JPH1064427A - カラー陰極線管のフィルター付き蛍光面の形成方法 - Google Patents
カラー陰極線管のフィルター付き蛍光面の形成方法Info
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- JPH1064427A JPH1064427A JP8215650A JP21565096A JPH1064427A JP H1064427 A JPH1064427 A JP H1064427A JP 8215650 A JP8215650 A JP 8215650A JP 21565096 A JP21565096 A JP 21565096A JP H1064427 A JPH1064427 A JP H1064427A
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- H01J29/02—Electrodes; Screens; Mounting, supporting, spacing or insulating thereof
- H01J29/10—Screens on or from which an image or pattern is formed, picked up, converted or stored
- H01J29/18—Luminescent screens
- H01J29/30—Luminescent screens with luminescent material discontinuously arranged, e.g. in dots, in lines
- H01J29/32—Luminescent screens with luminescent material discontinuously arranged, e.g. in dots, in lines with adjacent dots or lines of different luminescent material, e.g. for colour television
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)
- Cathode-Ray Tubes And Fluorescent Screens For Display (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 カラー陰極線管のフィルター付き蛍光面の形
成において、フィルター層上での蛍光体残渣および蛍光
体の脱落をなくし、ユニフォミティ劣化のない高輝度・
高コントラストのカラー陰極線管を提供する。 【解決手段】 パネル内面に青、緑、赤など複数色の顔
料層からなるフィルターパターンを形成した後、その上
に酸性に調整されたコロイダルシリカ液を塗布・乾燥
し、次いでこうして形成されたシリカ層の上に、下層の
顔料層に対応する発光色を有する蛍光体層を形成する。
コロイダルシリカの粒子径は15nm以下とし、液のｐＨは
2.0〜 5.0とすることが好ましい。
成において、フィルター層上での蛍光体残渣および蛍光
体の脱落をなくし、ユニフォミティ劣化のない高輝度・
高コントラストのカラー陰極線管を提供する。 【解決手段】 パネル内面に青、緑、赤など複数色の顔
料層からなるフィルターパターンを形成した後、その上
に酸性に調整されたコロイダルシリカ液を塗布・乾燥
し、次いでこうして形成されたシリカ層の上に、下層の
顔料層に対応する発光色を有する蛍光体層を形成する。
コロイダルシリカの粒子径は15nm以下とし、液のｐＨは
2.0〜 5.0とすることが好ましい。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、カラー陰極線管の
フィルター付き蛍光面を形成する方法に関する。
フィルター付き蛍光面を形成する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来から、カラー陰極線管において蛍光
体層の前面、すなわちフェースプレートのパネル内面の
蛍光体層との間に、蛍光体の発光色に対応したフィルタ
ー層を設けて、フィルター付き蛍光体層とすることが知
られている。通常のカラー陰極線管のフェースプレート
のパネルの内面には、青、緑、赤の各色のドット状やス
トライプ状等の蛍光体層が形成され、この蛍光体層に電
子ビームが衝突することにより、蛍光体が各色に発光し
て画像表示がなされている。そしてフィルター付き蛍光
