KR100342110B1 - 일차원 고속 격자 광-밸브 어레이가 내장된 디스플레이 장치 - Google Patents

일차원 고속 격자 광-밸브 어레이가 내장된 디스플레이 장치 Download PDF

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Abstract

본 발명은 2차원 이미지를 제공하기 위한 디스플레이 시스템에 관한 것으로, 1차원 광밸브 어레이를 포함한다. 회절 광밸브 어레이는 입사광을 대표되는 이미지 엘리먼트에 의해 한정되는 정도로 회절 또는 반사시키는 변조 엘리먼트를 구비한다. 디스플레이 시스템은 광밸브 어레이로부터의 회절광이 확대 렌즈를 통과하고 어레이로부터의 반사광으로부터 분리되도록 배치된다. 회절광에 의해 형성된 확대된 허상은 확대 렌즈를 통해 뷰잉된다. 뷰어와 확대 렌즈 사이의 스캔 장치는 뷰어가 스캔닝된 이미지를 2차원 이미지로 인식하기에 충분하도록 빠르게 뷰어의 시야에 광밸브 어레이의 이미지를 스캐닝한다. 다른 장치에서, 인쇄기는 인쇄 또는 기록 매체상의 회절 광밸브 어레이의 실상을 스캐닝함으로써 형성된다.

Description

일차원 고속 격자 광-밸브 어레이가 내장된 디스플레이 장치{DISPLAY DEVICE INCORPORATING ONE-DIMENSIONAL HIGH-SPEED GRATING LIGHT VALVE ARRAY}
소형 디스플레이 장치는 비디오 시뮬레이션 응용에 대한 휴대용 디스플레이와 같은 응용에 특히 유용하다. 본 명세서에서 소형 디스플레이는 유효한 광학 확대 장치를 필요로 하는 충분히 작은 디스플레이일 것으로 이해된다. 이러한 디스플레이의 이점은 전력소모가 적고, 확대된 소형 디스플레이의 외관 크기와 동일한 실제 크기를 가지는 통상적인 디스플레이보다 공간을 덜 점유한다는 것이다.
이러한 소형 디스플레이는 보호안경이나 다른 안경류내에 내장될 수 있는 충분히 작은 것일 수 있다. 이것은 주로 컴퓨터와 "가상 현실" 대화로서 불리는 디스플레이된 환경에서 사용자를 완전히 몰입시키는데 사용될 수 있다. 이러한 디스플레이는 디스플레이에 의해 전달되는 정보에 추가하여 사용자가 사용자의 실제 환경을 볼 수 있도록 하는 보조 디스플레이로서 착용될 수 있다. 이러한 보조 디스플레이는 예를 들어 전화 교환원이나 항공권 판매자용 디스플레이로서 유용할 수 있다. 이러한 디스플레이를 착용하는 것은 사용자가 다른 활동을 수행하기 위해 주위를 자유롭게 이동하면서 디스플레이에 대해 호환가능한 고정된 관측을 유지할 수 있도록 한다.
미국특허 제 4,934,773호는 발광 다이오드(LED), 확대렌즈, 및 진동 거울이 관측될 수 있는 개구를 가지는 광 기밀 박스의 진동 거울과 같은 적어도 일렬의 발광소자를 포함하는 소형 풀-페이지 비디오 디스플레이를 개시하고 있다. LED는 진동 거울의 이동시에 포인트에 선택적으로 조사되며, 그 결과 화소 또는 이미지 소자의 열들이 2차원 이미지를 제공하기 위해 거울상에 선택된 포인트에 투사된다. 이러한 소형 디스플레이를 내장한 헤드 장착 디스플레이 시스템은 미국특허 제 5,003,300호에 개시되어 있다.
이러한 발광장치의 열은 일반적으로 마이크로칩-레이저 어레이로 불리는 단일 반도체 칩상에 형성될 수 있다. 발광장치용의 관련 구동 회로(각 발광장치에 대해 하나)는 동일 칩상에 형성될 수 있다. '773 특허에서는 발광장치의 2개이상의 열(각 열은 상이한 칼라광원을 방출함)을 사용함으로써, 칼라 디스플레이가 달성될 수 있다는 것이 개시되어 있다.
상기한 특허들에 개시된 디스플레이 장치는 진동 거울의 주사 작용에 의해, 발광 장치의 단일 열이 동일한 해상도의 실제 2차원 디스플레이를 제공하는 것이 필요할 때 이렇게 많은 발광장치의 열들의 작용을 수행할 수 있다는 이점을 제공한다. 이것은 장치 복잡성 및 비용의 상당한 감소를 제공한다. 그러나, 이러한 장치의 유용성은 각 발광장치가 변조될 수 있는 속도에 의해 제한된다. 더욱이, LED 및 단부-발광 반도체 레이저 장치의 물리적 크기는 이러한 장치의 도달가능한 해상도를 제한한다.
소형 디스플레이 장치의 기술적인 진보에도 불구하고, 특히 고해상도 및 저전력소모 방향으로 이러한 장치의 추가 개선이 요구되고 있다.
본 발명은 소형 디스플레이 장치에 관한 것이다. 특히 광을 회절시키거나 반사시키는 고속 광-밸브의 선형 어레이상에 광이 입사하는 소형 디스플레이 장치에 관한 것이며, 회절된 광은 확대 광학장치 및 기계적 주사 장치를 통해 관측자로 지향되며, 주사 장치는 광-밸브로부터 회절된 광이 2차원 이미지로서 관측자에게 나타나도록 한다.
도 1은 본 발명에 따른 디스플레이 시스템에 사용하기에 적합한 종래의 반사/회절 격자 광-밸브 어레이에 대한 일례의 일부분을 개략적으로 기술하는 부분 사시도이다.
도 2a는 반사기로서 동작하는 도 1의 격자 광-밸브 어레이 부분의 동작 상태를 개략적으로 기술하는 단면도이다.
도 2b는 반사기로서 동작하는 어레이 부분을 가진 격자 광-밸브 어레이의 다른 예의 일부 동작 상태를 개략적으로 기술하는 단면도이다.
도 3a는 회절 격자로서 동작하는 도 1의 격자 광-밸브 어레이의 부분에 대한 동작상태를 개략적으로 기술하는 단면도이다.
도 3b는 회절 격자로서 동작하는 도 2b의 격자 광-밸브 어레이 부분에 대한 동작상태를 개략적으로 기술하는 단면도이다.
도 4는 본 발명에 따른 디스플레이 시스템의 바람직한 실시예를 개략적으로 기술하는 단면도이며, 여기에 기술된 디스플레이 시스템은 광이 반사 격자 광-밸브 어레이(GLV)상에 입사되도록 하는 조사 장치, 확대 접안렌즈, GLV로부터 반사된 광과 GLV로부터 회절된 광을 분리하는 출사동 조리개 및 분리된 회절광을 관측자의 관측 시야에 주사하는 주사 거울을 포함한다.
도 5는 도 4의 라인 5-5를 따라 취한 도 4의 GLV, 확대 접안렌즈, 출사동 조리개 및 주사 거울을 개략적으로 기술하는 단면도이다.
도 6은 도 4의 디스플레이 시스템에 대한 접안렌즈의 출사동용 텔리센트릭 중계기 장치를 개략적으로 기술하는 단면도이다.
도 7은 스크린, 기록 매체, 종이등에 도 4의 GLV의 실제 영상을 투사하기 위하여 도 4의 접안렌즈와 함께 작용하는 투사 렌즈를 개략적으로 기술하는 단면도이다.
도 8a는 본 발명에 따른 디스플레이 시스템의 바람직한 실시예를 개략적으로 기술한 단면도이며, 여기에 기술된 디스플레이 시스템은 광이 반사 격자 광-밸브 어레이(GLV 어레이)상에 입사되도록 하는 조사 장치, 확대 접안렌즈, GLV 어레이로부터 반사된 광과 GLV 어레이로부터 회절된 광을 분리하는 초점-조리개, 및 분리된 회절광을 관측자의 관측 시야에 주사하는 주사 거울을 포함한다.
도 8b는 GLV 어레이의 투사된 실제 정지영상을 인쇄 또는 기록매체로 이동시키는 드럼 주사기에 의해 교체되는 도 8a의 주사 거울과 함께, 투사 인쇄기로서 배열된 도 8a의 형태인 디스플레이 시스템을 개략적으로 기술하는 단면도이다.
도 9는 도 8a의 라인 9-9를 따라 취한 도 8a의 조사 시스템의 일부분을 개략적으로 기술하는 단면도이다.
도 10은 도 8a의 라인 10-10을 따라 취한 도 8a의 조사 시스템의 다른 부분을 개략적으로 기술하는 단면도이다.
도 11은 도 8a의 라인 10-10을 따라 취한 도 8a의 GLV 어레이로부터 회절된 광 빔의 경로를 개략적으로 기술하는 단면도이다.
도 12는 광을 도 8a의 확대 접안렌즈를 통해 도 8a의 광-밸브 어레이에 전달하는 도 8a의 디스플레이 사스템용 다중 방향전환 거울의 구조를 개략적으로 기술하는 단면도이다.
도 13은 도 8a의 확대 접안렌즈의 출사동에서 도 12의 방향전환 거울을 개략적으로 기술하는 도 12의 라인 13-13을 따라 취한 도면이다.
도 14는 수신 표면상에 격자 광-밸브 어레이의 실제 영상을 투사하는 투사렌즈로서 사용되는 도 4 또는 도 8a의 확대 접안렌즈를 개략적으로 기술하는 단면도이다.
도 15는 도 4 및 도 6의 시스템에 사용하기 위한 회전-다각형 반사 주사구조를 개략적으로 기술하는 단면도이다.
도 16은 도 4 및 도 6의 시스템에 사용하기 위한 가변-각 프리즘 주사구조를 개략적으로 기술하는 단면도이다.
도 17은 도 4 및 도 6의 시스템에 사용하기 위한 변환-렌즈 투사 주사구조를 개략적으로 기술하는 단면도이다.
도 18은 투사 회절광-밸브 어레이를 포함하는 본 발명에 따른 디스플레이 시스템을 개략적으로 기술하는 평면도이다.
본 발명은 2차원 이미지를 제공하기 위한 디스플레이 시스템에 관한 것이다. 가장 일반적인 특징에 있어서, 본 발명에 따른 디스플레이 시스템은 회절광-밸브 어레이를 포함한다. 광-밸브 어레이는 개별적으로 동작가능하고 서로 평행하게 이격하여 배열된 가늘고 긴 변조기 부재를 포함한다. 변조기 부재의 각각은 그것에 입사하는 광이 변조기 부재의 동작 상태에 의해 결정되는 정도로 회절된다.
상기 시스템은 광을 광-밸브 어레이상에 입사시키는 조사장치 및 입사광의 회절되지 않은 부분과 입사광의 회절된 부분을 분리하기 위한 장치를 포함한다. 전자회로는 비디오 데이터를 수신하고 디스플레이될 비디오 데이터의 이미지 소자에 상응하도록 광-밸브 어레이의 변조기 부재를 동작시키기 위하여 제공된다.
확대 광학장치는 별도의 회절된 광 부분을 통해 격자 광-밸브 어레이(reflective grating light-valve array)의 확대된 이미지를 관측자에게 제공한다. 상기 시스템은 확대된 가상 이미지가 2차원 이미지로서 관측자에게 나타나도록 하기에 충분한 속도로 2차원 이미지의 연속 라인을 제공하기 위하여 관측자의 관측 시야를 통해 확대된 이미지를 주사하기 위한 전자회로와 협조하는 주사 장치를 포함한다.
본 발명에 따른 디스플레이 시스템의 바람직한 실시예에 있어서, 광-밸브 어레이는 서로 평행하게 이격하여 배열된 가늘고 긴 가동 반사부재의 열을 포함하는 반사 격자 광-밸브(GLV) 어레이이다. 가동 반사부재의 각각은 고정 반사부재가 위치되어 있는 평면으로부터 분리되고 상기 평면에 평행한 평면을 통해 대응하는 고정 반사부재에 대하여 개별적으로 이동가능하다. 이동가능한 반사부재 및 고정 반사부재는 대응하는 이동가능한 반사부재 및 고정 반사부재가 이동가능한 반사부재 및 고정 반사부재의 평탄한 분리에 의존하는 정도로 입사하는 광의 회절 및/또는 반사를 초래하도록 구성된다.
확대 광학장치는 확대된 이미지를 제공하기 위한 확대렌즈를 포함한다. 확대렌즈, 광-밸브 어레이 및 반사된 광과 회절된 광을 분리하기 위한 장치는 광-밸브 어레이 및 텔레센트릭 물체 위치와 확대렌즈의 출사동(exit pupil)에 각각 위치된 회절광 분리장치를 갖춘 텔레센트릭 시스템으로서 구성된다.
확대렌즈는 호이겐스, 람스덴, 켈너, 플뢰셀, 아베, 쾨니히 및 에르플로 이루어진 접안렌즈 타입의 그룹으로부터 선택된 타입의 접안렌즈이다. 확대렌즈는 관측자에 의해 렌즈를 통해 직접 관측하기 위한 광-밸브 어레이의 확대된 가상 이미지를 제공하도록 배열될 수 있다. 확대렌즈는 스크린과 같은 수신면상에 광-밸브 어레이의 확대된 실상을 투사하도록 배열될 수 있다.
명세서의 일부로서 결합된 첨부된 도면은 상술된 설명과 이하에서 설명될 바와 같은 본 발명의 바람직한 실시예들을 도시하고, 본 발명의 원리를 설명하는 역할을 한다.
본 발명에 따른 디스플레이 시스템에서, 특히 바람직한 광 변조장치는 반사 격자 광-밸브(GLV) 어레이이다. 이러한 광 변조장치를 디스플레이하기 위한 2차원 어레이에 사용하는 기술은 미합중국 특허 제 5,459,610호에 상세히 개시되어 있으며, 여기에 참조에 의해 통합된다. 상기와 같은 형태의 반사 격자 광-밸브 어레이는 작은 형상 또는 엘리먼트 크기, 매우 높은 스위칭 속도 및 고대역폭 덕분에 고해상도의 디스플레이를 제공할 수 있다. 이러한 장치의 일 실시예를 도 1, 2, 3을 참조하여 아래에 간단히 설명한다.
도 1은 반사 격자 광-밸브 어레이의 일 실시예의 일부(10)를 도시하고 있다. 어레이(10)에는 반사 코팅(14)(도 12 참조)을 포함하는, 개별적으로 이동 가능한 가늘고 긴 반사부재 즉, 리본(12)이 포함된다. 비동작 상태의 리본(12)은 베이스(16) 상의 평행한 평면에 (팽팽하게) 현수된다. 리본(12)은 서로 평행하게 이격하여 놓인다. 리본(12)은 GLV 어레이(10)의 "능동" 반사부재라 할 수 있다. 베이스(16) 상에 반사 코팅을 증착하여 형성되는 고정 반사부재들(18)이 리본(12) 사이에 이격하여 배열된다. 고정 반사부재들(18)은 GLV 어레이(10)의 "수동" 반사부재라 할 수 있다.
어레이(10)는 실리콘(웨이퍼)기판(20) 상에 리소그래피 반도체 장치 제조 기술을 이용하여 제조된다. 베이스(16)는 웨이퍼의 일 면이다. 전극층(22)이 웨이퍼의 반대면 상에 증착된다. 리본(12)과 고정 반사부재들은 바람직하게는 약 1 내지 4 ㎛의 폭과 약 40.0 내지 100.0 ㎛의 길이를 가진다. 본 발명에 따른 디스플레이에 사용하기 적합한 어레이(10)는 바람직하게는 약 1㎝의 길이를 가진다. 상기 어레이는 1000개 이상의 가동 부재들(12)을 포함할 수 있다. 고정 및 가동 부재들의 좁은 폭은, 통상의 CRT 컴퓨터 모니터에 비견될 수 있는 해상도를 제공하기에 충분히 작은 화소를 제공하면서도, 한 그룹의 인접 부재들, 예를 들어, 한 그룹의 8개의 고정 및 가동 부재 쌍들이 256 그레이 쉐이드(grey shades) 중의 하나로 하나의 이미지 요소 즉, 화소를 나타내는데 사용될 수 있다.
리본(12)은 그 부재와 베이스(16) 사이에 전위를 인가함에 의해 가동 또는 동작한다. 비동작 상태에서는, 가동 부재의 반사 코팅(14)과 대응하는 (인접)고정 부재(18) 사이의 간격이 어레이(도 2a 참조)를 조사하는데 사용되는 광의 파장의 ½로 설정된다. 이 상태에서, 수직 입사 평면파면(24)은 회절되지 않으며, I와 R로 도시된 바와 같이 입사 방향의 반대 방향으로 반사된다.
충분한 전위가 인가되면, 리본(12)은 베이스(16)쪽으로 편향되어 베이스(16) 상에 고정될 수 있다. 리본(12)의 두께는, 이 "동작 및 고정" 상태에서 대응하는 고정 부재와 가동 부재의 반사면들 사이의 간격이 어레이(도 3a 참조)를 조사하는데 사용되는 광의 파장의 ¼이 되도록 선택된다. 이 상태에서, 가동 부재와 고정 부재로부터 반사된 광들 사이의 상쇄 간섭이, 화살표 D+1과 D-1로 도시된 바와 같이 입사 평면파면 방향에 대해 비스듬하게 전파하는 회절된 파면(26)(도 3a에 도시된 단지 ±1차 회절 파면)을 발생시킨다.
이미지 요소의 전부 또는 일부를 나타내는, 임의의 인접한 가동 및 고정 반사부재 쌍(12, 18) 또는 그런 쌍의 임의의 기능적 그룹은 "광-밸브"로 생각될 수 있다. 이것이 격자 광-밸브(GLV) 어레이라는 용어가 사용되는 이유이다.
또한, 상기한 어레이(10)와 유사한, 그러나 모든 반사부재들이 베이스(16) 상에 팽팽하게 현수되는 GLV 어레이를 구성하는 것도 가능하다. 이는 도 2b에 도시되어 있다. 어레이(10a)는, 반사부재들(12a)이 교대로 공간 광 변조를 제공하도록 가동되고, GLV 어레이(10)의 능동 부재들과 동일한 높이가 되도록 어드레스 라인 등(도시되지 않음)을 통해 배치된다. 각 능동 부재들 사이의, (각기 반사 코팅(14)을 포함하는) 반사부재들(18a)은 GLV 어레이(10a)의 고정 또는 수동 부재(18)들의 등가물로서, 광을 공간적으로 변조하기 위해 GLV 어레이(10)가 동작하는 동안 움직이지 않는다.
GLV 어레이(10a)는 바람직하게는 비동작 상태로 배치된다. 모든 반사부재들, 즉 능동 및 수동 부재들은 도 2b에 도시된 바와 같이 동일 면에 위치하는 반사면들을 가지며, 여기서 GLV는 그 위에 입사하는 광을 반사하기만 한다. 또한 바람직하게는, 도 3b에 도시된 바와 같이, 능동 부재 즉, 가동 부재(12a)가 가동 또는 능동 부재들의 평면으로부터 ¼파장 이격된 극단 면(extreme)에 위치할 때는 베이스(20)와 접하지 않도록 GLV(10a)가 편향되어 배치된다.
GLV(10a)로 예시된 형태의 어레이가 GLV 어레이(10)로 예시된 형태의 어레이보다 제조하기가 용이하며, 단지 두 개의 리소그래피 단계만을 사용하여 제조될 수 있다. 가동 부재들이 베이스(20)에 접촉하지 않도록 하는 것은 부재들이 베이스(20)에 붙어버릴 수 있는 잠재적인 문제를 피하도록 하여, 어레이의 동작을 절충시킨다. GLV 어레이(10a)에 대한 상세한 설명은 동시계류출원인 1995년 6월 7일자 미국특허출원 제08/482,188호에 개시되어 있으며, 상기 출원은 본 발명의 양수인에게 양도되었으며 그 개시 내용 전부가 본원의 참조문헌으로 통합된다.
