化する傾向にある。
【0008】
さらに、外部回路基板の配線層の線路幅は非常に狭いことから、この配線層に上記パッケージを実装する際、パッケージ側の接続部が誘電体基板の裏面に形成されているために実装時に位置ズレを起こし、これにより外部回路基板とパッケージとの実装部において伝送特性が劣化し、最悪の場合、高周波信号線路が断線する場合もあった。
【0009】
従って、本発明は前記課題を解消せんとして成されたもので、その目的は高周波用半導体パッケージを外部回路基板に実装する際、実装部における高周波信号の伝送特性の劣化を低減するとともに、外部回路基板との実装時の位置ズレを最小限に抑制し高精度な実装を容易に行うことができる高周波用配線基板を提供することにある。
【0010】
【課題を解決するための手段】
本発明者等は、高周波用配線基板において、高周波信号の特性劣化を発生することなく外部回路基板に表面実装が可能で、かつ位置ズレがなく容易に高周波用半導体パッケージを外部回路基板への表面実装することが可能な構成について検討を重ねた結果、誘電体基板の底面に中心導体とその両側にグランド層を形成したコプレーナ線路からなる接続部を形成し、接続部のグランド層と誘電体基板の表面あるいは内部に設けられたグランド層とをその誘電体基板の端面に形成された導体帯によって接続することにより、この導体帯が外部回路基板の配線層に実装する際の目印として機能し、実装時の位置合わせを容易にできることを見いだした。
【0011】
即ち、本発明の高周波用配線基板は、誘電体基板と、該誘電体基板の表面に被着形成され、一端が半導体素子と接続される第1の信号伝送線路と、前記誘電体基板の裏面に形成され、その一端が外部回路基板との接続部を形成してなる第2の信号伝送線路とを具備し、前記第1の信号伝送線路の他端と、前記第2の信号伝送線路の他端との間で信号の伝達が行われる高周波用配線基板において、前記誘電体基板の表面および/または内部に第1のグランド層が被着形成されるとともに、前記第2の信号伝送線路の前記接続部が、中心導体と、その両側に被着形成された第2のグランド層により構成され、前記第1のグランド層と前記第2のグランド層が、前記誘電体基板の端面に形成された導体帯によって電気的に接続されてなるとともに、前記導体帯の線幅を第2のグランド層の線幅と同一幅に形成したこと、または前記導体帯の縁と、第2のグランド層の一方の縁が整合するように形成したことを特徴とするものである。
【0012】
また、上記の配線基板においては、前記第1の信号伝送線路と、前記第2の信号伝送線路は、前記誘電体基板内のグランド層に設けられたスロット孔を介して、電磁的に結合されてなること、前記半導体素子は、蓋体によって、誘電体基板の表面に気密に封止されており、前記蓋体は、前記誘電体基板の表面にメタライズシール部によって接合されてなること、前記メタライズシール部が、前記導体帯と電気的に接続してなること、さらには、前記誘電体基板の端面における前記接続部の前記中心導体と整合する箇所にマーキングを設けることが望ましい。
さらに、本発明の高周波配線基板の実装構造は、上記の高周波用配線基板を、外部回路基板上に形成された、中心導体とその両側に形成された第3のグランド層を具備するコプレーナ線路またはグランド付きコプレーナ線路からなる第3の信号伝送線路に対して、前記高周波用配線基板の端面の導体帯と前記第3のグランド層とを整合させ、前記第2の信号伝送線路と、前記第3の信号伝送線路とを半田バンプによって接続したことを特徴とするものである。
【0013】
本発明によれば、高周波用配線基板の外部回路基板との接続部を、中心導体と、その両側に被着形成されたグランド層を具備するコプレーナ線路により構成し、また外部回路基板側の実装部をコプレーナ線路により構成することで、両者の電磁界分布は、類似したモードから構成される。そのため、両者を半田バンプ等によって接続することにより高周波信号の伝送特性の劣化を抑えることができる。
【0014】
また、半導体素子と電気的に接続された第1の信号伝送線路と、誘電体基板の底面に形成された第2の信号伝送線路とを、誘電体基板内部に設けたスロット孔を介して電磁結合させることにより、伝送線路を枠体を貫通してキャビティ外に引き出す必要がなく、枠体貫通部における反射損、放射損の発生を低減できる。しかも、従来のスルーホール導体やビアホール導体等による接続に伴う透過損失の影響を受けることがないため、高周波信号を伝送損失を抑制し、かつ必要な周波数の信号を伝送することができる。
【0015】
