JP3489841B2 - 一次元高速格子ライトバルブアレイを組み込むディスプレィ・デバイス - Google Patents

一次元高速格子ライトバルブアレイを組み込むディスプレィ・デバイス

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JP3489841B2 JP54079298A JP54079298A JP3489841B2 JP 3489841 B2 JP3489841 B2 JP 3489841B2 JP 54079298 A JP54079298 A JP 54079298A JP 54079298 A JP54079298 A JP 54079298A JP 3489841 B2 JP3489841 B2 JP 3489841B2
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Description

【発明の詳細な説明】 発明の分野 本発明は一般にミニチュア・ディスプレィ・デバイス
に関する。これは特に、光を回折および／または反射さ
せる高速格子ライトバルブ・アレイへ光が入射して、回
折光が拡大光学系および機械的走査構成を介して観察者
へ指向され、走査構成はライトバルブからの回折光を二
次元像として観察者へ表わされる。
発明の背景 ミニチュア・ディスプレィ・デバイスは、ビデオ・シ
ュミレーション・アプリケーションその他のためのポー
タブル・ディスプレィのような適用に有益である。この
説明に関連するミニチュア・ディスプレィとは、有効な
拡大光学系構成を必要とするほどに充分に小さいものと
理解されたい。このようなデバイスの利点は、消費電力
が少なく、増幅ミニチュア・ディスプレィの見かけの寸
法に等しい実寸法を有する従来のディスプレィよりも占
有する空間が相当に少ないことである。
このようなミニチュア・ディスプレィは、ゴーグルそ
の他の眼の装着器に組み込めるほどに充分に小さくでき
る。これは、一般的に「仮想現実」と称されるコンピュ
ータとの干渉における表示された環境に使用者を完全に
「没頭」させるように使用し得る。このようなディスプ
レィは、使用者にディスプレィにより伝達された情報に
加えて使用者の実際の環境を見せるアクセサリー・ディ
スプレィとして装着してもよい。このようなアクセサリ
ー・ディスプレィは、例えば電話オペレーターまたは航
空券代理店のためのディスプレィとして有益であろう。
このようなディスプレィを装着することは、使用者が他
の動作を実行するために自由に動きながら、使用者にデ
ィスプレィに関する心地よい固定された視野を維持させ
ることが可能である。
米国特許第4,934,773号は、ミニチュア全頁ビデオ・
ディスプレィを説明しており、これは少なくとも一例の
発光ダイオード（LED）のような発光素子と、増幅レン
ズと、振動ミラーであって、この振動ミラーを観察でき
る開口を有する光遮蔽箱内の振動ミラーとを含む。LED
は、振動ミラーの移動における点を選択的に照明して、
二次元像を与えるようにミラーにおける選択された点に
おいて投影されたピクセルの列または画像素子をもたら
す。このミニチュア・ディスプレィを組み込む頭部装着
ディスプレィ・システム概念は米国特許第5,003,300号
に説明されている。
このようなエミッタの列は、一般にマイクロチップ・
レーザー・アレイと称される単独の半導体チップ上に形
成し得る。エミッタのための関連した駆動回路（各エミ
ッタについて一つ）は同一のチップ上に形成し得る。
‘773号特許の教示によれば、各列が異なる色の光を発
する二列以上の光エミッタの使用により、カラーのディ
スプレィを達成し得る。
上述した特許に説明されたディスプレィ・デバイス
は、振動ミラーの走査動作によって、単一列のエミッタ
を、同一の解像度の実際の二次元ディスプレィを与える
ために必要な多数列のような働きをさせることができ
る。これはデバイスの複雑さとコストとを相当に減少さ
せる。しかしながら、この種のデバイスの不都合は、各
光エミッタをモジュール化可能な率によって制限させる
ことである。更に、LEDの物理的大きさおよび端部放出
半導体レーザー・デバイスも、この種のデバイスの実現
可能な解像度を制限する。
今日までのミニチュア・ディスプレィ・デバイスにお
ける技術的発展にも拘わらず、この種のデバイスの更な
る改良は、特に高解像度および停電力消費の方向で要求
されると信じられる。
発明の概要 本発明は二次元像を与えるディスプレイ・システムを
指向する。最も一般的な局面においては、本発明に係る
ディスプレイ・システムは回折ライトバルブ・アレイを
備える。回折ライトバルブ・アレイは、互いに並行に整
列した細長く個々に操作可能で離間したモジュレータ部
材の列を含む。モジュレータ部材の各々は、モジュレー
タ部材の各々は、それに対する入射光が、モジュレータ
部材の操作状態により拡がりが決定されるように回折さ
れる。
システムは、回折ライトバルブ・アレイへ入射する光
を巻き起こす照明構成と、入射光の非回折部分から入射
光の回折部分を分離する構成とを含む。
電子回路系は、 ビデオ・データを受け取って、表示すべきビデオ・デー
タの画像素子に対応するライトバルブ・アレイのモジュ
レータ部材を操作するために設けられている。
拡大光学系は、分離された回折光部分を介して観察者
へ格子ライトバルブ・アレイの拡大像を与える。このシ
ステムは、二次元像として観察者に示される拡大された
仮想像を引き起こすのに充分な率で二次元像を連続線を
与えるように観察者の視野を通じて拡大された像を走査
する電子回路系に協同する走査デバイスを含む。
本発明に係るディスプレィ・システムの一つの好適実
施例においては、ライトバルブ・アレイが反射格子ライ
トバルブ（grating light−valve;GLV）アレイであり、
これは、離間して細長く可動で互いに並行に整列した反
射部材を含む。可動反射部材の各々は、固定された反射
部材に対して、固定された反射部材が位置する面から並
行且つ分離した面を通じて個々に可動である。可動およ
び固定反射部材は、対応する可動および固定反射部材が
共に、可動および固定反射部材の平面分離に依存して拡
がるそれへの入射光の回折および／または反射を引き起
こすように形作られている。
拡大光学系は拡大像を与える拡大レンズを含む。拡大
レンズ、ライトバルブ・アレイ、および反射光から回折
光を分離する構成は、テレセントリック系として構成さ
れており、ここではライトバルブ・アレイと回折光分離
構成とが、それぞれ拡大レンズのテレセントリック対象
位置と射出瞳とに位置している。
拡大レンズは、Huygens,Ramsden,Kellner,Plssel,A
bbe,Knig,Erfleを含む形式の接眼レンズのグループか
ら選択された形式の拡大レンズであることが好ましい。
拡大レンズは、観察者がレンズを通じて直接に観察でき
るライトバルブ・アレイの拡大された仮想像を与えるよ
うに配置してもよい。拡大レンズはライトバルブ・アレ
イの拡大された実像をスクリーンのような受像面に投影
するように配置することもできる。
図面の簡単な説明 本明細書に組み込まれてその一部をなす添付図面は、
本発明の好適実施例を模式的に示し、上述の一般的な説
明および以下の好適実施例の詳細な説明と共に本発明の
原理を説明するのに役立てられる。
図１は本発明に係るディスプレィ・システムにおける
使用に適する従来技術の反射／回折格子ライトバルブ・
アレイの一例の部分を模式的に示す断片的な斜視図であ
る。
図２はアレイ部分が反射体として働く図１の格子ライ
トバルブ・アレイ部分の作動状態を模式的に示す概略的
な断面図である。
図2Aはアレイ部分が反射体として働く図１の格子ライ
トバルブ・アレイ部分の他の例の部分の作動状態を模式
的に示す概略的な断面図である。
図３はアレイ部分が回折格子として働く図１の格子ラ
イトバルブ・アレイ部分の作動状態を模式的に示す概略
的な断面図である。
図3Aはアレイ部分が回折格子として働く図2Aの格子ラ
イトバルブ・アレイ部分の他の例の作動状態を模式的に
示す概略的な断面図である。
図４は本発明に係るディスプレィ・システムの一つの
好適実施例を模式的に示す概略的な断面図であり、この
システムは反射格子ライトバルブ・アレイ（GLV）へ入
射する光を生起する照明構成と、拡大接眼レンズ、GL
V）から反射した光からGLVから回折光を分離するための
射出瞳絞りと、観察者の視野を横断する分離された回折
光を走査する走査ミラーとを含む。
図５は概ね図４の方向５−５において見た概略的な断
面図であり、図４のGLV、拡大接眼レンズ、射出瞳絞
り、および走査ミラーとを模式的に示す。
図６は図４のシステムの接眼レンズの射出瞳絞りのた
めのテレセントリック中継構成を模式的に示す概略的な
断面図である。
図７は図４の接眼レンズに協働する投影レンズであ
り、図４のGLVの実像をスクリーン、記憶媒体、紙その
他へ投影する投影レンズを模式的に示す概略的な断面図
である。
図８は本発明に係るディスプレィ・システムの一つの
好適実施例を模式的に示す概略的な断面図であり、この
システムは光源、反射格子ライトバルブ・アレイ（GLV
アレイ）へ入射する光を生起する照明構成と、拡大接眼
レンズ、GLV）から反射した光からGLVから回折光を分離
するための射出瞳絞りと、観察者の視野を横断する分離
された回折光を走査する走査ミラーとを含む。
図8Aは投影プリンタとして構成された図８に示された
形式のシステムを模式的に示す概略的な断面図であり、
このシステムにおいては図８の走査ミラーは、GLVアレ
イの静止投影実像が通った印刷または記録媒体を移動さ
せるドラム・スキャナに置き換えられている。
図９は概ね図８の方向９−９において見た概略的な断
面図であり、図８の照明像の部分を模式的に示す。
図10は概ね図８の方向10−10において見た概略的な断
面図であり、図８の照明像の他の部分を模式的に示す。
図11は概ね図８の方向10−10において見た概略的な断
面図であり、図８のGLVアレイから回折された光ビーム
の経路を模式的に示す。
図12は図８の像の拡大接眼レンズを介して図８のライ
トバルブ・アレイへ光を指向させる図８のディスプレィ
・システムのための多重旋回ミラーの配置を模式的に示
す概略的な断面図である。
図13は概ね図12の方向13−13において見て、図８の拡
大接眼レンズの射出瞳における図12の旋回ミラーを模式
的に示す図である。
図14は受像面に格子ライトバルブ・アレイの実像を投
影する投影レンズとして使用される図４または図８の拡
大接眼レンズを模式的に示す概略的な断面図である。
図15は図４および図６のシステムにおいて使用する回
転多角形反射走査構成を模式的に示す概略的な断面図で
ある。
図16は図４および図６のシステムにおいて使用する可
変角度プリズマティック走査構成を模式的に示す概略的
な断面図である。
図17は図４および図６のシステムにおいて使用する移
動レンズ透過走査構成を模式的に示す概略的な断面図で
ある。
図18は本発明に係り、透過回折ライトバルブ・アレイ
を含むディスプレィ・システムを模式的に示す概略的な
正面図である。
好適実施例の詳細な説明 本発明に係るディスプレィ・システムにおいては、特
に好ましい光モジュレータ・デバイスは反射格子ライト
バルブ（GLV）アレイである。ディスプレィを製作する
ために実二次元アレイにおいては、このようなデバイス
の使用が提案されている。このようなデバイスは米国特
許第5,459,610号に詳細に説明されており、その開示事
項は本明細書に引用されて組み込まれている。この形式
の反射格子ライトバルブ・アレイは、非常に小さな形状
または素子の大きさ、非常に高速な切換速度、広帯域に
より非常に高解像度の表示を与える能力がある。このよ
うなデバイスの一実施例の簡単な説明は図１、図２およ
び図３を参照して以下に記載されている。
図１は射格子ライトバルブ・アレイの一例の一部10を
示す。アレイ10は個々の可動な細長い反射部材またはリ
ボン12を含み、このリボン12は反射被覆14を含む（図２
参照）。リボン12は非作動状態においては基部16に対し
て平行をなす面において基部16上に吊り下げられて（張
力をかけられて）いる。リボン12は互いに離間して並行
である。リボン12はGLVアレイ10の「能動」反射部材と
称される。リボン12の間の間隙に整合されているのは、
基部16上の反射被覆を被覆することにより形成された固
定反射部材18である。固定反射部材18は代替的にGLVア
レイ10の「受動」反射部材と称される。
アレイ10は、シリコン（ウェハ）基板20上にリソグラ
フ半導体デバイス製作技術を用いて作成されている。基
部16はウェハの一表面である。電極層22はウェハの反対
面上に堆積されている。リボン12と固定反射部材は、好
ましくは約１乃至４マイクロメータの幅と、約40.0乃至
100.0マイクロメータ（μｍ）の長さとを有する。アレ
イ10は、好ましくは約１センチメートル（cm）の長さを
有する本発明に係るディスプレィにおける使用に適して
いる．このようなアレイ10は、1000以上の可動部材12を
含む。固定および可動部材の狭い幅は、通常のCRTコン
ピュータ・モニタに比較し得る解像度を与えるのに充分
に小さいピクセルを依然として与えながら、隣接する部
材のグループ、例えば、８個の固定および可動部材の対
を256のグレイ・シェイドにおける一つの画像素子また
はピクセルを表すように用いることができる。
リボン12は部材と基部16との間に電位を加えることに
より移動または操作される。非作動状態では、可動部材
の反射被覆14と対応する（隣接する）固定部材18との間
の距離は、アレイの照明（図２参照）に用いられる光の
1/2波長に設定されている。この状態では、法線入射面
波面24は回折を生じず、矢印ＩおよびＲにより示される
ように入射方法の反対方向へ反射される。
充分な電位が加えられたとき、リボン12は基部16へ向
かって偏向し、且つ基部16に支持される。リボン12の厚
さは、この「操作および支持」状態において、対応する
固定および可動部材の反射面の間の距離が、アレイの照
明 （図３参照）に用いられる光の1/4波長に選択されてい
る。この状態では、可動および固定部材から反射した光
の間の破壊的な干渉は回折波面26（図３における正負の
一次回折波面のみ）を形成し、これは矢印D+1およびD-1
により示される入射面波面方向に対する角度において伝
播する。
画像素子の全てまたは一部を示す可動および固定部材
12および18の隣接する対またはこのような対の機能的グ
ループは、「ライドバルブ」とみなせる。このようにみ
なすことから、用語格子ライトバルブ（GLV）アレイ
は、この説明の目的のために採用されている。
GLVアレイも上述したアレイ10と同様に製作すること
が可能であるが、その反射部材の全ては基部20の上に張
力をかけて吊り下げられている。これは図2Aに示されて
いる。アレイ10Aはアドレス・ラインその他（図示せ
ず）を介して、その交互の一つ12Aが空間分離を与える
ように可動であり、且つGLVアレイ10の能動要素と等し
いように配置されている。各々の能動部材の間の反射部
材18A（各々は反射被覆14を含む）は、 空間分離光のためのGLVアレイ10Aの動作の間は移動せ
ず、且つGLVアレイ10Aの固定即ち受動部材と等しい。
GLVアレイ10Aは非作動状態であるように優先的に配置
される。その全ての反射部材は、能動および受動ともに
反射面を有し、これは図2Aに示されたのと同一の面上に
置かれており、ここでGLVはそこに入射する光を反射す
るのみである。GLVアレイ10Aは、その能動即ち可動部材
12Aが、図3Aに示すように能動即ち可動部材の面からの1
/4波長面により分離された極限面におかれて、基部20に
接触しないときに偏向するように優先的に配置されてい
る。
GLVアレイ10Aにより例示された形式のアレイは、GLV
アレイ10Aにより例示された形式のアレイよりも製作が
容易であり、二つのリトグラフ工程のみを用いて製作で
きる。基部20に接触しない可動部材を有することは、部
材が基部20に「貼り付き」、アレイの操作を損なう潜在
的問題を回避する。GLVアレイ10Aおよび同様なアレイの
更なる詳細は、本発明の譲受人に譲渡された係属中の出
願第08/482,188号（1995年６月７日出願）に説明されて
おり、その開示事項全体は本明細書に引用により組み込
まれている。
本発明の技術分野に精通する当業者には、GLVアレイ10
およびGLVアレイ10Aの双方において、図２および３と図
2Aおよび3Aに示された極限状態の間の状態において、リ
ボン12および12Aが基部16に平行な面を通じて移動する
のに応じて、光は反射と回折の双方をなすことが理解さ
れよう。中間状態はアナログ方式で部材を操作するため
に用いられる。
リボン12が操作されるのは二進方式（グレイ・スケー
ルを与えるように二進法重みを付けられたグループにお
ける状態を有する図２および３の極限状態の一つに支持
されている）においてか、アナログ方式においてか、二
次元像の一つの分解能または走査線を示す全長、単独列
即ち一次元アレイにおいてかにより、アレイの異なる部
分が異なる状態の部材を有し、アレイからの回帰した入
射光が回折および非回折（反射）部分を有する。
本発明に係るディスプレィ・システムにおいては、回
折光部分が観察者への二次元像を表すように用いられ
る。このため、本発明に係るシステムは反射光部分から
回折光部分を分離する構成を含まねばならない。このよ
うな構成の好ましい例は、以下の本発明の好適実施例の
説明に詳細に説明される。これらの光学器構成は、光学
の分野でSchlieren光学器として一般的に知られた形式
のものであり、これは、反射光が観察者の視野か遮断さ
れるように、少なくとも一つのレンズと少なくとも一つ
の絞りとの構成により典型的に回折光から反射光を分離
する。
ここで図４および図５を参照すると、本発明に係るデ
ィスプレィ・システムの好適実施例30が示されている。
ディスプレイ・システム30において、GLVアレイ10を照
明する照明構成は、赤、緑および青光源32R,32Gおよび3
2Bをそれぞれ含む。好ましくはこれらの光源は、LEDま
たは半導体レーザーのような半導体発光デバイスであ
る。非常に大きなディスプレィが投影される場合、適当
な出射波長を有する固体レーザーまたは光パラメトリッ
ク・オシレータを使用する利点も見い出せる。
システム30において、光源32R,32G,32Bは一般的に対
称な方式で発光するLEDのような光源であると仮定す
る。ダイクロイック・フィルタ群34は、これらの光源の
任意の一つからの光をコリメート・レンズ36へ向かって
システムの光軸ｚに概ね沿って伝播させる。ダイクロイ
ック・フィルタ群は、 異なる色の三つの光源を光学系へ表すように起源の同一
の点から発出させることは、例えばフィリップス・プリ
ズムとして光学の分野で良く知られている。従って、こ
のようなダイクロイック・フィルタ群の詳細な説明はこ
こではなさない。
レンズ36は、単純な「球面」レンズ、即ちｘ軸および
ｙ軸に等しい反射倍率を有するレンズとして単純化され
て示されている。図４において、ｙ軸は図示の面にあ
り、ｘ軸は図示の面に対して直交している。このレンズ
の目的は光源からの光を両方の軸へコリメートすること
である。しかしながら、本発明の技術分野に精通する当
業者には、端部発光半導体レーザは一つの横軸（ｘまた
はｙ軸）において他方よりもより発散し、しかもアステ
ィグマティックシスであることが理解されよう。このよ
うなレーザーの出力ビームをコリメートすると共に、こ
れを所望のサイズへ拡大する手段は光学の分野では公知
であり、また少なくとも一つの球面、非球面、トロイダ
ルまたは円筒面（球面または非球面）レンズ素子を必要
とする。レンズ36はこのような素子の少なくとも一つの
グループを表すように意図されている。対称発光源32か
らの発散光38は、レンズ36を通過して、ｘ軸およびｙ軸
の双方にコリメートされる。二軸コリメート光40は次い
で円筒レンズ42を通過する。用語「円筒形」は、一軸
（ここではｙ軸）のみに反射倍率を有するレンズ42を規
定する。光学分野に精通する当業者には、レンズ42の面
44は環状円筒形以外にもなし得ることが理解されよう。
レンズ24の作用は、それを透過する二軸コリメート光40
をｙ軸へ収束（図４の線46）させ、残りをｘ軸へコリメ
ート（図５の線48）へコリメートさせる。ここでレンズ
42は上述したようなより多くの光学素子の一つから形成
することもでき、単純化のために単独の素子として示さ
れているが、通常の単独のレンズ素子で充分である。
GLVアレイ10は、円筒レンズ42から概ねこのレンズ42
の焦点距離（f1）に位置している。GLVアレイ10は、レ
ンズ36および42の光軸に対応するシステム光軸ｚ上でｘ
軸に整合する。GLV（リボン12）の操作面はｚ軸に対し
て傾斜されている。図４において、GLVアレイ10は、ｚ
軸90度を有効に曲げる軸に対して45度傾斜している。こ
のGLVアレイ10の傾斜の選択は、ここでは図示の便宜の
ためになされているのであって、これに限定して考える
べきではない。
図５を参照すると、作動GLVアレイ10上に入射する光
は、反射ビーム（矢印48）と、それぞれ矢印D+1およびD
-1で示される正負の一次回折ビームとを生起する。これ
らの回折ビームはｘ軸におけるｚ軸に対して傾斜されて
いる。ｙ軸において、回折および反射ビームは等しく発
散する。回折および反射ビームは次いで拡大（正）レン
ズ50を透過し、このレンズ50はGLVアレイ10からレンズ5
0の焦点距離f2だけ離間されている。レンズ50は図５に
おいては単純化のために単独の素子として示されている
が、実際のレンズ50は少なくとも二つの素子を含み得
る。レンズ50はシステム30のための接眼レンズとしての
働きを与え、好ましくは、Huygens,Ramsden,Kellner,Pl
ssel,Abbe,Knig,Erfle形式を含む接眼レンズ形式の
公知のグループの一つから選択された形式の拡大レンズ
であることが好ましく、これらの全ては少なくとも二つ
の素子を含む。
ｘ軸において、反射ビームはｚ軸上の焦点に対して収
束（矢印52）し、ここには、概ねレンズ50の外部テレセ
ントリック射出瞳P2において細長い絞り54が位置する。
従ってシステム30のSchlieren光学器は、GLVアレイ10、
拡大接眼レンズ50および絞り54を含むテレセントリック
光学構成49の一部として規定でき、この構成においては
GLVアレイ10は概ねレンズ50の対物位置にあり、且つ絞
り54は概ねレンズ50の外部（射出）瞳に位置する。テレ
セントリック系は、入射瞳および／または射出瞳が無限
遠に位置する系である。これは、系の僅かな収束ぼけに
起因する測定または位置誤差を低減させる傾向にあるの
で、計測のために設計された光学系において広く用いら
れている。この傾向は、以下に説明する本発明の特定の
実施例に一般的におよび特定的に採用された系の絞りお
よび他の構成部品の位置における或る程度の許容差を許
す。
ｙ軸（図４参照）において、発散反射光46（および回
折光）は矢印56により図示されたようにレンズ50により
コリメートされている。絞り54はｙ軸に整合され、且つ
反射光を遮断する。絞り54は吸収または反射に選択でき
る．絞り54が反射であれば、絞りからの反射光はGLVア
レイ10へ帰還する。しかしながら回折ビームD+1およびD
-1はｚ軸に対して傾斜し、対応入射および反射ビームは
絞り54の上下（または絞り54の反対側）の焦点へ収束す
るので、絞り54により妨げられることなく射出瞳P2を透
過する。
走査ミラー58は、回折ビームを妨げて、これらを観察
者の眼64へ向かって指向させる。観察者が見るものは、
GLVアレイ10の（無限遠における）拡大仮想像である。
この像は図５においては線59により奇妙に示されている
が、勿論、ここには実際の像はないことが認められる。
GLVアレイ10の作動部材はＭ×Ｎディスプレィの連続
的な異なる線を表すように操作され、ここでＭは線あた
りの画像素子の数であり、Ｎはディスプレィにおける
（解像）線の数である。画像素子は上述したような少な
くとも一つの作動GLV部材を含む.GLVアレイ10は、一般
的にライトバルブの一次元アレイ或いは画像素子または
ピクセルを表すものとして規定される。拡大仮想像にお
いては、これらピクセルは、GLVアレイ10の一つまたは
複数のリボン12の作動状態により決定された比較的に明
るい輝度を有する。
走査ミラー58は、駆動ユニット60により、矢印Ａ（図
４参照）で図示されたように軸62に関して角度的に移動
して回折ビームを走査し、拡大仮想像が矢印Ｂに示すよ
うに観察者の視野を直線的に横断して、ディスプレィの
連続的なラインを示す。ミラー58は、観察者へ二次元像
として表される走査された仮想像を生起するのに充分に
早く移動する。
マイクロプロセッサに基づく電子制御回路系70は端子
72を介してビデオ・データを受け入れるように構成され
ており、且つそのデータをGLVアレイ10への光を分離す
るためにGLVアレイ10の可動部材を制御することに用い
るようにGLVアレイ10へ接続されている。この回路系は
回折ビームD+1およびD-1における光が、上述したように
ビデオ・データを表す二次元像の連続的解像ラインを表
すように分離するように構成されている。制御回路系70
は走査ミラー駆動ユニット60へも接続されており、連続
的ラインのディスプレィを同期させ、走査ミラー58の角
度的振幅範囲の末端で開始される画像の連続的フレーム
を与えるようにされている。制御回路系70は光源32R、3
2Gおよび32Bへも接続され、光源をGLVアレイ10の操作に
共同して連続的に切り替えて、アレイの連続的な赤、
緑、および青の解像を与え、これらが共にカラー二次元
画像の一つの解像ラインを表すようにする。
図４において観察者の眼64は、システム30のディスプ
レィの拡大仮想画像を適切に見るための単なる仮想系と
して図示されていることに留意されたい。理想的には、
このような画像を見るためには、観察者の眼は概ね射出
瞳P2に位置せねばならない。これは、ミラー58も好まし
くは概ねこの射出瞳に配置せねばならないので困難であ
る。この困難は、射出瞳の像をミラーから観察者の眼を
位置させるのが容易な位置へ光学的に中継することによ
り解決でき、これにより走査ミラーと観察者の眼とを共
に概ね射出瞳に配置することが可能となる。
射出瞳P2の像を中継する一手段が図６に示されてお
り、ここでは光学構成が光学的に「非屈曲」として示さ
れており、走査ミラー58はレンズ50の射出瞳P2における
線として示され、その射出瞳P2は走査ミラーのための一
つの好適な位置である。ここでは瞳中継が同一焦点距離
の二つのレンズ51および53により達成され、これらのレ
ンズは、射出瞳P2の像P3が位置するユニット拡大テレセ
ントリック・リレーを形成するように焦点距離の二倍に
等しい距離だけ離間されており、レンズ53から離間する
レンズ53の焦点距離は、レンズ53からの充分なアイ・リ
リーフを与える。光学分野の当業者には勿論、レンズ52
および53は一つより多くのレンズ素子を含んでもよく、
更に図６に示されたテレセントリック中継構成は、瞳像
を中継する唯一可能な光学的構成ではないことが理解さ
れよう。
ここで図７（ここでは再び光学系が「非屈曲」として
示されており、走査ミラー58はレンズ50の射出瞳P2にお
ける線として示され、その射出瞳P2はここでも走査ミラ
ーのための一つの好適な位置である）を参照すると、接
眼レンズ50が、スクリーンまたは記録媒体上にGLVの拡
大実像を投影するために一つの素子、または素子群とし
て用いられており、その記録媒体は例えば投影ディスプ
レィまたは像を記録または印刷するデバイスを与えるの
に要求されるものである。ここで一つのレンズ（または
レンズ素子群）55はGLVアレイ10の拡大実像57（ここで
は幅）をレンズ55からの無限遠に合焦させるように位置
している。この像は、投影された（明らかな）二次元画
像を与える可視スクリーンであり得る平面59、或いは写
真フィルムまたは紙のような記録媒体上に合焦できる。
記録または印刷画像の場合、走査ミラー58は省くことが
でき、走査は走査方向における記録または印刷媒体を移
動させることにより達成され、その走査方向は図７にお
いては図示の平面に対して直交し、即ち画像の向きに対
して直交する。走査動作は勿論、二次元の連続的な画像
線が印刷または記録できる目的で、システム30における
ように電子的回路系70により画像生成を同期させる必要
が依然としてある。
ここで図8,9,10および11を参照すると、本発明に係る
ディスプレィ・システムの他の実施例31が図示されてい
る。照明構成は光源は32R、32Gおよび32B、球面レンズ3
6、および円筒状レンズを含み、これらはディスプレィ
・システム30の同一の部品について上述したものと同様
であり、その機能も同様である。二軸コリメート光40は
円筒レンズ42によりｙ軸に収束され（矢印46）、残りは
ｘ軸にコリメートされる（図９参照）。細長いミラー80
はｚ軸上でｚ軸に対して45゜に傾斜され、ｘ軸に整合さ
れている。ミラー80は円筒レンズ42のためのテレセント
リック絞りである。収束光46はミラー80から反射された
後に発散される。コリメート光40はコリメートされたま
まである。
レンズ50はこの反射光の経路にあり、且つミラー80か
ら概ね１焦点距離に位置している。従ってレンズを透過
した後は、コリメートされた線は収束し、且つ発散線は
コリメートされてｚ軸におけるｙ軸において整合したミ
ラー80の画像を形成する。GLVアレイ10はレンズ50から
レンズ50の概ね１焦点距離に離間して位置し、ｚ軸上で
ｙ軸に整合されている。GLVアレイは従ってこの像を妨
げて、これにより照明される。
反射ビームおよび正負の一次回折ビームD+1およびD-1
はGLVアレイ10から帰還する。反射ビームはその初期経
路に沿ってレンズ50を透過して帰還し、ミラー80上へ戻
って結像されて、次いで入射光経路に沿ってレンズ42へ
向かって戻るように指向される。従って反射光は観察者
へ達することが防止される。回折ビームD+1およびD-1は
ｙ軸に収束され（図８参照）、ｙ軸にコリメートされ
（図９参照）、ｙ軸においてミラー80の上下を通過す
る。走査ミラー80は、システム30について上述したよう
に回折ビームD+1およびD-1を観察者64（図11参照）の視
野を横断して走査するために回折ビームD+1およびD-1を
遮るように配置されている。
システム31において、レンズ50およびGLVアレイ10は
共に、ミラー80からの光のためのユニット拡大屈曲テレ
セントリック・リレー79を形成する。レンズ50は入射光
方向においてGLVアレイ10のための照明構成の部分とし
て（反射および回折光の方向において）、GLVアレイ10
の拡大仮想像を観察者へ（テレセントリック・リレーの
第２のレンズとして）更に与えるように作用する。GLV
アレイ10は概ねテレセントリック・リレーの内部瞳P1に
位置している。ミラー80はレンズ50の（回折および反射
光）射出瞳P2に位置している。
これに代えて、GLVアレイ10からの回折および反射光
の視点からは、テレセントリック光学系81（Schlieren
光学器）はGLVアレイ10、レンズ50、および絞り54によ
り形成され、ここでGLV10はレンズ50の外部対物位置に
あり、且つ絞り54はレンズ50の（外部）射出瞳にある。
これは上述したディスプレィ・システム30に見出される
のと同様な構成である。
システム31の屈曲テレセントリック・リレーの利点
は、それが正確な対称光学系であることであり、これは
コマのような奇収差から本質的に自由である。従って、
これはGLVアレイ10からの反射光において、ミラー80へ
戻る反射光の正確な再結像を可能とする。これは、シス
テムにより与えら れたディスプレィについて可能な高いコントラスト比を