본 발명이 속하는 기술분야의 당업자는 GLV 어레이(10)와 GLV 어레이(10a) 모두의 경우에, 리본(12, 12a)이 베이스(16)에 평행한 평면을 통해 이동함에 따라, 도 2a, 도 3a와 도 2b, 도 3b에 도시된 극한 상태들의 중간 상태에서, 광이 반사도 되고 회절도 됨을 알 수 있을 것이다. 중간 상태는 아날로그 방식으로 부재를 동작시키는데 사용된다.
리본(12)이 (그레이 스케일을 제공하기 위해 2진 가중되어 도 2a와 도3의 극한 상태들 사이의 한 그룹의 상태들 중의 하나로 고정되어) 2진 방식으로 동작하든지, 아니면 전체 길이가 하나의 행 또는, 2차원 이미지의 하나의 해상도 또는 주사선을 나타내는 일차원 어레이로서 아날로그 방식으로 동작하든지 간에, 어레이의 서로 다른 부분들은 서로 다른 상태의 부재들을 가지게 되며, 어레이로부터 회귀하는 입사광은 회절된 그리고 비회절된(반사된) 부분들을 가지게 된다.
본 발명에 따른 디스플레이 시스템에서, 회절광 부분이 관측자에게 2차원 이미지를 제공하는데 사용된다. 이 때문에, 본 발명에 따른 시스템은 반드시 반사광 부분과 회절광 부분을 구분하기 위한 장치를 포함해야 한다. 그런 장치의 바람직한 예가 이하의 본 발명의 바람직한 실시예의 설명에서 상세히 설명된다. 이들 광학 장치들은 일반적으로 광학 분야에서는 실리렌 광학(Schlieren optics)으로 알려진 형태의 것들로서 통상적으로 하나 이상의 렌즈와 하나 이상의 조리개에 의해 반사광이 관측자의 관측 시야로부터 차단되도록 반사광과 회절광을 분리한다.
도 4와 도 5에 본 발명에 따른 디스플레이 시스템의 바람직한 실시예의 하나(30)가 도시되어 있다. 디스플레이 시스템(30)에서, GLV 어레이(10)를 조사하기 위한 조사 장치는 각각 적, 녹, 청의 광원(32R, 32G, 32B)을 포함한다. 바람직하게는, 이들 광원들은 LED 또는 반도체 레이저와 같은 반도체 발광 장치이다. 매우 큰 디스플레이가 투사되는 경우에, 적절한 방사 파장을 가진 고상 레이저(solid-state lasers) 또는 파라메트릭 발진기(parametric oscillators)를 사용하는 것이 유리한 것으로 판명될 수 있다.
시스템(30)에서, 광원(32R, 32G, 32B)들은 LED와 같이 일반적으로 대칭적으로 발광하는 광원으로 가정한다. 2색 필터 그룹(34)은 이들 광원들 중 어느 것으로부터의 광이라도 일반적인 시스템 광학축 z를 따라 전파하여 시준 렌즈(36)로 향하게 한다. 서로 다른 색깔의 3 광원이 광학 시스템에서 발생하여 동일한 출발점으로부터 나타나도록 하는 2색 필터 그룹들은 광학 기술 분야, 예를 들어 필립스 프리즘 분야에서 공지되어 있다. 따라서, 이러한 2색 필터 그룹에 대해서 여기서는 상세하게 설명하지는 않는다.
렌즈(36)는 설명의 단순성을 위해서 단순 "구면" 렌즈, 즉 x 축 및 y 축에서 동일한 굴절률을 갖는 것으로 도시된다. 도4에서, y 축은 도면과 동일 평면 상에 놓이고 x 축은 도면에 대하여 수직이다. 렌즈의 목적은 양 축의 광원으로부터 광을 시준하는 것이다. 그러나, 본 발명이 속하는 기술에 대해 통상의 지식을 가진 자들은 단부 방출 반도체 레이저로부터 나온 광출력이 다른 축보다 일 수직 축에서 발산적이며 비점 수차를 가진다는 것을 인식할 것이다. 이들 레이저의 출력 빔을 시준하고 목적하는 크기로 확장시키기 위한 수단은 광학 기술분야에서 공지되어 있고, 이러한 수단은 하나 이상의 구면, 비구면, 도넛형(toroidal), 또는 원통형(구면 및 비구면) 렌즈 엘리먼트를 필요로 할 것이다. 렌즈(36)는 이러한 하나 이상의 엘리먼트 그룹을 표현하도록 의도된 것이다. 대칭 방출 광원(32)으로부터의 발산광(38)은 렌즈(36)를 통과하여 x 및 y 양축에서 시준된다. 양축에서 시준된 광(40)은 다른 원통형 렌즈(42)를 통과한다. 용어 "원통형(cylindrical)"은 여기서 렌즈(42)가 단지 일축(여기서는 y)에서만 굴절률을 갖는다는 것을 의미한다. 광학 기술 분야의 당업자는 렌즈(42)의 표면(44)이 구면의 원통형이 아닐 수 있다는 것을 인식할 것이다. 렌즈(24)의 기능은 이를 통과한 양축에서 시준된 광(40)이 y축에서 수렴하고(도4, 라인 46) x축에서는 시준된 상태로 남아있도록 하는 것이다(도5, 라인 48). 여기서 렌즈(42)는 위에서 설명한 광학 엘리먼트들 중 하나로부터 제조될 수 있으나, 통상 단일 렌즈로도 충분하고 또한 설명의 편의를 위해서 단일 엘리먼트로서 도시되어 있다는 점이 주지되어야 한다.
GLV 어레이(10)는 원통형 렌즈(42)로부터 상기 렌즈의 초점 거리(f1) 정도 이격된 거리에 위치한다. GLV 에레이(10)는 렌즈(36 및 42)의 광학축에 대응하는 시스템 광학축 z상에서 x축에 정렬된다. GLV의 동작 표면(리본 12)은 z 축쪽으로 기울어져 있다. 도4에서, GLV 어레이(10)는 z축에 대해 45°기울어져 있으며, 이는 실질적으로 z축에 90°로 겹친다. GLV 어레이의 경사 단면은 설명을 위해서 만들어진 것이며 이로 제한되는 것은 아니다.
도 5를 참조하면, 동작 GLV 어레이(10)상에 입사하는 광은 반사 빔과(화살표 48) 화살표 D+1및 D-1로 각각 나타내진 ±1차 회절빔을 만들어 낸다. 이들 회절빔은 x 축에서 z 방향으로 기울어져 있다. y 축에서, 회절 및 반사 빔은 동일하게 발산한다. 이들 산란 및 반사 빔은 다음 렌즈 초점 거리 f2로 GLV 어레이(10)으로부터 분리된 확대(+) 렌즈(50)를 통과한다. 도 5에는 렌즈(50)가 설명의 편의를 위해서 단일 엘리먼트로서 도시되어 있으나, 실제에서는 렌즈(50)가 2 이상의 엘리먼트를 포함할 수 있다. 렌즈(50)는 사실상 시스템(30)용의 접안렌즈를 제공하며 바람직하게는 2 이상의 렌즈를 포함하는 호이겐스, 람스덴, 켈너, 플뢰셀, 아베, 쾨니히, 및 에르플 타입으로 이루어진 접안렌즈 타입의 공지의 그룹중 하나일 수 있다.
x축에서, 반사 빔은 z축상의 초점에 수렴하며(화살표 52), 여기서 렌즈(50)의 외부 텔레센트릭 출사동 P2부근에 가늘고 긴 조리개(54)가 위치한다. 이와 같이, 실리렌 광학 시스템(30)은, GLV 어레이(10)가 렌즈(50)의 외부 대상물체 근방에 놓이고 조리개(54)가 렌즈(50)의 외부(출사)동 근방에 놓이는 접안렌즈(50)를 확대하는 GLV 어레이(10), 조리개(54)를 포함하는 텔레센트릭 광학 배열(49)의 일부분으로서 형성될 수 있다. 텔레센트릭 시스템은 입사동 및/또는 출사동이 무한히 멀리 떨어져 위치하는 시스템이다. 이는 시스템의 미소 초점 불일치에 의한 측정 또는 위치 에러를 감소시키는 경향을 갖기 때문에 계측학 분야에서 널리 사용되는 광학 시스템이다. 이러한 경향에 의해 일반적으로 조리개의 위치와 다른 시스템의 구성성분의 어느 정도 오차한계가 허용되며, 이에 대해서는 이하에서 설명될 본 발명의 실시예에서 특히 탐구되어 질 것이다.
y축에서(도4 참조), 발산 반사광(46)(및 회절광)은 화살표(56)에 의해 표시된 바와 같이 렌즈(50)에 의해 시준된다. 조리개(54)는 y축에서 정렬되며 반사광을 차단한다. 조리개(54)는 흡수 또는 반사되도록 선택될 수 있다. 조리개(54)가 반사형이라면 조리개로부터 반사된 빔은 GLV 어레이(10)로 회귀한다. 그러나, z축과 해당 입사 및 반사 빔에 대해 기울어진 회절빔 D+1및 D-1는 조리개(54) 상부 및 하부의(또는 대향 측면 상의) 초점에 수렴되어 조리개(54)에 의해 차단됨 없이 출사동 P2를 통과한다.
주사 거울(58)은 회절빔을 차단하고 회절빔이 관측자의 눈(64)으로 향하도록 위치한다. 관측자가 보는 것은 GLV 어레이(10)의 (무한위치에서의) 확대 허상이다. 이 상은 라인(59)에 의해 도 5에서 나타나 있으며, 이는 물론 여기에 실상이 존재하지 않는 다는 것을 나타낸다.
GLV 어레이(10)의 동작 부재는 연속적인 서로 다른 M×N 디스플레이의 여러 라인을 표시하도록 동작되며, 여기서 M은 라인당 이미지 엘리먼트의 개수이며, N은 디스플레이의 라인 개수(해상도)이다. 이미지 엘리먼트에는 위에서 설명한 바와 같이 하나 이상의 동작가능한 GLV 부재가 포함될 수 있다. GLV 어레이(10)는 광 밸브의 일차원 어레이, 또는 이미지 엘리먼트 또는 화소의 일 열을 나타내도록 일반적으로 형성될 수 있다. 확대 허상에서 이들 화소는 GLV 어레이(10)의 리본 또는 리본들(12)의 동작 상태에 의해 결정되는 상대 밝기를 가질 수 있다.
주사 거울(58)은 회절빔을 주사하는 화살표 A에 의해 도시된 바와 같이 축(62)과, 디스플레이의 연속 라인을 나타내기 위한 화살표 B에 의해 표시된 바와 같이 관측자의 시야를 선형으로 통과하는 확대 허상 부근에서 구동 장치(60)에 의해 각지게 기울어져 이동한다. 거울(58)은 주사된 허상이 관측자에게 2차원 상으로 보일 정도의 충분한 속도로 이동한다.
마이크로프로세서에 기초한 전자 제어 회로(70)가 단자(72)를 경유한 비디오 데이터를 받아들이도록 배치되며, 광을 변조하기 위해 상기 데이터가 GLV 어레이(10) 이동 부재에 동작하는데 이용되도록 GLV 어레이(10)에 연결된다. 상기 회로는 회절빔 D+1및 D-1의 광이 위에서 지적한 바와 같은 비디오 데이터를 나타내는 2차원 상의 연속 해상도 라인을 표시하게 변조되도록 배치된다. 제어 회로(70)는 또한 주사 거울 구동 장치(60)에 연결되어 연속 라인의 디스플레이와 동조되며 주사 거울(58)의 최대 각도 이탈 범위에서 상 시작의 연속 프레임(frame)을 제공한다. 제어 회로(70)는 또한 광원(32R, 32G, 및 32B)에 연결되며 GLV 어레이(10)의 동작과 맞추어 연속적으로 상기 광원들을 스위칭시켜서 상기 어레이의 연속 적, 녹, 및 청 해상도 상을 제공하며, 이는 또한 총천연색 2차원 상의 일 해상도 라인을 나타낸다.
도 4에서 관측자의 눈은 시스템(30)의 디스플레이의 확대 허상을 적절히 나타내기 위한 이상적인 시스템보다 덜 이상적인 시스템으로 나타내졌음이 주지되어야 한다. 이상적으로는, 이러한 상을 보기 위해서, 관측자의 눈은 출사동 P2부근에 위치되어야 한다. 이는, 바람직하게는 이 출사동 부근에 위치하는 거울(58) 때문에 어렵다. 이 어려움은 상기 거울과 이격시켜서 관측자의 눈이 위치하기에 용이한 지점으로 출사동의 상을 광학적으로 중계시켜서, 이에 따라 주사 거울과 관측자의 눈이 각각 출사동 위치 부근에 위치되도록 함에 의해 극복될 수 있다.
출사동 P2의 상을 중계하는 하나의 수단은 광학적 배열이 광학적으로 "겹치지 않은(unfolded)" 것으로 도시된 도 6에 나타나 있고, 주사 거울(58)은 렌즈(50)의 출사동(P2)에서 라인으로 표시되고, 이는 주사 거울의 바람직한 위치중 하나이다. 여기에서 푸필(pupil)-중계기는 렌즈(53)의 초점 거리의 출사동(P2)의 이미지(P3)를 렌즈로부터 멀리 배치하여 렌즈(53)로부터 적당한 눈동자 거리를 제공하는 유니트 확대 텔레센트릭 중계기를 형성하는 초점 거리의 2배와 동일한 거리만큼 일정간격 배치되는 동일한 초점 거리의 2개의 렌즈(51과 53)에 의해 달성된다. 광학 분야의 당업자들은 물론 렌즈(51과 53)가 하나 이상의 렌즈 엘리먼트를 포함할 수 있으며, 더욱이 도 6에 도시된 텔레센트릭 중계기 장치가 푸필 이미지를 중계하기 위한 유일한 광학 장치가 아니라는 것을 인식할 것이다.
이제 도 7을 참조하면, (여기에서 다시 광학 시스템은 렌즈(50)의 출사동(P2)에서 라인으로서 표현되고 또한 주사 거울(58)을 위한 어떤 바람직한 위치가 되는 주사 거울과 겹치지 않는 것으로 도시된다), 또한 접안렌즈(50)가 예를 들어 투사 디스플레이 또는 이미지를 기록 또는 인쇄하기 위한 장치를 제공하는데 요구될 수 있는, 스크린 또는 기록 매체상에 GLV의 확대된 실상을 투사하기 위해 하나의 엘리먼트 또는 엘리먼트 그룹으로서 사용될 수 있다. 여기에서, 렌즈(또는 렌즈 엘리먼트 그룹)(55)는 렌즈(55)로부터의 한정된 거리에 GLV 어레이(10)의 확대된 실상(57)(여기에서, 폭)을 포커싱하도록 배치된다. 상기 이미지는 투사된(투명) 2차원 이미지를 제공하기 위한 관측 스크린이 될 수 있는 평면에, 또는 포토그래픽 필름 또는 종이와 같은 기록 매체상에 포커싱될 수 있다. 기록된 또는 인쇄된 이미지의 경우에, 주사 거울(58)은 제거될 수 있고, 주사는 도 7에서 도면 평면에 수직한, 예를 들어 이미지의 방향에 수직한 주사 방향으로 기록 또는 인쇄 매체를 이동시킴으로써 달성된다. 물론, 주사 운동은 2차원의 다음 이미지 라인이 인쇄 또는 기록될 수 있도록 시스템(30)에서와 같이 전기 회로(70)에 의한 이미지 발생으로 동기화될 필요가 있다.
이제 도 8a, 9, 10 및 11을 참조하면, 본 발명에 따른 디스플레이 시스템의 다른 실시예(31)가 도시된다. 조사 장치는 디스플레이 시스템(30)의 동일 부품에 대해 이미 기술된 바와 같은 기능을 하는 광원(32R, 32G 및 32B), 구면렌즈(36) 및 원통형 렌즈(42)를 포함한다. 2축 시준광(40)은 y축에서 원통형 렌즈(42)에 의해 수렴되고(화살표 46), x축에서 시준된 채로 유지된다(도 9 참조). 가늘고 긴 거울(80)은 z축에 대해, z축상에서 45°로 기울어지며, x축에 정렬된다. 거울(80)은 원통형형 렌즈(42)를 위한 텔레센트릭 조리개를 형성한다. 수렴광(46)은 거울(80)로부터 반사된 후 발산한다. 시준광(40)은 시준된 채로 유지된다.
렌즈(50)는 반사광의 경로에 있고 거울(80)로부터 렌즈의 약 1 초점 거리에 배치된다. 그러므로, 렌즈를 통과한 후, 시준된 광선이 수렴하고, 발산 광선이 시준되어 z축상에 y축에 정렬되는 거울(80)의 이미지를 형성한다. GLV 어레이(10)는 렌즈(50)로부터 멀리 z축상의 y축에 정렬되는 렌즈(50)의 약 1 초점 거리에 배치된다. 그러므로 GLV 어레이는 이런 이미지를 차단하고, 그 결과 조사된다.
반사된 빔, 및 ±1차 회절빔(D+1과 D-1)은 GLV 어레이(10)로부터 회귀한다. 상기 반사된 빔은 그것의 원래 경로를 따라 렌즈(50)를 통해 회귀하며, 다음에 입사 광경로를 따라 다시 렌즈(42)를 향하게 된다. 그러므로 반사된 광은 관측자에게 도달되지 않는다. 회절빔(D+1과 D-1)은 y축에 수렴하고(도 8a 참조) y축에서 시준되므로(도 9 참조) y축에서 거울(80)의 상부와 하부를 통과한다. 주사 거울(58)은 시스템(30)에 대해 이미 개시된 바와 같이 관측자(64)의 관측 시야에 걸쳐 회절빔(D+1과 D-1)을 주사하기 위해 회절빔(D+1과 D-1)을 차단하도록 배열된다.
시스템(31)에서, 렌즈(50)와 GLV 어레이(10)는 서로 거울(80)로부터의 광을 위한 유니트 확대 겹친 텔레센트릭 중계기(79)를 형성한다. 렌즈(50)는 입사광 방향에서 관측자에게 어레이의 확대된 허상을 제공하고(반사 및 회절광의 방향으로) 부가적으로 GLV 어레이(10)를 위한 조사 장치의 일부로서 기능한다. GLV 어레이(10)는 텔레센트릭 중계기의 내부동(internal pupil)(P1) 근방에 배치된다. 거울(80)은 렌즈(50)의 (회절 및 반사광) 출사동(P2)에 배치된다.
대안적으로, GLV 어레이(10)로부터 회절되고 반사된 광의 관측점으로부터, 텔레센트릭 광학 시스템(810)(실리렌 광학계)은 렌즈(50)의 (외부) 출사동에 있는 GLV(10), 렌즈(50) 및 조리개(54)에 의해 형성되고 GLV(10)가 렌즈(50)와 조리개(54)의 외부 대상물 위치에 있다. 이것은 이미 개시된 디스플레이 시스템(30)에서 찾을 수 있는 동일한 배열이다.
상기 시스템(31)의 겹친 텔레센트릭 중계기의 장점은 코마(coma)와 같은 홀수 수차와 본래 무관한 정확히 대칭적인 광학 시스템이라는 것이다. 이로써, 자신의 후방에서 GLV 어레이(10)로부터 반사된 광에서의 거울(80)의 정확한 재결상 이 가능하다. 이것은 상기 시스템에 의해 디스플레이에 고 콘트라스트비가 제공되는 것을 가능하게 한다. 다른 장점은 확대 접안렌즈의 형태가 무엇이든지, 텔레센트릭 중계기가 정확히 대칭적이라는 것이고, 이것은 반사된 광의 재결상과 그에 따른 콘트라스트비를 두드러지게 손상시키지 않고 특별한 접안렌즈 형태의 선택에 대한 융통성 및 그것을 위한 선택의 최적화를 허용한다. 또한 도 6과 도 7의 눈동자 거리 중계기, 및 투사기/프린터 장치가 디스플레이 시스템(31)에 적용가능하다.