体層は、フェースパネルと蛍光体層との間に、蛍光体層
の発光色と同色の光を透過する各色の顔料層から構成さ
れるフィルターパターンを設けたもので、入射した外光
のうち緑や青成分の光は赤色顔料層で、緑や赤成分の光
は青色顔料層で、青や赤成分の光は緑顔料層でそれぞれ
吸収させ、コントラストや色純度等の画像特性を向上さ
せようとするものである。
体層の前面、すなわちフェースプレートのパネル内面の
蛍光体層との間に、蛍光体の発光色に対応したフィルタ
ー層を設けて、フィルター付き蛍光体層とすることが知
られている。通常のカラー陰極線管のフェースプレート
のパネルの内面には、青、緑、赤の各色のドット状やス
トライプ状等の蛍光体層が形成され、この蛍光体層に電
子ビームが衝突することにより、蛍光体が各色に発光し
て画像表示がなされている。そしてフィルター付き蛍光
体層は、フェースパネルと蛍光体層との間に、蛍光体層
の発光色と同色の光を透過する各色の顔料層から構成さ
れるフィルターパターンを設けたもので、入射した外光
のうち緑や青成分の光は赤色顔料層で、緑や赤成分の光
は青色顔料層で、青や赤成分の光は緑顔料層でそれぞれ
吸収させ、コントラストや色純度等の画像特性を向上さ
せようとするものである。
【０００３】このようなフィルター層を形成するには、
パネルの内面に顔料層を塗布・形成した後、露光次いで
現像を行なうことでパターニングする方法が一般的に行
なわれている。このとき、フィルター層のパターンとし
て残すべき箇所には、フェースプレートとの付着性が要
求され、それ以外の箇所にはフェースプレートからの剥
離性が要求される。また、顔料層においては透明性が必
要とされ、顔料粒子が凝集することなく均一に分散して
いることも要求される。そして、このように形成された
フィルター層の上に、各色の顔料層に対応する発光色を
有する蛍光体層を、通常の方法により形成するようにな
っている。
パネルの内面に顔料層を塗布・形成した後、露光次いで
現像を行なうことでパターニングする方法が一般的に行
なわれている。このとき、フィルター層のパターンとし
て残すべき箇所には、フェースプレートとの付着性が要
求され、それ以外の箇所にはフェースプレートからの剥
離性が要求される。また、顔料層においては透明性が必
要とされ、顔料粒子が凝集することなく均一に分散して
いることも要求される。そして、このように形成された
フィルター層の上に、各色の顔料層に対応する発光色を
有する蛍光体層を、通常の方法により形成するようにな
っている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな蛍光体層の形成においては、フィルター層（顔料
層）上に異なる発光色の蛍光体が残留するという問題が
あった。例えば、通常のスラリー法によりまず最初に青
の蛍光体層を形成した場合に、緑あるいは赤のフィルタ
ー層上に青蛍光体が残査として残り、さらに次に緑の蛍
光体層を同様にして形成した場合に、赤のフィルター層
上に緑の蛍光体が残査として残るため、カラー陰極線管
におけるユニフォミティ品位が劣化するという問題が生
じていた。
うな蛍光体層の形成においては、フィルター層（顔料
層）上に異なる発光色の蛍光体が残留するという問題が
あった。例えば、通常のスラリー法によりまず最初に青
の蛍光体層を形成した場合に、緑あるいは赤のフィルタ
ー層上に青蛍光体が残査として残り、さらに次に緑の蛍
光体層を同様にして形成した場合に、赤のフィルター層
上に緑の蛍光体が残査として残るため、カラー陰極線管
におけるユニフォミティ品位が劣化するという問題が生
じていた。
【０００５】このようにフィルター層上に異なる色の蛍
光体が残留する理由は必ずしも明らかではないが、概ね
以下に示す理由によるものと思われる。すなわち、フィ
ルター層を構成する顔料粒子が金属酸化物であり、また
フィルター層を形成するため顔料に高分子化合物（樹
脂）が添加されているため、一般に塗布すべき蛍光体の
表面処理用に使用されるシリカと、フィルター層との間
に静電気的な力が作用し、それにより蛍光体の残査が生
じるものと思われる。なお、一般にシリカはマイナス側
に帯電することから、フィルター層はシリカに比べプラ
ス側に帯電するものと思われる。
光体が残留する理由は必ずしも明らかではないが、概ね
以下に示す理由によるものと思われる。すなわち、フィ
ルター層を構成する顔料粒子が金属酸化物であり、また
フィルター層を形成するため顔料に高分子化合物（樹
脂）が添加されているため、一般に塗布すべき蛍光体の
