JP3406976B2 - 陰極線管及びその蛍光面形成方法 - Google Patents
陰極線管及びその蛍光面形成方法Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、陰極線管及びその蛍光
面形成方法に関する。
面形成方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】一般に、カラー陰極線管の蛍光面は、パ
ネルの内面に赤、緑及び青の各色蛍光体層（例えば蛍光
体ストライプ又は蛍光体ドット）と、その各蛍光体層間
の光吸収層となるカーボン層とを有し、その表面に蛍光
体層表面を平滑化するための中間膜を介してアルミニウ
ム蒸着膜によるメタルバック層が形成されて成る。中間
膜はその後のベーキング処理で蒸発除去される。
ネルの内面に赤、緑及び青の各色蛍光体層（例えば蛍光
体ストライプ又は蛍光体ドット）と、その各蛍光体層間
の光吸収層となるカーボン層とを有し、その表面に蛍光
体層表面を平滑化するための中間膜を介してアルミニウ
ム蒸着膜によるメタルバック層が形成されて成る。中間
膜はその後のベーキング処理で蒸発除去される。
【０００３】通常、この様なカラー蛍光面は、図５に示
すように形成される。先ず、パネル１の内面にＰＶＡ
（ポリビニルアルコール）感光膜を塗布形成し、色選別
電極をマスクとして赤、緑、青の３色に対する露光を行
い、現像処理して各色蛍光体層例えば各色蛍光体ストラ
イプが形成されるべき部分にＰＶＡ感光膜によるレジス
ト層を形成する。そして硬膜処理した後、レジスト層を
含む前面にカーボンスラリーを塗布し、乾燥した後、反
転現像を行ってレジスト層と共にその上のカーボン膜を
除去し、爾後形成される各色蛍光体ストライプ間に位置
する部分に、カーボンストライプ２を形成する。次に、
スラリー法によって、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）及び青（Ｂ）
に対応する各色蛍光体ストライプ３〔３Ｒ，３Ｇ及び３
Ｂ〕を形成する（図５Ａ参照）。
すように形成される。先ず、パネル１の内面にＰＶＡ
（ポリビニルアルコール）感光膜を塗布形成し、色選別
電極をマスクとして赤、緑、青の３色に対する露光を行
い、現像処理して各色蛍光体層例えば各色蛍光体ストラ
イプが形成されるべき部分にＰＶＡ感光膜によるレジス
ト層を形成する。そして硬膜処理した後、レジスト層を
含む前面にカーボンスラリーを塗布し、乾燥した後、反
転現像を行ってレジスト層と共にその上のカーボン膜を
除去し、爾後形成される各色蛍光体ストライプ間に位置
する部分に、カーボンストライプ２を形成する。次に、
スラリー法によって、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）及び青（Ｂ）
に対応する各色蛍光体ストライプ３〔３Ｒ，３Ｇ及び３
Ｂ〕を形成する（図５Ａ参照）。
【０００４】次に、カーボンストライプ２及び蛍光体ス
トライプ３を含む表面に平滑性の高い中間膜４としての
アクリル層〔例えば日本アクリル（株）商品名プライマ
ルＢ−７４，Ｃ−７２，ＡＣ−７３などのアクリルエマ
ルジョン、又は東京応化工業（株）商品名ルーサイト
（トルエンにアクリル樹脂溶解）〕を全面塗布する（図
５Ｂ参照）。
トライプ３を含む表面に平滑性の高い中間膜４としての
アクリル層〔例えば日本アクリル（株）商品名プライマ
ルＢ−７４，Ｃ−７２，ＡＣ−７３などのアクリルエマ
ルジョン、又は東京応化工業（株）商品名ルーサイト
（トルエンにアクリル樹脂溶解）〕を全面塗布する（図
５Ｂ参照）。
【０００５】次に、この中間膜４上にアルミニウム蒸着
膜によるメタルバック層５を形成する（図５Ｃ参照）。
その後、ベーキング処理して中間膜４を蒸発除去し、目
的のカラー蛍光面を形成する。
膜によるメタルバック層５を形成する（図５Ｃ参照）。
その後、ベーキング処理して中間膜４を蒸発除去し、目
的のカラー蛍光面を形成する。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】ところで、カラー陰極
線管の高品位化、高精細度化に伴って蛍光面の各色蛍光
体ストライプ３〔３Ｒ，３Ｇ，３Ｂ〕のピッチが微細に
なるにつれて中間膜４として例えばプライマル（商品
名）を用いた場合には、蛍光体ストライプ３表面に平滑
な中間膜４が形成されにくい。
線管の高品位化、高精細度化に伴って蛍光面の各色蛍光
体ストライプ３〔３Ｒ，３Ｇ，３Ｂ〕のピッチが微細に
なるにつれて中間膜４として例えばプライマル（商品
名）を用いた場合には、蛍光体ストライプ３表面に平滑
な中間膜４が形成されにくい。
【０００７】即ち、プライマルの表面張力が小さいの
で、プライマルが蛍光体ストライプ３に浸透し、またカ
ーボンストライプ２上へのプライマルの流動が生ずるた
めに、平滑な中間膜４が形成されない。その結果輝度が
落ちるという問題があった。
で、プライマルが蛍光体ストライプ３に浸透し、またカ
ーボンストライプ２上へのプライマルの流動が生ずるた
めに、平滑な中間膜４が形成されない。その結果輝度が
落ちるという問題があった。
【０００８】中間膜４を厚膜にすれば、平滑性は良くな
るが、この場合には炉工程で、メタルバック層５の浮
き、即ちアルミ浮（いわゆるアルミふくれ）、又はアル
ミ剥れの原因となる。
るが、この場合には炉工程で、メタルバック層５の浮
き、即ちアルミ浮（いわゆるアルミふくれ）、又はアル
ミ剥れの原因となる。
【０００９】一方、中間膜４としてルーサイト（商品
名）を用いた場合には、平滑な中間膜４が形成される
が、カーボンストライプ３上が空洞のために光の散乱、
反射電子等により色純度が悪くなるという問題があっ
た。
名）を用いた場合には、平滑な中間膜４が形成される
が、カーボンストライプ３上が空洞のために光の散乱、
反射電子等により色純度が悪くなるという問題があっ
た。
【００１０】本発明は、上述の点に鑑み、メタルバック