도 8b의 보기에 의해, 시스템(31A)이 도시되는데, 본질적으로 주사 거울(58)을 갖는 시스템(31)이 제외되고 투사 렌즈(51)가 부가된다(도 7 참조). 드럼 장치(65)가 인쇄 매체(67)를 홀딩 및 주사하기 위해 제공된다. 드럼(65)(및 거위의 매체(67))은 전자장치(70)와 함께 동작하는 모터(61), 및 화살표 F에 의해 표시된 바와 같은 축(63)에 의해 회전된다. 그러므로 실상(57)(도 7 참조)은 2차원 이미지를 프린트 또는 주사하기 위해 매체의 표면에 걸쳐 주사된다. 드럼 스캐너(65)는 여기에서 간략히 도시된다. 당업자들은 더욱 복잡한 주사 및 장치가 시트-공급 프린터, 예를 들어 상업적으로 이용가능한 레이저 프린터의 주사 엔진 및 토너 현상 장치를 위해 요구된다고 이해할 것이다. 이런 장치들이 종래 기술로 잘 공지되어 있기 때문에, 복잡한 장치의 상세한 설명은 여기에서 제시되지 않는다.
시스템(31)에서, 렌즈(50)가 공간적으로 변조될 수 있도록 GLV 어레이(10)상에 광을 포커싱하는 기능을 하기 때문에, 접안렌즈가 가능한 가장 밝은 디스플레이 및 양호한 이미지 품질을 제공할 수 있도록 가능한 많은 광을 포커싱할 수 있는 것이 중요하다, 이와 관련하여, 특히 바람직한 접안렌즈 타입의 그룹은 켈너, 플뢰셀 및 에르플 타입이 되고, 모두는 상대적으로 넓은 시야를 가진다. 넓은 시야를 가지는 렌즈(50)의 장점은 다수의 방향전환 거울을 수용하기에 충분한 입사동 폭을 가질 수 있다는 것이다. 이것은 도 12에 도시되는데, 3개의 가늘고 긴 방향전환 거울(80A, 80B 및 80C)은 이들 사이의 갭이 GLV 어레이(10)에 입사된 대응하는 광빔으로부터 회절된 광의 최대 및 최소 회절각을 수용할 정도로 충분히 넓게 되도록 베니션 블라인드(venetian blind) 형태로 시스템(31)의 렌즈(42)로부터의 광이 이들 사이의 어떤 갭을 만나고, 바람직하게 y축 방향에서 멀리 일정간격 배치되기에 충분하게 y-z 평면에 적층된다.
거울(80B와 80C)은 다른 것의 (겹친 텔레센트릭 시스템의) 공액 이미지 위치에 있는 하나에 배치된다. 따라서, 거울(80B)로부터 반사된 광은 거울(80C)상에 재결상되고 그 반대의 경우도 그러하다. 축방향으로 위치한 거울(80A)은 상술된 바와 같이 자기자신에게 재결상된다. 다중 거울 시스템을 실행하기 위해, 비-축방향으로 위치된 거울은 반드시 공액상 위치에서 해당 비-축방향으로 위치한 거울을 가져야 한다. 따라서, 오로지 두 개의 거울을 가진 시스템에서, 양 거울은 비-축방향으로 위치해야 하고, 하나는 다른 하나의 공액상 위치에 위치한다.
간략함을 위해, 거울(80a)로부터의 입사광빔(46)에 해당하는 빔(D-1)만이 도 12에 도시된다. 당업자라면 도면으로부터 거울(80b, 80c)로부터 다른 회절된 빔이 거울들 사이에서 또는 주위에서 이들의 길을 찾는 방법을 알 수 있을 것이다.
렌즈(50)의 입사동(P1) (및 텔레센트릭 배열을 통해 입사동과 일치하는 출사동(P2))이 실제로 나타나는 것이 도 13에 도시되어 있고, 점선으로 표시된 원(83)은 "이론적으로 가능한 푸필(pupil)"을 나타낸다. 빗금친 영역(80A-C)은 GLV 어레이(10)로의 광 입력에 대한 푸필 영역을 나타내고, 점선(D+1(C) 및 D-1(B)) 사이의 빗금쳐지지 않은 영역은 회절광의 출력에 대한 푸필 영역을 나타내며 그리고 선(D+1(C) 및 D-1(B))은 각각 거울(80C 및 80B)로부터 입사하는 광으로부터의 최고 회절각에 의해 한정된다.
접안렌즈(50)는 GLV 어레이(10)가 시스템(30) 또는 시스템(31)내에서 렌즈(50)의 텔레센트릭 물점으로부터 (추가로 렌즈(50)로부터) 약간 변위하도록 최대로 활용될 수 있고, GLV 어레이(10)로부터 반사된 광은 각각의 조리개(54) 또는 방향전환 거울(80)상에 충분한 정확도를 가지고 각각 결상하거나 또는 재결상하여, 조리개 또는 거울이 회절광으로부터 분리하여 반사되도록 하는 반면, 렌즈(50)의 출사동을 통과하는 회절광은 추가의 투사 렌즈 그룹을 필요로함 없이 GLV 어레이(10)의 실제 매우 정확한 이미지를 수렴할 것이다. 이러한 장치는 도 14에 도시되고, 도 6과 도 7에 도시된 바와 같이 광학 시스템은 렌즈(5)의 출사동(P2)에서의 라인으로 표시된 주사 거울(58)을 가지고 "겹치지 않은" 것으로서 도시되고, 이는 또한 주사 거울의 바람직한 위치를 나타낸다. 렌즈(50)의 출사동(P2)으로부터 스크린(59)의 거리 SD는 도시의 편의를 위해 렌즈로부터의 푸필의 거리 PD보다 짧다는 것을 주목한다. 실제로, SD는 PD의 20배 이상이고, 선 D+1 및 D-1은 평행한 것으로 나타나고, 조리개(54)는 텔레센트릭 시스템의 출사동에 위치하는 것으로 설명될 수도 있다.
디스플레이 시스템(30, 31)이 GLV 어레이(10)의 이미지의 선형 주사 운동을 제공하도록 각지게 주사되는 주사 거울을 사용하는 것으로 설명되었지만, 이는 한정적인 것으로 이해될 필요는 없다. 다소 효율적인 다른 스캐너 장치가 도 15 내지 도 17에 도시되어 있다. 도 15에서, 회전 반사기 부재(92)는 주사 동작을 제공한다. 반사기 부재(92)는 육각형 단면을 가지고 반사 길이 방향 면(94)을 가진다. GLV 어레이(10)와 확대렌즈(50)로부터의 광(D-1)은 면(94)으로부터 반사하여 사용자의 눈(64)을 향한다. 반사기 부재(92)가 화살표(C)로 표시된 바와 같이 회전함에 따라 GLV 어레이의 이미지는 화살표(B)로 표시된 바와 같이 사용자의 시야에 대해 선형적으로 주사된다.
도 16을 참조하면, 분광 투과 주사 장치(100)는 주사 동작을 제공하는 변형 또는 가변-각 프리즘(102)을 포함한다. 프리즘(102)은 투명한 평면 평행의 전방 및 후방 부재(104, 106)로 구성된다. 부재(104, 106)는 서로에 대해 각을 두고 마주하여 위치하여, 액체 또는 바람직하게는 오일-확장 투명 엘라스토머로 충진된 V-형 홈(108)을 이루고, 여기서 오일:엘라스토머의 비율은 바람직하게는 85:15 이상이다. 이러한 엘라스토머는 비교적 쉽게 변형되고, 탄성 메모리를 가지지만 높은 오일 비율에도 불구하고 흐르지 않는다. 이러한 엘라스토머와 이들의 제조방법은 미국 특허 4,618,213에 개시되어 있다. 부재(106)는 화살표(A)로 표시된 바와 같이 디스플레이(30, 31)의 주사 거울(58) 방식으로 각지게 주사되거나 또는 오실레이팅된다. 이러한 각진 운동은 프리즘(102)을 통해 투과하는 광이 화살표(B)로 표시된 바와 같이 관측자의 시야에 대해 선형적으로 주사되도록 한다.
완전한 것은 아니지만 마지막으로, 다른 주사 장치(110)가 도 17에 도시되어 있다. 주사 장치(110)는 각각 포지티브 및 네가티브 투명 렌즈 엘리먼트(112, 114)를 포함한다. 엘리먼트(112, 114)의 곡률 반경은 엘리먼트의 조합이 0의 광학 배율을 가지도록 선택된다. 포지티브 엘리먼트(112)는 화살표(D)로 표시된 바와 같이 상호 선형적으로 작동된다. 이는 화살표(B)로 표시된 바와 같이 관측자의 시야에 대한 광의 해당 선형 주사를 야기한다. 당업자라면 엘리먼트(112)가 고정되고 엘리먼트(114)가 동일한 주사 메커니즘을 제공하기 위해 상호작용하는 과정을 알 수 있을 것이다.
본 발명에 따른 시스템이 반사 (회절) 격자 광-밸브 어레이에 관해 설명되었지만, 당업자라면 본 발명의 원리가 투과 (회절) 광-밸브 어레이에서 사용될 수도 있다는 것을 알 수 있을 것이다. 이는 도 4의 시스템(30)에 가장 유사한 시스템(31T)을 도시하는 도 18에 도시되어 있지만 투과 (회절) 광-밸브 어레이는 원통형 렌즈(42) 및 포지티브 렌즈(50) 사이에 위치한다. 시스템(30T)의 모든 다른 엘리먼트는 시스템(30)의 해당 엘리먼트와 동일한 기능을 가진다.
당업자라면 본 발명의 원리가 스테레오스코픽 디스플레이에 적용가능 하다는 것을 알 수 있을 것이다. 예를 들면, 간단한 장치에서 스테레오스코픽 디스플레이는 GLV 어레이와 관측자의 각각의 눈을 위한 적절한 분리 광학장치를 제공함으로써 형성될 수 있다. 당업자라면 각각의 발명의 정신과 범위를 벗어나지 않은 다른 장치도 가능하다는 것을 알 수 있을 것이다.
본 발명은 바람직한 및 다른 실시예를 통해 설명되었다. 하지만, 본 발명은 설명된 실시예에에 한정되는 것은 아니다. 차라리 본 발명은 첨부된 청구항에 의해서만 제한된다.

Claims (33)

  1. 관측자에게 이차원 이미지를 디스플레이하는 디스플레이 시스템에 있어서,
    서로 평행하게 이격하여 배열된 가늘고 긴 능동 반사부재(12, 12A) 열을 포함하는 격자 광-밸브 어레이(10, 10A)를 포함하는데, 상기 각각의 능동 반사부재는 수동 반사부재(18, 18A)가 배치된 평면과 평행한 평면을 통하여 대응하는 수동 반사부재에 대하여 개별적으로 가동할 수 있으며, 상기 대응하는 능동 반사부재 및 수동 반사부재는 서로 상기 능동 및 수동 반사부재의 평면 분리에 의존하여 입사되는 광을 회절 및/또는 반사시키며;
    상기 격자 광-밸브 어레이(10, 10A)상에 광이 입사하도록 하는 조사 수단(32R, 32G, 32B, 36, 42);
    상기 입사광의 회절된 부분과 상기 입사광의 회절되지 않은 부분을 분리하는 수단(50, 54);
    디스플레이될 이미지 엘리먼트에 대응하도록 상기 광-밸브 어레이의 동작 엘리먼트를 동작시키는 전자 수단(70);
    상기 분리된 회절광 부분을 통하여 상기 광-밸브 어레이의 확대된 이미지를 관측자에게 제공하는 확대렌즈 수단(50); 및
    상기 확대된 이미지가 이차원 이미지로서 상기 관측자에게 나타내기 위하여, 상기 이차원 이미지의 순차적 라인을 나타내도록 상기 전자 수단과 협력하여 상기 관측자의 관측 시야를 통하여 상기 확대된 이미지를 주사하는 주사 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 디스플레이 시스템.
  2. 제 1항에 있어서, 상기 격자 광-밸브 어레이(10, 10A)의 확대된 이미지는 허상이며 상기 확대렌즈 수단을 통하여 상기 관측자에 의해 관측되는 것을 특징으로 하는 디스플레이 시스템.
  3. 제 1항에 있어서, 상기 격자 광-밸브 어레이(10, 10A)의 확대된 이미지는 관측자에 의해 관측가능한 수신면상에 결상되도록 상기 확대렌즈 수단에 의하여 투사된 실상이며 상기 주사 수단에 의하여 상기 수신면상에 주사되는 것을 특징으로 하는 디스플레이 시스템.
  4. 제 1항에 있어서, 상기 확대렌즈 수단(50), 상기 광-밸브 어레이(10, 10A) 및 상기 회절광 분리 수단(50, 54)은 상기 광-밸브 어레이와 텔레센트릭 형태(49)로 배열되며, 상기 회절광 분리 수단은 각각 텔레센트릭 물체 위치 및 상기 확대렌즈 수단의 출사동에 배치되는 것을 특징으로 하는 디스플레이 시스템.
  5. 제 4항에 있어서, 상기 확대렌즈 수단(50)은 접안렌즈인 것을 특징으로 하는 디스플레이 시스템.
  6. 제 5항에 있어서, 상기 접안렌즈는 호이겐스, 람스덴, 켈너, 플뢰셀, 아베, 쾨니히 및 에르플로 구성된 접안렌즈 타입 그룹으로부터 선택된 타입인 것을 특징으로 하는 디스플레이 시스템.
  7. 제 4항에 있어서, 상기 확대된 이미지는 상기 확대렌즈 수단(50)을 통하여 관측자에 의해 관측되는 허상인 것을 특징으로 하는 디스플레이 시스템.
  8. 제 7항에 있어서, 상기 주사 수단은 상기 확대렌즈 수단(50)의 출사동 근방에 배치되는 것을 특징으로 하는 디스플레이 시스템.
  9. 제 8항에 있어서, 상기 주사 수단으로부터 떨어져 상기 출사동의 이미지를 제공하도록 상기 주사 수단으로부터 출사하는 광경로에 배치된 광중계기(51, 53)를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 디스플레이 시스템.
  10. 제 4항에 있어서, 상기 확대된 이미지는 실상이며 상기 관측자에 의해 관측가능한 수신면상에 결상되도록 상기 확대렌즈에 의하여 투사되는 것을 특징으로 하는 디스플레이 시스템.
  11. 제 10항에 있어서, 상기 수신면은 관측 스크린인 것을 특징으로 하는 디스플레이 시스템.
  12. 관측자에 의해 관측가능한 수신면상에 이차원 이미지를 투사하는 디스플레이 시스템에 있어서,
    서로 평행하게 이격하여 배열된 가늘고 긴 능동 반사부재(12, 12A) 열을 포함하는 격자 광-밸브 어레이(10, 10A)를 포함하는데, 상기 각각의 능동 반사부재는 수동 반사부재(18, 18A)가 배치된 평면과 평행한 평면을 통하여 대응하는 수동 반사부재에 대하여 개별적으로 가동할 수 있으며, 상기 대응하는 능동 반사부재 및 수동 반사부재는 서로 상기 능동 및 수동 반사부재의 평면 분리에 의존하여 입사되는 광을 회절 및/또는 반사시키며;
    상기 격자 광-밸브 어레이(10, 10A)상에 광이 입사하도록 하는 조사 수단(32R, 32G, 32B, 36, 42);
    상기 격자 광-밸브 어레이의 광의 회절된 부분과 상기 광-밸브 어레이의 상기 광의 회절되지 않은 부분을 분리하는 수단(50, 54);
    디스플레이될 이미지 엘리먼트에 대응하도록 상기 격자 광-밸브 어레이(10, 10A)의 동작 엘리먼트들 동작시키는 전자 수단(70);
    상기 분리된 회절광 부분을 통하여 상기 격자 광-밸브 어레이의 확대된 실상을 수신면으로 투사하며, 제 1 및 제 2렌즈 엘리먼트 그룹(50, 55)을 포함하는 투사 렌즈 수단; 및
    상기 확대된 실상을 이차원 이미지로서 상기 관측자에게 나타내기 위하여, 상기 이차원 이미지의 순차적 라인을 나타내도록 상기 전자 수단과 협력하여 수신면을 관측하는 관측자의 관측 시야를 통하여 상기 확대된 이미지를 주사하는 주사 수단을 포함하며,
    상기 제 1렌즈 엘리먼트 그룹(50), 상기 격자 광-밸브 어레이(10, 10A) 및 상기 회절광 분리 수단(50, 54)은 상기 격자 광-밸브 어레이와 텔레센트릭 형태(49)로 배열되며, 상기 회절광 분리 수단은 각각 텔레센트릭 물체 위치 및 상기 제 1렌즈 엘리먼트 그룹의 출사동 근방에 배치되며, 상기 제 1엘리먼트 그룹의 출사동은 상기 제 1엘리먼트 그룹 및 제 2엘리먼트 그룹사이에 배치되는 것을 특징으로 하는 디스플레이 시스템.
  13. 제 12항에 있어서, 상기 주사 수단은 상기 제 1엘리먼트 그룹(50)의 출사동 근방에 배치되는 것을 특징으로 하는 디스플레이 시스템.
  14. 제 12항에 있어서, 상기 제 1렌즈 엘리먼트 그룹(50)은 접안렌즈인 것을 특징으로 하는 디스플레이 시스템.
  15. 제 14항에 있어서, 상기 접안렌즈는 호이겐스, 람스덴, 켈너, 플뢰셀, 아베, 쾨니히 및 에르플로 구성된 접안렌즈 타입 그룹으로부터 선택된 타입인 것을 특징으로 하는 디스플레이 시스템.
  16. 관측자에게 이차원 이미지를 제공하는 디스플레이 시스템에 있어서,
    서로 평행하게 이격하여 배열된 가늘고 긴 능동 반사부재(12, 12A) 열을 포함하는 격자 광-밸브 어레이(10, 10A)를 포함하는데, 상기 각각의 능동 반사부재는 수동 반사부재(18, 18A)가 배치된 평면과 평행한 평면을 통하여 대응하는 수동 반사부재에 대하여 개별적으로 가동할 수 있으며, 상기 대응하는 능동 반사부재 및 수동 반사부재는 서로 상기 능동 및 수동 반사부재의 평면 분리에 의존하여 입사되는 광을 회절 및/또는 반사시키며;
    광학축을 가지며, 상기 격자 광-밸브 어레이(10, 10A), 포지티브 렌즈(50) 및 하나의 가늘고 긴 방향전환 거울 장치(80)를 포함하는 겹침 텔레센트릭 제 1광학 중계기(79, 80);
    디스플레이될 이미지 엘리먼트에 대응하도록 상기 격자 광-밸브 어레이(10, 10A)의 능동 반사부재(12, 12A)를 이동시키는 전자 수단(70); 및
    상기 포지티브 렌즈로부터 관측자로의 상기 회절된 광 부분 경로에 위치하며, 상기 확대된 허상을 이차원 이미지로서 상기 관측자에게 나타내기 위하여, 전자 수단과 협력하여 상기 관측자의 관측 시야를 통하여 상기 확대된 허상을 주사하는 주사 수단을 포함하며,
    상기 방향전환 거울은 상기 광학축상의 상기 제 1광중계기의 물체 위치 근방에서 상기 포지티브 렌즈의 한쪽 위에 배치되며 상기 광학축으로 기울며, 상기 격자 광-밸브 어레이는 상기 광학축상의 상기 광중계기의 내부동 위치 근방에서 상기 포지티브 렌즈의 반대쪽위에 배치되며;
    상기 방향전환 거울 장치(80)는 상기 방향전환 거울 장치에 입사된 광원(32R, 32G, 32B)의 광이 상기 포지티브 렌즈(50)를 통하여 전달되도록 배치되며, 상기 전달되는 광은 상기 격자 광-밸브 어레이(10, 10A)상에 입사되며;
    상기 격자 광-밸브 어레이(10, 10A)는 상기 격자 광-밸브 어레이로부터 반사된 광 부분이 상기 포지티브 렌즈(50)를 통과하고, 상기 방향전환 거울 장치(80)에 이미지가 형성되고, 상기 방향전환 거울에 의하여 상기 광원(32R, 32G, 32B)으로 전달되도록 배치되며;
    상기 격자 광-밸브 어레이(10, 10A)는 상기 격자 광-밸브 어레이로부터 회절된 광 부분이 상기 포지티브 렌즈(50)를 통하여 전달되고 상기 포지티브 렌즈의 외부동을 통하여 관측자쪽으로 전달되어 상기 방향전환 거울 장치(80)를 통과하도록 배치되며;
    상기 방향전환 거울(80)은 상기 회절된 광 부분만이 상기 관측자에게 도달하도록 하고 상기 포지티브 렌즈(50)는 상기 입사광의 상기 회절된 부분을 통하여 상기 격자 광-밸브 어레이의 확대된 허상을 관측자에게 제공하는 것을 특징으로 하는 디스플레이 시스템.