作る。このテレセントリック・リレーの他の利点は、そ
れが拡大接眼レンズの形式に拘わらず正確に対称なこと
であり、これは、反射光の再結像、ひいてはコントラス
ト比の相当な妥協を伴わずに特定の接眼レンズ形式およ
びそれについての選好最適化の選択の柔軟性を可能とす
る。
図６および７のアイリリーフ・リレーおよびプロジェク
タ／プリンタ構成もディスプレィ・システム31へ適用可
能である。
例として、図8Aにおいては、システム31Aが図示され
ており、これは基本的にシステム31から走査ミラー58を
省き、投影レンズ55（図７参照）を付加したものであ
る。ドラム構成65は、印刷媒体67等を保持して走査する
ために設けられている。ドラム65（およびその上の媒体
67）は、電子機器70およびアクセル63に共動するモータ
65により矢印Ｆで示されるように回転する。従って実像
57（図７も参照）は、二次元画像を印刷または記録する
ように媒体の面に亘って走査される。ドラム・スキャナ
65は、ここでは単純化されて示されている。本発明の分
野に精通する当業者には、例えば商業的に入手可能なレ
ーザー・プリンタの走査エンジンおよびトナー展開構成
のようなシート供給プリンタには更に複雑な走査および
構成が要求されることが認められるであろう。このよう
な構成は当該技術分野では公知であるので、そのような
複雑な構成の詳細な説明は本明細書には示さない。
システム31において、レンズ50はGLVアレイ10への光
を空間的に分離するように合焦させるようにも機能する
ので、接眼レンズは、可能な限り輝度の高いディスプレ
ィを与えるためにより可能な限り多くの光を合焦させる
能力があり、且つ良好な画質を与える能力もあることは
重要である。これに関して、接眼レンズ形式の特定の好
ましいグループは、Kellner,Plssel,Erfle形式であ
り、これらの全ては比較的に広い視野を有する。広視野
を有するレンズ50の利点は、複数の旋回ミラーを受け入
れるのに充分に広い入射瞳を持てることである。これは
図12に示されており、ここでは三つの細長い旋回ミラー
80A、80B、および80Cがｙ−ｚ平面に「venetian blin
d」形式で積層されており、システム31のレンズ42から
の光がそれらの間の如何なる間隙にも遇わず、しかも好
ましくは、ｙ軸方向においてはそれらの間の間隙が、GL
Vアレイ10へ入射する対応する光ビームからの回折光の
最大および最小回折角度を受け容れるのに充分に広くな
るように離間されている。
ミラー80Bおよび80Cは、その一方が他方の（屈曲テレ
セントリック系の）共役像位置にある。従ってミラー80
Bから反射した光はミラー80Cへ再結像し、逆にミラー80
Cから反射した光はミラー80Bへ再結像する。軸方向に位
置するミラー80Aは上述したようにそれ自身に再結像す
る。効果的な多重ミラー・システムにするためには、非
軸方向位置ミラーが、共役像において対応する非軸方向
位置ミラーを持たねばならない。従って、二つのみのミ
ラーを有するシステムにおいては、双方のミラーが非軸
方向位置でなければならず、一方が他方の共役像位置に
ある。
単純化のために、ミラー80Aからの入射光ビーム46に
対応するビームD-1のみを図12に示す。光学分野の当業
者には、ミラー80Bおよび80Cからの他の回折ビームが如
何に二つのミラーの周囲またはそれらの間に見出される
かが図示から明らかであろう。
レンズ50の入射瞳P1（およびテレセントリック構成に
より入射瞳に一致する射出瞳P2）の有効な外観が図13に
示されており、ここで点線円83は「理論的に出現可能
な」瞳を表す。影付き領域80A−Ｃは、瞳のこの領域がG
LVアレイ10へ入力する光のために利用可能であることを
示し、点線D+1（Ｃ）とD-1（Ｂ）との間の非影付き領域
は、回折光の出力のために利用可能な瞳の領域を示し、
線D+1（Ｃ）とD-1（Ｂ）とは、それぞれミラー80Cおよ
び80Bから入射する光からの最大回折角度により規定さ
れる。
接眼レンズ50は、システム30またはシステム31の何れ
においても、GLVアレイ10がレンズ50のテレセントリッ
ク対物位置から僅かに（レンズ50から更に遠方へ）置換
されたなら、GLVアレイ10からの反射光は依然として、
各々の絞り54または旋回ミラー80に充分に正確に結像ま
たは再結像して、絞りまたはミラーが回折光から反射光
を分離可能とし、一方、レンズ50の射出瞳50を透過する
回折光は、付加的な投影レンズ群を必要とすることな
く、GLVアレイ10のよく補正された実像を形成するよう
に収束する。このような構成は図14に示されており、こ
こでは図６および図７におけるように、光学系が「非屈
曲形」として示され、走査ミラー58はレンズ50の射出瞳
P2における線として示されており、これはここでも走査
ミラーについての好適な位置である。レンズ50の射出瞳
P2からスクリーン59の距離SDは、図示の便宜のためのみ
で、レンズからの瞳の距離PDに対して短くされている。
実際には、SDはPDよりも二十倍以上長く、線Ｄ＋１およ
びＤ−１は平行から辛うじて区別可能であり、且つ絞り
54は後述するようにテレセントリック・システムの射出
瞳に依然として位置することができる。
ディスプレィ・システム30および31は、GLVアレイ10
の画像の線形走査動作を与えるように角度的に走査され
る走査ミラーを採用して説明されたが、これに限定して
考えるべきではない。より効果的かまたは効果が少ない
他の走査構成の例を図15−17に示す。図15においては、
回転反射部材82が走査動作を与える。反射部材92は六角
形断面を有し、且つ反射縦方向面94を有する。GLVアレ
イ10および拡大レンズ50からの光D-1は面94から反射し
て使用者の眼64へ向かう。反射部材82は矢印Ｃにより示
されるように回転し、GLVアレイの像は、矢印Ｂにより
示されたように使用者の視野を横断して線形に走査され
る。
ここで図16を参照すると、プリズム透過走査構成100
は、走査動作を与えるように変形または可変角度プリズ
ム102を含む。プリズム102は、透明な平面平行前方およ
び後方部材104および106から形成されている。部材104
および106は、液体または好ましくはオイル延伸透明エ
ラストマー（好ましくはオイル：エラストマー比は85:1
5以上）で充たされたＶ字状溝108を形成するように互い
に角度をなして向かい合わせて配置されている。このよ
うなエラストマーは比較的に容易に変形され、弾性記憶
を有するが、高オイル比にも拘わらず、流動しない。こ
のようなエラストマーおよびそれらの調整は米国特許第
4,618,213号に説明されている。部材106は、ディスプレ
ィ・システム30および31の走査ミラー58の方式におい
て、矢印Ａで示されるように角度的に走査または振動さ
れる。この角度的動作は、矢印Ｂにより示されるよう
に、観察者の視野を線形に横断して走査されるようにプ
リズム102を透過する光を生起する。
最後に、しかし全てを尽くしたわけではないが、更に
他の走査構成110を図17に示す。走査構成110は、正と負
の透明レンズ素子112と114とをそれぞれ含む。好ましく
は素子112および114の曲率は、素子の組み合わせがゼロ
光学倍率を有するように選択される。正の素子112は、
矢印Ｄにより示されるように往復線形駆動される。これ
は矢印Ｂにより示されるように観察者の視野を横断する
光に対応する線形走査を引き起こす。光学分野に精通す
る当業者には勿論、素子112は固定でき、且つ素子114は
同一の走査機構を与えるように往復移動されることが判
るであろう。
本発明に係るシステムについては、反射（回折）格子
ライドバルブ・アレイを参照して説明したが、光学分野
の当業者には、本発明の原理は透過（回折） ライトバルブ・アレイを含むシステムにも具現できるこ
とが明白であろう。これは図18に示されており、この図
は最も関係しているという点で図４のシステム30に類似
するシステム30Tを示しているが、ここでは透過（回
折）ライトバルブ・アレイは円筒レンズ42と正レンズ50
との間に配置されている。システム30Tの 全ての他の素子はシステム30の対応する素子と同様な機
能を有する。
本発明の分野の精通する当業者には、本発明の原理は
立体視ディスプレィを与えるようにも適用できる。単純
な配置では、例えば立体視ディスプレィはGLVアレイお
よび観察者の両目のための適切な分離光学器を与えるこ
とにより形成し得る。当業者には、各発明の要旨と目的
から逸脱することなく他の構成を工夫し得る。
本発明は好適実施例および他の実施例について説明お
よび図示した。しかしながら本発明は、これらの説明お
よび図示された実施例に限定されるものではない。むし
ろ、本発明は添付の請求の範囲によってのみ制限され
る。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ゴディル、アシフ・エイ アメリカ合衆国、カリフォルニア州 94040、マウンテン・ビュー、ナンバー 1826、コンチネンタル・サークル 707 (56)参考文献 特開 平２−42476（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−257098（ＪＰ，Ａ) 特表 平７−508387（ＪＰ，Ａ) 特表 平５−502141（ＪＰ，Ａ) 米国特許5459610（ＵＳ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G02B 26/08 B41J 2/445 G03B 21/00 G02B 27/02

Claims (33)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】二次元画像を観察者へ表示するディスプレ
    イシステムであって、 格子ライトバルブ・アレイ（10,10A）であり、互いに平
    行に整列された離間した細長い能動反射部材（12,12A）
    の列を含み、その能動反射部材の各々は、対応する受動
    反射部材（18,18A）に関して、この受動反射部材が位置
    する平面に対して平行な平面を通じて個々に移動可能で
    あることにより、前記対応する能動および受動反射部材
    が共に、前記能動および受動反射部材の平面分離に応じ
    て、前記能動および受動反射部材に入射した光の回折お
    よび／または反射を生起させるようにされた格子ライト
    バルブ・アレイと、 前記格子ライトバルブ・アレイ（10,10A）に入射する光
    を生起する照明手段（32R,32G,32B,36,42）であり、前
    記格子ライトバルブ・アレイに沿って楔形集束を与える
    ことにより、前記格子ライトバルブ・アレイに沿った集
    束線を形成する照明手段と、 前記入射光の非回折部分から前記入射光の回折部分を分
    離する分離手段（50,54）と、 表示される画素に対する前記ライトバルブ・アレイの前
    記能動反射部材を操作する電子的手段（70）と、 前記ライトバルブ・アレイの拡大画像を前記分離された
    回折光部分を介して観察者へ与える拡大レンズ手段（5
    0）であり、この拡大レンズ手段は、前記ライトバルブ
    ・アレイから概ね拡大レンズ焦点距離に配置された位置
    を占めると共に、前記拡大レンズ手段、前記ライトバル
    ブ・アレイ及び前記分離手段が光軸を規定する拡大レン
    ズ手段（50）と、 走査手段であり、前記電子的手段に共働して、前記拡大
    画像を観察者の視野に亘り走査して二次元画像の連続ラ
    インを表すようにすることにより、前記拡大画像を二次
    元画像として観察者へ表す走査手段であり、走査手段
    は、前記拡大レンズ手段、前記ライトバルブ・アレイ及
    び前記分離手段が規定する前記光軸上にある走査手段と
    を備えるディスプレイ・システム。
  2. 【請求項２】請求項１のディスプレイ・システムであっ
    て、前記格子ライトバルブ・アレイ（10,10A）の前記拡
    大像が、虚像であり、且つ前記拡大レンズ手段を通じて
    観察者により可視であるディスプレイ・システム。
  3. 【請求項３】請求項１のディスプレイ・システムであっ
    て、前記格子ライトバルブ・アレイ（10,10A）の前記拡
    大像が、観察者により可視である受像面上へ結像される
    ように前記拡大レンズ手段により投影された実像であ
    り、且つ前記走査手段により前記受像面に亘って走査さ
    れるディスプレイ・システム。
  4. 【請求項４】請求項１のディスプレイ・システムであっ
    て、前記拡大レンズ手段（50）、前記格子ライトバルプ
    ・アレイ（10,10A）、および前記回折光分離手段（50,5
    4）が、テレセントリック系（49）として配置され、こ
    こで前記格子ライトバルブ・アレイと前記回折光分離手
    段とは、それぞれ概ね前記拡大レンズ手段のテレセント
    リック対物位置と射出瞳位置とに配置されているディス
    プレイ・システム。
  5. 【請求項５】請求項４のディスプレイ・システムであっ
    て、前記拡大レンズ手段（50）が接眼レンズであるディ
    スプレイ・システム。
  6. 【請求項６】請求項５のディスプレイ・システムであっ
    て、前記接眼レンズが、 Huygens,Ramsden,Kellner,Plssel,Abbe,Knig, およびErfleを含む形式の接眼レンズのグループから選
    択された形式であるディスプレイ・システム。
  7. 【請求項７】請求項４のディスプレイ・システムであっ
    て、前記拡大像が、前記拡大レンズ手段を通じて観察者
    により観察される虚像であるディスプレイ・システム。
  8. 【請求項８】請求項７のディスプレイ・システムであっ
    て、前記走査手段が、概ね前記拡大レンズ手段（50）の
    前記射出瞳に位置するディスプレイ・システム。
  9. 【請求項９】請求項８のディスプレイ・システムであっ
    て、前記走査手段から離れた前記射出瞳の画像を与える
    ように、前記走査手段から射出する光の光路に配置され
    た光学的リレー（51,53）を更に含むディスプレイ・シ
    ステム。
  10. 【請求項１０】請求項４のディスプレイ・システムであ
    って、前記拡大画像が、実像であり、観察者により可視
    である受像面に結像するように前記拡大レンズ手段によ
    り投影されるディスプレイ・システム。
  11. 【請求項１１】請求項10のディスプレイ・システムであ
    って、前記受像面が、可視スクリーンであるディスプレ
    イ・システム。
  12. 【請求項１２】観察者により観察されるように受像面へ
    二次元画像を投影するディスプレイ・システムであっ
    て、 格子ライトバルブ・アレイ（10,10A）であり、互いに平
    行に整列された離間した細長い能動反射部材（12,12A）
    の列を含み、その能動反射部材の各々は、対応する受動
    反射部材（18,18A）に関して、この受動反射部材が位置
    する平面に対して平行な平面を通じて個々に移動可能で
    あることにより、前記対応する能動および受動反射部材
    が共に、前記能動および受動反射部材の平面分離に応じ
    て、前記能動および受動反射部材に入射した光の回折お
    よび／または反射を生起させるようにされた格子ライト
    バルブ・アレイと、 前記格子ライトバルブ・アレイ（10,10A）に入射する光
    を生起する照明手段（B2R,32G,32B,36,42）であり、前
    記格子ライトバルブ・アレイに沿って楔形集束を与える
    ことにより、前記格子ライトバルブ・アレイに沿った集
    束線を形成する照明手段と、 前記格子ライトバルブ・アレイからの光の非回折部分か
    ら前記格子ライトバルブ・アレイからの光の回折部分を
    分離する分離手段（50,54）と、 表示される画素に対応する前記格子ライトバルブ・アレ
    イ（10,10A）の前記能動反射部材を操作する電子的手段
    （70）と、 前記ライトバルブ・アレイの拡大された実像を前記分離
    された回折光部分によって前記受像面へ投影する投影レ
    ンズ手段であり、第１と第２のレンズ素子群（50,55）
    を含み、その第１レンズ素子群、前記ライトバルブ・ア
    レイ及び前記分離手段が光軸を規定する投影レンズ手段
    と、 走査手段であり、前記電子的手段に共働して、前記拡大
    実像を前記受像面を見る観察者の視野に亘り走査して二
    次元画像の連続ラインを表すようにすることにより、前
    記拡大実像を二次元画像として観察者へ表す走査手段で
    あり、この走査手段は、前記第１レンズ素子群、前記ラ
    イトバルブ・アレイ及び前記分離手段が規定する前記光
    軸上にある走査手段とを備え、 前記第１レンズ素子群（50）と前記格子ライトバルブ・
    アレイ（10,10A）と前記回折光分離手段（50,54）と
    が、テレセントリック系（49）として配置され、ここで
    前記格子ライトバルブ・アレイと前記回折光分離手段と
    は、それぞれ概ね前記第１レンズ素子群のテレセントリ
    ック対物位置と射出瞳位置とに配置されていると共に、
    前記第１レンズ素子群の前記射出瞳は、前記第１レンズ
    素子群と前記第２レンズ素子群との間に位置しているデ
    ィスプレイ・システム。
  13. 【請求項１３】請求項12のディスプレイ・システムであ
    って、前記走査手段が、概ね前記第１レンズ素子群（5
    0）の前記射出瞳に位置するディスプレイ・システム。
  14. 【請求項１４】請求項12のディスプレイ・システムであ
    って、前記第１レンズ素子群（50）が、接眼レンズ形式
    のレンズを採用するディスプレイ・システム。
  15. 【請求項１５】請求項14のディスプレイ・システムであ
    って、前記接眼レンズが、 Huygens,Ramsden,Kellner,Plssel,Abbe,Knig, およびErfleを含む形式の接眼レンズのグループから選
    択された形式であるディスプレイ・システム。
  16. 【請求項１６】二次元画像を観察者へ表示するディスプ
    レイ・システムであって、 格子ライトバルブ・アレイ（10,10A）であり、互いに平
    行に整列された離間した細長い能動反射部材（12,12A）
    の列を含み、その能動反射部材の各々は、対応する受動
    反射部材（18,18A）に関して、この受動反射部材が位置
    する平面に対して平行な平面を通じて個々に移動可能で
    あることにより、前記対応する能動および受動反射部材
    が共に、前記能動および受動反射部材の平面分離に応じ
    て、前記能動および受動反射部材に入射した光の回折お
    よび／または反射を生起させるようにされた格子ライト
    バルブ・アレイと、 光軸を有する屈曲テレセントリック第１光学リレー（7
    9,80）であり、前記格子ライトバルブ・アレイ（10,10
    A）と、正レンズと、一つの細長い旋回ミラー構成とを
    含み、前記旋回ミラー構成は、前記第１光学リレーの前
    記光軸上で前記第１光学リレーの概ね対物位置において
    前記正レンズの一方側に位置し、且つ前記第１光学リレ
    ーの前記光軸に対して傾斜されると共に、前記格子ライ
    トバルブ・アレイは、前記第１光学リレーの前記光軸上
    で前記第１光学リレーの概ね内部瞳位置において前記正
    レンズの他方側に位置する第１光学リレーとを備えると
    共に、 前記旋回ミラー構成（80）は、それに光源（32R,32G,32
    B）から入射する光が前記正レンズ（50）を透過して指
    向されて、この指向された光が前記格子ライトバルブ・
    アレイ（10,10A）へ入射するように配置され、前記光は
    前記格子ライトバルブ・アレイに沿った楔形集束を形成
    して、前記格子ライトバルブ・アレイに沿った集束線を
    形成するようにされており、 前記格子ライトバルブ・アレイ（10,10A）は、ここから
    反射されて前記正レンズ（50）を透過する光の部分が前
    記旋回ミラー構成（80）に結像されて、この旋回ミラー
    構成により前記光源（32R,32G,32B）へ指向されるよう
    に配置されており、 前記格子ライトバルブ・アレイ（10,10A）は、ここから
    回折された光の前記部分が、前記正レンズ（50）を透過
    して前記旋回ミラー構成（80）を通過して、前記正レン
    ズの外部瞳を通じて観察者へ向かって指向されるように
    配置されており、 前記旋回ミラー構成（80）は、前記回折光部分のみを観
    察者と前記正レンズ（50）へ到達させることにより、前
    記格子ラィトバルブ・アレイの拡大された虚像を、観察
    者への前記入射光の前記回折部分によって、前記格子ラ
    ィトバルブ・アレイ、前記正レンズ及び前記旋回ミラー
    構成により規定される光軸の連続線に沿って与え、 更に、表示される画像素子に対応する前記格子ライトバ
    ルブ・アレイの前記能動反射部材（12,12A）を移動させ
    る電子的手段（70）と、 前記正レンズから観察者へ向かう前記回折光部分の経路
    に位置する走査手段とを備え、この走査手段は、前記電
    子的手段に共働して、前記拡大された虚像を観察者の視
    野に亘り走査して、前記拡大された虚像を二次元画像と
    して表し、且つこの走査手段は前記ライトバルブ・アレ
    イ、前記正レンズ及び前記旋回ミラー構成により規定さ
    れる前記光軸の前記連続線にあるディスプレイ・システ
    ム。
  17. 【請求項１７】請求項16のディスプレイ・システムであ
    って、前記正レンズ（50）が、接眼レンズ形式のレンズ
    を採用するディスプレイ・システム。
  18. 【請求項１８】請求項17のディスプレイ・システムであ
    って、前記接眼レンズ形式のレンズが、 Huygens,Ramsden,Kellner,Plssel,Abbe,Knig, およびErfleを含む形式の接眼レンズのグループから選
    択された形式であるディスプレイ・システム。
  19. 【請求項１９】請求項16のディスプレイ・システムであ
    って、前記正レンズ（50）の前記射出瞳を透過する前記
    回折光部分の光路に配置された第２の光学的リレー（5
    1,53）を更に含み、この光学的リレーは、前記走査手段
    から離れた前記射出瞳の画像を与えるディスプレイ・シ
    ステム。
  20. 【請求項２０】請求項16のディスプレイ・システムであ
    って、前記細長い旋回ミラー構成（80）が、少なくとも
    二つの細長い旋回ミラーを含むディスプレイ・システ
    ム。
  21. 【請求項２１】請求項20のディスプレイ・システムであ
    って、前記正レンズが接眼レンズ形式のレンズを採用す
    るディスプレイ・システム。
  22. 【請求項２２】請求項21のディスプレイ・システムであ
    って、前記接眼レンズ形式のレンズが、 Huygens,Ramsden,Kellner,Plssel,Abbe,Knig, およびErfleを含む形式の接眼レンズのグループから選
    択された形式であるディスプレイ・システム。
  23. 【請求項２３】請求項20のディスプレイ・システムであ
    って、前記正レンズの前記射出瞳を透過する前記回折光
    部分の光軸に配置された第２の光学的リレー手段を更に
    含み、この光学的リレーは、前記走査手段から離れた前
    記射出瞳の画像を与えるディスプレイ・システム。
  24. 【請求項２４】二次元画像を観察者により観察される受
    像面へ投影するディスプレイ・システムであって、 格子ライトバルブ・アレイ（10,10A）であり、互いに平
    行に整列された離聞した細長い能動反射部材（12,12A）
    の列を含み、その能動反射部材の各々は、対応する受動
    反射部材（18,18A）に関して、この受動反射部材が位置
    する平面に対して平行な平面を通じて個々に移動可能で
    あることにより、前記対応する能動および受動反射部材
    が共に、前記能動および受動反射部材の平面分離に応じ
    て、前記能動および受動反射部材に入射した光の回折お
    よび／または反射を生起させるようにされた格子ライト
    バルブ・アレイと、 光軸を有する屈曲テレセントリック光学リレー（79,8
    0）であり、前記格子ライトバルブ・アレイ（10,10A）
    と、正レンズ（50）と、一つの細長い旋回ミラー構成
    （80）とを含み、前記旋回ミラー構成は、前記光学リレ
    ーの前記光軸上で前記光学リレーの概ね対物位置におい
    て前記正レンズの一方側に位置し、且つ前記第１光学リ
    レーの前記光軸に対して傾斜されると共に、 前記格子ライトバルブ・アレイは、前記光学リレーの前
    記光軸上で前記光学リレーの概ね内部瞳位置において前
    記正レンズは他方側に位置する光学リレーとを備えると
    共に、 前記旋回ミラー構成（80）は、それに光源（32R,32G,32
    B）から入射する光が前記正レンズ（50）を透過して指
    向されて、この指向された光が前記格子ライトバルブ・
    アレイ（10,10A）へ前記旋回ミラー構成の像として入射
    するように配置されており、前記光は前記格子ライトバ
    ルブ・アレイに沿った楔形集束を形成して、前記格子ラ
    イトバルブ・アレイに沿った集束線を形成し、 前記格子ライトバルブ・アレイ（10,10A）は、ここから
    反射されて前記正レンズ（50）を透過する光の部分が前
    記正レンズにより前記旋回ミラー構成（80）上に結像さ
    れて、この旋回ミラー構成により前記光源（32R,32G,32
    B）へ指向されるように配置されており 前記格子ライトバルブ・アレイ（10,10A）は、ここから
    回折された光の前記部分が、前記正レンズ（50）を透過
    して前記旋回ミラー構成（80）の両側で前記旋回ミラー
    構成を通過して、前記正レンズの外部瞳を通じて観察者
    へ向かって、前記ライトバルブ・アレイ、前記正レンズ
    及び前記旋回ミラー構成により規定される前記光軸の前
    記連続線に沿って指向されるように配置されており、 前記旋回ミラー構成（80）は、前記回折光部分のみを前
    記受像面へ到達させ、前記正レンズ（50）と前記格子ラ
    イトバルブ・アレイ（10,10A）とは、前記正レンズ（5
    0）が、前記格子ライトバルブ・アレイの拡大された実
    像を、観察者により見られる前記受像面へ結像させるよ
    うに前記入射光の前記回折部分によって投影させるよう
    に配置され、更に、 表示される画素に対応する前記格子ライトバルブ・アレ
    イの前記能動反射部材（12,12A）を移動させる電子的手
    段（70）と、 前記正レンズから前記受像面へ向かう前記回折光部分の
    経路に位置する走査手段とを備え、この走査手段は、前
    記電子的手段に共働して、前記拡大された実像を前記受
    像面に亘って走査して、前記走査された拡大された実像
    を二次元画像として観察者へ表し、且つこの走査手段は
    前記ライトバルブ・アレイ、前記正レンズ及び前記旋回
    ミラー構成により規定される前記光軸の前記連続線にあ
    るディスプレイ・システム。
  25. 【請求項２５】請求項24のディスプレイ・システムであ
    って、前記正レンズ（50）が接眼レンズ形式のレンズを
    採用するディスプレイ・システム。
  26. 【請求項２６】請求項25のディスプレイ・システムであ
    って、前記接眼レンズ形式のレンズが、 Huygens,Ramsden,Kellner,Plssel,Abbe,Knig, およびErfleを含む形式の接眼レンズのグループから選
    択されたディスプレイ・システム。
  27. 【請求項２７】請求項24のディスプレイ・シメテムであ
    って、前記細長い旋回ミラー構成が、少なくとも二つの
    細長い旋回ミラーを含むディスプレイ・システム。
  28. 【請求項２８】請求項27のディスプレイ・システムであ
    って、前記正レンズ（50）が接眼レンズ形式のレンズを
    採用するディスプレイ・システム。
  29. 【請求項２９】請求項28のディスプレイ・システムであ
    って、前記接眼レンズ形式のレンズが、 Huygens,Ramsden,Kellner,Plssel,Abbe,Knig, およびErfleを含む形式の接眼レンズのグループから選
    択されたディスプレイ・システム。
  30. 【請求項３０】二次元画像を印刷媒体上に印刷するシス
    テムであって、 格子ライトバルブ・アレイ（10,10A）であり、互いに平
    行に整列された離間された細長い能動反射部材（12,12
    A）の列を含み、前記能動反射部材の各々は、対応する
    受動反射部材（18,18A）に関して、この受動反射部材が
    位置する平面に対して平行な平面を通じて個々に可能で
    あり、前記対応する能動および受動反射部材は共に、前
    記能動および受動反射部材の平面分離に応じて、前記能
    動および受動反射部材に入射する光の回折および／また
    は反射を生起するようにされた格子ライトバルブ・アレ
    イと、 前記格子ライトバルブ・アレイ（10,10A）に入射する光
    を生起する照明手段（32R,32G,32B,36,42）であり、前
    記格子ライトバルブ・アレイに沿って楔形集束を与える
    ことにより、前記格子ライトバルブ・アレイに沿った集
    束線を形成する照明手段と、 前記格子ライトバルブ・アレイ（10,10A）からの光の反
    射部分から前記格子ライトバルブ・アレイからの光の回
    折部分を分離する分離手段（50,54,80）と、 表示される画素に対する前記格子ライトバルブ・アレイ
    （10,10A）の前記能動反射部材を移動させる電子的手段
    （70）と、 前記格子ライトバルブ・アレイ（10,10A）の拡大された
    実像を前記分離されて回折された光部分を介して前記印
    刷媒体へ投影する拡大レンズ手段（50）であり、この拡
    大レンズ手段は、前記ライトバルブ・アレイから概ね拡
    大レンズ焦点距離に配置された位置を占めると共に、前
    記拡大レンズ手段、前記ライトバルブ・アレイ及び前記
    分離手段が光軸を規定する拡大レンズ手段と、 前記電子的手段に共働して、前記拡大された実像に関し
    て前記印刷媒体を移動させて、前記拡大された実像を二
    次元画像の連続線を前記印刷媒体上の連続位置に規定さ
    せる走査手段とを備え、この走査手段は前記ライトバル
    ブ・アレイ、前記拡大レンズ手段及び前記分離手段によ
    り規定される前記光軸上にあるシステム。
  31. 【請求項３１】請求項30記載のシステムであって、前記
    拡大レンズ手段（50）と前記格子ライトバルブ・アレイ
    （10,10A）と前記回折光分離手段（50,54,80）とが、テ
    レセントリック系として配置され、ここで前記格子ライ
    トバルブ・アレイと前記回折光分離手段とは、それぞれ
    前記拡大レンズ手段の概ねテレセントリック対物位置と
    概ね射出瞳とに配置されているシステム。
  32. 【請求項３２】請求項30記載のシステムであって、前記
    正レンズ（50）が接眼レンズ形式のレンズを採用するシ