層の浮き、剥がれがなく、輝度、色純度に優れた蛍光面
を有する信頼性の高い陰極線管を提供するものである。
層の浮き、剥がれがなく、輝度、色純度に優れた蛍光面
を有する信頼性の高い陰極線管を提供するものである。
【００１１】本発明は、メタルバック層の浮き、剥れが
なく、輝度、色純度に優れた蛍光面を形成し得る陰極線
管の蛍光面形成方法を提供するものである。
なく、輝度、色純度に優れた蛍光面を形成し得る陰極線
管の蛍光面形成方法を提供するものである。
【００１２】
【課題を解決するための手段】本発明に係る陰極線管
は、パネル１内面に各蛍光体層３〔３Ｒ，３Ｇ，３Ｂ〕
と、各蛍光体層３間に形成された光吸収層２を有し、各
蛍光体層３の表面に選択的に形成された中間膜１１を介
して各蛍光体層３を包み込むように各蛍光体層３の表面
上と、光吸収層２上とにメタルバック層１２が形成さ
れ、メタルバック層１２が光吸収層２に直接被着され、
中間膜１１がベーキング処理されてメタルッバク層１２
と各蛍光体層３との間にギャップが形成されて成ること
を特徴とする。メタルバック層１２は、有効画面外でも
光吸収層２上に中間膜１１を介さずに直接被着形成され
る。
は、パネル１内面に各蛍光体層３〔３Ｒ，３Ｇ，３Ｂ〕
と、各蛍光体層３間に形成された光吸収層２を有し、各
蛍光体層３の表面に選択的に形成された中間膜１１を介
して各蛍光体層３を包み込むように各蛍光体層３の表面
上と、光吸収層２上とにメタルバック層１２が形成さ
れ、メタルバック層１２が光吸収層２に直接被着され、
中間膜１１がベーキング処理されてメタルッバク層１２
と各蛍光体層３との間にギャップが形成されて成ること
を特徴とする。メタルバック層１２は、有効画面外でも
光吸収層２上に中間膜１１を介さずに直接被着形成され
る。
【００１３】本発明に係る陰極線管の蛍光面形成方法
は、パネル１内面に各蛍光体層３〔３Ｒ，３Ｇ，３Ｂ〕
と各蛍光体層３間の光吸収層２を形成する工程と、各蛍
光体層３および光吸収層２を含む表面全面に感光性中間
膜１１を形成する工程と、感光性中間膜１１を露光、現
像して各蛍光体層３の表面に選択的に中間膜１１を残す
と共に光吸収層２上の中間膜１１を選択的に除去する工
程と、各蛍光体層３を包み込むように前記中間膜１１上
に被着し、且つ光吸収層２に直接被着するメタルバック
層１２を形成する工程と、ベーキング処理して中間膜１
１を除去し、各蛍光体層３とメタルバック層１２との間
にギャップを形成する工程を有することを特徴とする。
は、パネル１内面に各蛍光体層３〔３Ｒ，３Ｇ，３Ｂ〕
と各蛍光体層３間の光吸収層２を形成する工程と、各蛍
光体層３および光吸収層２を含む表面全面に感光性中間
膜１１を形成する工程と、感光性中間膜１１を露光、現
像して各蛍光体層３の表面に選択的に中間膜１１を残す
と共に光吸収層２上の中間膜１１を選択的に除去する工
程と、各蛍光体層３を包み込むように前記中間膜１１上
に被着し、且つ光吸収層２に直接被着するメタルバック
層１２を形成する工程と、ベーキング処理して中間膜１
１を除去し、各蛍光体層３とメタルバック層１２との間
にギャップを形成する工程を有することを特徴とする。
【００１４】
【作用】本発明の陰極線管においては、メタルバック層
１２が、各蛍光体層３の表面に選択的に形成された中間
膜１１を介して各蛍光体層３を包み込むように各蛍光体
層３の表面上と、光吸収層２上とに形成され、且つメタ
ルバック層１２が光吸収層２に対して直接被着された構
成であるので、メタルバック層１２の平滑性を考慮して
中間膜１１を厚膜にした場合にも、炉工程でのメタルバ
ック層１２の浮き、剥がれが防止される。メタルバック
層１２と光吸収層２間には空洞が形成されず、メタルバ
ック層１２は各蛍光体層３をつつみ込むように形成され
るため、蛍光体層３で発光した光は、隣りの蛍光体層３
に入ることがなく、色純度が良くなる。中間膜１１がベ
ーキング処理されてメタルバック層１２と各蛍光体層３
間にギャップが形成された構成であるので、結果として
蛍光体層３表面の凹凸に影響されず平滑なメタルバック
層１２の形成が可能となり、輝度が向上する。メタルバ
ック層１２が有効画面外でも光吸収層２上に中間膜１１
を介さずに直接被着形成されるので、より確実にメタル
バック層１２の浮き、剥がれが防止される。
１２が、各蛍光体層３の表面に選択的に形成された中間
膜１１を介して各蛍光体層３を包み込むように各蛍光体
層３の表面上と、光吸収層２上とに形成され、且つメタ
ルバック層１２が光吸収層２に対して直接被着された構
成であるので、メタルバック層１２の平滑性を考慮して
中間膜１１を厚膜にした場合にも、炉工程でのメタルバ
ック層１２の浮き、剥がれが防止される。メタルバック
層１２と光吸収層２間には空洞が形成されず、メタルバ
ック層１２は各蛍光体層３をつつみ込むように形成され
るため、蛍光体層３で発光した光は、隣りの蛍光体層３
に入ることがなく、色純度が良くなる。中間膜１１がベ
ーキング処理されてメタルバック層１２と各蛍光体層３
間にギャップが形成された構成であるので、結果として
蛍光体層３表面の凹凸に影響されず平滑なメタルバック
層１２の形成が可能となり、輝度が向上する。メタルバ
ック層１２が有効画面外でも光吸収層２上に中間膜１１
を介さずに直接被着形成されるので、より確実にメタル
バック層１２の浮き、剥がれが防止される。
【００１５】本発明の蛍光面形成方法においては、パネ
ル１内面に各蛍光体層３と各蛍光体層３間の光吸収層２
とを有する蛍光面において、各蛍光体層３及び光吸収層
２を含む表面全面に感光性中間膜１１を形成し、この感
光性中間膜１１を露光、現像して蛍光体層３の表面に選
択的に中間膜１１を残すと共に光吸収層２上の中間膜１
１を選択的に除去するので、有効部分の中間膜１１を厚
くすることが可能となり、蛍光体表面に平滑な中間膜１
１を形成することができる。従って、次のメタルバック
層１２を形成するとき、各蛍光体層３上に平滑なメタル