  17. 제 16항에 있어서, 상기 포지티브 렌즈(50)는 접안렌즈인 것을 특징으로 하는 디스플레이 시스템.
  18. 제 17항에 있어서, 상기 접안렌즈는 호이겐스, 람스덴, 켈너, 플뢰셀, 아베, 쾨니히 및 에르플로 구성된 접안렌즈 타입 그룹으로부터 선택된 타입인 것을 특징으로 하는 디스플레이 시스템.
  19. 제 16항에 있어서, 상기 주사 수단으로부터 떨어져 상기 출사동의 이미지를 제공하도록 상기 포지티브 렌즈(50)의 출사동을 통과한 상기 회절된 광 부분의 경로에 배치된 제 2광중계기 수단(51, 53)을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 디스플레이 시스템.
  20. 제 16항에 있어서, 상기 가늘고 긴 방향전환 거울 장치는 적어도 두 개의 가늘고 긴 방향전환 거울을 포함하는 것을 특징으로 하는 디스플레이 시스템.
  21. 제 20항에 있어서, 상기 포지티브 렌즈는 접안렌즈인 것을 특징으로 하는 디스플레이 시스템.
  22. 제 21항에 있어서, 상기 접안렌즈는 켈너, 플뢰셀 및 에르플들로 구성된 접안렌즈 타입 그룹으로부터 선택된 타입인 것을 특징으로 하는 디스플레이 시스템.
  23. 제 20항에 있어서, 상기 주사 수단으로부터 떨어져 상기 출사동의 이미지를 제공하도록 상기 포지티브 렌즈의 출사동을 통과한 상기 회절된 광 부분의 경로에 배치된 제 2광중계기 수단을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 디스플레이 시스템.
  24. 관측자에 의해 관측가능한 수신면상에 이차원 이미지를 투사하는 디스플레이 시스템에 있어서,
    서로 평행하게 이격하여 배열된 가늘고 긴 능동 반사부재(12, 12A) 열을 포함하는 격자 광-밸브 어레이(10, 10A)를 포함하는데, 상기 각각의 능동 반사부재는 수동 반사부재(18, 18A)가 배치된 평면과 평행한 평면을 통하여 대응하는 수동 반사부재에 대하여 개별적으로 가동할 수 있으며, 상기 대응하는 능동 반사부재 및 수동 반사부재는 서로 상기 능동 및 수동 반사부재의 평면 분리에 의존하여 입사되는 광을 회절 및/또는 반사시키며;
    광학축을 가지며, 상기 격자 광-밸브 어레이(10, 10A), 포지티브 렌즈(50) 및 하나의 가늘고 긴 방향전환 거울 장치(80)를 포함하는 겹침 텔레센트릭 광중계기(79, 80);
    디스플레이될 이미지 엘리먼트에 대응하도록 상기 격자 광-밸브 어레이(10, 10A)의 능동 반사부재(12, 12A)를 이동시키는 전자 수단(70); 및
    상기 포지티브 렌즈로부터 수신면으로의 상기 회절된 광 부분 경로에 위치하며, 상기 확대된 허상을 이차원 이미지로서 상기 관측자에게 나타내기 위하여, 전자 수단과 협력하여 상기 수신면상의 상기 확대된 허상을 주사하는 주사 수단을 포함하며,
    상기 방향전환 거울은 상기 광학축상의 상기 광중계기의 물체 위치 근방에서 상기 포지티브 렌즈의 한쪽 위에 배치되며 상기 광학축으로 기울며, 상기 격자 광-밸브 어레이는 상기 광학축상의 상기 광중계기의 내부동 위치 근방에서 상기 포지티브 렌즈의 반대쪽위에 배치되며;
    상기 방향전환 거울 장치(80)는 상기 방향전환 거울 장치에 입사된 광원(32R, 32G, 32B)의 광이 상기 포지티브 렌즈(50)를 통하여 전달하여 상기 전달되는 광이 상기 격자 광-밸브 어레이(10, 10A)상에 입사되도록 배치되며;
    상기 격자 광-밸브 어레이(10, 10A)는 상기 격자 광-밸브 어레이로부터 반사된 광 부분이 상기 포지티브 렌즈(50)를 통과하고 상기 방향전환 거울 장치(80)에 상기 포지티브 렌즈에 의하여 이미지가 형성되고 상기 방향전환 거울에 의하여 상기 광원(32R, 32G, 32B)으로 전달되도록 배치되며;
    상기 격자 광-밸브 어레이(10, 10A)는 상기 격자 광-밸브 어레이로부터 회절된 광 부분이 상기 포지티브 렌즈(50)를 통하여 전달되고 상기 포지티브 렌즈의 외부동을 통하여 광-밸브 어레이의 한쪽면상의 상기 방향전환 거울 장치(80)를 통하여 관측자로 전달되도록 배치되며;
    상기 방향전환 거울(80)은 상기 회절된 광 부분만이 상기 수신면에 도달하도록 하고 상기 포지티브 렌즈(50) 및 상기 격자 광-밸브 어레이(10, 10A)는 상기 포지티브 렌즈가 상기 입사광의 상기 회절된 부분을 통하여 상기 격자 광-밸브 어레이의 확대된 허상을 투사하여 관측자에 의해 관측가능한 수신면상에 결상되도록 배열되는 것을 특징으로 하는 디스플레이 시스템.
  25. 제 24항에 있어서, 상기 포지티브 렌즈(50)는 접안렌즈인 것을 특징으로 하는 디스플레이 시스템.
  26. 제 25항에 있어서, 상기 접안렌즈는 호이겐스, 람스덴, 켈너, 플뢰셀, 아베, 쾨니히 및 에르플들로 구성된 접안렌즈 타입 그룹으로부터 선택된 타입인 것을 특징으로 하는 디스플레이 시스템.
  27. 제 24항에 있어서, 상기 가늘고 긴 방향전환 거울 장치는 적어도 두 개의 가늘고 긴 방향전환 거울을 포함하는 것을 특징으로 하는 디스플레이 시스템.
  28. 제 27항에 있어서, 상기 포지티브 렌즈는 접안렌즈인 것을 특징으로 하는 디스플레이 시스템.
  29. 제 28항에 있어서, 상기 접안렌즈는 켈너, 플뢰셀 및 에르플들로 구성된 접안렌즈 타입 그룹으로부터 선택된 타입인 것을 특징으로 하는 디스플레이 시스템.
  30. 이차원 이미지를 인쇄 매체에 인쇄하는 시스템에 있어서,
    서로 평행하게 이격하여 배열된 가늘고 긴 능동 반사부재(12, 12A) 열을 포함하는 격자 광-밸브 어레이(10, 10A)를 포함하는데, 상기 각각의 능동 반사부재는 수동 반사부재(18, 18A)가 배치된 평면과 평행하고 이로부터 분리된 평면을 통하여 대응하는 수동 반사부재에 대하여 개별적으로 가동할 수 있으며, 상기 대응하는 능동 반사부재 및 수동 반사부재는 서로 상기 능동 및 수동 반사부재의 평면 분리에 의존하여 입사되는 광을 회절 및/또는 반사시키며;
    상기 격자 광-밸브 어레이(10, 10A)상에 광이 입사하도록 하는 조사 수단(32R, 32G, 32B, 36, 42);
    상기 격자 광-밸브 어레이(10, 10A)의 광의 회절된 부분과 상기 격자 광-밸브 어레이의 상기 광의 반사된 부분을 분리하는 수단(50, 54, 80);
    디스플레이될 이미지 엘리먼트에 대응하도록 상기 격자 광-밸브 어레이(10, 10A)의 능동 반사부재를 이동시키는 전자 수단(70);
    상기 분리되고 회절된 광 부분을 통하여 상기 격자 광-밸브 어레이(10, 10A)의 확대된 실상을 상기 인쇄 매체에 투사하는 확대렌즈 수단(50); 및
    상기 전자 수단과 협력하여 상기 확대된 실상이 인쇄 매체의 순차적 위치에 이차원 이미지의 순차적 라인으로 형성되도록 상기 확대된 실상에 대하여 인쇄 매체를 이동시키는 주사 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 시스템.
  31. 제 30항에 있어서, 상기 확대렌즈 수단(50), 상기 격자 광-밸브 어레이(10, 10A) 및 상기 회절광 분리 수단(50, 54, 80)은 상기 광-밸브 어레이와 텔레센트릭 형태로 배열되며, 상기 회절광 분리 수단은 각각 텔레센트릭 물체 위치 및 상기 확대렌즈 수단의 출사동에 배치되는 것을 특징으로 하는 시스템.
  32. 제 30항에 있어서, 상기 확대렌즈 수단(50)은 접안렌즈인 것을 특징으로 하는 시스템.
  33. 제 32항에 있어서, 상기 접안렌즈는 켈너, 플뢰셀 및 에르플로 구성된 접안렌즈 타입 그룹으로부터 선택된 타입인 것을 특징으로 하는 시스템.
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Families Citing this family (362)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6969635B2 (en) 2000-12-07 2005-11-29 Reflectivity, Inc. Methods for depositing, releasing and packaging micro-electromechanical devices on wafer substrates
US20080248046A1 (en) * 1997-03-17 2008-10-09 Human Genome Sciences, Inc. Death domain containing receptor 5
GB9807186D0 (en) * 1998-04-04 1998-06-03 Marconi Gec Ltd Display arrangements
US6271808B1 (en) 1998-06-05 2001-08-07 Silicon Light Machines Stereo head mounted display using a single display device
US6303986B1 (en) 1998-07-29 2001-10-16 Silicon Light Machines Method of and apparatus for sealing an hermetic lid to a semiconductor die
DE19835072A1 (de) * 1998-08-04 2000-02-10 Zeiss Carl Jena Gmbh Anordnung zur Beleuchtung und/oder Detektion in einem Mikroskop
US6962419B2 (en) 1998-09-24 2005-11-08 Reflectivity, Inc Micromirror elements, package for the micromirror elements, and projection system therefor
US6342960B1 (en) * 1998-12-18 2002-01-29 The Boeing Company Wavelength division multiplex transmitter
US6724125B2 (en) 1999-03-30 2004-04-20 Massachusetts Institute Of Technology Methods and apparatus for diffractive optical processing using an actuatable structure
US6826330B1 (en) 1999-08-11 2004-11-30 Lightconnect, Inc. Dynamic spectral shaping for fiber-optic application
US6674563B2 (en) 2000-04-13 2004-01-06 Lightconnect, Inc. Method and apparatus for device linearization
US6501600B1 (en) 1999-08-11 2002-12-31 Lightconnect, Inc. Polarization independent grating modulator
JP4474000B2 (ja) * 2000-01-20 2010-06-02 キヤノン株式会社 投影装置
US6608621B2 (en) * 2000-01-20 2003-08-19 Canon Kabushiki Kaisha Image displaying method and apparatus
US6307663B1 (en) 2000-01-26 2001-10-23 Eastman Kodak Company Spatial light modulator with conformal grating device
US6888983B2 (en) 2000-04-14 2005-05-03 Lightconnect, Inc. Dynamic gain and channel equalizers
EP1172681A3 (en) 2000-07-13 2004-06-09 Creo IL. Ltd. Blazed micro-mechanical light modulator and array thereof
JP3590334B2 (ja) * 2000-08-28 2004-11-17 大日本スクリーン製造株式会社 画像記録装置
JP3512171B2 (ja) * 2000-08-28 2004-03-29 大日本スクリーン製造株式会社 画像記録装置
US6411425B1 (en) * 2000-09-27 2002-06-25 Eastman Kodak Company Electromechanical grating display system with spatially separated light beams
JP3766586B2 (ja) 2000-10-02 2006-04-12 株式会社日立製作所 光学エンジン、映像表示装置及び色切替方法
US6323984B1 (en) 2000-10-11 2001-11-27 Silicon Light Machines Method and apparatus for reducing laser speckle
FR2815422B1 (fr) * 2000-10-13 2003-09-19 Commissariat Energie Atomique Systeme de visualisation indiduel
JP2002162599A (ja) * 2000-11-24 2002-06-07 Sony Corp 立体画像表示装置
US6836309B2 (en) 2000-11-30 2004-12-28 Hana Microdisplay Technologies, Inc. High contrast reflective light valve
US6476848B2 (en) 2000-12-21 2002-11-05 Eastman Kodak Company Electromechanical grating display system with segmented waveplate
US6567584B2 (en) * 2001-02-12 2003-05-20 Silicon Light Machines Illumination system for one-dimensional spatial light modulators employing multiple light sources
EP1373963A4 (en) * 2001-03-02 2006-04-26 Massachusetts Inst Technology METHOD AND DEVICE FOR DIFRACTIVE OPTICAL PROCESSING USING AN ACTIVE STRUCTURE
US7177081B2 (en) * 2001-03-08 2007-02-13 Silicon Light Machines Corporation High contrast grating light valve type device
US20030208753A1 (en) * 2001-04-10 2003-11-06 Silicon Light Machines Method, system, and display apparatus for encrypted cinema
US6614580B2 (en) 2001-04-10 2003-09-02 Silicon Light Machines Modulation of light out of the focal plane in a light modulator based projection system
US6707591B2 (en) 2001-04-10 2004-03-16 Silicon Light Machines Angled illumination for a single order light modulator based projection system
JP3823751B2 (ja) * 2001-04-17 2006-09-20 ソニー株式会社 画像表示装置
US6747781B2 (en) 2001-06-25 2004-06-08 Silicon Light Machines, Inc. Method, apparatus, and diffuser for reducing laser speckle
US6782205B2 (en) 2001-06-25 2004-08-24 Silicon Light Machines Method and apparatus for dynamic equalization in wavelength division multiplexing
US6639722B2 (en) 2001-08-15 2003-10-28 Silicon Light Machines Stress tuned blazed grating light valve
US6785001B2 (en) 2001-08-21 2004-08-31 Silicon Light Machines, Inc. Method and apparatus for measuring wavelength jitter of light signal
KR100416548B1 (ko) * 2001-10-10 2004-02-05 삼성전자주식회사 3차원 영상 표시장치
US7046410B2 (en) 2001-10-11 2006-05-16 Polychromix, Inc. Actuatable diffractive optical processor
US6532097B1 (en) 2001-10-11 2003-03-11 Applied Materials, Inc. Image registration apparatus having an adjustable reflective diffraction grating and method
US6567217B1 (en) 2001-11-06 2003-05-20 Eastman Kodak Company Image-forming system with enhanced gray levels
US6611380B2 (en) 2001-12-21 2003-08-26 Eastman Kodak Company System and method for calibration of display system with linear array modulator
US6800238B1 (en) 2002-01-15 2004-10-05 Silicon Light Machines, Inc. Method for domain patterning in low coercive field ferroelectrics
JP3558066B2 (ja) * 2002-02-19 2004-08-25 ソニー株式会社 Ｍｅｍｓ素子とその製造方法、光変調素子、ｇｌｖデバイスとその製造方法、及びレーザディスプレイ
US6987240B2 (en) * 2002-04-18 2006-01-17 Applied Materials, Inc. Thermal flux processing by scanning
US6767751B2 (en) 2002-05-28 2004-07-27 Silicon Light Machines, Inc. Integrated driver process flow
US6728023B1 (en) 2002-05-28 2004-04-27 Silicon Light Machines Optical device arrays with optimized image resolution
JP2004004256A (ja) * 2002-05-31 2004-01-08 Sony Corp 光走査装置及び２次元画像形成装置
US6822797B1 (en) 2002-05-31 2004-11-23 Silicon Light Machines, Inc. Light modulator structure for producing high-contrast operation using zero-order light
US6678085B2 (en) * 2002-06-12 2004-01-13 Eastman Kodak Company High-contrast display system with scanned conformal grating device
US6829258B1 (en) 2002-06-26 2004-12-07 Silicon Light Machines, Inc. Rapidly tunable external cavity laser
US6813059B2 (en) 2002-06-28 2004-11-02 Silicon Light Machines, Inc. Reduced formation of asperities in contact micro-structures
US6714337B1 (en) 2002-06-28 2004-03-30 Silicon Light Machines Method and device for modulating a light beam and having an improved gamma response
US20040004843A1 (en) * 2002-07-03 2004-01-08 Volker Melzer System and method for providing polychromatic illumination of selected frequencies
KR100648904B1 (ko) * 2002-07-10 2006-11-24 후지 샤신 필름 가부시기가이샤 디스플레이장치
JP2004045684A (ja) * 2002-07-11 2004-02-12 Sony Corp 画像表示装置における照明光学装置及び画像表示装置
US7150537B2 (en) 2002-08-16 2006-12-19 Infocus Corporation Projection television device and screen
US6801354B1 (en) 2002-08-20 2004-10-05 Silicon Light Machines, Inc. 2-D diffraction grating for substantially eliminating polarization dependent losses
JP2004139023A (ja) * 2002-08-21 2004-05-13 Sony Corp ホログラム記録装置、ホログラム記録方法、およびホログラム記録媒体
US6712480B1 (en) 2002-09-27 2004-03-30 Silicon Light Machines Controlled curvature of stressed micro-structures
TWI226940B (en) * 2002-10-01 2005-01-21 Sony Corp Optical scan device, image position calibration method, and image display device
US6967986B2 (en) 2002-10-16 2005-11-22 Eastman Kodak Company Light modulation apparatus using a VCSEL array with an electromechanical grating device
JP2004157522A (ja) * 2002-10-17 2004-06-03 Sony Corp 画像生成装置、画像表示装置、画像表示方法、及び光変調素子調整装置
US6947459B2 (en) * 2002-11-25 2005-09-20 Eastman Kodak Company Organic vertical cavity laser and imaging system
US6967758B2 (en) * 2003-02-04 2005-11-22 Silicon Light Machines Corporation System and method for sub-pixel electronic alignment
US6885494B2 (en) * 2003-02-12 2005-04-26 Reflectivity, Inc. High angle micro-mirrors and processes
US6806997B1 (en) 2003-02-28 2004-10-19 Silicon Light Machines, Inc. Patterned diffractive light modulator ribbon for PDL reduction
US6829077B1 (en) 2003-02-28 2004-12-07 Silicon Light Machines, Inc. Diffractive light modulator with dynamically rotatable diffraction plane
US7063920B2 (en) * 2003-05-16 2006-06-20 Asml Holding, N.V. Method for the generation of variable pitch nested lines and/or contact holes using fixed size pixels for direct-write lithographic systems
JP4371705B2 (ja) * 2003-05-20 2009-11-25 キヤノン株式会社 走査型画像表示装置
US6873398B2 (en) * 2003-05-21 2005-03-29 Esko-Graphics A/S Method and apparatus for multi-track imaging using single-mode beams and diffraction-limited optics
EP1480080A1 (en) * 2003-05-22 2004-11-24 ASML Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
TWI304522B (en) * 2003-05-28 2008-12-21 Asml Netherlands Bv Lithographic apparatus, method of calibrating and device manufacturing method
US7061591B2 (en) * 2003-05-30 2006-06-13 Asml Holding N.V. Maskless lithography systems and methods utilizing spatial light modulator arrays
US6989920B2 (en) * 2003-05-29 2006-01-24 Asml Holding N.V. System and method for dose control in a lithographic system
EP1482373A1 (en) * 2003-05-30 2004-12-01 ASML Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7016015B2 (en) * 2003-06-20 2006-03-21 Asml Netherlands B.V Lithographic apparatus and device manufacturing method
EP1489449A1 (en) * 2003-06-20 2004-12-22 ASML Netherlands B.V. Spatial light modulator
JP4411875B2 (ja) * 2003-06-20 2010-02-10 ソニー株式会社 光変調素子及びこれを用いた画像表示装置
US7110082B2 (en) * 2003-06-24 2006-09-19 Asml Holding N.V. Optical system for maskless lithography
SG119224A1 (en) * 2003-06-26 2006-02-28 Asml Netherlands Bv Calibration method for a lithographic apparatus and device manufacturing method
US7154587B2 (en) * 2003-06-30 2006-12-26 Asml Netherlands B.V Spatial light modulator, lithographic apparatus and device manufacturing method
US7158215B2 (en) * 2003-06-30 2007-01-02 Asml Holding N.V. Large field of view protection optical system with aberration correctability for flat panel displays
US7224504B2 (en) 2003-07-30 2007-05-29 Asml Holding N. V. Deformable mirror using piezoelectric actuators formed as an integrated circuit and method of use
US6831768B1 (en) 2003-07-31 2004-12-14 Asml Holding N.V. Using time and/or power modulation to achieve dose gray-scaling in optical maskless lithography
JP4534453B2 (ja) * 2003-09-04 2010-09-01 ソニー株式会社 投射型画像表示装置
US7414701B2 (en) * 2003-10-03 2008-08-19 Asml Holding N.V. Method and systems for total focus deviation adjustments on maskless lithography systems
SG110196A1 (en) * 2003-09-22 2005-04-28 Asml Netherlands Bv Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7023526B2 (en) * 2003-09-30 2006-04-04 Asml Holding N.V. Methods and systems to compensate for a stitching disturbance of a printed pattern in a maskless lithography system utilizing overlap without an explicit attenuation
US6876440B1 (en) * 2003-09-30 2005-04-05 Asml Holding N.V. Methods and systems to compensate for a stitching disturbance of a printed pattern in a maskless lithography system utilizing overlap of exposure zones with attenuation of the aerial image in the overlap region
US7410736B2 (en) * 2003-09-30 2008-08-12 Asml Holding N.V. Methods and systems to compensate for a stitching disturbance of a printed pattern in a maskless lithography system not utilizing overlap of the exposure zones
US7109498B2 (en) * 2003-10-09 2006-09-19 Asml Netherlands B.V. Radiation source, lithographic apparatus, and device manufacturing method
KR100754064B1 (ko) * 2003-11-03 2007-08-31 삼성전기주식회사 광변조기를 이용한 스캐닝 장치
US7116398B2 (en) * 2003-11-07 2006-10-03 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7196772B2 (en) * 2003-11-07 2007-03-27 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7274500B2 (en) * 2003-12-03 2007-09-25 Eastman Kodak Company Display system incorporating trilinear electromechanical grating device
US7001232B2 (en) * 2003-12-11 2006-02-21 Montgomery Robert E Personal watercraft air intake assembly
US6995830B2 (en) * 2003-12-22 2006-02-07 Asml Netherlands B.V. Lithographic projection apparatus and device manufacturing method
US7012674B2 (en) * 2004-01-13 2006-03-14 Asml Holding N.V. Maskless optical writer
US7580559B2 (en) * 2004-01-29 2009-08-25 Asml Holding N.V. System and method for calibrating a spatial light modulator
JP4083751B2 (ja) * 2004-01-29 2008-04-30 エーエスエムエル ホールディング エヌ．ブイ． 空間光変調器アレイを較正するシステムおよび空間光変調器アレイを較正する方法
US6847461B1 (en) * 2004-01-29 2005-01-25 Asml Holding N.V. System and method for calibrating a spatial light modulator array using shearing interferometry
US7133118B2 (en) * 2004-02-18 2006-11-07 Asml Netherlands, B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7190434B2 (en) * 2004-02-18 2007-03-13 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7081947B2 (en) * 2004-02-27 2006-07-25 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7016014B2 (en) * 2004-02-27 2006-03-21 Asml Netherlands B.V Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7061586B2 (en) * 2004-03-02 2006-06-13 Asml Netherlands Bv Lithographic apparatus and device manufacturing method
US6967711B2 (en) * 2004-03-09 2005-11-22 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7094506B2 (en) * 2004-03-09 2006-08-22 Asml Netherlands B.V Lithographic apparatus and device manufacturing method
USRE43515E1 (en) 2004-03-09 2012-07-17 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7227618B1 (en) 2004-03-24 2007-06-05 Baokang Bi Pattern generating systems