また、誘電体基板内部あるいは表面に形成されたグランド層と、外部回路基板との接続部におけるグランド層、さらには、半導体素子を気密封止するための蓋体を誘電体基板表面に接合するために設けられたメタライズシール部とを配線基板の端面に形成した導体帯によって電気的に接続することにより、グランド層間の電位ばらつきを抑えることができ、しかも端面の導体帯が配線基板内の電磁波が系外に漏洩するのを防止するシールドとして発揮することができる。
【0016】
また、配線基板の端面に形成された導体帯は、外部回路基板との接続部のグランド層と接続されているために、導体帯が接続部の位置を示す作用をなし、外部回路基板における実装部に対して、導体帯を整合させながら表面実装を行うことにより、実装時の位置ズレを最小限に抑えることができ、外部回路基板と配線基板との実装部における伝送特性の劣化を抑えることが可能となる。
【0017】
【発明の実施の形態】
本発明の高周波用配線基板を図面に基づき詳述する。
図1は本発明の高周波用配線基板の典型的応用例として高周波用半導体パッケージを示す断面図である。図1によれば、高周波用半導体パッケージ1は、誘電体材料からなる誘電体基板2と蓋体3によりキャビティ4が形成されており、そのキャビティ4内にはIC等の高周波用の半導体素子5が搭載されている。
【0018】
蓋体3は、キャビティ4からの電磁波が外部に漏洩するのを防止できる材料から構成されていることが望ましく、セラミックス、セラミックス金属複合材料、ガラスセラミックス、ガラス有機樹脂系複合材料等が使用できる。さらに誘電体基板2の半導体素子5搭載部の周囲にAu・Si合金等のメタライズシール部6が形成され、蓋体3はこのシール部6に接合されている。
【0019】
誘電体基板2の表面には、図2の誘電体基板2の半導体素子5搭載面側の配線図に示される通り、キャビティ4内の領域に、半導体素子5に信号を伝送するための中心導体7が被着形成されており、その一端は、半導体素子5と接続されている。
【0020】
尚、半導体素子5は中心導体7上にAu・Sn合金等によって直接搭載することにより小さな伝送損失で接続することができるが、中心導体7と半導体素子5は、その他、金リボンや複数のワイヤボンディングで接続したり、ポリイミド等の基板にCu等の導体を形成した導体板等により接続することも可能である。
【0021】
また、誘電体基板2内には導体層からなるグランド層8がほぼ誘電体基板2の全面にわたり形成され、誘電体基板2表面に形成された中心導体7とともに第1の信号伝送線路Aとしてマイクロストリップ線路を形成している。
【0022】
さらに、誘電体基板2の裏面には、図3の誘電体基板2の裏面の配線図に示される通り、中心導体9が形成されており、誘電体基板2内のグランド層8とともに第2の信号伝送線路Bとなるマイクロストリップ線路を形成している。また、この中心導体9の端部には、外部回路基板との接続部10が形成されている。この接続部10は、中心導体10aと、その両脇にグランド層10bが設けられ、コプレーナ線路あるいはグランド付きコプレーナ線路を形成している。
【0023】
そして、誘電体基板2内のグランド層8内には、導体が被着形成されないスロット孔11が形成されており、第1の信号伝送線路Aと第2の信号伝送線路Bとは、スロット孔11を介して、各線路の中心導体7、9の端部が対峙するように形成することにより電磁結合され、両線路A,B間で損失のない信号の伝達が行われる。
【0024】
中心導体7と中心導体9は、グランド層8に形成されたスロット孔11を介して、それぞれの導体の端部が伝送信号の波長λの1/2相当の長さで重なるような位置に形成されることが望ましい。
【0025】
スロット孔11の形状は、長辺と短辺とから成る長方形や楕円形状の細長い孔であり、該形状は使用周波数と周波数の帯域幅を特定することができる。そのため、スロット孔11の長辺は伝送信号の波長λの1/2相当の長さにするのが望ましく、スロット孔11の短辺は伝送信号の波長λの1/5相当の長さから1/50相当の長さに設定するのが望ましい。
【0026】
本発明によれば、図4のパッケージ1の端面図に示されるように、誘電体基板2の裏面に形成された第2の信号伝送線路Bの接続部10におけるグランド層10bを、誘電体基板2内部のグランド層8と誘電体基板2の端面に形成した導体帯(キャスタレーション)12によって電気的に接続する。また、この導体帯12は、誘電体基板2の表面に図2に示したように蓋体3を接合するためのメタライズシール部6を有する場合、そのシール部6とも電気的に接続することが望ましい。
【0027】