バック層１２が形成される。同時に光吸収層２上には中
間膜１１がないので、メタルバック層１２が直接光吸収
層２に被着形成される。従って、輝度が向上し、またメ
タルバック層１２の浮き、剥がれがない。又、有効画面
外ではその光吸収層２上に中間膜１１が形成されないの
で、メタルバック層１２の浮き、剥がれ、即ちアルミ浮
き、アルミ剥がれが生じない。さらに、各蛍光体層３を
つつみ込むようにメタルバック層１２が形成されるの
で、蛍光体層３で発光した光がメタルバック層１２で確
実に反射され、隣りの蛍光体層３に入ることがなく、色
純度が深くなる。メタルバック層１２が有効画面外でも
光吸収層２上に中間膜１１を介さずに直接被着形成され
るので、より確実にメタルバック層１２の浮き、剥がれ
が防止される。
ル１内面に各蛍光体層３と各蛍光体層３間の光吸収層２
とを有する蛍光面において、各蛍光体層３及び光吸収層
２を含む表面全面に感光性中間膜１１を形成し、この感
光性中間膜１１を露光、現像して蛍光体層３の表面に選
択的に中間膜１１を残すと共に光吸収層２上の中間膜１
１を選択的に除去するので、有効部分の中間膜１１を厚
くすることが可能となり、蛍光体表面に平滑な中間膜１
１を形成することができる。従って、次のメタルバック
層１２を形成するとき、各蛍光体層３上に平滑なメタル
バック層１２が形成される。同時に光吸収層２上には中
間膜１１がないので、メタルバック層１２が直接光吸収
層２に被着形成される。従って、輝度が向上し、またメ
タルバック層１２の浮き、剥がれがない。又、有効画面
外ではその光吸収層２上に中間膜１１が形成されないの
で、メタルバック層１２の浮き、剥がれ、即ちアルミ浮
き、アルミ剥がれが生じない。さらに、各蛍光体層３を
つつみ込むようにメタルバック層１２が形成されるの
で、蛍光体層３で発光した光がメタルバック層１２で確
実に反射され、隣りの蛍光体層３に入ることがなく、色
純度が深くなる。メタルバック層１２が有効画面外でも
光吸収層２上に中間膜１１を介さずに直接被着形成され
るので、より確実にメタルバック層１２の浮き、剥がれ
が防止される。
【００１６】
【実施例】以下、本発明による陰極線管及びその蛍光面
形成方法の実施例を説明する。
形成方法の実施例を説明する。
【００１７】図１及び図２は本発明に係るカラー蛍光面
形成方法の一例である。なお、本例は蛍光体層として蛍
光体ストライプを用いたが、その他、蛍光体ドットを用
いても同様である。
形成方法の一例である。なお、本例は蛍光体層として蛍
光体ストライプを用いたが、その他、蛍光体ドットを用
いても同様である。
【００１８】本例においては、先ず、図１Ａに示すよう
に、パネル１の内面に赤（Ｒ）、緑（Ｇ）及び青（Ｂ）
に対応する蛍光体ストライプ３〔３Ｒ，３Ｇ，３Ｂ〕
と、各隣り合う光吸収層となるカーボンストライプ２を
通常の方法によって形成する。
に、パネル１の内面に赤（Ｒ）、緑（Ｇ）及び青（Ｂ）
に対応する蛍光体ストライプ３〔３Ｒ，３Ｇ，３Ｂ〕
と、各隣り合う光吸収層となるカーボンストライプ２を
通常の方法によって形成する。
【００１９】即ち、前述と同様に、パネル１の内面にＰ
ＶＡ（ポリビニルアルコール）感光膜を塗布形成し、色
選別電極（例えばアパーチャグリル）をマスクとして
赤、緑、青の３色に対する露光を行い、現像処理して各
色蛍光体ストライプが形成されるべき部分にＰＶＡ感光
膜によるレジスト層を形成する。次に、硬膜処理した
後、レジスト層を含む全面にカーボンスラリーを塗布
し、乾燥した後、反転現像を行ってレジスト層と共に、
その上のカーボン膜を除去し、爾後形成される各色蛍光
体ストライプ間に位置する部分に、カーボンストライプ
２を形成する。
ＶＡ（ポリビニルアルコール）感光膜を塗布形成し、色
選別電極（例えばアパーチャグリル）をマスクとして
赤、緑、青の３色に対する露光を行い、現像処理して各
色蛍光体ストライプが形成されるべき部分にＰＶＡ感光
膜によるレジスト層を形成する。次に、硬膜処理した
後、レジスト層を含む全面にカーボンスラリーを塗布
し、乾燥した後、反転現像を行ってレジスト層と共に、
その上のカーボン膜を除去し、爾後形成される各色蛍光
体ストライプ間に位置する部分に、カーボンストライプ
２を形成する。
【００２０】次いで、感光性結合剤例えばポリビニルア
ルコール中に蛍光体粒子を混合した蛍光体スラリーをカ
ーボンストライプ２が形成されたパネル１の内面に均一
に塗布した後、色選別電極をマスクとして紫外線露光
し、蛍光体をストライプ状に光硬化させる。次に現像処
理を行い、未露光部分を除去する。この工程を赤、緑及
び青ごとに行い、各対応するカーボンストライプ２間に
赤、緑及び青の各色蛍光体ストライプ３〔３Ｒ，３Ｇ及
び３Ｂ〕を形成する。
ルコール中に蛍光体粒子を混合した蛍光体スラリーをカ
ーボンストライプ２が形成されたパネル１の内面に均一
に塗布した後、色選別電極をマスクとして紫外線露光
し、蛍光体をストライプ状に光硬化させる。次に現像処
理を行い、未露光部分を除去する。この工程を赤、緑及
び青ごとに行い、各対応するカーボンストライプ２間に
赤、緑及び青の各色蛍光体ストライプ３〔３Ｒ，３Ｇ及
び３Ｂ〕を形成する。
【００２１】次に、図１Ｂに示すように、蛍光体ストラ
イプ３及びカーボンストライプ２を含む表面全面に回転
塗布法によって後述の例１〜例６から選ばれた水溶性感
光液を塗布し、乾燥して中間膜１１を形成する。この場
合、中間膜１１は通常の４〜５倍の膜厚をもって厚く形
成する。この中間膜１１により各蛍光体ストライプ３
Ｒ，３Ｇ，３Ｂの表面の凹凸が平滑化される
イプ３及びカーボンストライプ２を含む表面全面に回転
塗布法によって後述の例１〜例６から選ばれた水溶性感
光液を塗布し、乾燥して中間膜１１を形成する。この場
合、中間膜１１は通常の４〜５倍の膜厚をもって厚く形
成する。この中間膜１１により各蛍光体ストライプ３
Ｒ，３Ｇ，３Ｂの表面の凹凸が平滑化される
【００２２】次に、色選別電極をマスクとして赤、緑及