    ステム。
  33. 【請求項３３】請求項32記載のシステムであって、前記
    接眼レンズ形式のレンズが、 Huygens,Ramsden,Kellner,Plssel,Abbe,Knig, およびErfleを含む形式の接眼レンズのグループから選
    択されたシステム。
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Families Citing this family (390)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6969635B2 (en) 2000-12-07 2005-11-29 Reflectivity, Inc. Methods for depositing, releasing and packaging micro-electromechanical devices on wafer substrates
US20080248046A1 (en) * 1997-03-17 2008-10-09 Human Genome Sciences, Inc. Death domain containing receptor 5
GB9807186D0 (en) * 1998-04-04 1998-06-03 Marconi Gec Ltd Display arrangements
US6271808B1 (en) * 1998-06-05 2001-08-07 Silicon Light Machines Stereo head mounted display using a single display device
US6303986B1 (en) 1998-07-29 2001-10-16 Silicon Light Machines Method of and apparatus for sealing an hermetic lid to a semiconductor die
US6872984B1 (en) 1998-07-29 2005-03-29 Silicon Light Machines Corporation Method of sealing a hermetic lid to a semiconductor die at an angle
DE19835072A1 (de) * 1998-08-04 2000-02-10 Zeiss Carl Jena Gmbh Anordnung zur Beleuchtung und/oder Detektion in einem Mikroskop
US6962419B2 (en) 1998-09-24 2005-11-08 Reflectivity, Inc Micromirror elements, package for the micromirror elements, and projection system therefor
US6342960B1 (en) 1998-12-18 2002-01-29 The Boeing Company Wavelength division multiplex transmitter
US6724125B2 (en) 1999-03-30 2004-04-20 Massachusetts Institute Of Technology Methods and apparatus for diffractive optical processing using an actuatable structure
US6674563B2 (en) 2000-04-13 2004-01-06 Lightconnect, Inc. Method and apparatus for device linearization
US6826330B1 (en) 1999-08-11 2004-11-30 Lightconnect, Inc. Dynamic spectral shaping for fiber-optic application
US6501600B1 (en) 1999-08-11 2002-12-31 Lightconnect, Inc. Polarization independent grating modulator
JP4474000B2 (ja) * 2000-01-20 2010-06-02 キヤノン株式会社 投影装置
US6608621B2 (en) * 2000-01-20 2003-08-19 Canon Kabushiki Kaisha Image displaying method and apparatus
US6307663B1 (en) * 2000-01-26 2001-10-23 Eastman Kodak Company Spatial light modulator with conformal grating device
US6956878B1 (en) 2000-02-07 2005-10-18 Silicon Light Machines Corporation Method and apparatus for reducing laser speckle using polarization averaging
US6888983B2 (en) 2000-04-14 2005-05-03 Lightconnect, Inc. Dynamic gain and channel equalizers
CA2352729A1 (en) 2000-07-13 2002-01-13 Creoscitex Corporation Ltd. Blazed micro-mechanical light modulator and array thereof
JP3512171B2 (ja) * 2000-08-28 2004-03-29 大日本スクリーン製造株式会社 画像記録装置
JP3590334B2 (ja) * 2000-08-28 2004-11-17 大日本スクリーン製造株式会社 画像記録装置
US7167297B2 (en) 2000-08-30 2007-01-23 Reflectivity, Inc Micromirror array
US6411425B1 (en) * 2000-09-27 2002-06-25 Eastman Kodak Company Electromechanical grating display system with spatially separated light beams
JP3766586B2 (ja) 2000-10-02 2006-04-12 株式会社日立製作所 光学エンジン、映像表示装置及び色切替方法
US6323984B1 (en) 2000-10-11 2001-11-27 Silicon Light Machines Method and apparatus for reducing laser speckle
FR2815422B1 (fr) * 2000-10-13 2003-09-19 Commissariat Energie Atomique Systeme de visualisation indiduel
JP2002162599A (ja) * 2000-11-24 2002-06-07 Sony Corp 立体画像表示装置
US6836309B2 (en) 2000-11-30 2004-12-28 Hana Microdisplay Technologies, Inc. High contrast reflective light valve
US6476848B2 (en) 2000-12-21 2002-11-05 Eastman Kodak Company Electromechanical grating display system with segmented waveplate
US6567584B2 (en) * 2001-02-12 2003-05-20 Silicon Light Machines Illumination system for one-dimensional spatial light modulators employing multiple light sources
EP1373963A4 (en) * 2001-03-02 2006-04-26 Massachusetts Inst Technology METHODS AND APPARATUS FOR DIFFRACTION OPTICAL PROCESSING USING AN ACTIONABLE STRUCTURE
US7177081B2 (en) * 2001-03-08 2007-02-13 Silicon Light Machines Corporation High contrast grating light valve type device
US20030208753A1 (en) * 2001-04-10 2003-11-06 Silicon Light Machines Method, system, and display apparatus for encrypted cinema
US6707591B2 (en) 2001-04-10 2004-03-16 Silicon Light Machines Angled illumination for a single order light modulator based projection system
US6614580B2 (en) 2001-04-10 2003-09-02 Silicon Light Machines Modulation of light out of the focal plane in a light modulator based projection system
JP3823751B2 (ja) * 2001-04-17 2006-09-20 ソニー株式会社 画像表示装置
US6865346B1 (en) 2001-06-05 2005-03-08 Silicon Light Machines Corporation Fiber optic transceiver
US6747781B2 (en) 2001-06-25 2004-06-08 Silicon Light Machines, Inc. Method, apparatus, and diffuser for reducing laser speckle
US6782205B2 (en) 2001-06-25 2004-08-24 Silicon Light Machines Method and apparatus for dynamic equalization in wavelength division multiplexing
US7023606B2 (en) 2001-08-03 2006-04-04 Reflectivity, Inc Micromirror array for projection TV
US6639722B2 (en) 2001-08-15 2003-10-28 Silicon Light Machines Stress tuned blazed grating light valve
US6785001B2 (en) 2001-08-21 2004-08-31 Silicon Light Machines, Inc. Method and apparatus for measuring wavelength jitter of light signal
US6930364B2 (en) 2001-09-13 2005-08-16 Silicon Light Machines Corporation Microelectronic mechanical system and methods
KR100416548B1 (ko) * 2001-10-10 2004-02-05 삼성전자주식회사 3차원 영상 표시장치
US7046410B2 (en) 2001-10-11 2006-05-16 Polychromix, Inc. Actuatable diffractive optical processor
US6532097B1 (en) 2001-10-11 2003-03-11 Applied Materials, Inc. Image registration apparatus having an adjustable reflective diffraction grating and method
US6567217B1 (en) 2001-11-06 2003-05-20 Eastman Kodak Company Image-forming system with enhanced gray levels
US6956995B1 (en) 2001-11-09 2005-10-18 Silicon Light Machines Corporation Optical communication arrangement
US6611380B2 (en) 2001-12-21 2003-08-26 Eastman Kodak Company System and method for calibration of display system with linear array modulator
US6800238B1 (en) 2002-01-15 2004-10-05 Silicon Light Machines, Inc. Method for domain patterning in low coercive field ferroelectrics
JP3558066B2 (ja) * 2002-02-19 2004-08-25 ソニー株式会社 Ｍｅｍｓ素子とその製造方法、光変調素子、ｇｌｖデバイスとその製造方法、及びレーザディスプレイ
US6987240B2 (en) * 2002-04-18 2006-01-17 Applied Materials, Inc. Thermal flux processing by scanning
US6767751B2 (en) 2002-05-28 2004-07-27 Silicon Light Machines, Inc. Integrated driver process flow
US6728023B1 (en) 2002-05-28 2004-04-27 Silicon Light Machines Optical device arrays with optimized image resolution
US6839479B2 (en) 2002-05-29 2005-01-04 Silicon Light Machines Corporation Optical switch
US7054515B1 (en) 2002-05-30 2006-05-30 Silicon Light Machines Corporation Diffractive light modulator-based dynamic equalizer with integrated spectral monitor
JP2004004256A (ja) * 2002-05-31 2004-01-08 Sony Corp 光走査装置及び２次元画像形成装置
US6822797B1 (en) 2002-05-31 2004-11-23 Silicon Light Machines, Inc. Light modulator structure for producing high-contrast operation using zero-order light
US6678085B2 (en) * 2002-06-12 2004-01-13 Eastman Kodak Company High-contrast display system with scanned conformal grating device
US6829258B1 (en) 2002-06-26 2004-12-07 Silicon Light Machines, Inc. Rapidly tunable external cavity laser
US6813059B2 (en) 2002-06-28 2004-11-02 Silicon Light Machines, Inc. Reduced formation of asperities in contact micro-structures
US6908201B2 (en) 2002-06-28 2005-06-21 Silicon Light Machines Corporation Micro-support structures
US6714337B1 (en) 2002-06-28 2004-03-30 Silicon Light Machines Method and device for modulating a light beam and having an improved gamma response
US20040004843A1 (en) * 2002-07-03 2004-01-08 Volker Melzer System and method for providing polychromatic illumination of selected frequencies
EP1381241A3 (en) * 2002-07-10 2007-09-05 FUJIFILM Corporation Display device
JP2004045684A (ja) * 2002-07-11 2004-02-12 Sony Corp 画像表示装置における照明光学装置及び画像表示装置
US7150537B2 (en) * 2002-08-16 2006-12-19 Infocus Corporation Projection television device and screen
US7057795B2 (en) 2002-08-20 2006-06-06 Silicon Light Machines Corporation Micro-structures with individually addressable ribbon pairs
US6801354B1 (en) 2002-08-20 2004-10-05 Silicon Light Machines, Inc. 2-D diffraction grating for substantially eliminating polarization dependent losses
JP2004139023A (ja) * 2002-08-21 2004-05-13 Sony Corp ホログラム記録装置、ホログラム記録方法、およびホログラム記録媒体
US6712480B1 (en) 2002-09-27 2004-03-30 Silicon Light Machines Controlled curvature of stressed micro-structures
TWI226940B (en) * 2002-10-01 2005-01-21 Sony Corp Optical scan device, image position calibration method, and image display device
US6967986B2 (en) * 2002-10-16 2005-11-22 Eastman Kodak Company Light modulation apparatus using a VCSEL array with an electromechanical grating device
JP2004157522A (ja) * 2002-10-17 2004-06-03 Sony Corp 画像生成装置、画像表示装置、画像表示方法、及び光変調素子調整装置
US6947459B2 (en) * 2002-11-25 2005-09-20 Eastman Kodak Company Organic vertical cavity laser and imaging system
US6928207B1 (en) 2002-12-12 2005-08-09 Silicon Light Machines Corporation Apparatus for selectively blocking WDM channels
US6987600B1 (en) 2002-12-17 2006-01-17 Silicon Light Machines Corporation Arbitrary phase profile for better equalization in dynamic gain equalizer
US7057819B1 (en) 2002-12-17 2006-06-06 Silicon Light Machines Corporation High contrast tilting ribbon blazed grating
US6934070B1 (en) 2002-12-18 2005-08-23 Silicon Light Machines Corporation Chirped optical MEM device
US6927891B1 (en) 2002-12-23 2005-08-09 Silicon Light Machines Corporation Tilt-able grating plane for improved crosstalk in 1×N blaze switches
US7068372B1 (en) 2003-01-28 2006-06-27 Silicon Light Machines Corporation MEMS interferometer-based reconfigurable optical add-and-drop multiplexor
US7286764B1 (en) 2003-02-03 2007-10-23 Silicon Light Machines Corporation Reconfigurable modulator-based optical add-and-drop multiplexer
US6967758B2 (en) * 2003-02-04 2005-11-22 Silicon Light Machines Corporation System and method for sub-pixel electronic alignment
US6947613B1 (en) 2003-02-11 2005-09-20 Silicon Light Machines Corporation Wavelength selective switch and equalizer
US7042622B2 (en) 2003-10-30 2006-05-09 Reflectivity, Inc Micromirror and post arrangements on substrates
US6885494B2 (en) * 2003-02-12 2005-04-26 Reflectivity, Inc. High angle micro-mirrors and processes
US6922272B1 (en) 2003-02-14 2005-07-26 Silicon Light Machines Corporation Method and apparatus for leveling thermal stress variations in multi-layer MEMS devices
US7046420B1 (en) 2003-02-28 2006-05-16 Silicon Light Machines Corporation MEM micro-structures and methods of making the same
US6922273B1 (en) 2003-02-28 2005-07-26 Silicon Light Machines Corporation PDL mitigation structure for diffractive MEMS and gratings
US7027202B1 (en) 2003-02-28 2006-04-11 Silicon Light Machines Corp Silicon substrate as a light modulator sacrificial layer
US6829077B1 (en) 2003-02-28 2004-12-07 Silicon Light Machines, Inc. Diffractive light modulator with dynamically rotatable diffraction plane
US7391973B1 (en) 2003-02-28 2008-06-24 Silicon Light Machines Corporation Two-stage gain equalizer
US6806997B1 (en) 2003-02-28 2004-10-19 Silicon Light Machines, Inc. Patterned diffractive light modulator ribbon for PDL reduction
US7042611B1 (en) 2003-03-03 2006-05-09 Silicon Light Machines Corporation Pre-deflected bias ribbons
US7063920B2 (en) * 2003-05-16 2006-06-20 Asml Holding, N.V. Method for the generation of variable pitch nested lines and/or contact holes using fixed size pixels for direct-write lithographic systems
JP4371705B2 (ja) * 2003-05-20 2009-11-25 キヤノン株式会社 走査型画像表示装置
US6873398B2 (en) * 2003-05-21 2005-03-29 Esko-Graphics A/S Method and apparatus for multi-track imaging using single-mode beams and diffraction-limited optics
EP1480080A1 (en) * 2003-05-22 2004-11-24 ASML Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
TWI304522B (en) * 2003-05-28 2008-12-21 Asml Netherlands Bv Lithographic apparatus, method of calibrating and device manufacturing method
US6989920B2 (en) * 2003-05-29 2006-01-24 Asml Holding N.V. System and method for dose control in a lithographic system
US7061591B2 (en) * 2003-05-30 2006-06-13 Asml Holding N.V. Maskless lithography systems and methods utilizing spatial light modulator arrays
EP1482373A1 (en) * 2003-05-30 2004-12-01 ASML Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
JP4411875B2 (ja) * 2003-06-20 2010-02-10 ソニー株式会社 光変調素子及びこれを用いた画像表示装置
EP1489449A1 (en) * 2003-06-20 2004-12-22 ASML Netherlands B.V. Spatial light modulator
SG118283A1 (en) * 2003-06-20 2006-01-27 Asml Netherlands Bv Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7110082B2 (en) * 2003-06-24 2006-09-19 Asml Holding N.V. Optical system for maskless lithography
SG119224A1 (en) * 2003-06-26 2006-02-28 Asml Netherlands Bv Calibration method for a lithographic apparatus and device manufacturing method
US7158215B2 (en) * 2003-06-30 2007-01-02 Asml Holding N.V. Large field of view protection optical system with aberration correctability for flat panel displays
US7154587B2 (en) * 2003-06-30 2006-12-26 Asml Netherlands B.V Spatial light modulator, lithographic apparatus and device manufacturing method
US7224504B2 (en) * 2003-07-30 2007-05-29 Asml Holding N. V. Deformable mirror using piezoelectric actuators formed as an integrated circuit and method of use
US6831768B1 (en) 2003-07-31 2004-12-14 Asml Holding N.V. Using time and/or power modulation to achieve dose gray-scaling in optical maskless lithography
JP4534453B2 (ja) * 2003-09-04 2010-09-01 ソニー株式会社 投射型画像表示装置
US7414701B2 (en) * 2003-10-03 2008-08-19 Asml Holding N.V. Method and systems for total focus deviation adjustments on maskless lithography systems
SG110196A1 (en) * 2003-09-22 2005-04-28 Asml Netherlands Bv Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7410736B2 (en) * 2003-09-30 2008-08-12 Asml Holding N.V. Methods and systems to compensate for a stitching disturbance of a printed pattern in a maskless lithography system not utilizing overlap of the exposure zones
US7023526B2 (en) * 2003-09-30 2006-04-04 Asml Holding N.V. Methods and systems to compensate for a stitching disturbance of a printed pattern in a maskless lithography system utilizing overlap without an explicit attenuation