この導体帯12は、接続部10のグランド層10bの線幅と同一幅であるか、またはグランド層10bの一方の縁と導体帯12の縁が整合するように形成する。これにより、誘電体基板2の裏面のグランド層10bの位置を基板の端面から容易に確認することができる。
【0028】
さらに、本発明によれば、誘電体基板2の角部において、同様な導体帯13を形成することにより、さらにパッケージ1の外部回路基板への実装時の位置合わせを容易に行うことができる。
【0029】
なお、上記導体帯12は、例えば、上記パッケージ1の配線基板を作製する過程において、誘電体基板2の周囲に切断しろ部分を形成した基板を作製し、その誘電体基板2の端面となる境界線上の導体帯形成箇所に、孔を明け、その孔内に真空吸引しながら導体インクを流し込み、適宜焼き付け処理した後、前記境界線にて切断することにより半径形状の切り欠き部内に導体が被着形成された導体帯13を形成することができる。
【0030】
また、上記パッケージ1に代表される配線基板における誘電体基板2としては、アルミナ(Al2 O3 )、ガラスセラミックス、窒化アルミニウム(AlN)、窒化珪素(Si3 N4 )等のセラミックスや有機樹脂を構成要素とする有機質絶縁材によって構成されるが、高周波信号の伝送損失を小さくするためには、信号伝送線路の導体としてAg、Cu、Au等の低抵抗導体を用いることが望ましく、この点からは前記絶縁基体は焼成温度が800〜1000℃程度のガラスセラミックスが最適であり、この組み合わせにより絶縁基体と信号伝送線路との同時焼成も可能となる。
【0031】
次に、上記のパッケージ1を外部回路基板に実装する方法について説明する。図5に、図1のパッケージ1を実装する外部回路基板14の表面の配線図を示した。外部回路基板14の表面には、パッケージ1における誘電体基板2の裏面に形成された接続部10と整合するように、第3の信号伝送線路Cとして中心導体15aとその両脇に一対のグランド層15bを具備するコプレーナ線路あるいはさらに外部回路基板14内部にグランド層(図示せず)を具備するグランド付きコプレーナ線路が被着形成されている。また、外部回路基板14における実装部には、パッケージ1の角部と整合する部分に位置合わせ用印16を形成してもよい。
【0032】
なお、外部回路基板14は、誘電損失がミリ波帯においても小さい材料を用いることが望ましく、セラミックス、ガラスセラミックス、ガラス有機樹脂系複合材料、石英等が好適に使用できる。また、基板14表面に形成される線路は、Ag、Cu、Au等の低抵抗導体からなることが望ましい。
【0033】
図6は、パッケージ1を図5の外部回路基板14の表面に実装した場合の斜視図である。図6に示すように、パッケージ1の端面の導体帯12と、外部回路基板14の第3の信号伝送線路Cのグランド層15bとを整合させることにより、パッケージ1側の中心導体10aと、外部回路基板14側の中心導体15aとを精度よく位置合わせすることができる。また、パッケージ1の角部と、外部回路基板14における位置合わせ用印16とを整合させることによりさらに精度のよい位置合わせを行うことができる。
【0034】
そして、上記のように精度の高い位置合わせを行った状態で、パッケージ1の裏面に形成した接続部10の中心導体10a、グランド層10bと、外部回路基板14の第3の信号伝送線路Cの中心導体15a、グランド層15bとをそれぞれ半田バンプ17(図1)等の接着材によって接着することにより、パッケージ1を外部回路基板14に実装することができる。
【0035】
また外部回路基板11上は配線層12と実装する際、角部の位置を合わせるために設けられる位置合わせ印16は、線状あるいは円形状の導体精度の高い位置合わせを行うために、径または線幅が0.2mm以下で形成されるのが望ましく、さらに位置ズレを抑えるには径または線幅が0.1mm以下で形成されることが望ましい。
【0036】
また、位置合わせをさらに確実にするために、図3に示すように、接続部10の中心導体10aと整合する誘電体基板2の端面に、切り欠き形成や導体インクや着色インク層塗布形成などによりマーキング18を設けることも可能である。
【0037】
上記の実施態様における説明では、高周波信号の伝送線路等について説明したが、パッケージ1においては、誘電体基板2のキャビティ4領域に半導体素子5に電力を供給するための電源層(図示せず)が形成されており、電源層の一端は、半導体素子5とリボンやワイヤ、TAB等によってそれぞれ電気的に接続され、他端は、誘電体基板2を貫通するスルーホール導体によって誘電体基板2の裏面まで導出され、導出されたスルーホール導体は、電極パッド等を介して外部回路基板14に設けられた電源用の端子と半田等により接続されるものである。