び青の各色蛍光体ストライプ３Ｒ，３Ｇ及び３Ｂの位置
に紫外線照射による露光（内面露光）を行う。その後、
温水による現像処理を行い、乾燥して、図２Ｃに示すよ
うに、各蛍光体ストライプ３Ｒ，３Ｇ，３Ｂの表面即
ち、背面及び側面にのみ選択的に中間膜（即ちアクリル
層）１１を形成する。
び青の各色蛍光体ストライプ３Ｒ，３Ｇ及び３Ｂの位置
に紫外線照射による露光（内面露光）を行う。その後、
温水による現像処理を行い、乾燥して、図２Ｃに示すよ
うに、各蛍光体ストライプ３Ｒ，３Ｇ，３Ｂの表面即
ち、背面及び側面にのみ選択的に中間膜（即ちアクリル
層）１１を形成する。
【００２３】尚、中間膜１１に対する選択露光として、
上記内面露光法の他、例えばパネル１の外面より、カー
ボンストライプ２をマスクとして露光する所謂外面露光
法によっても、図２Ｃのように各蛍光体ストライプ３の
表面にのみ選択的に中間膜１１を形成することが可能で
ある。
上記内面露光法の他、例えばパネル１の外面より、カー
ボンストライプ２をマスクとして露光する所謂外面露光
法によっても、図２Ｃのように各蛍光体ストライプ３の
表面にのみ選択的に中間膜１１を形成することが可能で
ある。
【００２４】次に、図２Ｄに示すように通常の方法によ
って例えばアルミニウム蒸着膜によるメタルバック層１
２を形成する。その後、ベーキング処理する。この様に
して目的のカラー蛍光面を得る。
って例えばアルミニウム蒸着膜によるメタルバック層１
２を形成する。その後、ベーキング処理する。この様に
して目的のカラー蛍光面を得る。
【００２５】上記中間膜に使用される水溶性感光液は次
に示す水溶性感光液から選ばれる。
に示す水溶性感光液から選ばれる。
【００２６】水分散性ビニル重合体エマルジョンからな
る中間膜用の水溶性感光液。水分散性ビニル重合体エマ
ルジョンと、部分けん化ポリ酢酸ビニル系感光剤とを含
む水溶性感光液。水分散性ビニル重合体エマルジョン
と、光重合開始剤を溶解させたアクリル酸エステルおよ
びメタクリル酸エステルから選ばれる１種以上のエチレ
ン性不飽和化合物と、部分けん化ポリ酢酸ビニル系感光
剤の乳化分散液とを含む水溶性感光液。光重合開始剤を
溶解させたアクリル酸エステルおよびメタクリル酸エス
テルから選ばれる１種以上のエチレン性不飽和化合物
と、部分けん化ポリ酢酸ビニル系感光剤の乳化分散液か
らなる水溶性感光液。
る中間膜用の水溶性感光液。水分散性ビニル重合体エマ
ルジョンと、部分けん化ポリ酢酸ビニル系感光剤とを含
む水溶性感光液。水分散性ビニル重合体エマルジョン
と、光重合開始剤を溶解させたアクリル酸エステルおよ
びメタクリル酸エステルから選ばれる１種以上のエチレ
ン性不飽和化合物と、部分けん化ポリ酢酸ビニル系感光
剤の乳化分散液とを含む水溶性感光液。光重合開始剤を
溶解させたアクリル酸エステルおよびメタクリル酸エス
テルから選ばれる１種以上のエチレン性不飽和化合物
と、部分けん化ポリ酢酸ビニル系感光剤の乳化分散液か
らなる水溶性感光液。
【００２７】そして、水分散性ビニル重合体エマルジョ
ンとしては、完全けん化ポリ酢酸ビニル、部分けん化ポ
リ酢酸ビニル、水溶性セルロース誘導体、完全けん化ポ
リ酢酸ビニル誘導体、部分けん化ポリ酢酸ビニル誘導
体、ゼラチン、ゼラチン誘導体、デンプンおよびデンプ
ン誘導体などから選ばれる１種以上の水溶性高分子を保
護コロイド剤として重合させるようにしてもよい。ま
た、水分散性ビニル重合体エマルジョンとしては、アク
リル酸、メタクリル酸、アクリル酸アルキルエステル、
およびメタクリル酸アルキルエステルなどから選ばれる
１種以上のエチレン性不飽和化合物の重合体を用いるこ
とができる。
ンとしては、完全けん化ポリ酢酸ビニル、部分けん化ポ
リ酢酸ビニル、水溶性セルロース誘導体、完全けん化ポ
リ酢酸ビニル誘導体、部分けん化ポリ酢酸ビニル誘導
体、ゼラチン、ゼラチン誘導体、デンプンおよびデンプ
ン誘導体などから選ばれる１種以上の水溶性高分子を保
護コロイド剤として重合させるようにしてもよい。ま
た、水分散性ビニル重合体エマルジョンとしては、アク
リル酸、メタクリル酸、アクリル酸アルキルエステル、
およびメタクリル酸アルキルエステルなどから選ばれる
１種以上のエチレン性不飽和化合物の重合体を用いるこ
とができる。
【００２８】感光剤としては、ジアゾ化合物、あるいは
重クロム酸塩などを用いることができる。
重クロム酸塩などを用いることができる。
【００２９】部分けん化ポリ酢酸ビニル系感光剤として
は、部分けん化ポリ酢酸ビニルとジアゾ化合物との混合
物を用いることができる。また、部分けん化ポリ酢酸ビ
ニル系感光剤としては、部分けん化ポリ酢酸ビニルと重
クロム酸塩との混合物を用いることができる。さらに、
部分けん化ポリ酢酸ビニル系感光剤としては、部分けん
化ポリ酢酸ビニルと、スチリルピリジニウム塩化合物お
よびスチリルキノリニウム塩化合物から選ばれる１種以
上の感光性化合物との縮合体を用いることができる。
は、部分けん化ポリ酢酸ビニルとジアゾ化合物との混合
物を用いることができる。また、部分けん化ポリ酢酸ビ
ニル系感光剤としては、部分けん化ポリ酢酸ビニルと重
クロム酸塩との混合物を用いることができる。さらに、
部分けん化ポリ酢酸ビニル系感光剤としては、部分けん
化ポリ酢酸ビニルと、スチリルピリジニウム塩化合物お
よびスチリルキノリニウム塩化合物から選ばれる１種以
上の感光性化合物との縮合体を用いることができる。
【００３０】水分散性ビニル重合体エマルジョンとして
は、完全けん化ポリ酢酸ビニル、部分けん化ポリ酢酸ビ
ニル、水溶性セルロース誘導体、完全けん化ポリ酢酸ビ
ニル誘導体、部分けん化ポリ酢酸ビニル誘導体、ゼチラ
ン、ゼラチン誘導体、デンプン、およびデンプン誘導体
などから選ばれる１種以上の水溶性高分子を保護コロイ
ド剤として重合され、かつ、前記保護コロイド剤として
作用している水溶性高分子にスチリルピリジニウム塩化
合物、スチリルキノリニウム塩化合物から選ばれる１種