表面処理用に使用されるシリカと、フィルター層との間
に静電気的な力が作用し、それにより蛍光体の残査が生
じるものと思われる。なお、一般にシリカはマイナス側
に帯電することから、フィルター層はシリカに比べプラ
ス側に帯電するものと思われる。
【０００６】一方、蛍光体層を形成するには通常スラリ
ー法が用いられ、その際のフォトレジストとしては、重
クロム酸アンモニウムを加えたポリビニルアルコールの
水溶液が、露光光源としては超高圧水銀灯がそれぞれ用
いられる。しかし、フィルター層として用いられる顔料
は、一般に前記レジストの光架橋が起こる 365nm付近の
波長域では吸収があるため、露光時の感度不足特にフィ
ルター層側での露光感度の低下が起こり、現像後の蛍光
体の脱落が起こり易いという問題があった。
ー法が用いられ、その際のフォトレジストとしては、重
クロム酸アンモニウムを加えたポリビニルアルコールの
水溶液が、露光光源としては超高圧水銀灯がそれぞれ用
いられる。しかし、フィルター層として用いられる顔料
は、一般に前記レジストの光架橋が起こる 365nm付近の
波長域では吸収があるため、露光時の感度不足特にフィ
ルター層側での露光感度の低下が起こり、現像後の蛍光
体の脱落が起こり易いという問題があった。
【０００７】本発明は、これらの問題を解決するために
なされたもので、カラー陰極線管のフィルター付き蛍光
面の形成において、フィルター層上での異なる発光色の
蛍光体の残留および蛍光体の脱落をなくし、ユニフォミ
ティ劣化のない高輝度・高コントラストのカラー陰極線
管を提供することを目的とする。
なされたもので、カラー陰極線管のフィルター付き蛍光
面の形成において、フィルター層上での異なる発光色の
蛍光体の残留および蛍光体の脱落をなくし、ユニフォミ
ティ劣化のない高輝度・高コントラストのカラー陰極線
管を提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明のカラー陰極線管
のフィルター付き蛍光面の形成方法は、フェースプレー
トのパネル内面に複数色の顔料層を所定のパターンに配
列したフィルターパターンを形成する工程と、前記フィ
ルターパターンの上に、前記各色の顔料層に対応する発
光色を有する蛍光体層を形成する工程とを備えたフィル
ター付き蛍光面の形成方法において、前記フィルターパ
ターンを構成する顔料層の上に、酸性に調整されたコロ
イダルシリカ液を塗布して乾燥し、次いでその上に前記
蛍光体層を形成することを特徴とする。
のフィルター付き蛍光面の形成方法は、フェースプレー
トのパネル内面に複数色の顔料層を所定のパターンに配
列したフィルターパターンを形成する工程と、前記フィ
ルターパターンの上に、前記各色の顔料層に対応する発
光色を有する蛍光体層を形成する工程とを備えたフィル
ター付き蛍光面の形成方法において、前記フィルターパ
ターンを構成する顔料層の上に、酸性に調整されたコロ
イダルシリカ液を塗布して乾燥し、次いでその上に前記
蛍光体層を形成することを特徴とする。
【０００９】以下、それぞれの内容についてさらに詳細
に説明する。
に説明する。
【００１０】本発明にかかわる顔料としては、無機系ま
たは有機系のいずれの顔料をも使用することができる。
特に、フィルター層中に均一に分散することができ、光
の散乱を起こすことなくフィルター層が十分な透明性を
有するようにできる顔料の使用が好ましい。また、カラ
ー陰極線管の製造では、高温工程を含むので、無機系の
顔料の使用が好ましい。
たは有機系のいずれの顔料をも使用することができる。
特に、フィルター層中に均一に分散することができ、光
の散乱を起こすことなくフィルター層が十分な透明性を
有するようにできる顔料の使用が好ましい。また、カラ
ー陰極線管の製造では、高温工程を含むので、無機系の
顔料の使用が好ましい。
【００１１】具体的な例として、以下の顔料を例示する
ことが出来る。
ことが出来る。
【００１２】赤の顔料として、酸化第二鉄系の顔料であ
る商品名シコトランスレッドL-2817（粒子径0.01μm 〜
0.02μm 、ＢＡＳＦ社製）、アントラキノン系の顔料で
ある商品名クロモファータルレッド A2B（粒子径0.01μ
m 、チバガイギー社製）、青の顔料として、アルミン酸
コバルト（Ａｌ2 Ｏ3 −ＣｏＯ）系の顔料である商品名
コバルトブルーX （粒子径0.01μm 〜0.02μm 、東洋顔
料社製）、群青系の顔料である商品名群青 No.8000（粒
子径0.03μm 、第一化成社製）、フタロシアニンブルー