【0038】
このように、本発明によれば、高周波用半導体パッケージなどの配線基板を外部回路基板に実装する際、配線基板の裏面に形成した接続部を目視や画像認識装置で位置を確認しながら外部回路基板への位置合わせおよび実装を行うことができるために、実装作業を容易にするとともに、実装時に生じる位置ずれやそれに伴う信号の伝送不良などの不具合の発生を抑制することができる。
【0039】
【発明の効果】
以上詳述した通り、本発明の配線基板は、半導体素子搭載面側と誘電体基板の底面に信号伝送線路を形成し、それらを電磁結合する高周波用半導体パッケージを、外部回路基板の配線層に実装する構造において、高周波用半導体パッケージの端面に外部回路基板と位置合わせをするためのキャスタレーションを設けた構造を採用することにより、実装時の位置ズレを最小に抑えることが出来、かつ伝送特性の劣化を低減できることできる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の配線基板を適用した高周波用半導体パッケージを外部回路基板に実装した実装構造を示す断面図である。
【図2】本発明における高周波用半導体パッケージの誘電体基板2の半導体素子搭載側の配線を説明するための図である。
【図3】本発明における高周波用半導体パッケージの誘電体基板2の裏面の配線を説明するための図である。
【図4】本発明における高周波用半導体パッケージの端面図である。
【図5】外部回路基板表面の配線を説明するための図である。
【図6】高周波用半導体パッケージを外部回路基板に表面実装した時の概略斜視図である。
【符号の説明】
1 高周波用半導体パッケージ
2 誘電体基板
3 蓋体
4 キャビティ
5 半導体素子
6 メタライズシール部
7,9,10a,15a 中心導体
8,10b,15b グランド層
10 接続部
11 スロット孔
12,13 導体帯
14 外部回路基板
16 位置合わせ印
17 半田バンプ
18 マーキング
A 第1の信号伝送線路
B 第2の信号伝送線路
C 第3の信号伝送線路
Claims (7)
- 誘電体基板と、該誘電体基板の表面に被着形成され、一端が半導体素子と接続される第1の信号伝送線路と、前記誘電体基板の裏面に形成され、その一端が外部回路基板との接続部を形成してなる第2の信号伝送線路とを具備し、前記第1の信号伝送線路の他端と、前記第2の信号伝送線路の他端との間で信号の伝達が行われる高周波用配線基板において、前記誘電体基板の表面および/または内部に第1のグランド層が被着形成されるとともに、前記第2の信号伝送線路の前記接続部が、中心導体と、その両側に被着形成された第2のグランド層により構成され、前記第1のグランド層と前記第2のグランド層が、前記誘電体基板の端面に形成された導体帯によって電気的に接続されてなるとともに、前記導体帯の線幅を第2のグランド層の線幅と同一幅に形成したことを特徴とする高周波用配線基板。
- 誘電体基板と、該誘電体基板の表面に被着形成され、一端が半導体素子と接続される第1の信号伝送線路と、前記誘電体基板の裏面に形成され、その一端が外部回路基板との接続部を形成してなる第2の信号伝送線路とを具備し、前記第1の信号伝送線路の他端と、前記第2の信号伝送線路の他端との間で信号の伝達が行われる高周波用配線基板において、前記誘電体基板の表面および/または内部に第1のグランド層が被着形成されるとともに、前記第2の信号伝送線路の前記接続部が、中心導体と、その両側に被着形成された第2のグランド層により構成され、前記第1のグランド層と前記第2のグランド層が、前記誘電体基板の端面に形成された導体帯によって電気的に接続されてなるとともに、前記導体帯の縁と、第2のグランド層の一方の縁が整合するように形成したことを特徴とする高周波配線基板。
- 前記第1の信号伝送線路と、前記第2の信号伝送線路は、前記誘電体基板内のグランド層に設けられたスロット孔を介して、電磁的に結合されてなることを特徴とする請求項1または請求項2記載の高周波用配線基板。
- 前記半導体素子は、蓋体によって、誘電体基板の表面に気密に封止されており、前記蓋体は、前記誘電体基板の表面にメタライズシール部によって接合されてなることを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれか記載の高周波用配線基板。
- 前記メタライズシール部が、前記導体帯と電気的に接続してなる請求項4記載の高周波用配線基板。
- 前記誘電体基板の端面における前記接続部の前記中心導体と整合する箇所にマーキングを設けたことを特徴とする請求項1乃至請求項5のいずれか記載の高周波用配線基板。