US7561251B2 (en) * 2004-03-29 2009-07-14 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7053981B2 (en) * 2004-03-31 2006-05-30 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7153616B2 (en) * 2004-03-31 2006-12-26 Asml Holding N.V. System and method for verifying and controlling the performance of a maskless lithography tool
US7002666B2 (en) * 2004-04-16 2006-02-21 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US6963434B1 (en) * 2004-04-30 2005-11-08 Asml Holding N.V. System and method for calculating aerial image of a spatial light modulator
US20050243295A1 (en) * 2004-04-30 2005-11-03 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing
US20050259269A1 (en) 2004-05-19 2005-11-24 Asml Holding N.V. Shearing interferometer with dynamic pupil fill
US7242456B2 (en) * 2004-05-26 2007-07-10 Asml Holdings N.V. System and method utilizing a lithography tool having modular illumination, pattern generator, and projection optics portions
US7477403B2 (en) * 2004-05-27 2009-01-13 Asml Netherlands B.V. Optical position assessment apparatus and method
US6989886B2 (en) * 2004-06-08 2006-01-24 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7123348B2 (en) * 2004-06-08 2006-10-17 Asml Netherlands B.V Lithographic apparatus and method utilizing dose control
US7016016B2 (en) * 2004-06-25 2006-03-21 Asml Netherlands Bv Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7116403B2 (en) * 2004-06-28 2006-10-03 Asml Netherlands B.V Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7158208B2 (en) * 2004-06-30 2007-01-02 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7116404B2 (en) * 2004-06-30 2006-10-03 Asml Netherlands B.V Lithographic apparatus and device manufacturing method
US20060001890A1 (en) * 2004-07-02 2006-01-05 Asml Holding N.V. Spatial light modulator as source module for DUV wavefront sensor
US7573574B2 (en) * 2004-07-13 2009-08-11 Asml Netherlands Bv Lithographic apparatus and device manufacturing method
US20060012779A1 (en) * 2004-07-13 2006-01-19 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7259829B2 (en) * 2004-07-26 2007-08-21 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7227613B2 (en) * 2004-07-26 2007-06-05 Asml Holding N.V. Lithographic apparatus having double telecentric illumination
US7335398B2 (en) * 2004-07-26 2008-02-26 Asml Holding N.V. Method to modify the spatial response of a pattern generator
US7142286B2 (en) * 2004-07-27 2006-11-28 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7251020B2 (en) * 2004-07-30 2007-07-31 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7538855B2 (en) * 2004-08-10 2009-05-26 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7102733B2 (en) * 2004-08-13 2006-09-05 Asml Holding N.V. System and method to compensate for static and dynamic misalignments and deformations in a maskless lithography tool
JP4290095B2 (ja) * 2004-08-16 2009-07-01 キヤノン株式会社 表示光学系および画像表示システム
US7304718B2 (en) * 2004-08-17 2007-12-04 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7500218B2 (en) * 2004-08-17 2009-03-03 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus, method, and computer program product for generating a mask pattern and device manufacturing method using same
US20080013052A1 (en) * 2004-09-08 2008-01-17 Koninklijke Philips Electronics, N.V. Projection Display Device
US7079225B2 (en) * 2004-09-14 2006-07-18 Asml Netherlands B.V Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7177012B2 (en) 2004-10-18 2007-02-13 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7388663B2 (en) 2004-10-28 2008-06-17 Asml Netherlands B.V. Optical position assessment apparatus and method
US7423732B2 (en) * 2004-11-04 2008-09-09 Asml Holding N.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing placement of a patterning device at a pupil plane
US7609362B2 (en) * 2004-11-08 2009-10-27 Asml Netherlands B.V. Scanning lithographic apparatus and device manufacturing method
US7170584B2 (en) * 2004-11-17 2007-01-30 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7061581B1 (en) * 2004-11-22 2006-06-13 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7474384B2 (en) * 2004-11-22 2009-01-06 Asml Holding N.V. Lithographic apparatus, device manufacturing method, and a projection element for use in the lithographic apparatus
US7643192B2 (en) * 2004-11-24 2010-01-05 Asml Holding N.V. Pattern generator using a dual phase step element and method of using same
US7446925B2 (en) * 2004-11-26 2008-11-04 Alces Technology Micro-electromechanical light modulator with anamorphic optics
US7054051B1 (en) * 2004-11-26 2006-05-30 Alces Technology, Inc. Differential interferometric light modulator and image display device
US7277216B2 (en) * 2004-11-26 2007-10-02 Alces Technology Differential interferometric light modulator and image display system
US7286277B2 (en) * 2004-11-26 2007-10-23 Alces Technology, Inc. Polarization light modulator
US7333177B2 (en) * 2004-11-30 2008-02-19 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7713667B2 (en) * 2004-11-30 2010-05-11 Asml Holding N.V. System and method for generating pattern data used to control a pattern generator
US7365848B2 (en) * 2004-12-01 2008-04-29 Asml Holding N.V. System and method using visible and infrared light to align and measure alignment patterns on multiple layers
US7391499B2 (en) * 2004-12-02 2008-06-24 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7362415B2 (en) * 2004-12-07 2008-04-22 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7355677B2 (en) * 2004-12-09 2008-04-08 Asml Netherlands B.V. System and method for an improved illumination system in a lithographic apparatus
US7046446B1 (en) 2004-12-15 2006-05-16 Eastman Kodak Company Speckle reduction for display system with electromechanical grating
US7119936B2 (en) * 2004-12-15 2006-10-10 Eastman Kodak Company Speckle reduction for display system with electromechanical grating
US7349068B2 (en) * 2004-12-17 2008-03-25 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7180577B2 (en) * 2004-12-17 2007-02-20 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing a microlens array at an image plane
US7274502B2 (en) * 2004-12-22 2007-09-25 Asml Holding N.V. System, apparatus and method for maskless lithography that emulates binary, attenuating phase-shift and alternating phase-shift masks
US7375795B2 (en) * 2004-12-22 2008-05-20 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus, device manufacturing method, and device manufactured thereby
US7391676B2 (en) 2004-12-22 2008-06-24 Asml Netherlands B.V. Ultrasonic distance sensors
US7202939B2 (en) * 2004-12-22 2007-04-10 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7230677B2 (en) * 2004-12-22 2007-06-12 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing hexagonal image grids
US7256867B2 (en) * 2004-12-22 2007-08-14 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7426076B2 (en) * 2004-12-23 2008-09-16 Asml Holding N.V. Projection system for a lithographic apparatus
US7538857B2 (en) * 2004-12-23 2009-05-26 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing a substrate handler
US7656506B2 (en) * 2004-12-23 2010-02-02 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing a substrate handler
US7242458B2 (en) * 2004-12-23 2007-07-10 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing a multiple substrate carrier for flat panel display substrates
US7317510B2 (en) * 2004-12-27 2008-01-08 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7126672B2 (en) * 2004-12-27 2006-10-24 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7279110B2 (en) * 2004-12-27 2007-10-09 Asml Holding N.V. Method and apparatus for creating a phase step in mirrors used in spatial light modulator arrays
US7459247B2 (en) * 2004-12-27 2008-12-02 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US20060138349A1 (en) * 2004-12-27 2006-06-29 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7145636B2 (en) * 2004-12-28 2006-12-05 Asml Netherlands Bv System and method for determining maximum operational parameters used in maskless applications
US7756660B2 (en) 2004-12-28 2010-07-13 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7274029B2 (en) * 2004-12-28 2007-09-25 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7403865B2 (en) * 2004-12-28 2008-07-22 Asml Netherlands B.V. System and method for fault indication on a substrate in maskless applications
US7253881B2 (en) * 2004-12-29 2007-08-07 Asml Netherlands Bv Methods and systems for lithographic gray scaling
US7342644B2 (en) * 2004-12-29 2008-03-11 Asml Netherlands B.V. Methods and systems for lithographic beam generation
US7567368B2 (en) * 2005-01-06 2009-07-28 Asml Holding N.V. Systems and methods for minimizing scattered light in multi-SLM maskless lithography
US7542013B2 (en) * 2005-01-31 2009-06-02 Asml Holding N.V. System and method for imaging enhancement via calculation of a customized optimal pupil field and illumination mode
US7460208B2 (en) * 2005-02-18 2008-12-02 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7286137B2 (en) * 2005-02-28 2007-10-23 Asml Holding N.V. Method and system for constrained pixel graytones interpolation for pattern rasterization
US7499146B2 (en) * 2005-03-14 2009-03-03 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method, an integrated circuit, a flat panel display, and a method of compensating for cupping
US7812930B2 (en) * 2005-03-21 2010-10-12 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method using repeated patterns in an LCD to reduce datapath volume
US7209216B2 (en) * 2005-03-25 2007-04-24 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing dynamic correction for magnification and position in maskless lithography
US7403265B2 (en) * 2005-03-30 2008-07-22 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing data filtering
US7193765B2 (en) 2005-03-31 2007-03-20 Evans & Sutherland Computer Corporation Reduction of speckle and interference patterns for laser projectors
US7728956B2 (en) * 2005-04-05 2010-06-01 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing multiple die designs on a substrate using a data buffer that stores pattern variation data
US7209217B2 (en) 2005-04-08 2007-04-24 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing plural patterning devices
US7330239B2 (en) * 2005-04-08 2008-02-12 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing a blazing portion of a contrast device
US7221514B2 (en) * 2005-04-15 2007-05-22 Asml Netherlands B.V. Variable lens and exposure system
US20060244805A1 (en) * 2005-04-27 2006-11-02 Ming-Hsiang Yeh Multicolor pen
US7400382B2 (en) * 2005-04-28 2008-07-15 Asml Holding N.V. Light patterning device using tilting mirrors in a superpixel form
US7738081B2 (en) * 2005-05-06 2010-06-15 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing a flat panel display handler with conveyor device and substrate handler
CA2507177C (en) * 2005-05-13 2012-04-24 Institut National D'optique Image projector with flexible reflective analog modulator
KR100832622B1 (ko) * 2005-05-25 2008-05-27 삼성전기주식회사 광변조기 및 그 광변조기를 이용한 프로젝터를 구비한휴대용 단말기
US7477772B2 (en) * 2005-05-31 2009-01-13 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing 2D run length encoding for image data compression
US7197828B2 (en) * 2005-05-31 2007-04-03 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing FPD chuck Z position measurement
US7628495B2 (en) * 2005-06-06 2009-12-08 Infocus Corporation Mirror-based light path combination for light sources
US7742148B2 (en) * 2005-06-08 2010-06-22 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method for writing a digital image
US7292317B2 (en) * 2005-06-08 2007-11-06 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing substrate stage compensating
US7233384B2 (en) * 2005-06-13 2007-06-19 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method, and device manufactured thereby for calibrating an imaging system with a sensor
US7321416B2 (en) * 2005-06-15 2008-01-22 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus, device manufacturing method, device manufactured thereby, and controllable patterning device utilizing a spatial light modulator with distributed digital to analog conversion
US7408617B2 (en) * 2005-06-24 2008-08-05 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing a large area FPD chuck equipped with encoders an encoder scale calibration method
US7965373B2 (en) * 2005-06-28 2011-06-21 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing a datapath having a balanced calculation load
US7307694B2 (en) * 2005-06-29 2007-12-11 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus, radiation beam inspection device, method of inspecting a beam of radiation and device manufacturing method
US7522258B2 (en) * 2005-06-29 2009-04-21 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing movement of clean air to reduce contamination
US20070013889A1 (en) * 2005-07-12 2007-01-18 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus, device manufacturing method and device manufactured thereby having an increase in depth of focus
KR100897666B1 (ko) * 2005-07-20 2009-05-14 삼성전기주식회사 정역방향 스캐닝 방식의 디스플레이 장치
US7251019B2 (en) * 2005-07-20 2007-07-31 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing a continuous light beam in combination with pixel grid imaging
US7411722B2 (en) * 2005-08-24 2008-08-12 Eastman Kodak Company Display system incorporating bilinear electromechanical grating device
US7606430B2 (en) * 2005-08-30 2009-10-20 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing a multiple dictionary compression method for FPD
US20070046917A1 (en) * 2005-08-31 2007-03-01 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method that compensates for reticle induced CDU
JP2007114750A (ja) * 2005-09-09 2007-05-10 Asml Netherlands Bv 投影システム設計方法、リソグラフィー装置およびデバイス製造方法
US20070063996A1 (en) * 2005-09-14 2007-03-22 Childers Winthrop D Image display system and method
US20070064007A1 (en) * 2005-09-14 2007-03-22 Childers Winthrop D Image display system and method
US20070064008A1 (en) * 2005-09-14 2007-03-22 Childers Winthrop D Image display system and method
US7551154B2 (en) * 2005-09-15 2009-06-23 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Image display system and method
KR100832621B1 (ko) * 2005-09-23 2008-05-27 삼성전기주식회사 정역방향 스캐닝을 수행하는 모바일용 프로젝터
US7830493B2 (en) * 2005-10-04 2010-11-09 Asml Netherlands B.V. System and method for compensating for radiation induced thermal distortions in a substrate or projection system
US7391503B2 (en) * 2005-10-04 2008-06-24 Asml Netherlands B.V. System and method for compensating for thermal expansion of lithography apparatus or substrate
US7332733B2 (en) * 2005-10-05 2008-02-19 Asml Netherlands B.V. System and method to correct for field curvature of multi lens array
US20070127005A1 (en) * 2005-12-02 2007-06-07 Asml Holding N.V. Illumination system
US7626181B2 (en) * 2005-12-09 2009-12-01 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US20070133007A1 (en) * 2005-12-14 2007-06-14 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method using laser trimming of a multiple mirror contrast device
US7440078B2 (en) * 2005-12-20 2008-10-21 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method using interferometric and maskless exposure units
US20070153249A1 (en) * 2005-12-20 2007-07-05 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method using multiple exposures and multiple exposure types
US7466394B2 (en) * 2005-12-21 2008-12-16 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method using a compensation scheme for a patterning array
US8478386B2 (en) 2006-01-10 2013-07-02 Accuvein Inc. Practitioner-mounted micro vein enhancer
US9492117B2 (en) 2006-01-10 2016-11-15 Accuvein, Inc. Practitioner-mounted micro vein enhancer
US11278240B2 (en) 2006-01-10 2022-03-22 Accuvein, Inc. Trigger-actuated laser vein contrast enhancer
US8838210B2 (en) 2006-06-29 2014-09-16 AccuView, Inc. Scanned laser vein contrast enhancer using a single laser
US9854977B2 (en) 2006-01-10 2018-01-02 Accuvein, Inc. Scanned laser vein contrast enhancer using a single laser, and modulation circuitry
US10813588B2 (en) 2006-01-10 2020-10-27 Accuvein, Inc. Micro vein enhancer
US8255040B2 (en) 2006-06-29 2012-08-28 Accuvein, Llc Micro vein enhancer
US20220087599A1 (en) 2006-01-10 2022-03-24 Accuvein Inc. Scanned Laser Vein Contrast Enhancer with Scanning Correlated to Target Distance
US8489178B2 (en) 2006-06-29 2013-07-16 Accuvein Inc. Enhanced laser vein contrast enhancer with projection of analyzed vein data
US11253198B2 (en) 2006-01-10 2022-02-22 Accuvein, Inc. Stand-mounted scanned laser vein contrast enhancer
US7420177B2 (en) * 2006-01-20 2008-09-02 Evans & Sutherland Computer Corporation High-resolution-imaging system for scanned-column projectors
US20070194239A1 (en) 2006-01-31 2007-08-23 Mcallister Abraham Apparatus and method providing a hand-held spectrometer
US7532403B2 (en) * 2006-02-06 2009-05-12 Asml Holding N.V. Optical system for transforming numerical aperture