系の顔料である商品名リオノールブルー FG-7370（粒子
径0.01μm 、東洋インキ社製）、緑の顔料として、Ｔｉ
Ｏ2 −ＮｉＯ−ＣｏＯ−ＺｎＯ系の顔料である商品名ダ
イピロキサイドTM−グリーン＃3320（粒子径0.01μm 〜
0.02μm、大日精化社製）、ＣｏＯ−Ａｌ2 Ｏ3 −Ｃｒ
2 Ｏ3 系の顔料である商品名ダイピロキサイドTM−グリ
ーン＃3420（粒子径0.01μm 〜0.02μm 、大日精化社
製）、Ｃｒ2 Ｏ3 系の顔料である商品名ND-801（粒子径
0.35μm 、日本電工社製）、塩素化フタロシアニングリ
ーン系の顔料である商品名ファーストゲングリーンS
（粒子径0.01μm 、大日本インキ社製）、臭素化フタロ
シアニングリーン系の顔料である商品名ファーストゲン
グリーン 2YK（粒子径0.01μm 、大日本インキ社製）等
を例示することができる。
る商品名シコトランスレッドL-2817（粒子径0.01μm 〜
0.02μm 、ＢＡＳＦ社製）、アントラキノン系の顔料で
ある商品名クロモファータルレッド A2B（粒子径0.01μ
m 、チバガイギー社製）、青の顔料として、アルミン酸
コバルト（Ａｌ2 Ｏ3 −ＣｏＯ）系の顔料である商品名
コバルトブルーX （粒子径0.01μm 〜0.02μm 、東洋顔
料社製）、群青系の顔料である商品名群青 No.8000（粒
子径0.03μm 、第一化成社製）、フタロシアニンブルー
系の顔料である商品名リオノールブルー FG-7370（粒子
径0.01μm 、東洋インキ社製）、緑の顔料として、Ｔｉ
Ｏ2 −ＮｉＯ−ＣｏＯ−ＺｎＯ系の顔料である商品名ダ
イピロキサイドTM−グリーン＃3320（粒子径0.01μm 〜
0.02μm、大日精化社製）、ＣｏＯ−Ａｌ2 Ｏ3 −Ｃｒ
2 Ｏ3 系の顔料である商品名ダイピロキサイドTM−グリ
ーン＃3420（粒子径0.01μm 〜0.02μm 、大日精化社
製）、Ｃｒ2 Ｏ3 系の顔料である商品名ND-801（粒子径
0.35μm 、日本電工社製）、塩素化フタロシアニングリ
ーン系の顔料である商品名ファーストゲングリーンS
（粒子径0.01μm 、大日本インキ社製）、臭素化フタロ
シアニングリーン系の顔料である商品名ファーストゲン
グリーン 2YK（粒子径0.01μm 、大日本インキ社製）等
を例示することができる。
【００１３】本発明において、このような顔料層からな
るフィルターパターンの形成は、例えば特願平6-315059
号公報に記載されているように、以下に示す手順で行な
われる。
るフィルターパターンの形成は、例えば特願平6-315059
号公報に記載されているように、以下に示す手順で行な
われる。
【００１４】すなわち、まず顔料粒子と高分子電解質分
散剤とを主成分とする顔料分散液を、ブラックマトリッ
クスを有するフェースプレートのパネル内面に塗布す
る。塗布方法としては、スピンコート法、ローラー法、
浸漬法などを用いることができ、フェースプレートの形
状・大きさ等を考慮して適宜選択することができる。均
一で所定の膜厚を得るには、特にスピンコート法を用い
ることが好ましい。こうして塗布した後塗膜を乾燥させ
るが、乾燥方法としては、水分を揮発させるとともに、
高分子電解質塩中の塩の一部を解離させることができる
方法であれば、特に限定することなく、ヒーター乾燥、
熱風による乾燥、室温放置による長時間乾燥など、種々
の方法を用いることができる。
散剤とを主成分とする顔料分散液を、ブラックマトリッ
クスを有するフェースプレートのパネル内面に塗布す
る。塗布方法としては、スピンコート法、ローラー法、
浸漬法などを用いることができ、フェースプレートの形
状・大きさ等を考慮して適宜選択することができる。均
一で所定の膜厚を得るには、特にスピンコート法を用い
ることが好ましい。こうして塗布した後塗膜を乾燥させ
るが、乾燥方法としては、水分を揮発させるとともに、
高分子電解質塩中の塩の一部を解離させることができる
方法であれば、特に限定することなく、ヒーター乾燥、
熱風による乾燥、室温放置による長時間乾燥など、種々
の方法を用いることができる。
【００１５】なお、顔料層のみでパターニングを行なう
には、顔料分散液中に重クロム酸アンモニウム（ＡＤ
Ｃ）／ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、重クロム酸ナ
トリウム（ＳＤＣ）／ＰＶＡ、ジアゾニウム塩／ＰＶＡ
などのフォトレジストを含有させておけば良い。このよ
うなフォトレジストを含有する顔料層を塗布形成してお