- 請求項1乃至請求項6のいずれか記載の高周波用配線基板を、外部回路基板上に形成された、中心導体とその両側に形成された第3のグランド層を具備するコプレーナ線路またはグランド付きコプレーナ線路からなる第3の信号伝送線路に対して、前記高周波用配線基板の端面の導体帯と前記第3のグランド層とを整合させ、前記第2の信号伝送線路と、前記第3の信号伝送線路とを半田バンプによって接続したことを特徴とする高周波用配線基板の実装構造。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11821398A JP3570887B2 (ja) | 1998-04-28 | 1998-04-28 | 高周波用配線基板 |
US09/199,716 US6057600A (en) | 1997-11-27 | 1998-11-25 | Structure for mounting a high-frequency package |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11821398A JP3570887B2 (ja) | 1998-04-28 | 1998-04-28 | 高周波用配線基板 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11312760A JPH11312760A (ja) | 1999-11-09 |
JP3570887B2 true JP3570887B2 (ja) | 2004-09-29 |
Family
ID=14731021
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11821398A Expired - Lifetime JP3570887B2 (ja) | 1997-11-27 | 1998-04-28 | 高周波用配線基板 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3570887B2 (ja) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001148601A (ja) * | 1999-11-19 | 2001-05-29 | Fujitsu General Ltd | 高周波回路装置 |
JP2001189609A (ja) * | 1999-12-28 | 2001-07-10 | Mitsubishi Electric Corp | マイクロストリップ線路接続体 |
JP2002026611A (ja) | 2000-07-07 | 2002-01-25 | Nec Corp | フィルタ |
JP2002368156A (ja) | 2001-06-11 | 2002-12-20 | Oki Electric Ind Co Ltd | 半導体装置及びその製造方法 |
JP5600706B2 (ja) * | 2012-05-25 | 2014-10-01 | 日本電信電話株式会社 | 積層型開口面アンテナ |
EP3493252B1 (en) * | 2016-07-28 | 2022-10-26 | KYOCERA Corporation | Substrate for mounting semiconductor element and semiconductor device |
JP7455730B2 (ja) * | 2019-12-27 | 2024-03-26 | Ngkエレクトロデバイス株式会社 | 配線基板 |
JPWO2022270429A1 (ja) * | 2021-06-21 | 2022-12-29 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS58164248A (ja) * | 1982-03-25 | 1983-09-29 | Nec Corp | チツプキヤリア半導体装置およびその組立体 |
JP2657460B2 (ja) * | 1993-10-08 | 1997-09-24 | 富士電気化学株式会社 | 誘電体フィルタの製造方法 |
JP3155901B2 (ja) * | 1995-03-14 | 2001-04-16 | 三菱電機株式会社 | 高周波基板装置 |
JPH09134981A (ja) * | 1995-11-08 | 1997-05-20 | Fujitsu Ltd | マイクロ波・ミリ波帯の機能モジュールパッケージ |