以上の感光性化合物が付加縮合したものを用いることが
できる。
は、完全けん化ポリ酢酸ビニル、部分けん化ポリ酢酸ビ
ニル、水溶性セルロース誘導体、完全けん化ポリ酢酸ビ
ニル誘導体、部分けん化ポリ酢酸ビニル誘導体、ゼチラ
ン、ゼラチン誘導体、デンプン、およびデンプン誘導体
などから選ばれる１種以上の水溶性高分子を保護コロイ
ド剤として重合され、かつ、前記保護コロイド剤として
作用している水溶性高分子にスチリルピリジニウム塩化
合物、スチリルキノリニウム塩化合物から選ばれる１種
以上の感光性化合物が付加縮合したものを用いることが
できる。
【００３１】水分散性ビニル重合体エマルジョンが界面
活性剤を乳化剤として重合されたものを用いることがで
きる。
活性剤を乳化剤として重合されたものを用いることがで
きる。
【００３２】さちに、水分散性ビニル重合体エマルジョ
ンが界面活性剤と、完全けん化ポリ酢酸ビニル、部分け
ん化ポリ酢酸ビニル、水溶性セルロース誘導体、完全け
ん化ポリ酢酸ビニル誘導体、部分けん化ポリ酢酸ビニル
誘導体、ゼラチン、ゼチラン誘導体、デンプン、および
デンプン誘導体などから選ばれる１種以上の水溶性高分
子を保護コロイド剤として併用して重合されたものを用
いることができる。
ンが界面活性剤と、完全けん化ポリ酢酸ビニル、部分け
ん化ポリ酢酸ビニル、水溶性セルロース誘導体、完全け
ん化ポリ酢酸ビニル誘導体、部分けん化ポリ酢酸ビニル
誘導体、ゼラチン、ゼチラン誘導体、デンプン、および
デンプン誘導体などから選ばれる１種以上の水溶性高分
子を保護コロイド剤として併用して重合されたものを用
いることができる。
【００３３】また、水分散性ビニル重合体エマルジョン
の構成成分であるエチレン性不飽和化合物の重量（Ａ）
とエマルジョン重合時に保護コロイド剤として使用され
た水溶性高分子の重量（Ｂ）の重量比が（Ａ）：（Ｂ）
＝９９：１〜１０：９０好ましくは９７：３〜７５：２
５の範囲内にあることが望ましい。
の構成成分であるエチレン性不飽和化合物の重量（Ａ）
とエマルジョン重合時に保護コロイド剤として使用され
た水溶性高分子の重量（Ｂ）の重量比が（Ａ）：（Ｂ）
＝９９：１〜１０：９０好ましくは９７：３〜７５：２
５の範囲内にあることが望ましい。
【００３４】水分散性ビニル重合体エマルジョンの構成
成分であるエチレン性不飽和化合物の重量（Ａ）とエマ
ルジョン重合時に保護コロイド剤として使用された水溶
性高分子の重量（Ｂ）と部分けん化ポリ酢酸ビニル系感
光剤に含まれる部分けん化ポリ酢酸ビニルの重量（Ｃ）
の比が、〔（Ａ）＋（Ｂ）〕：（Ｃ）＝９９：１〜１
０：９０好ましく９７：３〜７５：２５の範囲内にある
ことが望ましい。
成分であるエチレン性不飽和化合物の重量（Ａ）とエマ
ルジョン重合時に保護コロイド剤として使用された水溶
性高分子の重量（Ｂ）と部分けん化ポリ酢酸ビニル系感
光剤に含まれる部分けん化ポリ酢酸ビニルの重量（Ｃ）
の比が、〔（Ａ）＋（Ｂ）〕：（Ｃ）＝９９：１〜１
０：９０好ましく９７：３〜７５：２５の範囲内にある
ことが望ましい。
【００３５】さらに、水分散性ビニル重合体エマルジョ
ンの構成成分であるエチレン性不飽和化合物の重量
（Ａ）とエマルジョン重合時に保護コロイド剤として使
用された水溶性高分子の重量（Ｂ）と光重合開始剤を溶
解しているエチレン性不飽和化合物の重量（Ｃ）と部分
けん化ポリ酢酸ビニル系感光剤に含まれる部分けん化ポ
リ酢酸ビニルの重量（Ｄ）の重量比が〔（Ａ）＋
（Ｃ）〕：〔（Ｂ）＋（Ｄ）〕＝９９：１〜１０：９０
好ましくは９７：３〜７５：２５の範囲内にあることが
望ましい。
ンの構成成分であるエチレン性不飽和化合物の重量
（Ａ）とエマルジョン重合時に保護コロイド剤として使
用された水溶性高分子の重量（Ｂ）と光重合開始剤を溶
解しているエチレン性不飽和化合物の重量（Ｃ）と部分
けん化ポリ酢酸ビニル系感光剤に含まれる部分けん化ポ
リ酢酸ビニルの重量（Ｄ）の重量比が〔（Ａ）＋
（Ｃ）〕：〔（Ｂ）＋（Ｄ）〕＝９９：１〜１０：９０
好ましくは９７：３〜７５：２５の範囲内にあることが
望ましい。
【００３６】また、光重合開始剤を溶解しているエチレ
ン性不飽和化合物の重量（Ａ）と部分けん化ポリ酢酸ビ
ニル系感光剤に含まれる部分けん化ポリ酢酸ビニルの重
量（Ｂ）の重量比が（Ａ）：（Ｂ）＝９９：１〜１０：
９０好ましくは９７：３〜７５：２５の範囲内にあるこ
とが望ましい。
ン性不飽和化合物の重量（Ａ）と部分けん化ポリ酢酸ビ
ニル系感光剤に含まれる部分けん化ポリ酢酸ビニルの重
量（Ｂ）の重量比が（Ａ）：（Ｂ）＝９９：１〜１０：
９０好ましくは９７：３〜７５：２５の範囲内にあるこ
とが望ましい。
【００３７】乳化分散液としては、光重合開始剤を溶解
させたエチレン性不飽和化合物が界面活性剤あるいはエ
チレン性不飽和化合物中に含まれる極性基の作用により
乳化された後、部分けん化ポリ酢酸ビニル系感光剤を混
合させるようにしてもよい。また、乳化分散液として
は、光重合開始剤を溶解させたエチレン性不飽和化合物
が完全けん化ポリ酢酸ビニル、部分けん化ポリ酢酸ビニ
ル、水溶性セルロース誘導体、完全けん化ポリ酢酸ビニ
ル誘導体、ゼラチン、ゼラチン誘導体、デンプン、およ
びデンプン誘導体などから選ばれる１種以上の水溶性高
分子の作用により乳化された後、部分けん化ポリ酢酸ビ
ニル系感光剤を混入させるようにしてもよい。
させたエチレン性不飽和化合物が界面活性剤あるいはエ
チレン性不飽和化合物中に含まれる極性基の作用により
乳化された後、部分けん化ポリ酢酸ビニル系感光剤を混
合させるようにしてもよい。また、乳化分散液として
は、光重合開始剤を溶解させたエチレン性不飽和化合物
が完全けん化ポリ酢酸ビニル、部分けん化ポリ酢酸ビニ
ル、水溶性セルロース誘導体、完全けん化ポリ酢酸ビニ
ル誘導体、ゼラチン、ゼラチン誘導体、デンプン、およ
びデンプン誘導体などから選ばれる１種以上の水溶性高
分子の作用により乳化された後、部分けん化ポリ酢酸ビ
ニル系感光剤を混入させるようにしてもよい。