WO2007100690A2 (en) * 2006-02-23 2007-09-07 Microvision, Inc. Scanned beam source and systems using a scanned beam source for producing a wavelength-compensated composite beam of light
KR100772398B1 (ko) 2006-02-25 2007-11-01 삼성전자주식회사 ２스캔의 광원 및 이를 이용한 영상장치 및 그 구동방법
US7528933B2 (en) * 2006-04-06 2009-05-05 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing a MEMS mirror with large deflection using a non-linear spring arrangement
US7508491B2 (en) * 2006-04-12 2009-03-24 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method utilized to reduce quantization influence of datapath SLM interface to dose uniformity
US7948606B2 (en) * 2006-04-13 2011-05-24 Asml Netherlands B.V. Moving beam with respect to diffractive optics in order to reduce interference patterns
US7839487B2 (en) * 2006-04-13 2010-11-23 Asml Holding N.V. Optical system for increasing illumination efficiency of a patterning device
US8264667B2 (en) * 2006-05-04 2012-09-11 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method using interferometric and other exposure
US8934084B2 (en) 2006-05-31 2015-01-13 Asml Holding N.V. System and method for printing interference patterns having a pitch in a lithography system
US7728954B2 (en) * 2006-06-06 2010-06-01 Asml Netherlands B.V. Reflective loop system producing incoherent radiation
US7649676B2 (en) * 2006-06-14 2010-01-19 Asml Netherlands B.V. System and method to form unpolarized light
US7936445B2 (en) * 2006-06-19 2011-05-03 Asml Netherlands B.V. Altering pattern data based on measured optical element characteristics
US8896808B2 (en) * 2006-06-21 2014-11-25 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and method
US7697115B2 (en) * 2006-06-23 2010-04-13 Asml Holding N.V. Resonant scanning mirror
US7593094B2 (en) * 2006-06-26 2009-09-22 Asml Netherlands B.V. Patterning device
US8244333B2 (en) * 2006-06-29 2012-08-14 Accuvein, Llc Scanned laser vein contrast enhancer
US20160296146A9 (en) * 2006-06-29 2016-10-13 Fred Wood Apparatus-Mounted Vein Contrast Enchancer
US8463364B2 (en) * 2009-07-22 2013-06-11 Accuvein Inc. Vein scanner
US8730321B2 (en) 2007-06-28 2014-05-20 Accuvein, Inc. Automatic alignment of a contrast enhancement system
US10238294B2 (en) 2006-06-29 2019-03-26 Accuvein, Inc. Scanned laser vein contrast enhancer using one laser
US8594770B2 (en) * 2006-06-29 2013-11-26 Accuvein, Inc. Multispectral detection and presentation of an object's characteristics
US8665507B2 (en) * 2006-06-29 2014-03-04 Accuvein, Inc. Module mounting mirror endoscopy
US20080002174A1 (en) * 2006-06-30 2008-01-03 Asml Netherlands B.V. Control system for pattern generator in maskless lithography
US7630136B2 (en) 2006-07-18 2009-12-08 Asml Holding N.V. Optical integrators for lithography systems and methods
US7548315B2 (en) 2006-07-27 2009-06-16 Asml Netherlands B.V. System and method to compensate for critical dimension non-uniformity in a lithography system
US7738077B2 (en) * 2006-07-31 2010-06-15 Asml Netherlands B.V. Patterning device utilizing sets of stepped mirrors and method of using same
US7549759B2 (en) * 2006-08-28 2009-06-23 Alces Technology, Inc. Micro-electromechanical light modulator with enhanced contrast
KR100905554B1 (ko) * 2006-08-30 2009-07-02 삼성전기주식회사 광변조기를 이용한 프로젝터를 구비한 휴대용 단말기
US7626182B2 (en) 2006-09-05 2009-12-01 Asml Netherlands B.V. Radiation pulse energy control system, lithographic apparatus and device manufacturing method
US7628875B2 (en) * 2006-09-12 2009-12-08 Asml Netherlands B.V. MEMS device and assembly method
US8049865B2 (en) * 2006-09-18 2011-11-01 Asml Netherlands B.V. Lithographic system, device manufacturing method, and mask optimization method
US7400449B2 (en) * 2006-09-29 2008-07-15 Evans & Sutherland Computer Corporation System and method for reduction of image artifacts for laser projectors
US7683300B2 (en) * 2006-10-17 2010-03-23 Asml Netherlands B.V. Using an interferometer as a high speed variable attenuator
US7453551B2 (en) * 2006-11-14 2008-11-18 Asml Netherlands B.V. Increasing pulse-to-pulse radiation beam uniformity
US7738079B2 (en) * 2006-11-14 2010-06-15 Asml Netherlands B.V. Radiation beam pulse trimming
US20080111977A1 (en) 2006-11-14 2008-05-15 Asml Holding N.V. Compensation techniques for fluid and magnetic bearings
US8054449B2 (en) * 2006-11-22 2011-11-08 Asml Holding N.V. Enhancing the image contrast of a high resolution exposure tool
CN101617354A (zh) * 2006-12-12 2009-12-30 埃文斯和萨瑟兰计算机公司 用于校准单个调制器投影仪中的rgb光的系统和方法
US8259285B2 (en) * 2006-12-14 2012-09-04 Asml Holding N.V. Lithographic system, device manufacturing method, setpoint data optimization method, and apparatus for producing optimized setpoint data
KR100853843B1 (ko) 2007-02-02 2008-08-22 삼성전기주식회사 초소형 컬러 디스플레이 장치
US7965378B2 (en) * 2007-02-20 2011-06-21 Asml Holding N.V Optical system and method for illumination of reflective spatial light modulators in maskless lithography
US8009269B2 (en) 2007-03-14 2011-08-30 Asml Holding N.V. Optimal rasterization for maskless lithography
US8009270B2 (en) * 2007-03-22 2011-08-30 Asml Netherlands B.V. Uniform background radiation in maskless lithography
US7714986B2 (en) * 2007-05-24 2010-05-11 Asml Netherlands B.V. Laser beam conditioning system comprising multiple optical paths allowing for dose control
US20080304034A1 (en) * 2007-06-07 2008-12-11 Asml Netherlands B.V. Dose control for optical maskless lithography
US8189172B2 (en) * 2007-06-14 2012-05-29 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and method
US7768627B2 (en) * 2007-06-14 2010-08-03 Asml Netherlands B.V. Illumination of a patterning device based on interference for use in a maskless lithography system
US8692974B2 (en) * 2007-06-14 2014-04-08 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method using pupil filling by telecentricity control
EP2015589A1 (en) * 2007-07-13 2009-01-14 Barco NV Stereo display system with scanning of light valves
JP2009037172A (ja) 2007-08-03 2009-02-19 Sony Corp 光走査装置
US8134591B2 (en) * 2008-05-07 2012-03-13 Eastman Kodak Company Display using bidirectionally scanned linear modulator
US8358317B2 (en) 2008-05-23 2013-01-22 Evans & Sutherland Computer Corporation System and method for displaying a planar image on a curved surface
US8702248B1 (en) 2008-06-11 2014-04-22 Evans & Sutherland Computer Corporation Projection method for reducing interpixel gaps on a viewing surface
US8077378B1 (en) 2008-11-12 2011-12-13 Evans & Sutherland Computer Corporation Calibration system and method for light modulation device
US8215776B2 (en) * 2009-01-07 2012-07-10 Eastman Kodak Company Line illumination apparatus using laser arrays
US8531755B2 (en) * 2009-02-16 2013-09-10 Micronic Laser Systems Ab SLM device and method combining multiple mirrors for high-power delivery
US8864313B2 (en) 2009-06-15 2014-10-21 Eastman Kodak Company Dynamic illumination control for laser projection display
US9061109B2 (en) 2009-07-22 2015-06-23 Accuvein, Inc. Vein scanner with user interface
CN101710202B (zh) * 2009-11-13 2012-07-11 深圳超多维光电子有限公司 对位装置、采用所述对位装置的光栅对位系统及其对位方法
US8698705B2 (en) * 2009-12-04 2014-04-15 Vuzix Corporation Compact near eye display with scanned image generation
US8330870B2 (en) * 2009-12-08 2012-12-11 Eastman Kodak Company Dynamic illumination control for laser projection display
US9641826B1 (en) 2011-10-06 2017-05-02 Evans & Sutherland Computer Corporation System and method for displaying distant 3-D stereo on a dome surface
US9223138B2 (en) 2011-12-23 2015-12-29 Microsoft Technology Licensing, Llc Pixel opacity for augmented reality
US8917453B2 (en) 2011-12-23 2014-12-23 Microsoft Corporation Reflective array waveguide
US8638498B2 (en) 2012-01-04 2014-01-28 David D. Bohn Eyebox adjustment for interpupillary distance
US8810600B2 (en) 2012-01-23 2014-08-19 Microsoft Corporation Wearable display device calibration
US9606586B2 (en) 2012-01-23 2017-03-28 Microsoft Technology Licensing, Llc Heat transfer device
US9779643B2 (en) 2012-02-15 2017-10-03 Microsoft Technology Licensing, Llc Imaging structure emitter configurations
US9368546B2 (en) 2012-02-15 2016-06-14 Microsoft Technology Licensing, Llc Imaging structure with embedded light sources
US9297996B2 (en) * 2012-02-15 2016-03-29 Microsoft Technology Licensing, Llc Laser illumination scanning
US9726887B2 (en) 2012-02-15 2017-08-08 Microsoft Technology Licensing, Llc Imaging structure color conversion
US9578318B2 (en) * 2012-03-14 2017-02-21 Microsoft Technology Licensing, Llc Imaging structure emitter calibration
US11068049B2 (en) 2012-03-23 2021-07-20 Microsoft Technology Licensing, Llc Light guide display and field of view
US9558590B2 (en) 2012-03-28 2017-01-31 Microsoft Technology Licensing, Llc Augmented reality light guide display
US10191515B2 (en) 2012-03-28 2019-01-29 Microsoft Technology Licensing, Llc Mobile device light guide display
WO2013151747A1 (en) 2012-04-03 2013-10-10 Imax Corporation Color dependent aperture stop
US9717981B2 (en) 2012-04-05 2017-08-01 Microsoft Technology Licensing, Llc Augmented reality and physical games
US10502876B2 (en) 2012-05-22 2019-12-10 Microsoft Technology Licensing, Llc Waveguide optics focus elements
US8989535B2 (en) 2012-06-04 2015-03-24 Microsoft Technology Licensing, Llc Multiple waveguide imaging structure
US9170474B2 (en) * 2012-06-21 2015-10-27 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Efficient spatially modulated illumination system
US9072426B2 (en) 2012-08-02 2015-07-07 AccuVein, Inc Device for detecting and illuminating vasculature using an FPGA
US10517483B2 (en) 2012-12-05 2019-12-31 Accuvein, Inc. System for detecting fluorescence and projecting a representative image
US10192358B2 (en) 2012-12-20 2019-01-29 Microsoft Technology Licensing, Llc Auto-stereoscopic augmented reality display
CA2901780C (en) 2013-03-15 2020-03-24 Imax Europe Sa Projector optimized for modulator diffraction effects
GB2515517A (en) * 2013-06-26 2014-12-31 Prp Optoelectronics Ltd A projection display system
US9967546B2 (en) 2013-10-29 2018-05-08 Vefxi Corporation Method and apparatus for converting 2D-images and videos to 3D for consumer, commercial and professional applications
US20150116458A1 (en) 2013-10-30 2015-04-30 Barkatech Consulting, LLC Method and apparatus for generating enhanced 3d-effects for real-time and offline appplications
CN104049326B (zh) * 2014-02-08 2015-12-09 武汉柏汉激光技术有限公司 半导体激光器阵列输出光束匀称化和光纤耦合系统
US10158847B2 (en) 2014-06-19 2018-12-18 Vefxi Corporation Real—time stereo 3D and autostereoscopic 3D video and image editing
US9304235B2 (en) 2014-07-30 2016-04-05 Microsoft Technology Licensing, Llc Microfabrication
US10254942B2 (en) 2014-07-31 2019-04-09 Microsoft Technology Licensing, Llc Adaptive sizing and positioning of application windows
US10678412B2 (en) 2014-07-31 2020-06-09 Microsoft Technology Licensing, Llc Dynamic joint dividers for application windows
US10592080B2 (en) 2014-07-31 2020-03-17 Microsoft Technology Licensing, Llc Assisted presentation of application windows
CN104267482A (zh) * 2014-10-31 2015-01-07 重庆卓美华视光电有限公司 一种用于柱镜式裸眼3d显示器装配及校验的治具
JP6300739B2 (ja) * 2015-01-20 2018-03-28 浜松ホトニクス株式会社 画像取得装置および画像取得方法
JP6539052B2 (ja) 2015-01-20 2019-07-03 浜松ホトニクス株式会社 画像取得装置および画像取得方法
US9423360B1 (en) 2015-02-09 2016-08-23 Microsoft Technology Licensing, Llc Optical components
US9827209B2 (en) 2015-02-09 2017-11-28 Microsoft Technology Licensing, Llc Display system
US9372347B1 (en) 2015-02-09 2016-06-21 Microsoft Technology Licensing, Llc Display system
US9513480B2 (en) 2015-02-09 2016-12-06 Microsoft Technology Licensing, Llc Waveguide
US9535253B2 (en) 2015-02-09 2017-01-03 Microsoft Technology Licensing, Llc Display system
US10018844B2 (en) 2015-02-09 2018-07-10 Microsoft Technology Licensing, Llc Wearable image display system
US10317677B2 (en) 2015-02-09 2019-06-11 Microsoft Technology Licensing, Llc Display system
US11086216B2 (en) 2015-02-09 2021-08-10 Microsoft Technology Licensing, Llc Generating electronic components
US9429692B1 (en) 2015-02-09 2016-08-30 Microsoft Technology Licensing, Llc Optical components
DE102015104085B4 (de) 2015-03-18 2024-03-28 Carl Zeiss Jena Gmbh Bildgebungseinrichtung und Vorrichtung zur Dateneinspiegelung
US10514552B2 (en) 2015-11-20 2019-12-24 Chen Duan Jun Auto stereoscopic three-dimensional panel display systems and methods supporting improved fidelity display to multiple simultaneous viewers
US10732414B2 (en) * 2016-08-17 2020-08-04 Microsoft Technology Licensing, Llc Scanning in optical systems
US10845596B2 (en) * 2018-01-23 2020-11-24 Facebook Technologies, Llc Slanted surface relief grating for rainbow reduction in waveguide display
US10914954B2 (en) 2018-08-03 2021-02-09 Facebook Technologies, Llc Rainbow reduction for waveguide displays
GB2573827B (en) * 2018-05-18 2021-04-14 Immobileyes Inc Laser Shield Device
US11131845B2 (en) 2018-08-01 2021-09-28 The Board Of Trustees Of The Leland Stanford Junior University High speed random access variable focusing and steering of a patterned line
CN109557662A (zh) * 2018-12-12 2019-04-02 无锡和晶科技股份有限公司 一种远距离导光以及光斑的方向和大小可控的显示方法
CN110745751B (zh) * 2019-09-06 2020-11-17 郑金凯 一种市政用井盖维护装置
CN114815561B (zh) * 2021-01-19 2024-07-26 统雷有限公司 光学图像生成系统和生成光学图像的方法
CN114594575A (zh) * 2022-03-31 2022-06-07 歌尔光学科技有限公司 一种光学投影系统以及电子设备

Family Cites Families (345)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
USRE16767E (en) 1927-10-11 Charles prancis jenkins
US25169A (en) * 1859-08-23 Shipper-gear for pulleys
US16767A (en) * 1857-03-03 Improved metallic roof
USRE16757E (en) * 1922-10-31 1927-10-04 knight
US1548262A (en) * 1924-07-02 1925-08-04 Freedman Albert Manufacture of bicolored spectacles
US1814701A (en) * 1930-05-31 1931-07-14 Perser Corp Method of making viewing gratings for relief or stereoscopic pictures
US2415226A (en) * 1943-11-29 1947-02-04 Rca Corp Method of and apparatus for producing luminous images
US2991690A (en) * 1953-09-04 1961-07-11 Polaroid Corp Stereoscopic lens-prism optical system
US2783406A (en) * 1954-02-09 1957-02-26 John J Vanderhooft Stereoscopic television means
NL197714A (ko) 1954-06-01 1900-01-01
US3553364A (en) * 1968-03-15 1971-01-05 Texas Instruments Inc Electromechanical light valve
US3576394A (en) * 1968-07-03 1971-04-27 Texas Instruments Inc Apparatus for display duration modulation
US3600798A (en) * 1969-02-25 1971-08-24 Texas Instruments Inc Process for fabricating a panel array of electromechanical light valves
BE757764A (fr) * 1969-10-21 1971-04-21 Itt Systeme d'exploration a l'etat solide
US3781465A (en) * 1972-03-08 1973-12-25 Hughes Aircraft Co Field sequential color television systems
US3783184A (en) * 1972-03-08 1974-01-01 Hughes Aircraft Co Electronically switched field sequential color television
US3802769A (en) * 1972-08-28 1974-04-09 Harris Intertype Corp Method and apparatus for unaided stereo viewing
US3862360A (en) * 1973-04-18 1975-01-21 Hughes Aircraft Co Liquid crystal display system with integrated signal storage circuitry
US3915548A (en) * 1973-04-30 1975-10-28 Hughes Aircraft Co Holographic lens and liquid crystal image source for head-up display
US4093346A (en) * 1973-07-13 1978-06-06 Minolta Camera Kabushiki Kaisha Optical low pass filter
US3886310A (en) * 1973-08-22 1975-05-27 Westinghouse Electric Corp Electrostatically deflectable light valve with improved diffraction properties
US3947105A (en) * 1973-09-21 1976-03-30 Technical Operations, Incorporated Production of colored designs
US3896338A (en) * 1973-11-01 1975-07-22 Westinghouse Electric Corp Color video display system comprising electrostatically deflectable light valves
US3969611A (en) * 1973-12-26 1976-07-13 Texas Instruments Incorporated Thermocouple circuit
US3943281A (en) * 1974-03-08 1976-03-09 Hughes Aircraft Company Multiple beam CRT for generating a multiple raster display
JPS5742849B2 (ko) * 1974-06-05 1982-09-10
US4001663A (en) * 1974-09-03 1977-01-04 Texas Instruments Incorporated Switching regulator power supply
US4100579A (en) * 1974-09-24 1978-07-11 Hughes Aircraft Company AC Operated flat panel liquid crystal display
US4020381A (en) * 1974-12-09 1977-04-26 Texas Instruments Incorporated Cathode structure for a multibeam cathode ray tube
US4090219A (en) * 1974-12-09 1978-05-16 Hughes Aircraft Company Liquid crystal sequential color display
US3935500A (en) * 1974-12-09 1976-01-27 Texas Instruments Incorporated Flat CRT system
US3935499A (en) * 1975-01-03 1976-01-27 Texas Instruments Incorporated Monolythic staggered mesh deflection systems for use in flat matrix CRT's
US4017158A (en) * 1975-03-17 1977-04-12 E. I. Du Pont De Nemours And Company Spatial frequency carrier and process of preparing same
US4006968A (en) * 1975-05-02 1977-02-08 Hughes Aircraft Company Liquid crystal dot color display
US4012116A (en) * 1975-05-30 1977-03-15 Personal Communications, Inc. No glasses 3-D viewer
US3991416A (en) * 1975-09-18 1976-11-09 Hughes Aircraft Company AC biased and resonated liquid crystal display