JP3305589B2 (ja) * | 1996-08-30 | 2002-07-22 | 京セラ株式会社 | 高周波用半導体装置の実装構造 |
JP3457802B2 (ja) * | 1996-04-26 | 2003-10-20 | 京セラ株式会社 | 高周波用半導体装置 |
-
1998
- 1998-04-28 JP JP11821398A patent/JP3570887B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH11312760A (ja) | 1999-11-09 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3500268B2 (ja) | 高周波用入出力端子ならびにそれを用いた高周波用半導体素子収納用パッケージ | |
US6057600A (en) | Structure for mounting a high-frequency package | |
US6483406B1 (en) | High-frequency module using slot coupling | |
JP3570887B2 (ja) | 高周波用配線基板 | |
JP3827535B2 (ja) | 配線基板モジュール | |
JP3305589B2 (ja) | 高周波用半導体装置の実装構造 | |
JPH11214580A (ja) | 高周波素子収納用パッケージ | |
JPH11176988A (ja) | 高周波用入出力端子ならびに高周波用半導体素子収納用パッケージ | |
JP2000164764A (ja) | 高周波用配線基板の実装構造 | |
JP3922551B2 (ja) | 高周波用伝送線路基板 | |
JP3618046B2 (ja) | 高周波回路用パッケージ | |
JP3704440B2 (ja) | 高周波用配線基板の接続構造 | |
JP3556470B2 (ja) | 高周波用モジュール | |
JP3181036B2 (ja) | 高周波用パッケージの実装構造 | |
JP3170017B2 (ja) | 半導体装置 | |
JP3398314B2 (ja) | 高周波用パッケージおよびその接続構造 | |
JP2004297465A (ja) | 高周波用パッケージ | |
JP3071761B2 (ja) | 高周波用半導体装置の実装構造 | |
JP2002190541A (ja) | 高周波回路用パッケージ | |
JP3112253B2 (ja) | 高周波用半導体装置 | |
JP3261094B2 (ja) | 高周波用配線基板の実装構造 | |
JP3145670B2 (ja) | 高周波用半導体パッケージの実装構造 | |
JP3176337B2 (ja) | 高周波用半導体パッケージの実装構造 | |
JP2001230342A (ja) | 高周波回路部品搭載用基板の実装構造 | |
JP2000022043A (ja) | 高周波素子搭載基板の実装構造および高周波用モジュール構造 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20040202 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040316 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20040517 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20040615 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20040622 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080702 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080702 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090702 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090702 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100702 Year of fee payment: 6 |