【００３８】さらに、乳化分散液としては、光重合開始
剤を溶解させたエチレン性不飽和化合物が完全けん化ポ
リ酢酸ビニル、部分けん化ポリ酢酸ビニル、水溶性セル
ロース誘導体、完全けん化ポリ酢酸ビニル誘導体、部分
けん化ポリ酢酸ビニル誘導体、ゼラチン、ゼラチン誘導
体、デンプン、およびデンプン誘導体などから選ばれる
１種以上の水溶性高分子と界面活性剤との併用により乳
化された後、部分けん化ポリ酢酸ビニル系感光剤を混合
させるようにしてもよい。
剤を溶解させたエチレン性不飽和化合物が完全けん化ポ
リ酢酸ビニル、部分けん化ポリ酢酸ビニル、水溶性セル
ロース誘導体、完全けん化ポリ酢酸ビニル誘導体、部分
けん化ポリ酢酸ビニル誘導体、ゼラチン、ゼラチン誘導
体、デンプン、およびデンプン誘導体などから選ばれる
１種以上の水溶性高分子と界面活性剤との併用により乳
化された後、部分けん化ポリ酢酸ビニル系感光剤を混合
させるようにしてもよい。
【００３９】次に、中間膜１１に使用する水溶性感光液
の実施例を示す。
の実施例を示す。
【００４０】
〔例１〕
組 成
ポリアクリル酸ブチルエマルジョン‥‥１００ｇ
「但し、
固形分濃度：２５％
保護コロイド剤：部分けん化ポリ酢酸ビニル（重合度３００、けん化度
７８モル％）
保護コロイド剤重量／ポリアクリル酸ブチル重量：１０／９０」
部分けん化ポリ酢酸ビニル水溶液‥‥２５ｇ
「但し、
固形分濃度：１０％
重合度：１８００
けん化度：８８モル％」
重クロム酸アンモニウム塩‥‥０．０５ｇ
上記の組成物を混合溶解して中間膜用の水溶性感光液を
得る。
得る。
【００４１】
〔例２〕
組 成
ポリ２−エチルヘキシルアクリレートエマルジョン‥‥１００ｇ
「但し、
固形分濃度：２５％
保護コロイド剤：部分けん化ポリ酢酸ビニル（重合度１４００、けん化
度７８モル％）
保護コロイド剤重量／ポリ２−エチルヘキシアクリレート重量
：７／９３」
部分けん化ポリ酢酸ビニルとＮ−メチル−４−（Ｐ−ホルミルスチリル）ピ
リジニウムメト硫酸塩との縮合化合物水溶液‥‥２０ｇ
「但し、
固形分濃度：１０％
部分けん化ポリ酢酸ビニル：重合度１８００、けん化度８８モル％
Ｎ−メチル−４−（Ｐ−ホルミルスチリル）ピリジニウムメト硫酸塩に
よって置換された部分けん化ポリ酢酸ビニルの水溶基：１モル％」
上記組成物を混合して中間膜用の水溶性感光液を得る。
【００４２】
〔例３〕
組 成
ポリアクリル酸ブチルエマルジョン‥‥１００ｇ
「但し、
固形分濃度：２５％
保護コロイド剤：カルボキシメチルセルロース
保護コロイド剤重量／ポリアクリル酸ブチル重量：１０／９０」
部分けん化ポリ酢酸ビニル水溶液‥‥２０ｇ
「但し、
固形分濃度：１０ｇ
重合度：２４００
けん化度：９２モル％」
ジアゾジフェニルアミンとホルムアルデヒドの重縮合体‥‥０．３ｇ
上記組成物を混合溶解して中間膜用の水溶性感光液を得
る。
る。
【００４３】
〔例４〕
組 成
例１で示されたポリアクリル酸ブチルエマルジョン中に含まれている保護コ
ロイド剤である部分けん化ポリ酢酸ビニルの水酸基の１モル％と、Ｎ−メチル
−４−（Ｐ−ホルミルスチリル）ピリジニウムメト硫酸塩とが縮合してなるＮ
−メチル−４−（Ｐ−ホルミルスチルリ）ピリジニウムメト硫酸塩化されたポ
リアクリル酸ブチルエマルジョン‥‥１００ｇ
「但し、固形分濃度：２５％」
例２で示された部分けん化ポリ酢酸ビニルとＮ−メチル−４−（Ｐ−ホルミ
ルスチリル）ピリジニウムメト硫酸塩との縮合化合物水溶液‥‥１０ｇ
上記組成物を混合して中間膜用の水溶性感光液を得る。
【００４４】
〔例５〕
組 成
例１で示したポリアクリル酸ブチルエマルジョン‥‥１００ｇ
光重合開始剤としてＩＲＧＡＣＵＲＥ６５１（ＣＩＢＡ−ＧＥＩＧＹ社製）
１ｇを溶解させたトリデシルメタクリレート５０ｇを例１示した部分けん化ポ
リ酢酸ビニル水溶液２５ｇで乳化分散した乳化液
及び、
重クロム酸アンモニウム‥‥０．０５ｇ
上記組成物を混合溶解して水溶性感光液を得る。
【００４５】
〔例６〕
組 成
光重合開始剤としてＩＲＧＡＣＵＲＥ６５１（ＣＩＢＡ−ＧＥＩＧＹ社製）
１ｇを溶解させたトリデシルメタクリレート５０ｇを例１で示した部分けん化
ポリ酢酸ビニル水溶液２５ｇで乳化分散した乳化液、
及び、
重クロム酸アンモニウム‥‥０．０５ｇ
上記組成物を混合溶解して中間膜用の水溶性感光液を得
る。
る。
【００４６】本実施例に係る陰極線管は、上述のように
して形成した蛍光面を備えた構成とする。即ち、蛍光面
としては、パネル内面に各色蛍光体層３〔３Ｒ，３Ｇ，
３Ｂ〕と、各色蛍光体層３間の光吸収層となるカーボン
層２とを有し、各色蛍光体層３をつつみ込むように且つ
カーボン層２に直接被着するように、また、有効画面外
のカーボン層２上でも直接被着するように、メタルバッ
ク層１２が形成された構成となる。
して形成した蛍光面を備えた構成とする。即ち、蛍光面
としては、パネル内面に各色蛍光体層３〔３Ｒ，３Ｇ，
３Ｂ〕と、各色蛍光体層３間の光吸収層となるカーボン
層２とを有し、各色蛍光体層３をつつみ込むように且つ
カーボン層２に直接被着するように、また、有効画面外
のカーボン層２上でも直接被着するように、メタルバッ
ク層１２が形成された構成となる。
【００４７】上述の蛍光面形成方法によれば、例１〜例
６に示した水溶性感光液を用いて各色蛍光体ストライプ
３Ｒ，３Ｇ及び３Ｂの表面即ち、裏面及び側面のみに選
択的に中間膜１１を形成することにより、中間膜１１と
しては厚く形成することができる。
６に示した水溶性感光液を用いて各色蛍光体ストライプ
３Ｒ，３Ｇ及び３Ｂの表面即ち、裏面及び側面のみに選
択的に中間膜１１を形成することにより、中間膜１１と
しては厚く形成することができる。
【００４８】即ち、中間膜１１としては、カーボンスト
ライプ２上になく、従って、全面連続して形成されず各
蛍光体ストライプ３に対応して段面１１ａをしている。
この段面１１ａではメタルバック層１２となるアルミニ
ウム蒸着膜は薄くなるため、ベーキング工程ではこの段