US6876440B1 (en) * 2003-09-30 2005-04-05 Asml Holding N.V. Methods and systems to compensate for a stitching disturbance of a printed pattern in a maskless lithography system utilizing overlap of exposure zones with attenuation of the aerial image in the overlap region
US7109498B2 (en) * 2003-10-09 2006-09-19 Asml Netherlands B.V. Radiation source, lithographic apparatus, and device manufacturing method
KR100754064B1 (ko) * 2003-11-03 2007-08-31 삼성전기주식회사 광변조기를 이용한 스캐닝 장치
US7116398B2 (en) * 2003-11-07 2006-10-03 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7196772B2 (en) * 2003-11-07 2007-03-27 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7274500B2 (en) * 2003-12-03 2007-09-25 Eastman Kodak Company Display system incorporating trilinear electromechanical grating device
US7001232B2 (en) * 2003-12-11 2006-02-21 Montgomery Robert E Personal watercraft air intake assembly
US6995830B2 (en) * 2003-12-22 2006-02-07 Asml Netherlands B.V. Lithographic projection apparatus and device manufacturing method
US7012674B2 (en) * 2004-01-13 2006-03-14 Asml Holding N.V. Maskless optical writer
JP4083751B2 (ja) * 2004-01-29 2008-04-30 エーエスエムエル ホールディング エヌ．ブイ． 空間光変調器アレイを較正するシステムおよび空間光変調器アレイを較正する方法
US6847461B1 (en) * 2004-01-29 2005-01-25 Asml Holding N.V. System and method for calibrating a spatial light modulator array using shearing interferometry
US7580559B2 (en) * 2004-01-29 2009-08-25 Asml Holding N.V. System and method for calibrating a spatial light modulator
US7190434B2 (en) * 2004-02-18 2007-03-13 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7133118B2 (en) * 2004-02-18 2006-11-07 Asml Netherlands, B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7081947B2 (en) * 2004-02-27 2006-07-25 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7016014B2 (en) * 2004-02-27 2006-03-21 Asml Netherlands B.V Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7061586B2 (en) * 2004-03-02 2006-06-13 Asml Netherlands Bv Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7094506B2 (en) * 2004-03-09 2006-08-22 Asml Netherlands B.V Lithographic apparatus and device manufacturing method
USRE43515E1 (en) 2004-03-09 2012-07-17 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US6967711B2 (en) * 2004-03-09 2005-11-22 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7227618B1 (en) 2004-03-24 2007-06-05 Baokang Bi Pattern generating systems
US7561251B2 (en) * 2004-03-29 2009-07-14 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7053981B2 (en) * 2004-03-31 2006-05-30 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7153616B2 (en) * 2004-03-31 2006-12-26 Asml Holding N.V. System and method for verifying and controlling the performance of a maskless lithography tool
US7002666B2 (en) * 2004-04-16 2006-02-21 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US20050243295A1 (en) * 2004-04-30 2005-11-03 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing
US6963434B1 (en) * 2004-04-30 2005-11-08 Asml Holding N.V. System and method for calculating aerial image of a spatial light modulator
US20050259269A1 (en) 2004-05-19 2005-11-24 Asml Holding N.V. Shearing interferometer with dynamic pupil fill
US7242456B2 (en) * 2004-05-26 2007-07-10 Asml Holdings N.V. System and method utilizing a lithography tool having modular illumination, pattern generator, and projection optics portions
US7477403B2 (en) * 2004-05-27 2009-01-13 Asml Netherlands B.V. Optical position assessment apparatus and method
US7123348B2 (en) * 2004-06-08 2006-10-17 Asml Netherlands B.V Lithographic apparatus and method utilizing dose control
US6989886B2 (en) * 2004-06-08 2006-01-24 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7016016B2 (en) * 2004-06-25 2006-03-21 Asml Netherlands Bv Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7116403B2 (en) * 2004-06-28 2006-10-03 Asml Netherlands B.V Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7158208B2 (en) * 2004-06-30 2007-01-02 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7116404B2 (en) * 2004-06-30 2006-10-03 Asml Netherlands B.V Lithographic apparatus and device manufacturing method
US20060001890A1 (en) * 2004-07-02 2006-01-05 Asml Holding N.V. Spatial light modulator as source module for DUV wavefront sensor
US20060012779A1 (en) * 2004-07-13 2006-01-19 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7573574B2 (en) * 2004-07-13 2009-08-11 Asml Netherlands Bv Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7335398B2 (en) * 2004-07-26 2008-02-26 Asml Holding N.V. Method to modify the spatial response of a pattern generator
US7227613B2 (en) * 2004-07-26 2007-06-05 Asml Holding N.V. Lithographic apparatus having double telecentric illumination
US7259829B2 (en) * 2004-07-26 2007-08-21 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7142286B2 (en) * 2004-07-27 2006-11-28 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7251020B2 (en) * 2004-07-30 2007-07-31 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7538855B2 (en) * 2004-08-10 2009-05-26 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7102733B2 (en) * 2004-08-13 2006-09-05 Asml Holding N.V. System and method to compensate for static and dynamic misalignments and deformations in a maskless lithography tool
JP4290095B2 (ja) * 2004-08-16 2009-07-01 キヤノン株式会社 表示光学系および画像表示システム
US7500218B2 (en) * 2004-08-17 2009-03-03 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus, method, and computer program product for generating a mask pattern and device manufacturing method using same
US7304718B2 (en) * 2004-08-17 2007-12-04 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
CN101015217A (zh) * 2004-09-08 2007-08-08 皇家飞利浦电子股份有限公司 投影显示设备
US7079225B2 (en) * 2004-09-14 2006-07-18 Asml Netherlands B.V Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7177012B2 (en) * 2004-10-18 2007-02-13 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7388663B2 (en) 2004-10-28 2008-06-17 Asml Netherlands B.V. Optical position assessment apparatus and method
US7423732B2 (en) * 2004-11-04 2008-09-09 Asml Holding N.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing placement of a patterning device at a pupil plane
US7609362B2 (en) * 2004-11-08 2009-10-27 Asml Netherlands B.V. Scanning lithographic apparatus and device manufacturing method
US7170584B2 (en) * 2004-11-17 2007-01-30 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7061581B1 (en) * 2004-11-22 2006-06-13 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7474384B2 (en) * 2004-11-22 2009-01-06 Asml Holding N.V. Lithographic apparatus, device manufacturing method, and a projection element for use in the lithographic apparatus
US7643192B2 (en) * 2004-11-24 2010-01-05 Asml Holding N.V. Pattern generator using a dual phase step element and method of using same
US7286277B2 (en) * 2004-11-26 2007-10-23 Alces Technology, Inc. Polarization light modulator
US7054051B1 (en) 2004-11-26 2006-05-30 Alces Technology, Inc. Differential interferometric light modulator and image display device
US7277216B2 (en) * 2004-11-26 2007-10-02 Alces Technology Differential interferometric light modulator and image display system
US7446925B2 (en) * 2004-11-26 2008-11-04 Alces Technology Micro-electromechanical light modulator with anamorphic optics
US7713667B2 (en) * 2004-11-30 2010-05-11 Asml Holding N.V. System and method for generating pattern data used to control a pattern generator
US7333177B2 (en) * 2004-11-30 2008-02-19 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7365848B2 (en) * 2004-12-01 2008-04-29 Asml Holding N.V. System and method using visible and infrared light to align and measure alignment patterns on multiple layers
US7391499B2 (en) * 2004-12-02 2008-06-24 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7362415B2 (en) * 2004-12-07 2008-04-22 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7355677B2 (en) * 2004-12-09 2008-04-08 Asml Netherlands B.V. System and method for an improved illumination system in a lithographic apparatus
US7046446B1 (en) 2004-12-15 2006-05-16 Eastman Kodak Company Speckle reduction for display system with electromechanical grating
US7119936B2 (en) * 2004-12-15 2006-10-10 Eastman Kodak Company Speckle reduction for display system with electromechanical grating
US7180577B2 (en) * 2004-12-17 2007-02-20 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing a microlens array at an image plane
US7349068B2 (en) * 2004-12-17 2008-03-25 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7256867B2 (en) * 2004-12-22 2007-08-14 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7202939B2 (en) * 2004-12-22 2007-04-10 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7230677B2 (en) * 2004-12-22 2007-06-12 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing hexagonal image grids
US7375795B2 (en) * 2004-12-22 2008-05-20 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus, device manufacturing method, and device manufactured thereby
US7391676B2 (en) 2004-12-22 2008-06-24 Asml Netherlands B.V. Ultrasonic distance sensors
US7274502B2 (en) * 2004-12-22 2007-09-25 Asml Holding N.V. System, apparatus and method for maskless lithography that emulates binary, attenuating phase-shift and alternating phase-shift masks
US7656506B2 (en) * 2004-12-23 2010-02-02 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing a substrate handler
US7242458B2 (en) * 2004-12-23 2007-07-10 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing a multiple substrate carrier for flat panel display substrates
US7426076B2 (en) * 2004-12-23 2008-09-16 Asml Holding N.V. Projection system for a lithographic apparatus
US7538857B2 (en) * 2004-12-23 2009-05-26 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing a substrate handler
US20060138349A1 (en) * 2004-12-27 2006-06-29 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7279110B2 (en) * 2004-12-27 2007-10-09 Asml Holding N.V. Method and apparatus for creating a phase step in mirrors used in spatial light modulator arrays
US7459247B2 (en) * 2004-12-27 2008-12-02 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7126672B2 (en) * 2004-12-27 2006-10-24 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7317510B2 (en) * 2004-12-27 2008-01-08 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7145636B2 (en) * 2004-12-28 2006-12-05 Asml Netherlands Bv System and method for determining maximum operational parameters used in maskless applications
US7274029B2 (en) * 2004-12-28 2007-09-25 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7756660B2 (en) 2004-12-28 2010-07-13 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7403865B2 (en) * 2004-12-28 2008-07-22 Asml Netherlands B.V. System and method for fault indication on a substrate in maskless applications
US7253881B2 (en) * 2004-12-29 2007-08-07 Asml Netherlands Bv Methods and systems for lithographic gray scaling
US7342644B2 (en) * 2004-12-29 2008-03-11 Asml Netherlands B.V. Methods and systems for lithographic beam generation
US7567368B2 (en) * 2005-01-06 2009-07-28 Asml Holding N.V. Systems and methods for minimizing scattered light in multi-SLM maskless lithography
US7542013B2 (en) * 2005-01-31 2009-06-02 Asml Holding N.V. System and method for imaging enhancement via calculation of a customized optimal pupil field and illumination mode
US7460208B2 (en) * 2005-02-18 2008-12-02 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7286137B2 (en) * 2005-02-28 2007-10-23 Asml Holding N.V. Method and system for constrained pixel graytones interpolation for pattern rasterization
US7499146B2 (en) * 2005-03-14 2009-03-03 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method, an integrated circuit, a flat panel display, and a method of compensating for cupping
US7812930B2 (en) * 2005-03-21 2010-10-12 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method using repeated patterns in an LCD to reduce datapath volume
US7209216B2 (en) * 2005-03-25 2007-04-24 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing dynamic correction for magnification and position in maskless lithography
US7403265B2 (en) * 2005-03-30 2008-07-22 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing data filtering
US7193765B2 (en) 2005-03-31 2007-03-20 Evans & Sutherland Computer Corporation Reduction of speckle and interference patterns for laser projectors
US7728956B2 (en) * 2005-04-05 2010-06-01 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing multiple die designs on a substrate using a data buffer that stores pattern variation data
US7330239B2 (en) * 2005-04-08 2008-02-12 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing a blazing portion of a contrast device
US7209217B2 (en) 2005-04-08 2007-04-24 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing plural patterning devices
US7221514B2 (en) * 2005-04-15 2007-05-22 Asml Netherlands B.V. Variable lens and exposure system
US20060244805A1 (en) * 2005-04-27 2006-11-02 Ming-Hsiang Yeh Multicolor pen
US7400382B2 (en) * 2005-04-28 2008-07-15 Asml Holding N.V. Light patterning device using tilting mirrors in a superpixel form
US7738081B2 (en) * 2005-05-06 2010-06-15 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing a flat panel display handler with conveyor device and substrate handler
CA2507177C (en) * 2005-05-13 2012-04-24 Institut National D'optique Image projector with flexible reflective analog modulator
KR100832622B1 (ko) * 2005-05-25 2008-05-27 삼성전기주식회사 광변조기 및 그 광변조기를 이용한 프로젝터를 구비한휴대용 단말기
US7477772B2 (en) * 2005-05-31 2009-01-13 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing 2D run length encoding for image data compression
US7197828B2 (en) * 2005-05-31 2007-04-03 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing FPD chuck Z position measurement
US7628495B2 (en) * 2005-06-06 2009-12-08 Infocus Corporation Mirror-based light path combination for light sources
US7292317B2 (en) * 2005-06-08 2007-11-06 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing substrate stage compensating
US7742148B2 (en) * 2005-06-08 2010-06-22 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method for writing a digital image