けば、高圧水銀灯等を用いた露光により、光（紫外線）
照射された部分が硬化し、その後、水等に不溶性となっ
た高分子電解質を可溶化する物質を含有するアルカリ水
溶液を用いて現像することにより、所定のフィルターパ
ターンを形成することができる。
には、顔料分散液中に重クロム酸アンモニウム（ＡＤ
Ｃ）／ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、重クロム酸ナ
トリウム（ＳＤＣ）／ＰＶＡ、ジアゾニウム塩／ＰＶＡ
などのフォトレジストを含有させておけば良い。このよ
うなフォトレジストを含有する顔料層を塗布形成してお
けば、高圧水銀灯等を用いた露光により、光（紫外線）
照射された部分が硬化し、その後、水等に不溶性となっ
た高分子電解質を可溶化する物質を含有するアルカリ水
溶液を用いて現像することにより、所定のフィルターパ
ターンを形成することができる。
【００１６】また、このようにフォトレジストを顔料分
散液に含有させるのではなく、顔料層を塗布形成した後
にその上にフォトレジスト層として形成し、露光・現像
を行なうようにすることができる。このようにした場合
には、感光特性の向上すなわち露光時間が短縮されて密
着性が向上し、また形成されるフィルター層の厚さ範囲
の拡大を図ることができる。
散液に含有させるのではなく、顔料層を塗布形成した後
にその上にフォトレジスト層として形成し、露光・現像
を行なうようにすることができる。このようにした場合
には、感光特性の向上すなわち露光時間が短縮されて密
着性が向上し、また形成されるフィルター層の厚さ範囲
の拡大を図ることができる。
【００１７】これら一連の工程を、複数色通常は青、
緑、赤色の順に繰り返して行なうことにより、青、緑、
赤の３色のカラーフィルター層を形成することができ
る。
緑、赤色の順に繰り返して行なうことにより、青、緑、
赤の３色のカラーフィルター層を形成することができ
る。
【００１８】本発明においては、こうして所定のパター
ンのフィルター層（フィルターパターン）を形成した
後、このフィルター層の上に、酸性に調整されたコロイ
ダルシリカ液を塗布・乾燥してシリカ層を形成し、その
上に通常のスラリー法により青・緑・赤色の蛍光体層を
それぞれ形成する。
ンのフィルター層（フィルターパターン）を形成した
後、このフィルター層の上に、酸性に調整されたコロイ
ダルシリカ液を塗布・乾燥してシリカ層を形成し、その
上に通常のスラリー法により青・緑・赤色の蛍光体層を
それぞれ形成する。
【００１９】ここで、コロイダルシリカの粒子径は、15
nm以下であることが好ましく、液のｐＨは 2.0〜 5.0の
範囲に調整することが好ましい。粒子径が15nmを越える
コロイダルシリカを使用した場合には、フィルター層上
の蛍光体残渣に対して所望の効果が得られず、好ましく
ない。また、コロイダルシリカ液のｐＨを 2.0未満とし
た場合には、液中でシリカの凝集が生じ、反対に液のｐ
Ｈが 5.0を越える場合には、ｐＨが低い場合と同様にシ
リカの凝集が生じ、もしくはフィルターパターンがさら
に現像され、いずれの場合も好ましくない。
nm以下であることが好ましく、液のｐＨは 2.0〜 5.0の
範囲に調整することが好ましい。粒子径が15nmを越える
コロイダルシリカを使用した場合には、フィルター層上
の蛍光体残渣に対して所望の効果が得られず、好ましく
ない。また、コロイダルシリカ液のｐＨを 2.0未満とし
た場合には、液中でシリカの凝集が生じ、反対に液のｐ
Ｈが 5.0を越える場合には、ｐＨが低い場合と同様にシ
リカの凝集が生じ、もしくはフィルターパターンがさら
に現像され、いずれの場合も好ましくない。
【００２０】さらに、コロイダルシリカ液の濃度は、シ
リカ固形分で 0.2〜 5.0重量％の範囲とすることが望ま
しく、より好ましくは 0.8〜 3.0重量％とする。シリカ
濃度が 0.2重量％より低いと、液の塗布・乾燥により蛍
光体残査を防止する効果がほとんど現れず、かつフィル
ター層と蛍光体層との間の接着性向上の効果もほとんど
得られない。また、シリカの濃度が 5.0重量％を越えた
場合には、フィルター層と蛍光体層との接着性は向上す
るが、蛍光体残査が増大するため品位が低下して好まし
くない。
リカ固形分で 0.2〜 5.0重量％の範囲とすることが望ま
しく、より好ましくは 0.8〜 3.0重量％とする。シリカ
濃度が 0.2重量％より低いと、液の塗布・乾燥により蛍
光体残査を防止する効果がほとんど現れず、かつフィル