US4084437A (en) * 1975-11-07 1978-04-18 Texas Instruments Incorporated Thermocouple circuit
US4184700A (en) * 1975-11-17 1980-01-22 Lgz Landis & Gyr Zug Ag Documents embossed with optical markings representing genuineness information
CH595664A5 (ko) * 1975-11-17 1978-02-15 Landis & Gyr Ag
US4127322A (en) * 1975-12-05 1978-11-28 Hughes Aircraft Company High brightness full color image light valve projection system
CH594495A5 (ko) * 1976-05-04 1978-01-13 Landis & Gyr Ag
US4135502A (en) * 1976-09-07 1979-01-23 Donald Peck Stereoscopic patterns and method of making same
US4139257A (en) * 1976-09-28 1979-02-13 Canon Kabushiki Kaisha Synchronizing signal generator
US4067129A (en) * 1976-10-28 1978-01-10 Trans-World Manufacturing Corporation Display apparatus having means for creating a spectral color effect
CH604279A5 (ko) * 1976-12-21 1978-08-31 Landis & Gyr Ag
US4093922A (en) * 1977-03-17 1978-06-06 Texas Instruments Incorporated Microcomputer processing approach for a non-volatile TV station memory tuning system
US4093921A (en) * 1977-03-17 1978-06-06 Texas Instruments Incorporated Microcomputer processing approach for a non-volatile TV station memory tuning system
CH616253A5 (ko) * 1977-06-21 1980-03-14 Landis & Gyr Ag
US4185891A (en) * 1977-11-30 1980-01-29 Grumman Aerospace Corporation Laser diode collimation optics
US4205428A (en) * 1978-02-23 1980-06-03 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force Planar liquid crystal matrix array chip
CH622896A5 (ko) * 1978-03-20 1981-04-30 Landis & Gyr Ag
US4256787A (en) * 1978-05-03 1981-03-17 Massachusetts Institute Of Technology Orientation of ordered liquids and their use in devices
US4195915A (en) * 1978-05-05 1980-04-01 Hughes Aircraft Company Liquid crystal image projector system
US4225913A (en) * 1978-09-19 1980-09-30 Texas Instruments Incorporated Self-referencing power converter
US4338660A (en) * 1979-04-13 1982-07-06 Relational Memory Systems, Inc. Relational break signal generating device
US4343535A (en) * 1979-12-14 1982-08-10 Hughes Aircraft Company Liquid crystal light valve
US4311999A (en) * 1980-02-07 1982-01-19 Textron, Inc. Vibratory scan optical display
US4327966A (en) * 1980-02-25 1982-05-04 Bell Telephone Laboratories, Incorporated Variable attenuator for laser radiation
US4327411A (en) * 1980-03-04 1982-04-27 Bell Telephone Laboratories, Incorporated High capacity elastic store having continuously variable delay
JPS56158313A (en) * 1980-05-12 1981-12-07 Kokusai Denshin Denwa Co Ltd <Kdd> Sealing structure at lead-in part of optical fiber cable
US4418397A (en) * 1980-05-29 1983-11-29 Texas Instruments Incorporated Address decode system
US4454591A (en) * 1980-05-29 1984-06-12 Texas Instruments Incorporated Interface system for bus line control
US4447881A (en) * 1980-05-29 1984-05-08 Texas Instruments Incorporated Data processing system integrated circuit having modular memory add-on capacity
US4430584A (en) * 1980-05-29 1984-02-07 Texas Instruments Incorporated Modular input/output system
US4503494A (en) * 1980-06-26 1985-03-05 Texas Instruments Incorporated Non-volatile memory system
US4443845A (en) * 1980-06-26 1984-04-17 Texas Instruments Incorporated Memory system having a common interface
US4361384A (en) * 1980-06-27 1982-11-30 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army High luminance miniature display
US4420717A (en) * 1980-10-06 1983-12-13 Texas Instruments Incorporated Use of motor winding as integrator to generate sawtooth for switch mode current regulator
US4594501A (en) * 1980-10-09 1986-06-10 Texas Instruments Incorporated Pulse width modulation of printhead voltage
JPS57122981U (ko) * 1981-01-27 1982-07-31
US4440839A (en) * 1981-03-18 1984-04-03 United Technologies Corporation Method of forming laser diffraction grating for beam sampling device
US4374397A (en) * 1981-06-01 1983-02-15 Eastman Kodak Company Light valve devices and electronic imaging/scan apparatus with locationally-interlaced optical addressing
US4408884A (en) * 1981-06-29 1983-10-11 Rca Corporation Optical measurements of fine line parameters in integrated circuit processes
US4571603A (en) * 1981-11-03 1986-02-18 Texas Instruments Incorporated Deformable mirror electrostatic printer
US4571041A (en) * 1982-01-22 1986-02-18 Gaudyn Tad J Three dimensional projection arrangement
FR2527385B1 (fr) 1982-04-13 1987-05-22 Suwa Seikosha Kk Transistor a couche mince et panneau d'affichage a cristaux liquides utilisant ce type de transistor
US4484188A (en) * 1982-04-23 1984-11-20 Texas Instruments Incorporated Graphics video resolution improvement apparatus
US4468725A (en) * 1982-06-18 1984-08-28 Texas Instruments Incorporated Direct AC converter for converting a balanced AC polyphase input to an output voltage
US4492435A (en) * 1982-07-02 1985-01-08 Xerox Corporation Multiple array full width electro mechanical modulator
JPS59117876A (ja) * 1982-12-24 1984-07-07 Seiko Epson Corp パ−ソナル液晶映像表示器
JPS602073A (ja) * 1983-04-06 1985-01-08 テキサス・インスツルメンツ・インコ−ポレイテツド 交流変換装置及び方法
US4655539A (en) * 1983-04-18 1987-04-07 Aerodyne Products Corporation Hologram writing apparatus and method
CH661683A5 (de) * 1983-09-19 1987-08-14 Landis & Gyr Ag Einrichtung zum praegen von reliefmustern hoher aufloesung.
US4561044A (en) * 1983-09-22 1985-12-24 Citizen Watch Co., Ltd. Lighting device for a display panel of an electronic device
US4809078A (en) 1983-10-05 1989-02-28 Casio Computer Co., Ltd. Liquid crystal television receiver
FR2553893B1 (fr) * 1983-10-19 1986-02-07 Texas Instruments France Procede et dispositif de detection d'une transition de la composante continue d'un signal periodique, notamment pour joncteur telephonique
JPS60127888A (ja) * 1983-12-15 1985-07-08 Citizen Watch Co Ltd 液晶表示装置
JPS60185918A (ja) * 1984-03-05 1985-09-21 Canon Inc 光変調方法
JPS60214684A (ja) * 1984-04-10 1985-10-26 Citizen Watch Co Ltd 液晶テレビ装置
CH664030A5 (de) 1984-07-06 1988-01-29 Landis & Gyr Ag Verfahren zur erzeugung eines makroskopischen flaechenmusters mit einer mikroskopischen struktur, insbesondere einer beugungsoptisch wirksamen struktur.
US4710732A (en) * 1984-07-31 1987-12-01 Texas Instruments Incorporated Spatial light modulator and method
US4566935A (en) * 1984-07-31 1986-01-28 Texas Instruments Incorporated Spatial light modulator and method
US4709995A (en) * 1984-08-18 1987-12-01 Canon Kabushiki Kaisha Ferroelectric display panel and driving method therefor to achieve gray scale
US5061049A (en) 1984-08-31 1991-10-29 Texas Instruments Incorporated Spatial light modulator and method
US4596992A (en) * 1984-08-31 1986-06-24 Texas Instruments Incorporated Linear spatial light modulator and printer
US4662746A (en) * 1985-10-30 1987-05-05 Texas Instruments Incorporated Spatial light modulator and method
US5096279A (en) 1984-08-31 1992-03-17 Texas Instruments Incorporated Spatial light modulator and method
JPS6188676A (ja) * 1984-10-05 1986-05-06 Citizen Watch Co Ltd 液晶テレビ装置
US4615595A (en) * 1984-10-10 1986-10-07 Texas Instruments Incorporated Frame addressed spatial light modulator
US5281957A (en) 1984-11-14 1994-01-25 Schoolman Scientific Corp. Portable computer and head mounted display
US4772094A (en) 1985-02-05 1988-09-20 Bright And Morning Star Optical stereoscopic system and prism window
DE3605516A1 (de) 1985-02-21 1986-09-04 Canon K.K., Tokio/Tokyo Optisches funktionselement sowie optische funktionsvorrichtung
US4866488A (en) 1985-03-29 1989-09-12 Texas Instruments Incorporated Ballistic transport filter and device
US4623219A (en) * 1985-04-15 1986-11-18 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy Real-time high-resolution 3-D large-screen display using laser-activated liquid crystal light valves
US4719507A (en) * 1985-04-26 1988-01-12 Tektronix, Inc. Stereoscopic imaging system with passive viewing apparatus
US4751509A (en) * 1985-06-04 1988-06-14 Nec Corporation Light valve for use in a color display unit with a diffraction grating assembly included in the valve
US4728185A (en) * 1985-07-03 1988-03-01 Texas Instruments Incorporated Imaging system
JPH0535388Y2 (ko) * 1985-07-29 1993-09-08
US5299037A (en) 1985-08-07 1994-03-29 Canon Kabushiki Kaisha Diffraction grating type liquid crystal display device in viewfinder
US5172262A (en) 1985-10-30 1992-12-15 Texas Instruments Incorporated Spatial light modulator and method
US4687326A (en) * 1985-11-12 1987-08-18 General Electric Company Integrated range and luminance camera
JPS62119521A (ja) * 1985-11-19 1987-05-30 Canon Inc 光学変調装置
US4811210A (en) 1985-11-27 1989-03-07 Texas Instruments Incorporated A plurality of optical crossbar switches and exchange switches for parallel processor computer
US4744633A (en) * 1986-02-18 1988-05-17 Sheiman David M Stereoscopic viewing system and glasses
US4803560A (en) 1986-02-21 1989-02-07 Casio Computer Co., Ltd. Liquid-crystal television receiver with cassette tape recorder
US4829365A (en) 1986-03-07 1989-05-09 Dimension Technologies, Inc. Autostereoscopic display with illuminating lines, light valve and mask
US4856869A (en) 1986-04-08 1989-08-15 Canon Kabushiki Kaisha Display element and observation apparatus having the same
GB2198867A (en) 1986-12-17 1988-06-22 Philips Electronic Associated A liquid crystal display illumination system
US4807965A (en) 1987-05-26 1989-02-28 Garakani Reza G Apparatus for three-dimensional viewing
US4814759A (en) 1987-07-08 1989-03-21 Clinicom Incorporated Flat panel display monitor apparatus
US4934773A (en) 1987-07-27 1990-06-19 Reflection Technology, Inc. Miniature video display system
US5003300A (en) 1987-07-27 1991-03-26 Reflection Technology, Inc. Head mounted display for miniature video display system
US4859012A (en) 1987-08-14 1989-08-22 Texas Instruments Incorporated Optical interconnection networks
US5142677A (en) 1989-05-04 1992-08-25 Texas Instruments Incorporated Context switching devices, systems and methods
US5072418A (en) 1989-05-04 1991-12-10 Texas Instruments Incorporated Series maxium/minimum function computing devices, systems and methods
US5155812A (en) 1989-05-04 1992-10-13 Texas Instruments Incorporated Devices and method for generating and using systems, software waitstates on address boundaries in data processing
US4797694A (en) 1987-09-23 1989-01-10 Eastman Kodak Company Scan-multiplexed light valve printer with band-reducing construction
US4801194A (en) 1987-09-23 1989-01-31 Eastman Kodak Company Multiplexed array exposing system having equi-angular scan exposure regions
US5024494A (en) 1987-10-07 1991-06-18 Texas Instruments Incorporated Focussed light source pointer for three dimensional display
HU197469B (en) 1987-10-23 1989-03-28 Laszlo Holakovszky Spectacle like, wearable on head stereoscopic reproductor of the image
US5155604A (en) 1987-10-26 1992-10-13 Van Leer Metallized Products (Usa) Limited Coated paper sheet embossed with a diffraction or holographic pattern
US4952925A (en) 1988-01-25 1990-08-28 Bernd Haastert Projectable passive liquid-crystal flat screen information centers
US4956619A (en) 1988-02-19 1990-09-11 Texas Instruments Incorporated Spatial light modulator
ATE69407T1 (de) 1988-03-03 1991-11-15 Landis & Gyr Betriebs Ag Dokument.
JPH01265293A (ja) 1988-04-15 1989-10-23 Sharp Corp 小型表示装置
JPH01296214A (ja) 1988-05-25 1989-11-29 Canon Inc 表示装置
US4827391A (en) 1988-06-01 1989-05-02 Texas Instruments Incorporated Apparatus for implementing output voltage slope in current mode controlled power supplies
JP2585717B2 (ja) 1988-06-03 1997-02-26 キヤノン株式会社 表示装置
JPH01306886A (ja) 1988-06-03 1989-12-11 Canon Inc 体積位相型回折格子
US4856863A (en) 1988-06-22 1989-08-15 Texas Instruments Incorporated Optical fiber interconnection network including spatial light modulator
US5048077A (en) 1988-07-25 1991-09-10 Reflection Technology, Inc. Telephone handset with full-page visual display
US5028939A (en) 1988-08-23 1991-07-02 Texas Instruments Incorporated Spatial light modulator system
US5058992A (en) 1988-09-07 1991-10-22 Toppan Printing Co., Ltd. Method for producing a display with a diffraction grating pattern and a display produced by the method
ATE98795T1 (de) 1988-09-30 1994-01-15 Landis & Gyr Business Support Beugungselement.
US4915463A (en) 1988-10-18 1990-04-10 The United States Of America As Represented By The Department Of Energy Multilayer diffraction grating
JPH07121097B2 (ja) 1988-11-18 1995-12-20 株式会社日立製作所 液晶テレビおよびその製造方法
US4982184A (en) 1989-01-03 1991-01-01 General Electric Company Electrocrystallochromic display and element
US5287096A (en) 1989-02-27 1994-02-15 Texas Instruments Incorporated Variable luminosity display system
US5079544A (en) 1989-02-27 1992-01-07 Texas Instruments Incorporated Standard independent digitized video system
US5272473A (en) 1989-02-27 1993-12-21 Texas Instruments Incorporated Reduced-speckle display system
US5128660A (en) 1989-02-27 1992-07-07 Texas Instruments Incorporated Pointer for three dimensional display
US5162787A (en) 1989-02-27 1992-11-10 Texas Instruments Incorporated Apparatus and method for digitized video system utilizing a moving display surface
KR100202246B1 (ko) 1989-02-27 1999-06-15 윌리엄 비. 켐플러 디지탈화 비디오 시스템을 위한 장치 및 방법
US5192946A (en) 1989-02-27 1993-03-09 Texas Instruments Incorporated Digitized color video display system
US5170156A (en) 1989-02-27 1992-12-08 Texas Instruments Incorporated Multi-frequency two dimensional display system
US5214419A (en) 1989-02-27 1993-05-25 Texas Instruments Incorporated Planarized true three dimensional display
US5206629A (en) 1989-02-27 1993-04-27 Texas Instruments Incorporated Spatial light modulator and memory for digitized video display
US5446479A (en) 1989-02-27 1995-08-29 Texas Instruments Incorporated Multi-dimensional array video processor system
US5214420A (en) 1989-02-27 1993-05-25 Texas Instruments Incorporated Spatial light modulator projection system with random polarity light
US4978202A (en) 1989-05-12 1990-12-18 Goldstar Co., Ltd. Laser scanning system for displaying a three-dimensional color image
US5060058A (en) 1989-06-07 1991-10-22 U.S. Philips Corporation Modulation system for projection display
US5022750A (en) 1989-08-11 1991-06-11 Raf Electronics Corp. Active matrix reflective projection system
JPH0343682U (ko) 1989-09-06 1991-04-24
GB8921722D0 (en) 1989-09-26 1989-11-08 British Telecomm Micromechanical switch
US4954789A (en) 1989-09-28 1990-09-04 Texas Instruments Incorporated Spatial light modulator
JP2508387B2 (ja) 1989-10-16 1996-06-19 凸版印刷株式会社 回折格子パタ―ンを有するディスプレイの作製方法
US5037173A (en) 1989-11-22 1991-08-06 Texas Instruments Incorporated Optical interconnection network
US5142303A (en) 1989-12-21 1992-08-25 Texas Instruments Incorporated Printing system exposure module optic structure and method of operation
US5041851A (en) 1989-12-21 1991-08-20 Texas Instruments Incorporated Spatial light modulator printer and method of operation
US5105369A (en) 1989-12-21 1992-04-14 Texas Instruments Incorporated Printing system exposure module alignment method and apparatus of manufacture
US5237340A (en) 1989-12-21 1993-08-17 Texas Instruments Incorporated Replaceable elements for xerographic printing process and method of operation
US5101236A (en) 1989-12-21 1992-03-31 Texas Instruments Incorporated Light energy control system and method of operation
US5072239A (en) 1989-12-21 1991-12-10 Texas Instruments Incorporated Spatial light modulator exposure unit and method of operation
DE4001448C1 (ko) 1990-01-19 1991-07-11 Mercedes-Benz Aktiengesellschaft, 7000 Stuttgart, De
JPH03217814A (ja) 1990-01-24 1991-09-25 Canon Inc 液晶プロジェクター
US5113272A (en) 1990-02-12 1992-05-12 Raychem Corporation Three dimensional semiconductor display using liquid crystal
US5121231A (en) 1990-04-06 1992-06-09 University Of Southern California Incoherent/coherent multiplexed holographic recording for photonic interconnections and holographic optical elements
ATE123885T1 (de) 1990-05-02 1995-06-15 Fraunhofer Ges Forschung Belichtungsvorrichtung.
US5291473A (en) 1990-06-06 1994-03-01 Texas Instruments Incorporated Optical storage media light beam positioning system
US5502481A (en) 1992-11-16 1996-03-26 Reveo, Inc. Desktop-based projection display system for stereoscopic viewing of displayed imagery over a wide field of view
US5165013A (en) 1990-09-26 1992-11-17 Faris Sadeg M 3-D stereo pen plotter
JP2622185B2 (ja) 1990-06-28 1997-06-18 シャープ株式会社 カラー液晶表示装置
US5216537A (en) 1990-06-29 1993-06-01 Texas Instruments Incorporated Architecture and process for integrating DMD with control circuit substrates
US5018256A (en) 1990-06-29 1991-05-28 Texas Instruments Incorporated Architecture and process for integrating DMD with control circuit substrates
US5142405A (en) 1990-06-29 1992-08-25 Texas Instruments Incorporated Bistable dmd addressing circuit and method
US5099353A (en) 1990-06-29 1992-03-24 Texas Instruments Incorporated Architecture and process for integrating DMD with control circuit substrates
DE69113150T2 (de) 1990-06-29 1996-04-04 Texas Instruments Inc Deformierbare Spiegelvorrichtung mit aktualisiertem Raster.