US7233384B2 (en) * 2005-06-13 2007-06-19 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method, and device manufactured thereby for calibrating an imaging system with a sensor
US7321416B2 (en) * 2005-06-15 2008-01-22 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus, device manufacturing method, device manufactured thereby, and controllable patterning device utilizing a spatial light modulator with distributed digital to analog conversion
US7408617B2 (en) * 2005-06-24 2008-08-05 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing a large area FPD chuck equipped with encoders an encoder scale calibration method
US7965373B2 (en) * 2005-06-28 2011-06-21 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing a datapath having a balanced calculation load
US7307694B2 (en) * 2005-06-29 2007-12-11 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus, radiation beam inspection device, method of inspecting a beam of radiation and device manufacturing method
US7522258B2 (en) * 2005-06-29 2009-04-21 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing movement of clean air to reduce contamination
US20070013889A1 (en) * 2005-07-12 2007-01-18 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus, device manufacturing method and device manufactured thereby having an increase in depth of focus
US7251019B2 (en) * 2005-07-20 2007-07-31 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing a continuous light beam in combination with pixel grid imaging
KR100897666B1 (ko) * 2005-07-20 2009-05-14 삼성전기주식회사 정역방향 스캐닝 방식의 디스플레이 장치
US7411722B2 (en) * 2005-08-24 2008-08-12 Eastman Kodak Company Display system incorporating bilinear electromechanical grating device
US7606430B2 (en) * 2005-08-30 2009-10-20 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing a multiple dictionary compression method for FPD
US20070046917A1 (en) * 2005-08-31 2007-03-01 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method that compensates for reticle induced CDU
JP2007114750A (ja) * 2005-09-09 2007-05-10 Asml Netherlands Bv 投影システム設計方法、リソグラフィー装置およびデバイス製造方法
US20070063996A1 (en) * 2005-09-14 2007-03-22 Childers Winthrop D Image display system and method
US20070064007A1 (en) * 2005-09-14 2007-03-22 Childers Winthrop D Image display system and method
US20070064008A1 (en) * 2005-09-14 2007-03-22 Childers Winthrop D Image display system and method
US7551154B2 (en) * 2005-09-15 2009-06-23 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Image display system and method
KR100832621B1 (ko) * 2005-09-23 2008-05-27 삼성전기주식회사 정역방향 스캐닝을 수행하는 모바일용 프로젝터
US7391503B2 (en) * 2005-10-04 2008-06-24 Asml Netherlands B.V. System and method for compensating for thermal expansion of lithography apparatus or substrate
US7830493B2 (en) * 2005-10-04 2010-11-09 Asml Netherlands B.V. System and method for compensating for radiation induced thermal distortions in a substrate or projection system
US7332733B2 (en) * 2005-10-05 2008-02-19 Asml Netherlands B.V. System and method to correct for field curvature of multi lens array
US20070127005A1 (en) * 2005-12-02 2007-06-07 Asml Holding N.V. Illumination system
US7626181B2 (en) * 2005-12-09 2009-12-01 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US20070133007A1 (en) * 2005-12-14 2007-06-14 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method using laser trimming of a multiple mirror contrast device
US20070153249A1 (en) * 2005-12-20 2007-07-05 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method using multiple exposures and multiple exposure types
US7440078B2 (en) * 2005-12-20 2008-10-21 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method using interferometric and maskless exposure units
US7466394B2 (en) * 2005-12-21 2008-12-16 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method using a compensation scheme for a patterning array
US8478386B2 (en) * 2006-01-10 2013-07-02 Accuvein Inc. Practitioner-mounted micro vein enhancer
US8489178B2 (en) 2006-06-29 2013-07-16 Accuvein Inc. Enhanced laser vein contrast enhancer with projection of analyzed vein data
US12089951B2 (en) 2006-01-10 2024-09-17 AccuVeiw, Inc. Scanned laser vein contrast enhancer with scanning correlated to target distance
US11253198B2 (en) 2006-01-10 2022-02-22 Accuvein, Inc. Stand-mounted scanned laser vein contrast enhancer
US10238294B2 (en) 2006-06-29 2019-03-26 Accuvein, Inc. Scanned laser vein contrast enhancer using one laser
US12295744B2 (en) 2006-01-10 2025-05-13 Accuvein, Inc. Micro vein enhancer with two lasers and two optical detectors configured for removing surface topology
US9854977B2 (en) 2006-01-10 2018-01-02 Accuvein, Inc. Scanned laser vein contrast enhancer using a single laser, and modulation circuitry
US11278240B2 (en) 2006-01-10 2022-03-22 Accuvein, Inc. Trigger-actuated laser vein contrast enhancer
US12408865B2 (en) 2006-01-10 2025-09-09 Accuvein Inc. Vein imaging device with differential image resolution at the center and the extremities of the vein image
US10813588B2 (en) 2006-01-10 2020-10-27 Accuvein, Inc. Micro vein enhancer
US8838210B2 (en) * 2006-06-29 2014-09-16 AccuView, Inc. Scanned laser vein contrast enhancer using a single laser
US12471844B2 (en) 2006-06-29 2025-11-18 Accuvein, Inc. Scanned laser vein contrast enhancer with full stopping of scanner movement during scan line reversals
US9492117B2 (en) 2006-01-10 2016-11-15 Accuvein, Inc. Practitioner-mounted micro vein enhancer
US8255040B2 (en) 2006-06-29 2012-08-28 Accuvein, Llc Micro vein enhancer
US7420177B2 (en) * 2006-01-20 2008-09-02 Evans & Sutherland Computer Corporation High-resolution-imaging system for scanned-column projectors
US20070194239A1 (en) 2006-01-31 2007-08-23 Mcallister Abraham Apparatus and method providing a hand-held spectrometer
US7532403B2 (en) * 2006-02-06 2009-05-12 Asml Holding N.V. Optical system for transforming numerical aperture
KR100772398B1 (ko) 2006-02-25 2007-11-01 삼성전자주식회사 ２스캔의 광원 및 이를 이용한 영상장치 및 그 구동방법
US7528933B2 (en) * 2006-04-06 2009-05-05 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing a MEMS mirror with large deflection using a non-linear spring arrangement
US7508491B2 (en) * 2006-04-12 2009-03-24 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method utilized to reduce quantization influence of datapath SLM interface to dose uniformity
US7948606B2 (en) * 2006-04-13 2011-05-24 Asml Netherlands B.V. Moving beam with respect to diffractive optics in order to reduce interference patterns
US7839487B2 (en) * 2006-04-13 2010-11-23 Asml Holding N.V. Optical system for increasing illumination efficiency of a patterning device
US8264667B2 (en) * 2006-05-04 2012-09-11 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method using interferometric and other exposure
US8934084B2 (en) 2006-05-31 2015-01-13 Asml Holding N.V. System and method for printing interference patterns having a pitch in a lithography system
US7728954B2 (en) * 2006-06-06 2010-06-01 Asml Netherlands B.V. Reflective loop system producing incoherent radiation
US7649676B2 (en) * 2006-06-14 2010-01-19 Asml Netherlands B.V. System and method to form unpolarized light
US7936445B2 (en) * 2006-06-19 2011-05-03 Asml Netherlands B.V. Altering pattern data based on measured optical element characteristics
US8896808B2 (en) * 2006-06-21 2014-11-25 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and method
US7697115B2 (en) * 2006-06-23 2010-04-13 Asml Holding N.V. Resonant scanning mirror
US7593094B2 (en) * 2006-06-26 2009-09-22 Asml Netherlands B.V. Patterning device
US8594770B2 (en) 2006-06-29 2013-11-26 Accuvein, Inc. Multispectral detection and presentation of an object's characteristics
US8244333B2 (en) * 2006-06-29 2012-08-14 Accuvein, Llc Scanned laser vein contrast enhancer
US20160296146A9 (en) * 2006-06-29 2016-10-13 Fred Wood Apparatus-Mounted Vein Contrast Enchancer
US8730321B2 (en) 2007-06-28 2014-05-20 Accuvein, Inc. Automatic alignment of a contrast enhancement system
US8463364B2 (en) 2009-07-22 2013-06-11 Accuvein Inc. Vein scanner
US8665507B2 (en) * 2006-06-29 2014-03-04 Accuvein, Inc. Module mounting mirror endoscopy
US20080002174A1 (en) * 2006-06-30 2008-01-03 Asml Netherlands B.V. Control system for pattern generator in maskless lithography
US7630136B2 (en) 2006-07-18 2009-12-08 Asml Holding N.V. Optical integrators for lithography systems and methods
US7548315B2 (en) 2006-07-27 2009-06-16 Asml Netherlands B.V. System and method to compensate for critical dimension non-uniformity in a lithography system
US7738077B2 (en) * 2006-07-31 2010-06-15 Asml Netherlands B.V. Patterning device utilizing sets of stepped mirrors and method of using same
US7549759B2 (en) * 2006-08-28 2009-06-23 Alces Technology, Inc. Micro-electromechanical light modulator with enhanced contrast
KR100905554B1 (ko) * 2006-08-30 2009-07-02 삼성전기주식회사 광변조기를 이용한 프로젝터를 구비한 휴대용 단말기
US7626182B2 (en) 2006-09-05 2009-12-01 Asml Netherlands B.V. Radiation pulse energy control system, lithographic apparatus and device manufacturing method
US7628875B2 (en) * 2006-09-12 2009-12-08 Asml Netherlands B.V. MEMS device and assembly method
US8049865B2 (en) * 2006-09-18 2011-11-01 Asml Netherlands B.V. Lithographic system, device manufacturing method, and mask optimization method
US7400449B2 (en) * 2006-09-29 2008-07-15 Evans & Sutherland Computer Corporation System and method for reduction of image artifacts for laser projectors
US7683300B2 (en) * 2006-10-17 2010-03-23 Asml Netherlands B.V. Using an interferometer as a high speed variable attenuator
US7738079B2 (en) * 2006-11-14 2010-06-15 Asml Netherlands B.V. Radiation beam pulse trimming
US20080111977A1 (en) 2006-11-14 2008-05-15 Asml Holding N.V. Compensation techniques for fluid and magnetic bearings
US7453551B2 (en) * 2006-11-14 2008-11-18 Asml Netherlands B.V. Increasing pulse-to-pulse radiation beam uniformity
US8054449B2 (en) * 2006-11-22 2011-11-08 Asml Holding N.V. Enhancing the image contrast of a high resolution exposure tool
WO2008073449A2 (en) * 2006-12-12 2008-06-19 Evans & Sutherland Computer Corporation System and method for aligning rgb light in a single modulator projector
US8259285B2 (en) * 2006-12-14 2012-09-04 Asml Holding N.V. Lithographic system, device manufacturing method, setpoint data optimization method, and apparatus for producing optimized setpoint data
KR100853843B1 (ko) 2007-02-02 2008-08-22 삼성전기주식회사 초소형 컬러 디스플레이 장치
US7965378B2 (en) * 2007-02-20 2011-06-21 Asml Holding N.V Optical system and method for illumination of reflective spatial light modulators in maskless lithography
US8009269B2 (en) 2007-03-14 2011-08-30 Asml Holding N.V. Optimal rasterization for maskless lithography
US8009270B2 (en) * 2007-03-22 2011-08-30 Asml Netherlands B.V. Uniform background radiation in maskless lithography
US7714986B2 (en) * 2007-05-24 2010-05-11 Asml Netherlands B.V. Laser beam conditioning system comprising multiple optical paths allowing for dose control
US20080304034A1 (en) * 2007-06-07 2008-12-11 Asml Netherlands B.V. Dose control for optical maskless lithography
US8189172B2 (en) * 2007-06-14 2012-05-29 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and method
US7768627B2 (en) * 2007-06-14 2010-08-03 Asml Netherlands B.V. Illumination of a patterning device based on interference for use in a maskless lithography system
US8692974B2 (en) * 2007-06-14 2014-04-08 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method using pupil filling by telecentricity control
EP2015589A1 (en) * 2007-07-13 2009-01-14 Barco NV Stereo display system with scanning of light valves
JP2009037172A (ja) 2007-08-03 2009-02-19 Sony Corp 光走査装置
US8134591B2 (en) * 2008-05-07 2012-03-13 Eastman Kodak Company Display using bidirectionally scanned linear modulator
US8358317B2 (en) 2008-05-23 2013-01-22 Evans & Sutherland Computer Corporation System and method for displaying a planar image on a curved surface
US8702248B1 (en) 2008-06-11 2014-04-22 Evans & Sutherland Computer Corporation Projection method for reducing interpixel gaps on a viewing surface
US8077378B1 (en) 2008-11-12 2011-12-13 Evans & Sutherland Computer Corporation Calibration system and method for light modulation device
US8215776B2 (en) 2009-01-07 2012-07-10 Eastman Kodak Company Line illumination apparatus using laser arrays
WO2010092189A1 (en) 2009-02-16 2010-08-19 Micronic Laser Systems Ab Reconfigurable micro-mechanical light modulator and method
US8864313B2 (en) 2009-06-15 2014-10-21 Eastman Kodak Company Dynamic illumination control for laser projection display
US9061109B2 (en) 2009-07-22 2015-06-23 Accuvein, Inc. Vein scanner with user interface
CN101710202B (zh) * 2009-11-13 2012-07-11 深圳超多维光电子有限公司 对位装置、采用所述对位装置的光栅对位系统及其对位方法
US8698705B2 (en) * 2009-12-04 2014-04-15 Vuzix Corporation Compact near eye display with scanned image generation
US8330870B2 (en) * 2009-12-08 2012-12-11 Eastman Kodak Company Dynamic illumination control for laser projection display
US9641826B1 (en) 2011-10-06 2017-05-02 Evans & Sutherland Computer Corporation System and method for displaying distant 3-D stereo on a dome surface
US8917453B2 (en) 2011-12-23 2014-12-23 Microsoft Corporation Reflective array waveguide
US9223138B2 (en) 2011-12-23 2015-12-29 Microsoft Technology Licensing, Llc Pixel opacity for augmented reality
US8638498B2 (en) 2012-01-04 2014-01-28 David D. Bohn Eyebox adjustment for interpupillary distance
US9606586B2 (en) 2012-01-23 2017-03-28 Microsoft Technology Licensing, Llc Heat transfer device
US8810600B2 (en) 2012-01-23 2014-08-19 Microsoft Corporation Wearable display device calibration
US9368546B2 (en) 2012-02-15 2016-06-14 Microsoft Technology Licensing, Llc Imaging structure with embedded light sources
US9726887B2 (en) 2012-02-15 2017-08-08 Microsoft Technology Licensing, Llc Imaging structure color conversion
US9297996B2 (en) * 2012-02-15 2016-03-29 Microsoft Technology Licensing, Llc Laser illumination scanning
US9779643B2 (en) 2012-02-15 2017-10-03 Microsoft Technology Licensing, Llc Imaging structure emitter configurations
US9578318B2 (en) 2012-03-14 2017-02-21 Microsoft Technology Licensing, Llc Imaging structure emitter calibration