ター層と蛍光体層との間の接着性向上の効果もほとんど
得られない。また、シリカの濃度が 5.0重量％を越えた
場合には、フィルター層と蛍光体層との接着性は向上す
るが、蛍光体残査が増大するため品位が低下して好まし
くない。
【００２１】以下に、フィルター層上に塗布するコロイ
ダルシリカ液のシリカ濃度を変え、赤のフィルター層上
に残留する緑蛍光体の残査レベル（点数）、および青フ
ィルター層上での青蛍光体の接着性（付着力）を調べた
結果を示す。なお、残査レベルの測定は、0.12mmφの中
にある粒径が 5μm 以上の蛍光体の点数を調べることに
より行なった。残査点数が20点を越えると、ホワイトユ
ニフォミティ品位が悪化して実用上好ましくない。
ダルシリカ液のシリカ濃度を変え、赤のフィルター層上
に残留する緑蛍光体の残査レベル（点数）、および青フ
ィルター層上での青蛍光体の接着性（付着力）を調べた
結果を示す。なお、残査レベルの測定は、0.12mmφの中
にある粒径が 5μm 以上の蛍光体の点数を調べることに
より行なった。残査点数が20点を越えると、ホワイトユ
ニフォミティ品位が悪化して実用上好ましくない。
【００２２】 シリカ濃度 赤フィルター上緑蛍光体残査点数 青蛍光体付着力 0.2wt％ 15〜20点 蛍光体数点脱落発生 0.8wt％ 5〜15点 蛍光体脱落無し 1.5wt％ 1〜 3点 蛍光体脱落無し 3.0wt％ 5〜10点 蛍光体脱落無し 6.0wt％ 30点以上 蛍光体脱落無し この測定結果から、フィルター層上に塗布するコロイダ
ルシリカ液の濃度は、0.2〜 5.0重量％の範囲とするこ
とが望ましく、より好ましい濃度範囲は 0.8〜3.0重量
％であることが確かめられた。
ルシリカ液の濃度は、0.2〜 5.0重量％の範囲とするこ
とが望ましく、より好ましい濃度範囲は 0.8〜3.0重量
％であることが確かめられた。
【００２３】本発明においては、フィルターパターンを
構成する各色の顔料層の上に、酸性に調整されたコロイ
ダルシリカの分散液を塗布して乾燥することにより、フ
ィルター層（顔料層）にダメージを与えることなく、フ
ィルター層表面をマイナス側に帯電させることができる
ので、このマイナスに帯電したフィルター層表面と、蛍
光体の表面処理に使用されるシリカとの間の電気的な反
発力により、蛍光体残査の発生が防止される。また、コ
ロイダルシリカ液の塗布・乾燥により形成されるシリカ
層が、接着補助剤として働くので、フィルター層と蛍光
体層との間の接着性が改善され、現像後の蛍光体の脱落
が防止される。
構成する各色の顔料層の上に、酸性に調整されたコロイ
ダルシリカの分散液を塗布して乾燥することにより、フ
ィルター層（顔料層）にダメージを与えることなく、フ
ィルター層表面をマイナス側に帯電させることができる
ので、このマイナスに帯電したフィルター層表面と、蛍
光体の表面処理に使用されるシリカとの間の電気的な反
発力により、蛍光体残査の発生が防止される。また、コ
ロイダルシリカ液の塗布・乾燥により形成されるシリカ
層が、接着補助剤として働くので、フィルター層と蛍光
体層との間の接着性が改善され、現像後の蛍光体の脱落
が防止される。
【００２４】したがって、蛍光面のユニフォミティ品位
を劣化させることなく、高コントラスト・高輝度のカラ
ー陰極線管を得ることができる。
を劣化させることなく、高コントラスト・高輝度のカラ
ー陰極線管を得ることができる。
【００２５】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施例について説明する。
施例について説明する。
【００２６】実施例１ 図１は、本発明の一実施例の工程を示す図であり、図２
は、実施例の各工程でのパネル面の断面図である。基本
的には、図１のＡ〜Ｅの工程でまず青色（あるいは緑
色）のフィルターパターンが形成され、次に同様にＡ〜
Ｅの工程を繰り返すことにより、緑（あるいは青）色と
赤色のフィルターパターンが順に形成される。次いで、
Ｆ、Ｇの工程でコロイダルシリカ液が塗布・乾燥された
後、Ｈの工程で蛍光体層が所定のパターンで形成される
ことになる。
は、実施例の各工程でのパネル面の断面図である。基本
的には、図１のＡ〜Ｅの工程でまず青色（あるいは緑
色）のフィルターパターンが形成され、次に同様にＡ〜
Ｅの工程を繰り返すことにより、緑（あるいは青）色と
赤色のフィルターパターンが順に形成される。次いで、
Ｆ、Ｇの工程でコロイダルシリカ液が塗布・乾燥された
後、Ｈの工程で蛍光体層が所定のパターンで形成される