US5083857A (en) 1990-06-29 1992-01-28 Texas Instruments Incorporated Multi-level deformable mirror device
US5291317A (en) 1990-07-12 1994-03-01 Applied Holographics Corporation Holographic diffraction grating patterns and methods for creating the same
US5121343A (en) 1990-07-19 1992-06-09 Faris Sadeg M 3-D stereo computer output printer
GB2249450A (en) 1990-09-05 1992-05-06 Marconi Gec Ltd A display arrangement including linear array of light emitting elements
US5182665A (en) 1990-09-07 1993-01-26 Displaytech, Inc. Diffractive light modulator
US5113285A (en) 1990-09-28 1992-05-12 Honeywell Inc. Full color three-dimensional flat panel display
US5148157A (en) 1990-09-28 1992-09-15 Texas Instruments Incorporated Spatial light modulator with full complex light modulation capability
US5331454A (en) 1990-11-13 1994-07-19 Texas Instruments Incorporated Low reset voltage process for DMD
US5231363A (en) 1990-11-26 1993-07-27 Texas Instruments Incorporated Pulse width modulating producing signals centered in each cycle interval
US5181231A (en) 1990-11-30 1993-01-19 Texas Instruments, Incorporated Non-volatile counting method and apparatus
US5172161A (en) 1990-12-31 1992-12-15 Texas Instruments Incorporated Unibody printing system and process
US5105207A (en) 1990-12-31 1992-04-14 Texas Instruments Incorporated System and method for achieving gray scale DMD operation
US5159485A (en) 1990-12-31 1992-10-27 Texas Instruments Incorporated System and method for uniformity of illumination for tungsten light
US5105299A (en) 1990-12-31 1992-04-14 Texas Instruments Incorporated Unfolded optics for multiple row deformable mirror device
US5151718A (en) 1990-12-31 1992-09-29 Texas Instruments Incorporated System and method for solid state illumination for dmd devices
CA2060057C (en) 1991-01-29 1997-12-16 Susumu Takahashi Display having diffraction grating pattern
US5178728A (en) 1991-03-28 1993-01-12 Texas Instruments Incorporated Integrated-optic waveguide devices and method
CA2063744C (en) 1991-04-01 2002-10-08 Paul M. Urbanus Digital micromirror device architecture and timing for use in a pulse-width modulated display system
US5347378A (en) 1991-04-04 1994-09-13 Displaytech, Inc. Fast switching color filters for frame-sequential video using ferroelectric liquid crystal color-selective filters
US5226099A (en) 1991-04-26 1993-07-06 Texas Instruments Incorporated Digital micromirror shutter device
US5148506A (en) 1991-04-26 1992-09-15 Texas Instruments Incorporated Optical crossbar switch
US5170269A (en) 1991-05-31 1992-12-08 Texas Instruments Incorporated Programmable optical interconnect system
US5299289A (en) 1991-06-11 1994-03-29 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Polymer dispersed liquid crystal panel with diffraction grating
US5155778A (en) 1991-06-28 1992-10-13 Texas Instruments Incorporated Optical switch using spatial light modulators
US5221982A (en) 1991-07-05 1993-06-22 Faris Sadeg M Polarizing wavelength separator
US5179274A (en) 1991-07-12 1993-01-12 Texas Instruments Incorporated Method for controlling operation of optical systems and devices
US5287215A (en) 1991-07-17 1994-02-15 Optron Systems, Inc. Membrane light modulation systems
US5170283A (en) 1991-07-24 1992-12-08 Northrop Corporation Silicon spatial light modulator
US5168406A (en) 1991-07-31 1992-12-01 Texas Instruments Incorporated Color deformable mirror device and method for manufacture
US5240818A (en) 1991-07-31 1993-08-31 Texas Instruments Incorporated Method for manufacturing a color filter for deformable mirror device
CA2075026A1 (en) 1991-08-08 1993-02-09 William E. Nelson Method and apparatus for patterning an imaging member
US5418546A (en) * 1991-08-20 1995-05-23 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Visual display system and exposure control apparatus
US5254980A (en) 1991-09-06 1993-10-19 Texas Instruments Incorporated DMD display system controller
US5245686A (en) 1991-09-06 1993-09-14 Faris Sadeg M Method of fabricating an image plane translator device and apparatus incorporating such device
US5307056A (en) 1991-09-06 1994-04-26 Texas Instruments Incorporated Dynamic memory allocation for frame buffer for spatial light modulator
US5255100A (en) 1991-09-06 1993-10-19 Texas Instruments Incorporated Data formatter with orthogonal input/output and spatial reordering
CA2081753C (en) 1991-11-22 2002-08-06 Jeffrey B. Sampsell Dmd scanner
US5231432A (en) 1991-12-03 1993-07-27 Florida Atlantic University Projector utilizing liquid crystal light-valve and color selection by diffraction
DE69231194T2 (de) 1991-12-05 2001-02-15 Texas Instruments Inc., Dallas Verfahren zur Verbesserung eines Videosignals
US5231388A (en) 1991-12-17 1993-07-27 Texas Instruments Incorporated Color display system using spatial light modulators
US5212555A (en) 1991-12-17 1993-05-18 Texas Instruments Incorporated Image capture with spatial light modulator and single-cell photosensor
US5311349A (en) 1991-12-18 1994-05-10 Texas Instruments Incorporated Unfolded optics for multiple row spatial light modulators
US5247593A (en) 1991-12-18 1993-09-21 Texas Instruments Incorporated Programmable optical crossbar switch
CA2084923A1 (en) 1991-12-20 1993-06-21 Ronald E. Stafford Slm spectrometer
US5202785A (en) 1991-12-20 1993-04-13 Texas Instruments Incorporated Method and device for steering light
US5233456A (en) 1991-12-20 1993-08-03 Texas Instruments Incorporated Resonant mirror and method of manufacture
CA2085961A1 (en) 1991-12-23 1993-06-24 William E. Nelson Method and apparatus for steering light
US5247180A (en) 1991-12-30 1993-09-21 Texas Instruments Incorporated Stereolithographic apparatus and method of use
US5189548A (en) * 1991-12-31 1993-02-23 Xerox Corporation Electrooptic TIR light modulator image bar having multiple electrodes per pixel
US5285407A (en) 1991-12-31 1994-02-08 Texas Instruments Incorporated Memory circuit for spatial light modulator
US5296950A (en) 1992-01-31 1994-03-22 Texas Instruments Incorporated Optical signal free-space conversion board
US5504514A (en) 1992-02-13 1996-04-02 Texas Instruments Incorporated System and method for solid state illumination for spatial light modulators
US5212582A (en) 1992-03-04 1993-05-18 Texas Instruments Incorporated Electrostatically controlled beam steering device and method
DE69310974T2 (de) 1992-03-25 1997-11-06 Texas Instruments Inc Eingebautes optisches Eichsystem
US5312513A (en) 1992-04-03 1994-05-17 Texas Instruments Incorporated Methods of forming multiple phase light modulators
US5319214A (en) 1992-04-06 1994-06-07 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army Infrared image projector utilizing a deformable mirror device spatial light modulator
GB9208705D0 (en) 1992-04-22 1992-07-22 Smiths Industries Plc Head-mounted display assemblies
US5459592A (en) 1992-04-24 1995-10-17 Sharp Kabushiki Kaisha Projection display system including a collimating tapered waveguide or lens with the normal to optical axis angle increasing toward the lens center
US5311360A (en) 1992-04-28 1994-05-10 The Board Of Trustees Of The Leland Stanford, Junior University Method and apparatus for modulating a light beam
GB2267579A (en) 1992-05-15 1993-12-08 Sharp Kk Optical device comprising facing lenticular or parallax screens of different pitch
US5307185A (en) 1992-05-19 1994-04-26 Raychem Corporation Liquid crystal projection display with complementary color dye added to longest wavelength imaging element
US5347433A (en) 1992-06-11 1994-09-13 Sedlmayr Steven R Collimated beam of light and systems and methods for implementation thereof
US5486841A (en) 1992-06-17 1996-01-23 Sony Corporation Glasses type display apparatus
US5315418A (en) 1992-06-17 1994-05-24 Xerox Corporation Two path liquid crystal light valve color display with light coupling lens array disposed along the red-green light path
US5256869A (en) 1992-06-30 1993-10-26 Texas Instruments Incorporated Free-space optical interconnection using deformable mirror device
US5430524A (en) 1992-07-22 1995-07-04 Texas Instruments Incorporated Unibody printing and copying system and process
US5321416A (en) 1992-07-27 1994-06-14 Virtual Research Systems Head-mounted visual display apparatus
US5313479A (en) 1992-07-29 1994-05-17 Texas Instruments Incorporated Speckle-free display system using coherent light
US5327286A (en) 1992-08-31 1994-07-05 Texas Instruments Incorporated Real time optical correlation system
US5348619A (en) 1992-09-03 1994-09-20 Texas Instruments Incorporated Metal selective polymer removal
US5325116A (en) 1992-09-18 1994-06-28 Texas Instruments Incorporated Device for writing to and reading from optical storage media
GB9220412D0 (en) 1992-09-28 1992-11-11 Texas Instruments Holland Transponder systems for automatic identification purposes
US5285196A (en) 1992-10-15 1994-02-08 Texas Instruments Incorporated Bistable DMD addressing method
US5289172A (en) 1992-10-23 1994-02-22 Texas Instruments Incorporated Method of mitigating the effects of a defective electromechanical pixel
GB2272555A (en) 1992-11-11 1994-05-18 Sharp Kk Stereoscopic display using a light modulator
EP0599375B1 (de) 1992-11-20 1999-03-03 Ascom Tech Ag Lichtmodulator
US5450088A (en) 1992-11-25 1995-09-12 Texas Instruments Deutschland Gmbh Transponder arrangement
US5410315A (en) 1992-12-08 1995-04-25 Texas Instruments Incorporated Group-addressable transponder arrangement
JPH06260470A (ja) 1992-12-16 1994-09-16 Texas Instr Inc <Ti> パターンに作成された金属層の清浄化法
US5420655A (en) 1992-12-16 1995-05-30 North American Philips Corporation Color projection system employing reflective display devices and prism illuminators
US5357369A (en) 1992-12-21 1994-10-18 Geoffrey Pilling Wide-field three-dimensional viewing system
US5418584A (en) 1992-12-31 1995-05-23 Honeywell Inc. Retroreflective array virtual image projection screen
US5371618A (en) 1993-01-05 1994-12-06 Brite View Technologies Color liquid crystal display employing dual cells driven with an EXCLUSIVE OR relationship
AU5306494A (en) 1993-01-08 1994-07-14 Richard A Vasichek Magnetic keeper accessory for wrench sockets
US5371543A (en) 1993-03-03 1994-12-06 Texas Instruments Incorporated Monolithic color wheel
US5404485A (en) 1993-03-08 1995-04-04 M-Systems Flash Disk Pioneers Ltd. Flash file system
US5293511A (en) 1993-03-16 1994-03-08 Texas Instruments Incorporated Package for a semiconductor device
US5461410A (en) 1993-03-29 1995-10-24 Texas Instruments Incorporated Gray scale printing using spatial light modulators
US5435876A (en) 1993-03-29 1995-07-25 Texas Instruments Incorporated Grid array masking tape process
US5455602A (en) 1993-03-29 1995-10-03 Texas Instruments Incorporated Combined modulation schemes for spatial light modulators
US5461411A (en) 1993-03-29 1995-10-24 Texas Instruments Incorporated Process and architecture for digital micromirror printer
US5451103A (en) 1993-04-06 1995-09-19 Sony Corporation Projector system
US5539422A (en) 1993-04-12 1996-07-23 Virtual Vision, Inc. Head mounted display system
US5321450A (en) 1993-05-11 1994-06-14 Proxima Corporation Low profile liquid crystal projector and method of using same
US5485172A (en) 1993-05-21 1996-01-16 Sony Corporation Automatic image regulating arrangement for head-mounted image display apparatus
KR970003007B1 (ko) 1993-05-21 1997-03-13 대우전자 주식회사 투사형 화상표시장치용 광로조절장치 및 그 구동방법
US5445559A (en) 1993-06-24 1995-08-29 Texas Instruments Incorporated Wafer-like processing after sawing DMDs
US5491715A (en) 1993-06-28 1996-02-13 Texas Instruments Deutschland Gmbh Automatic antenna tuning method and circuit
US5453747A (en) 1993-06-28 1995-09-26 Texas Instruments Deutschland Gmbh Transponder systems for automatic identification purposes
US5345521A (en) 1993-07-12 1994-09-06 Texas Instrument Incorporated Architecture for optical switch
US5489952A (en) 1993-07-14 1996-02-06 Texas Instruments Incorporated Method and device for multi-format television
US5365283A (en) 1993-07-19 1994-11-15 Texas Instruments Incorporated Color phase control for projection display using spatial light modulator
US5461547A (en) 1993-07-20 1995-10-24 Precision Lamp, Inc. Flat panel display lighting system
US5510824A (en) 1993-07-26 1996-04-23 Texas Instruments, Inc. Spatial light modulator array
US5453778A (en) 1993-07-30 1995-09-26 Texas Instruments Incorporated Method and apparatus for spatial modulation in the cross-process direction
US5389182A (en) 1993-08-02 1995-02-14 Texas Instruments Incorporated Use of a saw frame with tape as a substrate carrier for wafer level backend processing
US5459492A (en) 1993-08-30 1995-10-17 Texas Instruments Incorporated Method and apparatus for printing stroke and contone data together
US5485354A (en) 1993-09-09 1996-01-16 Precision Lamp, Inc. Flat panel display lighting system
EP0657760A1 (en) 1993-09-15 1995-06-14 Texas Instruments Incorporated Image simulation and projection system
US5457493A (en) 1993-09-15 1995-10-10 Texas Instruments Incorporated Digital micro-mirror based image simulation system
KR970003466B1 (ko) 1993-09-28 1997-03-18 대우전자 주식회사 투사형 화상 표시 장치의 광로 조절 장치 제조 방법
US5347321A (en) 1993-09-30 1994-09-13 Texas Instruments Incorporated Color separator for digital television
US5497197A (en) 1993-11-04 1996-03-05 Texas Instruments Incorporated System and method for packaging data into video processor
US5367585A (en) 1993-10-27 1994-11-22 General Electric Company Integrated microelectromechanical polymeric photonic switch
US5452024A (en) 1993-11-01 1995-09-19 Texas Instruments Incorporated DMD display system
US5398071A (en) 1993-11-02 1995-03-14 Texas Instruments Incorporated Film-to-video format detection for digital television
CA2134370A1 (en) 1993-11-04 1995-05-05 Robert J. Gove Video data formatter for a digital television system
US5450219A (en) 1993-11-17 1995-09-12 Hughes Aircraft Company Raster following telecentric illumination scanning system for enhancing light throughout in light valve projection systems
US5517347A (en) 1993-12-01 1996-05-14 Texas Instruments Incorporated Direct view deformable mirror device
US5491510A (en) 1993-12-03 1996-02-13 Texas Instruments Incorporated System and method for simultaneously viewing a scene and an obscured object
US5442411A (en) 1994-01-03 1995-08-15 Texas Instruments Incorporated Displaying video data on a spatial light modulator with line doubling
US5499060A (en) 1994-01-04 1996-03-12 Texas Instruments Incorporated System and method for processing video data
US5448314A (en) 1994-01-07 1995-09-05 Texas Instruments Method and apparatus for sequential color imaging
CA2139794C (en) 1994-01-18 2006-11-07 Robert John Gove Frame pixel data generation
US5500761A (en) 1994-01-27 1996-03-19 At&T Corp. Micromechanical modulator
US5467106A (en) 1994-02-10 1995-11-14 Hughes-Avicom International, Inc. Retractable face-up LCD monitor with off-monitor power supply and back-EMF braking
US5412186A (en) 1994-02-23 1995-05-02 Texas Instruments Incorporated Elimination of sticking of micro-mechanical devices
US5444566A (en) 1994-03-07 1995-08-22 Texas Instruments Incorporated Optimized electronic operation of digital micromirror devices
US5447600A (en) 1994-03-21 1995-09-05 Texas Instruments Polymeric coatings for micromechanical devices
US5467146A (en) 1994-03-31 1995-11-14 Texas Instruments Incorporated Illumination control unit for display system with spatial light modulator
US5459528A (en) 1994-03-31 1995-10-17 Texas Instruments Incorporated Video signal processor and method for secondary images
US5486698A (en) 1994-04-19 1996-01-23 Texas Instruments Incorporated Thermal imaging system with integrated thermal chopper
US5512374A (en) 1994-05-09 1996-04-30 Texas Instruments Incorporated PFPE coatings for micro-mechanical devices
US5442414A (en) 1994-05-10 1995-08-15 U. S. Philips Corporation High contrast illumination system for video projector
US5458716A (en) 1994-05-25 1995-10-17 Texas Instruments Incorporated Methods for manufacturing a thermally enhanced molded cavity package having a parallel lid
US5497172A (en) 1994-06-13 1996-03-05 Texas Instruments Incorporated Pulse width modulation for spatial light modulator with split reset addressing
US5521748A (en) 1994-06-16 1996-05-28 Eastman Kodak Company Light modulator with a laser or laser array for exposing image data
US5482564A (en) 1994-06-21 1996-01-09 Texas Instruments Incorporated Method of unsticking components of micro-mechanical devices
US5454906A (en) 1994-06-21 1995-10-03 Texas Instruments Inc. Method of providing sacrificial spacer for micro-mechanical devices
US5499062A (en) 1994-06-23 1996-03-12 Texas Instruments Incorporated Multiplexed memory timing with block reset and secondary memory
US5523878A (en) 1994-06-30 1996-06-04 Texas Instruments Incorporated Self-assembled monolayer coating for micro-mechanical devices
US5504504A (en) 1994-07-13 1996-04-02 Texas Instruments Incorporated Method of reducing the visual impact of defects present in a spatial light modulator display
US5512748A (en) 1994-07-26 1996-04-30 Texas Instruments Incorporated Thermal imaging system with a monolithic focal plane array and method
US5485304A (en) 1994-07-29 1996-01-16 Texas Instruments, Inc. Support posts for micro-mechanical devices
US5483307A (en) 1994-09-29 1996-01-09 Texas Instruments, Inc. Wide field of view head-mounted display
US5490009A (en) 1994-10-31 1996-02-06 Texas Instruments Incorporated Enhanced resolution for digital micro-mirror displays
US5519450A (en) 1994-11-14 1996-05-21 Texas Instruments Incorporated Graphics subsystem for digital television
US5516125A (en) 1994-11-30 1996-05-14 Texas Instruments Incorporated Baffled collet for vacuum pick-up of a semiconductor die
US5463347A (en) 1994-12-12 1995-10-31 Texas Instruments Incorporated MOS uni-directional, differential voltage amplifier capable of amplifying signals having input common-mode voltage beneath voltage of lower supply and integrated circuit substrate
US5668611A (en) 1994-12-21 1997-09-16 Hughes Electronics Full color sequential image projection system incorporating pulse rate modulated illumination
US5486946A (en) 1994-12-21 1996-01-23 Motorola Integrated electro-optic package for reflective spatial light modulators
US5524155A (en) 1995-01-06 1996-06-04 Texas Instruments Incorporated Demultiplexer for wavelength-multiplexed optical signal
US5517359A (en) 1995-01-23 1996-05-14 Gelbart; Daniel Apparatus for imaging light from a laser diode onto a multi-channel linear light valve
US5517340A (en) 1995-01-30 1996-05-14 International Business Machines Corporation High performance projection display with two light valves
US5504614A (en) 1995-01-31 1996-04-02 Texas Instruments Incorporated Method for fabricating a DMD spatial light modulator with a hardened hinge
US5508750A (en) 1995-02-03 1996-04-16 Texas Instruments Incorporated Encoding data converted from film format for progressive display
US5841579A (en) * 1995-06-07 1998-11-24 Silicon Light Machines Flat diffraction grating light valve
US5742373A (en) 1995-10-13 1998-04-21 Massachusetts Institute Of Technology Color microdisplays and methods of manufacturing same

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