US11068049B2 (en) 2012-03-23 2021-07-20 Microsoft Technology Licensing, Llc Light guide display and field of view
US9558590B2 (en) 2012-03-28 2017-01-31 Microsoft Technology Licensing, Llc Augmented reality light guide display
US10191515B2 (en) 2012-03-28 2019-01-29 Microsoft Technology Licensing, Llc Mobile device light guide display
WO2013151747A1 (en) 2012-04-03 2013-10-10 Imax Corporation Color dependent aperture stop
US9717981B2 (en) 2012-04-05 2017-08-01 Microsoft Technology Licensing, Llc Augmented reality and physical games
US10502876B2 (en) 2012-05-22 2019-12-10 Microsoft Technology Licensing, Llc Waveguide optics focus elements
US8989535B2 (en) 2012-06-04 2015-03-24 Microsoft Technology Licensing, Llc Multiple waveguide imaging structure
US9170474B2 (en) * 2012-06-21 2015-10-27 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Efficient spatially modulated illumination system
US9072426B2 (en) 2012-08-02 2015-07-07 AccuVein, Inc Device for detecting and illuminating vasculature using an FPGA
US10376147B2 (en) 2012-12-05 2019-08-13 AccuVeiw, Inc. System and method for multi-color laser imaging and ablation of cancer cells using fluorescence
US10192358B2 (en) 2012-12-20 2019-01-29 Microsoft Technology Licensing, Llc Auto-stereoscopic augmented reality display
CA2901780C (en) 2013-03-15 2020-03-24 Imax Europe Sa Projector optimized for modulator diffraction effects
GB2515517A (en) * 2013-06-26 2014-12-31 Prp Optoelectronics Ltd A projection display system
US9967546B2 (en) 2013-10-29 2018-05-08 Vefxi Corporation Method and apparatus for converting 2D-images and videos to 3D for consumer, commercial and professional applications
US20150116458A1 (en) 2013-10-30 2015-04-30 Barkatech Consulting, LLC Method and apparatus for generating enhanced 3d-effects for real-time and offline appplications
CN104049326B (zh) * 2014-02-08 2015-12-09 武汉柏汉激光技术有限公司 半导体激光器阵列输出光束匀称化和光纤耦合系统
US10158847B2 (en) 2014-06-19 2018-12-18 Vefxi Corporation Real—time stereo 3D and autostereoscopic 3D video and image editing
US9304235B2 (en) 2014-07-30 2016-04-05 Microsoft Technology Licensing, Llc Microfabrication
US10254942B2 (en) 2014-07-31 2019-04-09 Microsoft Technology Licensing, Llc Adaptive sizing and positioning of application windows
US10678412B2 (en) 2014-07-31 2020-06-09 Microsoft Technology Licensing, Llc Dynamic joint dividers for application windows
US10592080B2 (en) 2014-07-31 2020-03-17 Microsoft Technology Licensing, Llc Assisted presentation of application windows
CN104267482A (zh) * 2014-10-31 2015-01-07 重庆卓美华视光电有限公司 一种用于柱镜式裸眼3d显示器装配及校验的治具
JP6300739B2 (ja) * 2015-01-20 2018-03-28 浜松ホトニクス株式会社 画像取得装置および画像取得方法
JP6539052B2 (ja) 2015-01-20 2019-07-03 浜松ホトニクス株式会社 画像取得装置および画像取得方法
US9429692B1 (en) 2015-02-09 2016-08-30 Microsoft Technology Licensing, Llc Optical components
US11086216B2 (en) 2015-02-09 2021-08-10 Microsoft Technology Licensing, Llc Generating electronic components
US9372347B1 (en) 2015-02-09 2016-06-21 Microsoft Technology Licensing, Llc Display system
US10018844B2 (en) 2015-02-09 2018-07-10 Microsoft Technology Licensing, Llc Wearable image display system
US9423360B1 (en) 2015-02-09 2016-08-23 Microsoft Technology Licensing, Llc Optical components
US9535253B2 (en) 2015-02-09 2017-01-03 Microsoft Technology Licensing, Llc Display system
US9513480B2 (en) 2015-02-09 2016-12-06 Microsoft Technology Licensing, Llc Waveguide
US9827209B2 (en) 2015-02-09 2017-11-28 Microsoft Technology Licensing, Llc Display system
US10317677B2 (en) 2015-02-09 2019-06-11 Microsoft Technology Licensing, Llc Display system
DE102015104085B4 (de) 2015-03-18 2024-03-28 Carl Zeiss Jena Gmbh Bildgebungseinrichtung und Vorrichtung zur Dateneinspiegelung
WO2017087033A1 (en) * 2015-11-20 2017-05-26 Duan-Jun Chen Auto stereoscopic three-dimensional panel display systems and methods supporting improved fidelity display to multiple simultaneous viewers
US10732414B2 (en) * 2016-08-17 2020-08-04 Microsoft Technology Licensing, Llc Scanning in optical systems
US10914954B2 (en) 2018-08-03 2021-02-09 Facebook Technologies, Llc Rainbow reduction for waveguide displays
US10845596B2 (en) * 2018-01-23 2020-11-24 Facebook Technologies, Llc Slanted surface relief grating for rainbow reduction in waveguide display
GB2573827B (en) * 2018-05-18 2021-04-14 Immobileyes Inc Laser Shield Device
US11131845B2 (en) 2018-08-01 2021-09-28 The Board Of Trustees Of The Leland Stanford Junior University High speed random access variable focusing and steering of a patterned line
CN109557662A (zh) * 2018-12-12 2019-04-02 无锡和晶科技股份有限公司 一种远距离导光以及光斑的方向和大小可控的显示方法
CN110745751B (zh) * 2019-09-06 2020-11-17 郑金凯 一种市政用井盖维护装置
CN114815561B (zh) 2021-01-19 2024-07-26 统雷有限公司 光学图像生成系统和生成光学图像的方法
CN114594575A (zh) * 2022-03-31 2022-06-07 歌尔光学科技有限公司 一种光学投影系统以及电子设备

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5459610A (en) 1992-04-28 1995-10-17 The Board Of Trustees Of The Leland Stanford, Junior University Deformable grating apparatus for modulating a light beam and including means for obviating stiction between grating elements and underlying substrate

Family Cites Families (344)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US25169A (en) * 1859-08-23 Shipper-gear for pulleys
USRE16767E (en) 1927-10-11 Charles prancis jenkins
US16767A (en) * 1857-03-03 Improved metallic roof
USRE16757E (en) * 1922-10-31 1927-10-04 knight
US1548262A (en) * 1924-07-02 1925-08-04 Freedman Albert Manufacture of bicolored spectacles
US1814701A (en) * 1930-05-31 1931-07-14 Perser Corp Method of making viewing gratings for relief or stereoscopic pictures
US2415226A (en) * 1943-11-29 1947-02-04 Rca Corp Method of and apparatus for producing luminous images
US2991690A (en) * 1953-09-04 1961-07-11 Polaroid Corp Stereoscopic lens-prism optical system
US2783406A (en) * 1954-02-09 1957-02-26 John J Vanderhooft Stereoscopic television means
USRE25169E (en) 1954-06-01 1962-05-15 Colored light system
US3553364A (en) * 1968-03-15 1971-01-05 Texas Instruments Inc Electromechanical light valve
US3576394A (en) * 1968-07-03 1971-04-27 Texas Instruments Inc Apparatus for display duration modulation
US3600798A (en) * 1969-02-25 1971-08-24 Texas Instruments Inc Process for fabricating a panel array of electromechanical light valves
BE757764A (fr) * 1969-10-21 1971-04-21 Itt Systeme d'exploration a l'etat solide
US3783184A (en) * 1972-03-08 1974-01-01 Hughes Aircraft Co Electronically switched field sequential color television
US3781465A (en) * 1972-03-08 1973-12-25 Hughes Aircraft Co Field sequential color television systems
US3802769A (en) * 1972-08-28 1974-04-09 Harris Intertype Corp Method and apparatus for unaided stereo viewing
US3862360A (en) * 1973-04-18 1975-01-21 Hughes Aircraft Co Liquid crystal display system with integrated signal storage circuitry
US3915548A (en) * 1973-04-30 1975-10-28 Hughes Aircraft Co Holographic lens and liquid crystal image source for head-up display
US4093346A (en) * 1973-07-13 1978-06-06 Minolta Camera Kabushiki Kaisha Optical low pass filter
US3886310A (en) * 1973-08-22 1975-05-27 Westinghouse Electric Corp Electrostatically deflectable light valve with improved diffraction properties
US3947105A (en) * 1973-09-21 1976-03-30 Technical Operations, Incorporated Production of colored designs
US3896338A (en) * 1973-11-01 1975-07-22 Westinghouse Electric Corp Color video display system comprising electrostatically deflectable light valves
US3969611A (en) * 1973-12-26 1976-07-13 Texas Instruments Incorporated Thermocouple circuit
US3943281A (en) * 1974-03-08 1976-03-09 Hughes Aircraft Company Multiple beam CRT for generating a multiple raster display
JPS5742849B2 (ja) * 1974-06-05 1982-09-10
US4001663A (en) * 1974-09-03 1977-01-04 Texas Instruments Incorporated Switching regulator power supply
US4100579A (en) * 1974-09-24 1978-07-11 Hughes Aircraft Company AC Operated flat panel liquid crystal display
US4020381A (en) * 1974-12-09 1977-04-26 Texas Instruments Incorporated Cathode structure for a multibeam cathode ray tube
US4090219A (en) * 1974-12-09 1978-05-16 Hughes Aircraft Company Liquid crystal sequential color display
US3935500A (en) * 1974-12-09 1976-01-27 Texas Instruments Incorporated Flat CRT system
US3935499A (en) * 1975-01-03 1976-01-27 Texas Instruments Incorporated Monolythic staggered mesh deflection systems for use in flat matrix CRT's
US4017158A (en) * 1975-03-17 1977-04-12 E. I. Du Pont De Nemours And Company Spatial frequency carrier and process of preparing same
US4006968A (en) * 1975-05-02 1977-02-08 Hughes Aircraft Company Liquid crystal dot color display
US4012116A (en) * 1975-05-30 1977-03-15 Personal Communications, Inc. No glasses 3-D viewer
US3991416A (en) * 1975-09-18 1976-11-09 Hughes Aircraft Company AC biased and resonated liquid crystal display
US4084437A (en) * 1975-11-07 1978-04-18 Texas Instruments Incorporated Thermocouple circuit
CH595664A5 (ja) * 1975-11-17 1978-02-15 Landis & Gyr Ag
US4184700A (en) * 1975-11-17 1980-01-22 Lgz Landis & Gyr Zug Ag Documents embossed with optical markings representing genuineness information
US4127322A (en) * 1975-12-05 1978-11-28 Hughes Aircraft Company High brightness full color image light valve projection system
CH594495A5 (ja) * 1976-05-04 1978-01-13 Landis & Gyr Ag
US4135502A (en) * 1976-09-07 1979-01-23 Donald Peck Stereoscopic patterns and method of making same
US4139257A (en) * 1976-09-28 1979-02-13 Canon Kabushiki Kaisha Synchronizing signal generator
US4067129A (en) * 1976-10-28 1978-01-10 Trans-World Manufacturing Corporation Display apparatus having means for creating a spectral color effect
CH604279A5 (ja) * 1976-12-21 1978-08-31 Landis & Gyr Ag
US4093922A (en) * 1977-03-17 1978-06-06 Texas Instruments Incorporated Microcomputer processing approach for a non-volatile TV station memory tuning system
US4093921A (en) * 1977-03-17 1978-06-06 Texas Instruments Incorporated Microcomputer processing approach for a non-volatile TV station memory tuning system
CH616253A5 (ja) * 1977-06-21 1980-03-14 Landis & Gyr Ag
US4185891A (en) * 1977-11-30 1980-01-29 Grumman Aerospace Corporation Laser diode collimation optics
US4205428A (en) * 1978-02-23 1980-06-03 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force Planar liquid crystal matrix array chip
CH622896A5 (ja) * 1978-03-20 1981-04-30 Landis & Gyr Ag
US4256787A (en) * 1978-05-03 1981-03-17 Massachusetts Institute Of Technology Orientation of ordered liquids and their use in devices
US4195915A (en) * 1978-05-05 1980-04-01 Hughes Aircraft Company Liquid crystal image projector system
US4225913A (en) * 1978-09-19 1980-09-30 Texas Instruments Incorporated Self-referencing power converter
US4338660A (en) * 1979-04-13 1982-07-06 Relational Memory Systems, Inc. Relational break signal generating device
US4343535A (en) * 1979-12-14 1982-08-10 Hughes Aircraft Company Liquid crystal light valve
US4311999A (en) * 1980-02-07 1982-01-19 Textron, Inc. Vibratory scan optical display
US4327966A (en) * 1980-02-25 1982-05-04 Bell Telephone Laboratories, Incorporated Variable attenuator for laser radiation
US4327411A (en) * 1980-03-04 1982-04-27 Bell Telephone Laboratories, Incorporated High capacity elastic store having continuously variable delay
JPS56158313A (en) * 1980-05-12 1981-12-07 Kokusai Denshin Denwa Co Ltd <Kdd> Sealing structure at lead-in part of optical fiber cable
US4454591A (en) * 1980-05-29 1984-06-12 Texas Instruments Incorporated Interface system for bus line control
US4418397A (en) * 1980-05-29 1983-11-29 Texas Instruments Incorporated Address decode system
US4447881A (en) * 1980-05-29 1984-05-08 Texas Instruments Incorporated Data processing system integrated circuit having modular memory add-on capacity
US4430584A (en) * 1980-05-29 1984-02-07 Texas Instruments Incorporated Modular input/output system
US4443845A (en) * 1980-06-26 1984-04-17 Texas Instruments Incorporated Memory system having a common interface
US4503494A (en) * 1980-06-26 1985-03-05 Texas Instruments Incorporated Non-volatile memory system
US4361384A (en) * 1980-06-27 1982-11-30 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army High luminance miniature display
US4420717A (en) * 1980-10-06 1983-12-13 Texas Instruments Incorporated Use of motor winding as integrator to generate sawtooth for switch mode current regulator
US4594501A (en) * 1980-10-09 1986-06-10 Texas Instruments Incorporated Pulse width modulation of printhead voltage
JPS57122981U (ja) * 1981-01-27 1982-07-31
US4440839A (en) * 1981-03-18 1984-04-03 United Technologies Corporation Method of forming laser diffraction grating for beam sampling device
US4374397A (en) * 1981-06-01 1983-02-15 Eastman Kodak Company Light valve devices and electronic imaging/scan apparatus with locationally-interlaced optical addressing
US4408884A (en) * 1981-06-29 1983-10-11 Rca Corporation Optical measurements of fine line parameters in integrated circuit processes
US4571603A (en) * 1981-11-03 1986-02-18 Texas Instruments Incorporated Deformable mirror electrostatic printer
US4571041A (en) * 1982-01-22 1986-02-18 Gaudyn Tad J Three dimensional projection arrangement
FR2527385B1 (fr) 1982-04-13 1987-05-22 Suwa Seikosha Kk Transistor a couche mince et panneau d'affichage a cristaux liquides utilisant ce type de transistor
US4484188A (en) * 1982-04-23 1984-11-20 Texas Instruments Incorporated Graphics video resolution improvement apparatus
US4468725A (en) * 1982-06-18 1984-08-28 Texas Instruments Incorporated Direct AC converter for converting a balanced AC polyphase input to an output voltage
US4492435A (en) * 1982-07-02 1985-01-08 Xerox Corporation Multiple array full width electro mechanical modulator
JPS59117876A (ja) * 1982-12-24 1984-07-07 Seiko Epson Corp パ−ソナル液晶映像表示器
EP0124302A3 (en) * 1983-04-06 1986-02-19 Texas Instruments Incorporated A.c. supply converter
US4655539A (en) * 1983-04-18 1987-04-07 Aerodyne Products Corporation Hologram writing apparatus and method
CH661683A5 (de) * 1983-09-19 1987-08-14 Landis & Gyr Ag Einrichtung zum praegen von reliefmustern hoher aufloesung.