ことになる。
【００２７】まず、図２（ａ）に示すように、カラー陰
極線管のパネル１内面に、ブラックマトリックスとして
の所定パターンの光吸収層２を、公知の方法で形成し
た。すなわち、パネル１内面にレジストを塗布し、シャ
ドウマスクを介して露光し、現像し、乾燥して、顔料層
および蛍光体層の形成予定部にストライプ状またはドッ
ト状の光硬化膜を残留させた。次いで、その上に光吸収
物質、例えば黒鉛を塗布して結着させた後、過酸化水素
水で洗浄して光硬化膜を溶解することにより、その上の
光吸収物質を除去し、顔料層および蛍光体層の形成予定
部となるホール部を露出させて、パターニングされた光
吸収層２を形成した。
極線管のパネル１内面に、ブラックマトリックスとして
の所定パターンの光吸収層２を、公知の方法で形成し
た。すなわち、パネル１内面にレジストを塗布し、シャ
ドウマスクを介して露光し、現像し、乾燥して、顔料層
および蛍光体層の形成予定部にストライプ状またはドッ
ト状の光硬化膜を残留させた。次いで、その上に光吸収
物質、例えば黒鉛を塗布して結着させた後、過酸化水素
水で洗浄して光硬化膜を溶解することにより、その上の
光吸収物質を除去し、顔料層および蛍光体層の形成予定
部となるホール部を露出させて、パターニングされた光
吸収層２を形成した。
【００２８】次に、青、緑、赤の各色のフィルター層を
形成するための顔料分散液として、次の組成のものを準
備した。
形成するための顔料分散液として、次の組成のものを準
備した。
【００２９】青顔料分散液は、青顔料粒子としてコバル
トブルーX を30重量％、フォトレジストとしてΑＤＣを
添加したＰＶＡを 0.5重量％、高分子電解質としてポリ
アクリル酸共重合体のアンモニウム塩（商品名ディスペ
ック GA-40、アライド・コロイド社製）を 0.7重量％の
割合で、それぞれ純水中に分散させて調製した。このと
き、高分子電解質濃度／顔料濃度は 0.023、レジスト濃
度／高分子電解質濃度は 0.714、レジスト濃度／顔料濃
度は 0.017となっている。
トブルーX を30重量％、フォトレジストとしてΑＤＣを
添加したＰＶＡを 0.5重量％、高分子電解質としてポリ
アクリル酸共重合体のアンモニウム塩（商品名ディスペ
ック GA-40、アライド・コロイド社製）を 0.7重量％の
割合で、それぞれ純水中に分散させて調製した。このと
き、高分子電解質濃度／顔料濃度は 0.023、レジスト濃
度／高分子電解質濃度は 0.714、レジスト濃度／顔料濃
度は 0.017となっている。
【００３０】緑顔料分散液は、緑顔料粒子としてダイピ
ロキサイドTMグリーン＃3320を30重量％、フォトレジス
トとしてΑＤＣ／ＰＶΑを 2重量％、高分子電解質とし
てアクリル酸のナトリウム塩（商品名ディスペックN-4
0）を 0.7重量％の割合で、それぞれ純水中に分散させ
て調製した。このとき、高分子電解質濃度／顔料濃度は
0.023、レジスト濃度／高分子電解質濃度は 2.857、レ
ジスト濃度／顔料濃度は、 0.067となっている。
ロキサイドTMグリーン＃3320を30重量％、フォトレジス
トとしてΑＤＣ／ＰＶΑを 2重量％、高分子電解質とし
てアクリル酸のナトリウム塩（商品名ディスペックN-4
0）を 0.7重量％の割合で、それぞれ純水中に分散させ
て調製した。このとき、高分子電解質濃度／顔料濃度は
0.023、レジスト濃度／高分子電解質濃度は 2.857、レ
ジスト濃度／顔料濃度は、 0.067となっている。
【００３１】赤顔料分散液は、赤顔料粒子としてＦｅ2
Ｏ3 の微粒子（粒子径0.01μm 〜0.02μm ）を30重量
％、フォトレジストとしてＡＤＣ／ＰＶＡを 2重量％、
高分子電解質としてポリオキシエチレンアルキルエーテ
ルサルフェートのアンモニウム塩（ハイテノール08、第
一工業製薬社製）を 0.7重量％の割合で、それぞれ純水
中に分散させて調製した。このとき、高分子電解質濃度
／顔料濃度は 0.023、レジスト濃度／高分子電解質濃度
は 2.857、レジスト濃度／顔料濃度は 0.067となってい
る。
Ｏ3 の微粒子（粒子径0.01μm 〜0.02μm ）を30重量
％、フォトレジストとしてＡＤＣ／ＰＶＡを 2重量％、
高分子電解質としてポリオキシエチレンアルキルエーテ
ルサルフェートのアンモニウム塩（ハイテノール08、第
一工業製薬社製）を 0.7重量％の割合で、それぞれ純水
中に分散させて調製した。このとき、高分子電解質濃度
／顔料濃度は 0.023、レジスト濃度／高分子電解質濃度