面１１ａから中間膜１１あるいは蛍光体ストライプ３中
のＰＶＡ等の有機物のガスが逃げ、排出される。中間膜
１１はこのベーキング処理で除去され、メタルバック層
１２と各蛍光体ストライプ３間には間隙（ギャップ）が
形成される。
ライプ２上になく、従って、全面連続して形成されず各
蛍光体ストライプ３に対応して段面１１ａをしている。
この段面１１ａではメタルバック層１２となるアルミニ
ウム蒸着膜は薄くなるため、ベーキング工程ではこの段
面１１ａから中間膜１１あるいは蛍光体ストライプ３中
のＰＶＡ等の有機物のガスが逃げ、排出される。中間膜
１１はこのベーキング処理で除去され、メタルバック層
１２と各蛍光体ストライプ３間には間隙（ギャップ）が
形成される。
【００４９】このような理由で中間膜１１を厚く形成す
ることができ、蛍光体ストライプ３の凹凸表面を平滑に
して、高反射率のメタルバック層１２を形成することが
でき、之により蛍光面の輝度が従来より３０％向上する
ものである。
ることができ、蛍光体ストライプ３の凹凸表面を平滑に
して、高反射率のメタルバック層１２を形成することが
でき、之により蛍光面の輝度が従来より３０％向上する
ものである。
【００５０】また、有効画面外のカーボン層上でも当然
ながら中間膜１１が形成されないので、有効画面外に於
いても、アルミ浮き（アルミふくれ）、アルミ剥れ等が
なくなる。
ながら中間膜１１が形成されないので、有効画面外に於
いても、アルミ浮き（アルミふくれ）、アルミ剥れ等が
なくなる。
【００５１】さらに、各蛍光体ストライプ３Ｒ，３Ｇ及
び３Ｂを夫々包み込むようにメタルバック層１２が形成
されるので、各蛍光体ストライプ３で発光した光は隣り
の蛍光体ストライプに入射することなく、メタルバック
層１２によって確実に反射される。従って、陰極線管に
おける色純度が深くなる。
び３Ｂを夫々包み込むようにメタルバック層１２が形成
されるので、各蛍光体ストライプ３で発光した光は隣り
の蛍光体ストライプに入射することなく、メタルバック
層１２によって確実に反射される。従って、陰極線管に
おける色純度が深くなる。
【００５２】因みに、ＣＩＥ色度図で赤色度のＸ値が＋
０．０２、青色度のＹ値が−０．００５、緑色度のＹ値
が＋０．００５深くなるを認めた。
０．０２、青色度のＹ値が−０．００５、緑色度のＹ値
が＋０．００５深くなるを認めた。
【００５３】一方、本実施例の水溶性感光液によれば、
露光後の未露光部の水現像性が容易に行え、且つメタル
バック層１１を形成した後のベーキング工程の蒸発除去
性に優れるものである。
露光後の未露光部の水現像性が容易に行え、且つメタル
バック層１１を形成した後のベーキング工程の蒸発除去
性に優れるものである。
【００５４】本実施例では、水分散性ビニル重合体エマ
ルジョンに使用されるエチレン性不飽和化合物は、アク
リル酸、メタクリル酸、アクリル酸アルキルエステル、
およびメタクリル酸アルキルエステルの場合、上記以外
のエチレン性不飽和化合物による水分散性ビニル重合体
エマルジョンに比較して蒸発除去性が良好となる。
ルジョンに使用されるエチレン性不飽和化合物は、アク
リル酸、メタクリル酸、アクリル酸アルキルエステル、
およびメタクリル酸アルキルエステルの場合、上記以外
のエチレン性不飽和化合物による水分散性ビニル重合体
エマルジョンに比較して蒸発除去性が良好となる。
【００５５】因みに、従来の界面活性剤を分散安定剤と
して重合した水分散性ビニル重合体エマルジョンと部分
けん化ポリ酢酸ビニル系感光剤とからなる水溶性感光液
は、もともと、上記水分散性ビニル重合体エマルジョン
の水再溶解性がない為、露光後、未露光部の水現像性が
悪いという欠点がある。上記配合で水現像性を改良する
手段として、水再溶解性の良好な部分けん化ポリ酢酸ビ
ニルの固形分配合量が水溶性感光液固形分重量に対して
５０％を越える範囲で水溶性感光液を調製する方法があ
る。
して重合した水分散性ビニル重合体エマルジョンと部分
けん化ポリ酢酸ビニル系感光剤とからなる水溶性感光液
は、もともと、上記水分散性ビニル重合体エマルジョン
の水再溶解性がない為、露光後、未露光部の水現像性が
悪いという欠点がある。上記配合で水現像性を改良する
手段として、水再溶解性の良好な部分けん化ポリ酢酸ビ
ニルの固形分配合量が水溶性感光液固形分重量に対して
５０％を越える範囲で水溶性感光液を調製する方法があ
る。
【００５６】しかし、部分けん化ポリ酢酸ビニルが上記
５０％を越えると、メタルバック層となるアルミニウム
蒸着後の有機物に対する加熱蒸発除去の工程（ベーキン
グ工程）で蒸発除去性が悪い部分けん化ポリ酢酸ビニル
の蒸発除去が不可能となる欠点が新たに生ずる。その結
果、上記処方による水溶性感光液を中間膜として使用し
た蛍光面の輝度は期待に反して低下してしまう。
５０％を越えると、メタルバック層となるアルミニウム
蒸着後の有機物に対する加熱蒸発除去の工程（ベーキン
グ工程）で蒸発除去性が悪い部分けん化ポリ酢酸ビニル
の蒸発除去が不可能となる欠点が新たに生ずる。その結
果、上記処方による水溶性感光液を中間膜として使用し
た蛍光面の輝度は期待に反して低下してしまう。
【００５７】之に対し、本実施例の水溶性感光液は、上
記したように水現像性が良く且つ蒸発除去性が良好とな
り、結果として、蛍光面の輝度を向上することができ
る。
記したように水現像性が良く且つ蒸発除去性が良好とな
り、結果として、蛍光面の輝度を向上することができ
る。
【００５８】そして、本実施例の陰極線管によれば、メ
タルバック層１２の浮き、剥がれ等がなく、輝度、色純
度に優れた信頼性の高い陰極線管を提供できる。
タルバック層１２の浮き、剥がれ等がなく、輝度、色純
度に優れた信頼性の高い陰極線管を提供できる。
【００５９】上述の図１及び図２の実施例では、各蛍光
体ストライプ３表面のみを覆うように選択的に中間膜１
１を形成したが、その他、図３及び図４に示すように、
中間膜１１を蛍光体ストライプ３表面より一部カーボン