US4561044A (en) * 1983-09-22 1985-12-24 Citizen Watch Co., Ltd. Lighting device for a display panel of an electronic device
US4809078A (en) 1983-10-05 1989-02-28 Casio Computer Co., Ltd. Liquid crystal television receiver
FR2553893B1 (fr) * 1983-10-19 1986-02-07 Texas Instruments France Procede et dispositif de detection d'une transition de la composante continue d'un signal periodique, notamment pour joncteur telephonique
JPS60127888A (ja) * 1983-12-15 1985-07-08 Citizen Watch Co Ltd 液晶表示装置
JPS60185918A (ja) * 1984-03-05 1985-09-21 Canon Inc 光変調方法
JPS60214684A (ja) * 1984-04-10 1985-10-26 Citizen Watch Co Ltd 液晶テレビ装置
CH664030A5 (de) 1984-07-06 1988-01-29 Landis & Gyr Ag Verfahren zur erzeugung eines makroskopischen flaechenmusters mit einer mikroskopischen struktur, insbesondere einer beugungsoptisch wirksamen struktur.
US4710732A (en) * 1984-07-31 1987-12-01 Texas Instruments Incorporated Spatial light modulator and method
US4566935A (en) * 1984-07-31 1986-01-28 Texas Instruments Incorporated Spatial light modulator and method
US4709995A (en) * 1984-08-18 1987-12-01 Canon Kabushiki Kaisha Ferroelectric display panel and driving method therefor to achieve gray scale
US4662746A (en) * 1985-10-30 1987-05-05 Texas Instruments Incorporated Spatial light modulator and method
US5096279A (en) 1984-08-31 1992-03-17 Texas Instruments Incorporated Spatial light modulator and method
US5061049A (en) 1984-08-31 1991-10-29 Texas Instruments Incorporated Spatial light modulator and method
US4596992A (en) * 1984-08-31 1986-06-24 Texas Instruments Incorporated Linear spatial light modulator and printer
JPS6188676A (ja) * 1984-10-05 1986-05-06 Citizen Watch Co Ltd 液晶テレビ装置
US4615595A (en) * 1984-10-10 1986-10-07 Texas Instruments Incorporated Frame addressed spatial light modulator
US5281957A (en) 1984-11-14 1994-01-25 Schoolman Scientific Corp. Portable computer and head mounted display
US4772094A (en) 1985-02-05 1988-09-20 Bright And Morning Star Optical stereoscopic system and prism window
DE3605516A1 (de) 1985-02-21 1986-09-04 Canon K.K., Tokio/Tokyo Optisches funktionselement sowie optische funktionsvorrichtung
US4866488A (en) 1985-03-29 1989-09-12 Texas Instruments Incorporated Ballistic transport filter and device
US4623219A (en) * 1985-04-15 1986-11-18 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy Real-time high-resolution 3-D large-screen display using laser-activated liquid crystal light valves
US4719507A (en) * 1985-04-26 1988-01-12 Tektronix, Inc. Stereoscopic imaging system with passive viewing apparatus
US4751509A (en) * 1985-06-04 1988-06-14 Nec Corporation Light valve for use in a color display unit with a diffraction grating assembly included in the valve
US4728185A (en) * 1985-07-03 1988-03-01 Texas Instruments Incorporated Imaging system
JPH0535388Y2 (ja) * 1985-07-29 1993-09-08
US5299037A (en) 1985-08-07 1994-03-29 Canon Kabushiki Kaisha Diffraction grating type liquid crystal display device in viewfinder
US5172262A (en) 1985-10-30 1992-12-15 Texas Instruments Incorporated Spatial light modulator and method
US4687326A (en) * 1985-11-12 1987-08-18 General Electric Company Integrated range and luminance camera
JPS62119521A (ja) * 1985-11-19 1987-05-30 Canon Inc 光学変調装置
US4811210A (en) 1985-11-27 1989-03-07 Texas Instruments Incorporated A plurality of optical crossbar switches and exchange switches for parallel processor computer
US4744633A (en) * 1986-02-18 1988-05-17 Sheiman David M Stereoscopic viewing system and glasses
US4803560A (en) 1986-02-21 1989-02-07 Casio Computer Co., Ltd. Liquid-crystal television receiver with cassette tape recorder
US4829365A (en) 1986-03-07 1989-05-09 Dimension Technologies, Inc. Autostereoscopic display with illuminating lines, light valve and mask
US4856869A (en) 1986-04-08 1989-08-15 Canon Kabushiki Kaisha Display element and observation apparatus having the same
GB2198867A (en) 1986-12-17 1988-06-22 Philips Electronic Associated A liquid crystal display illumination system
US4807965A (en) 1987-05-26 1989-02-28 Garakani Reza G Apparatus for three-dimensional viewing
US4814759A (en) 1987-07-08 1989-03-21 Clinicom Incorporated Flat panel display monitor apparatus
US4934773A (en) 1987-07-27 1990-06-19 Reflection Technology, Inc. Miniature video display system
US5003300A (en) 1987-07-27 1991-03-26 Reflection Technology, Inc. Head mounted display for miniature video display system
US4859012A (en) 1987-08-14 1989-08-22 Texas Instruments Incorporated Optical interconnection networks
US5142677A (en) 1989-05-04 1992-08-25 Texas Instruments Incorporated Context switching devices, systems and methods
US5155812A (en) 1989-05-04 1992-10-13 Texas Instruments Incorporated Devices and method for generating and using systems, software waitstates on address boundaries in data processing
US5072418A (en) 1989-05-04 1991-12-10 Texas Instruments Incorporated Series maxium/minimum function computing devices, systems and methods
US4797694A (en) 1987-09-23 1989-01-10 Eastman Kodak Company Scan-multiplexed light valve printer with band-reducing construction
US4801194A (en) 1987-09-23 1989-01-31 Eastman Kodak Company Multiplexed array exposing system having equi-angular scan exposure regions
US5024494A (en) 1987-10-07 1991-06-18 Texas Instruments Incorporated Focussed light source pointer for three dimensional display
HU197469B (en) 1987-10-23 1989-03-28 Laszlo Holakovszky Spectacle like, wearable on head stereoscopic reproductor of the image
US5155604A (en) 1987-10-26 1992-10-13 Van Leer Metallized Products (Usa) Limited Coated paper sheet embossed with a diffraction or holographic pattern
US4952925A (en) 1988-01-25 1990-08-28 Bernd Haastert Projectable passive liquid-crystal flat screen information centers
US4956619A (en) 1988-02-19 1990-09-11 Texas Instruments Incorporated Spatial light modulator
EP0330738B1 (de) 1988-03-03 1991-11-13 Landis &amp; Gyr Betriebs AG Dokument
JPH01265293A (ja) 1988-04-15 1989-10-23 Sharp Corp 小型表示装置
JPH01296214A (ja) 1988-05-25 1989-11-29 Canon Inc 表示装置
US4827391A (en) 1988-06-01 1989-05-02 Texas Instruments Incorporated Apparatus for implementing output voltage slope in current mode controlled power supplies
JPH01306886A (ja) 1988-06-03 1989-12-11 Canon Inc 体積位相型回折格子
JP2585717B2 (ja) 1988-06-03 1997-02-26 キヤノン株式会社 表示装置
US4856863A (en) 1988-06-22 1989-08-15 Texas Instruments Incorporated Optical fiber interconnection network including spatial light modulator
US5048077A (en) 1988-07-25 1991-09-10 Reflection Technology, Inc. Telephone handset with full-page visual display
US5028939A (en) 1988-08-23 1991-07-02 Texas Instruments Incorporated Spatial light modulator system
US5058992A (en) 1988-09-07 1991-10-22 Toppan Printing Co., Ltd. Method for producing a display with a diffraction grating pattern and a display produced by the method
ATE98795T1 (de) 1988-09-30 1994-01-15 Landis & Gyr Business Support Beugungselement.
US4915463A (en) 1988-10-18 1990-04-10 The United States Of America As Represented By The Department Of Energy Multilayer diffraction grating
JPH07121097B2 (ja) 1988-11-18 1995-12-20 株式会社日立製作所 液晶テレビおよびその製造方法
US4982184A (en) 1989-01-03 1991-01-01 General Electric Company Electrocrystallochromic display and element
US5287096A (en) 1989-02-27 1994-02-15 Texas Instruments Incorporated Variable luminosity display system
US5170156A (en) 1989-02-27 1992-12-08 Texas Instruments Incorporated Multi-frequency two dimensional display system
KR100202246B1 (ko) 1989-02-27 1999-06-15 윌리엄 비. 켐플러 디지탈화 비디오 시스템을 위한 장치 및 방법
US5446479A (en) 1989-02-27 1995-08-29 Texas Instruments Incorporated Multi-dimensional array video processor system
US5079544A (en) 1989-02-27 1992-01-07 Texas Instruments Incorporated Standard independent digitized video system
US5206629A (en) 1989-02-27 1993-04-27 Texas Instruments Incorporated Spatial light modulator and memory for digitized video display
US5214419A (en) 1989-02-27 1993-05-25 Texas Instruments Incorporated Planarized true three dimensional display
US5192946A (en) 1989-02-27 1993-03-09 Texas Instruments Incorporated Digitized color video display system
US5128660A (en) 1989-02-27 1992-07-07 Texas Instruments Incorporated Pointer for three dimensional display
US5162787A (en) 1989-02-27 1992-11-10 Texas Instruments Incorporated Apparatus and method for digitized video system utilizing a moving display surface
US5214420A (en) 1989-02-27 1993-05-25 Texas Instruments Incorporated Spatial light modulator projection system with random polarity light
US5272473A (en) 1989-02-27 1993-12-21 Texas Instruments Incorporated Reduced-speckle display system
US4978202A (en) 1989-05-12 1990-12-18 Goldstar Co., Ltd. Laser scanning system for displaying a three-dimensional color image
US5060058A (en) 1989-06-07 1991-10-22 U.S. Philips Corporation Modulation system for projection display
US5022750A (en) 1989-08-11 1991-06-11 Raf Electronics Corp. Active matrix reflective projection system
JPH0343682U (ja) 1989-09-06 1991-04-24
GB8921722D0 (en) 1989-09-26 1989-11-08 British Telecomm Micromechanical switch
US4954789A (en) 1989-09-28 1990-09-04 Texas Instruments Incorporated Spatial light modulator
JP2508387B2 (ja) 1989-10-16 1996-06-19 凸版印刷株式会社 回折格子パタ―ンを有するディスプレイの作製方法
US5037173A (en) 1989-11-22 1991-08-06 Texas Instruments Incorporated Optical interconnection network
US5142303A (en) 1989-12-21 1992-08-25 Texas Instruments Incorporated Printing system exposure module optic structure and method of operation
US5101236A (en) 1989-12-21 1992-03-31 Texas Instruments Incorporated Light energy control system and method of operation
US5072239A (en) 1989-12-21 1991-12-10 Texas Instruments Incorporated Spatial light modulator exposure unit and method of operation
US5105369A (en) 1989-12-21 1992-04-14 Texas Instruments Incorporated Printing system exposure module alignment method and apparatus of manufacture
US5237340A (en) 1989-12-21 1993-08-17 Texas Instruments Incorporated Replaceable elements for xerographic printing process and method of operation
US5041851A (en) 1989-12-21 1991-08-20 Texas Instruments Incorporated Spatial light modulator printer and method of operation
DE4001448C1 (ja) 1990-01-19 1991-07-11 Mercedes-Benz Aktiengesellschaft, 7000 Stuttgart, De
JPH03217814A (ja) 1990-01-24 1991-09-25 Canon Inc 液晶プロジェクター
US5113272A (en) 1990-02-12 1992-05-12 Raychem Corporation Three dimensional semiconductor display using liquid crystal
US5121231A (en) 1990-04-06 1992-06-09 University Of Southern California Incoherent/coherent multiplexed holographic recording for photonic interconnections and holographic optical elements
US5296891A (en) 1990-05-02 1994-03-22 Fraunhofer-Gesellschaft Zur Forderung Der Angewandten Forschung E.V. Illumination device
US5291473A (en) 1990-06-06 1994-03-01 Texas Instruments Incorporated Optical storage media light beam positioning system
US5165013A (en) 1990-09-26 1992-11-17 Faris Sadeg M 3-D stereo pen plotter
US5502481A (en) 1992-11-16 1996-03-26 Reveo, Inc. Desktop-based projection display system for stereoscopic viewing of displayed imagery over a wide field of view
JP2622185B2 (ja) 1990-06-28 1997-06-18 シャープ株式会社 カラー液晶表示装置
US5099353A (en) 1990-06-29 1992-03-24 Texas Instruments Incorporated Architecture and process for integrating DMD with control circuit substrates
US5216537A (en) 1990-06-29 1993-06-01 Texas Instruments Incorporated Architecture and process for integrating DMD with control circuit substrates
US5142405A (en) 1990-06-29 1992-08-25 Texas Instruments Incorporated Bistable dmd addressing circuit and method
DE69113150T2 (de) 1990-06-29 1996-04-04 Texas Instruments Inc Deformierbare Spiegelvorrichtung mit aktualisiertem Raster.
US5018256A (en) 1990-06-29 1991-05-28 Texas Instruments Incorporated Architecture and process for integrating DMD with control circuit substrates
US5083857A (en) 1990-06-29 1992-01-28 Texas Instruments Incorporated Multi-level deformable mirror device
US5291317A (en) 1990-07-12 1994-03-01 Applied Holographics Corporation Holographic diffraction grating patterns and methods for creating the same
US5121343A (en) 1990-07-19 1992-06-09 Faris Sadeg M 3-D stereo computer output printer
GB2249450A (en) 1990-09-05 1992-05-06 Marconi Gec Ltd A display arrangement including linear array of light emitting elements
US5182665A (en) 1990-09-07 1993-01-26 Displaytech, Inc. Diffractive light modulator
US5148157A (en) 1990-09-28 1992-09-15 Texas Instruments Incorporated Spatial light modulator with full complex light modulation capability
US5113285A (en) 1990-09-28 1992-05-12 Honeywell Inc. Full color three-dimensional flat panel display
US5331454A (en) 1990-11-13 1994-07-19 Texas Instruments Incorporated Low reset voltage process for DMD
US5231363A (en) 1990-11-26 1993-07-27 Texas Instruments Incorporated Pulse width modulating producing signals centered in each cycle interval
US5181231A (en) 1990-11-30 1993-01-19 Texas Instruments, Incorporated Non-volatile counting method and apparatus
US5172161A (en) 1990-12-31 1992-12-15 Texas Instruments Incorporated Unibody printing system and process
US5159485A (en) 1990-12-31 1992-10-27 Texas Instruments Incorporated System and method for uniformity of illumination for tungsten light
US5151718A (en) 1990-12-31 1992-09-29 Texas Instruments Incorporated System and method for solid state illumination for dmd devices
US5105299A (en) 1990-12-31 1992-04-14 Texas Instruments Incorporated Unfolded optics for multiple row deformable mirror device
US5105207A (en) 1990-12-31 1992-04-14 Texas Instruments Incorporated System and method for achieving gray scale DMD operation
CA2060057C (en) 1991-01-29 1997-12-16 Susumu Takahashi Display having diffraction grating pattern
US5178728A (en) 1991-03-28 1993-01-12 Texas Instruments Incorporated Integrated-optic waveguide devices and method
CA2063744C (en) 1991-04-01 2002-10-08 Paul M. Urbanus Digital micromirror device architecture and timing for use in a pulse-width modulated display system
US5347378A (en) 1991-04-04 1994-09-13 Displaytech, Inc. Fast switching color filters for frame-sequential video using ferroelectric liquid crystal color-selective filters
US5148506A (en) 1991-04-26 1992-09-15 Texas Instruments Incorporated Optical crossbar switch
US5226099A (en) 1991-04-26 1993-07-06 Texas Instruments Incorporated Digital micromirror shutter device
US5170269A (en) 1991-05-31 1992-12-08 Texas Instruments Incorporated Programmable optical interconnect system
US5299289A (en) 1991-06-11 1994-03-29 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Polymer dispersed liquid crystal panel with diffraction grating
US5155778A (en) 1991-06-28 1992-10-13 Texas Instruments Incorporated Optical switch using spatial light modulators
US5221982A (en) 1991-07-05 1993-06-22 Faris Sadeg M Polarizing wavelength separator
US5179274A (en) 1991-07-12 1993-01-12 Texas Instruments Incorporated Method for controlling operation of optical systems and devices
US5287215A (en) 1991-07-17 1994-02-15 Optron Systems, Inc. Membrane light modulation systems
US5170283A (en) 1991-07-24 1992-12-08 Northrop Corporation Silicon spatial light modulator
US5168406A (en) 1991-07-31 1992-12-01 Texas Instruments Incorporated Color deformable mirror device and method for manufacture
US5240818A (en) 1991-07-31 1993-08-31 Texas Instruments Incorporated Method for manufacturing a color filter for deformable mirror device
CA2075026A1 (en) 1991-08-08 1993-02-09 William E. Nelson Method and apparatus for patterning an imaging member
US5418546A (en) * 1991-08-20 1995-05-23 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Visual display system and exposure control apparatus
US5245686A (en) 1991-09-06 1993-09-14 Faris Sadeg M Method of fabricating an image plane translator device and apparatus incorporating such device
US5255100A (en) 1991-09-06 1993-10-19 Texas Instruments Incorporated Data formatter with orthogonal input/output and spatial reordering
US5307056A (en) 1991-09-06 1994-04-26 Texas Instruments Incorporated Dynamic memory allocation for frame buffer for spatial light modulator
US5254980A (en) 1991-09-06 1993-10-19 Texas Instruments Incorporated DMD display system controller
CA2081753C (en) 1991-11-22 2002-08-06 Jeffrey B. Sampsell Dmd scanner
US5231432A (en) 1991-12-03 1993-07-27 Florida Atlantic University Projector utilizing liquid crystal light-valve and color selection by diffraction
DE69231194T2 (de) 1991-12-05 2001-02-15 Texas Instruments Inc., Dallas Verfahren zur Verbesserung eines Videosignals
US5231388A (en) 1991-12-17 1993-07-27 Texas Instruments Incorporated Color display system using spatial light modulators
US5212555A (en) 1991-12-17 1993-05-18 Texas Instruments Incorporated Image capture with spatial light modulator and single-cell photosensor
US5311349A (en) 1991-12-18 1994-05-10 Texas Instruments Incorporated Unfolded optics for multiple row spatial light modulators
US5247593A (en) 1991-12-18 1993-09-21 Texas Instruments Incorporated Programmable optical crossbar switch
US5233456A (en) 1991-12-20 1993-08-03 Texas Instruments Incorporated Resonant mirror and method of manufacture
CA2084923A1 (en) 1991-12-20 1993-06-21 Ronald E. Stafford Slm spectrometer
US5202785A (en) 1991-12-20 1993-04-13 Texas Instruments Incorporated Method and device for steering light
CA2085961A1 (en) 1991-12-23 1993-06-24 William E. Nelson Method and apparatus for steering light
US5247180A (en) 1991-12-30 1993-09-21 Texas Instruments Incorporated Stereolithographic apparatus and method of use
US5285407A (en) 1991-12-31 1994-02-08 Texas Instruments Incorporated Memory circuit for spatial light modulator
US5189548A (en) * 1991-12-31 1993-02-23 Xerox Corporation Electrooptic TIR light modulator image bar having multiple electrodes per pixel
US5296950A (en) 1992-01-31 1994-03-22 Texas Instruments Incorporated Optical signal free-space conversion board
US5504514A (en) 1992-02-13 1996-04-02 Texas Instruments Incorporated System and method for solid state illumination for spatial light modulators
US5212582A (en) 1992-03-04 1993-05-18 Texas Instruments Incorporated Electrostatically controlled beam steering device and method
DE69310974T2 (de) 1992-03-25 1997-11-06 Texas Instruments Inc Eingebautes optisches Eichsystem
US5312513A (en) 1992-04-03 1994-05-17 Texas Instruments Incorporated Methods of forming multiple phase light modulators
US5319214A (en) 1992-04-06 1994-06-07 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army Infrared image projector utilizing a deformable mirror device spatial light modulator
GB9208705D0 (en) 1992-04-22 1992-07-22 Smiths Industries Plc Head-mounted display assemblies
US5459592A (en) 1992-04-24 1995-10-17 Sharp Kabushiki Kaisha Projection display system including a collimating tapered waveguide or lens with the normal to optical axis angle increasing toward the lens center
GB2267579A (en) 1992-05-15 1993-12-08 Sharp Kk Optical device comprising facing lenticular or parallax screens of different pitch
US5307185A (en) 1992-05-19 1994-04-26 Raychem Corporation Liquid crystal projection display with complementary color dye added to longest wavelength imaging element
US5347433A (en) 1992-06-11 1994-09-13 Sedlmayr Steven R Collimated beam of light and systems and methods for implementation thereof
US5315418A (en) 1992-06-17 1994-05-24 Xerox Corporation Two path liquid crystal light valve color display with light coupling lens array disposed along the red-green light path
US5486841A (en) 1992-06-17 1996-01-23 Sony Corporation Glasses type display apparatus
US5256869A (en) 1992-06-30 1993-10-26 Texas Instruments Incorporated Free-space optical interconnection using deformable mirror device
US5430524A (en) 1992-07-22 1995-07-04 Texas Instruments Incorporated Unibody printing and copying system and process
US5321416A (en) 1992-07-27 1994-06-14 Virtual Research Systems Head-mounted visual display apparatus
US5313479A (en) 1992-07-29 1994-05-17 Texas Instruments Incorporated Speckle-free display system using coherent light
US5327286A (en) 1992-08-31 1994-07-05 Texas Instruments Incorporated Real time optical correlation system
US5348619A (en) 1992-09-03 1994-09-20 Texas Instruments Incorporated Metal selective polymer removal
US5325116A (en) 1992-09-18 1994-06-28 Texas Instruments Incorporated Device for writing to and reading from optical storage media
GB9220412D0 (en) 1992-09-28 1992-11-11 Texas Instruments Holland Transponder systems for automatic identification purposes
US5285196A (en) 1992-10-15 1994-02-08 Texas Instruments Incorporated Bistable DMD addressing method
US5289172A (en) 1992-10-23 1994-02-22 Texas Instruments Incorporated Method of mitigating the effects of a defective electromechanical pixel
GB2272555A (en) 1992-11-11 1994-05-18 Sharp Kk Stereoscopic display using a light modulator
EP0599375B1 (de) 1992-11-20 1999-03-03 Ascom Tech Ag Lichtmodulator
US5450088A (en) 1992-11-25 1995-09-12 Texas Instruments Deutschland Gmbh Transponder arrangement
US5410315A (en) 1992-12-08 1995-04-25 Texas Instruments Incorporated Group-addressable transponder arrangement
US5420655A (en) 1992-12-16 1995-05-30 North American Philips Corporation Color projection system employing reflective display devices and prism illuminators
JPH06260470A (ja) 1992-12-16 1994-09-16 Texas Instr Inc <Ti> パターンに作成された金属層の清浄化法
US5357369A (en) 1992-12-21 1994-10-18 Geoffrey Pilling Wide-field three-dimensional viewing system
US5418584A (en) 1992-12-31 1995-05-23 Honeywell Inc. Retroreflective array virtual image projection screen
US5371618A (en) 1993-01-05 1994-12-06 Brite View Technologies Color liquid crystal display employing dual cells driven with an EXCLUSIVE OR relationship
AU5306494A (en) 1993-01-08 1994-07-14 Richard A Vasichek Magnetic keeper accessory for wrench sockets
US5371543A (en) 1993-03-03 1994-12-06 Texas Instruments Incorporated Monolithic color wheel
US5404485A (en) 1993-03-08 1995-04-04 M-Systems Flash Disk Pioneers Ltd. Flash file system
US5293511A (en) 1993-03-16 1994-03-08 Texas Instruments Incorporated Package for a semiconductor device
US5455602A (en) 1993-03-29 1995-10-03 Texas Instruments Incorporated Combined modulation schemes for spatial light modulators
US5435876A (en) 1993-03-29 1995-07-25 Texas Instruments Incorporated Grid array masking tape process
US5461411A (en) 1993-03-29 1995-10-24 Texas Instruments Incorporated Process and architecture for digital micromirror printer
US5461410A (en) 1993-03-29 1995-10-24 Texas Instruments Incorporated Gray scale printing using spatial light modulators
US5451103A (en) 1993-04-06 1995-09-19 Sony Corporation Projector system
US5539422A (en) 1993-04-12 1996-07-23 Virtual Vision, Inc. Head mounted display system
US5321450A (en) 1993-05-11 1994-06-14 Proxima Corporation Low profile liquid crystal projector and method of using same
US5485172A (en) 1993-05-21 1996-01-16 Sony Corporation Automatic image regulating arrangement for head-mounted image display apparatus
KR970003007B1 (ko) 1993-05-21 1997-03-13 대우전자 주식회사 투사형 화상표시장치용 광로조절장치 및 그 구동방법
US5445559A (en) 1993-06-24 1995-08-29 Texas Instruments Incorporated Wafer-like processing after sawing DMDs
US5491715A (en) 1993-06-28 1996-02-13 Texas Instruments Deutschland Gmbh Automatic antenna tuning method and circuit
US5453747A (en) 1993-06-28 1995-09-26 Texas Instruments Deutschland Gmbh Transponder systems for automatic identification purposes
US5345521A (en) 1993-07-12 1994-09-06 Texas Instrument Incorporated Architecture for optical switch
US5489952A (en) 1993-07-14 1996-02-06 Texas Instruments Incorporated Method and device for multi-format television
US5365283A (en) 1993-07-19 1994-11-15 Texas Instruments Incorporated Color phase control for projection display using spatial light modulator
US5461547A (en) 1993-07-20 1995-10-24 Precision Lamp, Inc. Flat panel display lighting system
US5510824A (en) 1993-07-26 1996-04-23 Texas Instruments, Inc. Spatial light modulator array
US5453778A (en) 1993-07-30 1995-09-26 Texas Instruments Incorporated Method and apparatus for spatial modulation in the cross-process direction
US5389182A (en) 1993-08-02 1995-02-14 Texas Instruments Incorporated Use of a saw frame with tape as a substrate carrier for wafer level backend processing
US5459492A (en) 1993-08-30 1995-10-17 Texas Instruments Incorporated Method and apparatus for printing stroke and contone data together
US5485354A (en) 1993-09-09 1996-01-16 Precision Lamp, Inc. Flat panel display lighting system
EP0657760A1 (en) 1993-09-15 1995-06-14 Texas Instruments Incorporated Image simulation and projection system
US5457493A (en) 1993-09-15 1995-10-10 Texas Instruments Incorporated Digital micro-mirror based image simulation system
KR970003466B1 (ko) 1993-09-28 1997-03-18 대우전자 주식회사 투사형 화상 표시 장치의 광로 조절 장치 제조 방법
US5347321A (en) 1993-09-30 1994-09-13 Texas Instruments Incorporated Color separator for digital television
US5497197A (en) 1993-11-04 1996-03-05 Texas Instruments Incorporated System and method for packaging data into video processor
US5367585A (en) 1993-10-27 1994-11-22 General Electric Company Integrated microelectromechanical polymeric photonic switch
US5452024A (en) 1993-11-01 1995-09-19 Texas Instruments Incorporated DMD display system
US5398071A (en) 1993-11-02 1995-03-14 Texas Instruments Incorporated Film-to-video format detection for digital television
CA2134370A1 (en) 1993-11-04 1995-05-05 Robert J. Gove Video data formatter for a digital television system
US5450219A (en) 1993-11-17 1995-09-12 Hughes Aircraft Company Raster following telecentric illumination scanning system for enhancing light throughout in light valve projection systems
US5517347A (en) 1993-12-01 1996-05-14 Texas Instruments Incorporated Direct view deformable mirror device
US5491510A (en) 1993-12-03 1996-02-13 Texas Instruments Incorporated System and method for simultaneously viewing a scene and an obscured object
US5442411A (en) 1994-01-03 1995-08-15 Texas Instruments Incorporated Displaying video data on a spatial light modulator with line doubling
US5499060A (en) 1994-01-04 1996-03-12 Texas Instruments Incorporated System and method for processing video data
US5448314A (en) 1994-01-07 1995-09-05 Texas Instruments Method and apparatus for sequential color imaging
CA2139794C (en) 1994-01-18 2006-11-07 Robert John Gove Frame pixel data generation
US5500761A (en) 1994-01-27 1996-03-19 At&T Corp. Micromechanical modulator
US5467106A (en) 1994-02-10 1995-11-14 Hughes-Avicom International, Inc. Retractable face-up LCD monitor with off-monitor power supply and back-EMF braking
US5412186A (en) 1994-02-23 1995-05-02 Texas Instruments Incorporated Elimination of sticking of micro-mechanical devices
US5444566A (en) 1994-03-07 1995-08-22 Texas Instruments Incorporated Optimized electronic operation of digital micromirror devices
US5447600A (en) 1994-03-21 1995-09-05 Texas Instruments Polymeric coatings for micromechanical devices
US5459528A (en) 1994-03-31 1995-10-17 Texas Instruments Incorporated Video signal processor and method for secondary images
US5467146A (en) 1994-03-31 1995-11-14 Texas Instruments Incorporated Illumination control unit for display system with spatial light modulator
US5486698A (en) 1994-04-19 1996-01-23 Texas Instruments Incorporated Thermal imaging system with integrated thermal chopper
US5512374A (en) 1994-05-09 1996-04-30 Texas Instruments Incorporated PFPE coatings for micro-mechanical devices
US5442414A (en) 1994-05-10 1995-08-15 U. S. Philips Corporation High contrast illumination system for video projector
US5458716A (en) 1994-05-25 1995-10-17 Texas Instruments Incorporated Methods for manufacturing a thermally enhanced molded cavity package having a parallel lid
US5497172A (en) 1994-06-13 1996-03-05 Texas Instruments Incorporated Pulse width modulation for spatial light modulator with split reset addressing
US5521748A (en) 1994-06-16 1996-05-28 Eastman Kodak Company Light modulator with a laser or laser array for exposing image data
US5454906A (en) 1994-06-21 1995-10-03 Texas Instruments Inc. Method of providing sacrificial spacer for micro-mechanical devices
US5482564A (en) 1994-06-21 1996-01-09 Texas Instruments Incorporated Method of unsticking components of micro-mechanical devices
US5499062A (en) 1994-06-23 1996-03-12 Texas Instruments Incorporated Multiplexed memory timing with block reset and secondary memory
US5523878A (en) 1994-06-30 1996-06-04 Texas Instruments Incorporated Self-assembled monolayer coating for micro-mechanical devices
US5504504A (en) 1994-07-13 1996-04-02 Texas Instruments Incorporated Method of reducing the visual impact of defects present in a spatial light modulator display
US5512748A (en) 1994-07-26 1996-04-30 Texas Instruments Incorporated Thermal imaging system with a monolithic focal plane array and method
US5485304A (en) 1994-07-29 1996-01-16 Texas Instruments, Inc. Support posts for micro-mechanical devices
US5483307A (en) 1994-09-29 1996-01-09 Texas Instruments, Inc. Wide field of view head-mounted display
US5490009A (en) 1994-10-31 1996-02-06 Texas Instruments Incorporated Enhanced resolution for digital micro-mirror displays
US5519450A (en) 1994-11-14 1996-05-21 Texas Instruments Incorporated Graphics subsystem for digital television
US5516125A (en) 1994-11-30 1996-05-14 Texas Instruments Incorporated Baffled collet for vacuum pick-up of a semiconductor die
US5463347A (en) 1994-12-12 1995-10-31 Texas Instruments Incorporated MOS uni-directional, differential voltage amplifier capable of amplifying signals having input common-mode voltage beneath voltage of lower supply and integrated circuit substrate
US5486946A (en) 1994-12-21 1996-01-23 Motorola Integrated electro-optic package for reflective spatial light modulators
US5668611A (en) 1994-12-21 1997-09-16 Hughes Electronics Full color sequential image projection system incorporating pulse rate modulated illumination
US5524155A (en) 1995-01-06 1996-06-04 Texas Instruments Incorporated Demultiplexer for wavelength-multiplexed optical signal
US5517359A (en) 1995-01-23 1996-05-14 Gelbart; Daniel Apparatus for imaging light from a laser diode onto a multi-channel linear light valve
US5517340A (en) 1995-01-30 1996-05-14 International Business Machines Corporation High performance projection display with two light valves
US5504614A (en) 1995-01-31 1996-04-02 Texas Instruments Incorporated Method for fabricating a DMD spatial light modulator with a hardened hinge
US5508750A (en) 1995-02-03 1996-04-16 Texas Instruments Incorporated Encoding data converted from film format for progressive display
US5841579A (en) * 1995-06-07 1998-11-24 Silicon Light Machines Flat diffraction grating light valve
US5742373A (en) 1995-10-13 1998-04-21 Massachusetts Institute Of Technology Color microdisplays and methods of manufacturing same

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5459610A (en) 1992-04-28 1995-10-17 The Board Of Trustees Of The Leland Stanford, Junior University Deformable grating apparatus for modulating a light beam and including means for obviating stiction between grating elements and underlying substrate

Also Published As

Publication number Publication date
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US5982553A (en) 1999-11-09
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WO1998041893A1 (en) 1998-09-24

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