ストライプ２上にわたるように形成するようにしてもよ
い。
体ストライプ３表面のみを覆うように選択的に中間膜１
１を形成したが、その他、図３及び図４に示すように、
中間膜１１を蛍光体ストライプ３表面より一部カーボン
ストライプ２上にわたるように形成するようにしてもよ
い。
【００６０】この場合、中間膜１１のカーボンストライ
プ２上に形成しない部分の幅ｄ1 はカーボンストライプ
２の幅ｄ2 の０．１％〜９９．９％の範囲内とする。即
ち、メタルバック層１２の形成後のベーキング時に、中
間膜１１の段面１１ａから有機物のガスが逃げるに充分
な間隔ｄ1 を開けるようになす。
プ２上に形成しない部分の幅ｄ1 はカーボンストライプ
２の幅ｄ2 の０．１％〜９９．９％の範囲内とする。即
ち、メタルバック層１２の形成後のベーキング時に、中
間膜１１の段面１１ａから有機物のガスが逃げるに充分
な間隔ｄ1 を開けるようになす。
【００６１】図３Ａ〜図４Ｄの工程では、図４Ｃの露光
をコントロールして中間膜１１を一部カーボンストライ
プ２上にわたるように露光する以外は、前述の図１Ａ〜
図２Ｄと同様であるので詳細説明を省略する。この方法
においても、上例と同様に、蛍光体ストライプ３の凹凸
表面を平滑にして高反射率のメタルバック層１２を形成
することができ、輝度を向上できる。また、メタルバッ
ク層１２の浮き、剥れがなく、色純度も良くなる。
をコントロールして中間膜１１を一部カーボンストライ
プ２上にわたるように露光する以外は、前述の図１Ａ〜
図２Ｄと同様であるので詳細説明を省略する。この方法
においても、上例と同様に、蛍光体ストライプ３の凹凸
表面を平滑にして高反射率のメタルバック層１２を形成
することができ、輝度を向上できる。また、メタルバッ
ク層１２の浮き、剥れがなく、色純度も良くなる。
【００６２】
【発明の効果】本発明によれば、輝度が向上し、色純度
も深く、さらにメタルバック層の浮き、剥れのない信頼
性の高い陰極線管の蛍光面を形成することができ、信頼
性の高い陰極線管を提供できる。従って、例えば高品位
又は高精度のカラー陰極線管、及びその蛍光面の形成に
適用して好適である。
も深く、さらにメタルバック層の浮き、剥れのない信頼
性の高い陰極線管の蛍光面を形成することができ、信頼
性の高い陰極線管を提供できる。従って、例えば高品位
又は高精度のカラー陰極線管、及びその蛍光面の形成に
適用して好適である。
【図１】本発明による蛍光面形成方法の一例を示す工程
図（その１）である。
図（その１）である。
【図２】本発明による蛍光面形成方法の一例を示す工程
図（その２）である。
図（その２）である。
【図３】本発明による蛍光面形成方法の他の例を示す工
程図（その１）である。
程図（その１）である。
【図４】本発明による蛍光面形成方法の他の例を示す工
程図（その２）である。
程図（その２）である。
【図５】通常の蛍光面形成方法を示す工程図である。
１ パネル
２ 光吸収層
３Ｒ，３Ｇ，３Ｂ 蛍光体層
４，１１ 中間膜
５，１２ メタルバック層
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 楠木 常夫
東京都品川区北品川６丁目７番35号 ソ
ニー株式会社内
(72)発明者 伊藤 弘
栃木県宇都宮市平出工業団地27−２ 王
子化工株式会社 商品研究所内
(72)発明者 中里 修一
栃木県宇都宮市平出工業団地27−２ 王
子化工株式会社 商品研究所内
(72)発明者 磯部 尚樹
栃木県宇都宮市平出工業団地27−２ 王
子化工株式会社 商品研究所内
(56)参考文献 特開 昭53−46267（ＪＰ，Ａ)
特開 昭54−69954（ＪＰ，Ａ)
特開 昭51−81562（ＪＰ，Ａ)
特開 昭60−12639（ＪＰ，Ａ)
特開 昭54−7269（ＪＰ，Ａ)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
H01J 29/28
H01J 9/22
H01J 9/227
Claims (4)
- 【請求項１】 パネル内面に、各蛍光体層と該各蛍光体
層間に形成された光吸収層を有し、前記各蛍光体層の表面に選択的に形成された中間膜を介
して前記各蛍光体層を包み込むように該各蛍光体層の表
面上と、前記光吸収層上とに メタルバック層が形成さ
れ、 前記メタルバック層が前記光吸収層に直接被着され、前記中間膜がベーキング処理されて 前記メタルッバク層
と前記各蛍光体層との間にギャップが形成されて成るこ
とを特徴とする陰極線管。 - 【請求項２】 前記メタルバック層が有効画面外でも前
記光吸収層上に中間膜を介さずに直接被着形成されて成
ることを特徴とする請求項１記載の陰極線管。 - 【請求項３】 パネル内面に各蛍光体層と該各蛍光体層
間の光吸収層を形成する工程と、 前記各蛍光体層および前記光吸収層を含む表面全面に感
光性中間膜を形成する工程と、 前記感光性中間膜を露光、現像して前記各蛍光体層の表
面に選択的に中間膜を残すと共に、前記光吸収層上の中
間膜を選択的に除去する工程と、前記各蛍光体層を包み込むように 前記中間膜上に被着
し、且つ前記光吸収層に直接被着するメタルバック層を
形成する工程と、ベーキング処理して前記中間膜を除去し、前記各蛍光体
層と前記メタルバック層との間にギャップを形成する工
程を有する ことを特徴とする陰極線管の蛍光面形成方
法。 - 【請求項４】 前記中間膜の形成工程で、該中間膜を有
効画面外の前記光吸収層上も除いて形成することを特徴
とする請求項３記載の陰極線管の蛍光面形成方法。
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| JP01910492A JP3406976B2 (ja) | 1992-02-04 | 1992-02-04 | 陰極線管及びその蛍光面形成方法 |
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