は 2.857、レジスト濃度／顔料濃度は 0.067となってい
る。
【００３２】顔料分散液の塗布工程Αおよび乾燥工程Ｂ
は、それぞれ以下に示す方法で行なった。基板としての
カラー陰極線管のパネル１を温度30℃に保持し、まず前
記青顔料分散液を塗布した。次いで、パネル１を 100〜
150rpmで回転させ、過剰の顔料分散液を振り切り、一定
膜厚を有する塗布層とした後、ヒーター温度 120℃で3
〜 4分間乾燥し、図２（ｂ）に示すように、青顔料塗布
層３Ｂを形成した。
は、それぞれ以下に示す方法で行なった。基板としての
カラー陰極線管のパネル１を温度30℃に保持し、まず前
記青顔料分散液を塗布した。次いで、パネル１を 100〜
150rpmで回転させ、過剰の顔料分散液を振り切り、一定
膜厚を有する塗布層とした後、ヒーター温度 120℃で3
〜 4分間乾燥し、図２（ｂ）に示すように、青顔料塗布
層３Ｂを形成した。
【００３３】次いで、パターン露光工程Ｃを、以下に示
す方法で行なった。図２（ｃ）に示すように、図示しな
いシャドウマスクを介して、高圧水銀灯を用いて所定の
パターンに露光した。
す方法で行なった。図２（ｃ）に示すように、図示しな
いシャドウマスクを介して、高圧水銀灯を用いて所定の
パターンに露光した。
【００３４】次に、現像工程Ｄおよび乾燥工程Ｅを、以
下に示す方法で行なった。霧状にした現像液、例えばＮ
ａＯΗを含有するｐＨ9 のアルカリ水溶液を、現像液圧
2〜10kg/cm2 でスプレイすることにより現像して、図
２（ｄ）に示すように、所定のパターンを有するを形成
した。
下に示す方法で行なった。霧状にした現像液、例えばＮ
ａＯΗを含有するｐＨ9 のアルカリ水溶液を、現像液圧
2〜10kg/cm2 でスプレイすることにより現像して、図
２（ｄ）に示すように、所定のパターンを有するを形成
した。
【００３５】次に、前記した青顔料層の形成工程と同様
にして、緑顔料層および赤顔料層を順に形成した。この
とき現像液としては、緑顔料層、赤顔料層ともにＬｉＣ
ｌを含有するアルカリ水溶液を用いた。
にして、緑顔料層および赤顔料層を順に形成した。この
とき現像液としては、緑顔料層、赤顔料層ともにＬｉＣ
ｌを含有するアルカリ水溶液を用いた。
【００３６】こうして、図２（ｅ）に示すように、パネ
ル１内面に青顔料層４Ｂ、緑顔料層４Ｇおよび赤顔料層
４Ｒからなるフィルターパターンを形成した後、シリカ
液塗布工程Ｆで、下記組成のｐＨ 3.5〜 4.0に調整され
たコロイダルシリカ液を、フィルターパターンの全面に
塗布した後、乾燥工程Ｇで乾燥させ、シリカ層５を形成
した。なお、コロイダルシリカ液のｐＨを酸性側に調整
するのは、顔料層の現像にアルカリ水溶液を用いるた
め、これをシリカ液により中和する必要があるためであ
る。
ル１内面に青顔料層４Ｂ、緑顔料層４Ｇおよび赤顔料層
４Ｒからなるフィルターパターンを形成した後、シリカ
液塗布工程Ｆで、下記組成のｐＨ 3.5〜 4.0に調整され
たコロイダルシリカ液を、フィルターパターンの全面に
塗布した後、乾燥工程Ｇで乾燥させ、シリカ層５を形成
した。なお、コロイダルシリカ液のｐＨを酸性側に調整
するのは、顔料層の現像にアルカリ水溶液を用いるた
め、これをシリカ液により中和する必要があるためであ
る。
【００３７】 コロイダルシリカ液 SNOWTEX-OS（日産化学工業社製コロイダルシリカ液の商品名； シリカ粒子径 8〜11nm、固形分（ＳｉＯ2 ）20.0〜21.0％） 6.0kg 純水 80 l 次に、蛍光体層形成工程Ｈで、図２（ｆ）に示すよう
に、青顔料層４Ｂの上に青蛍光体層６Ｂを、緑顔料層４
Ｇの上に緑蛍光体層６Ｇを、赤顔料層４Ｒの上に赤蛍光
体層６Ｒを、それぞれ通常のスラリー法により順に形成
した。
に、青顔料層４Ｂの上に青蛍光体層６Ｂを、緑顔料層４
Ｇの上に緑蛍光体層６Ｇを、赤顔料層４Ｒの上に赤蛍光
体層６Ｒを、それぞれ通常のスラリー法により順に形成
した。
【００３８】このとき、緑・赤の各蛍光体層形成位置に
おける青蛍光体の残査レベルを調べた。なお、この残査
レベルは、0.12mmφの中にある粒径が 5μm 以上の蛍光
体の点数として測定した。また、シリカ液塗布を行なわ
ず、フィルター層上に直接蛍光体層を形成する場合（比
較例１）、およびフィルター層なしでパネル内面に直接
蛍光体層を形成する場合（比較例２）についても、同様
に青蛍光体の残査レベルを調べた。これらの結果を表１
に示す。
おける青蛍光体の残査レベルを調べた。なお、この残査
レベルは、0.12mmφの中にある粒径が 5μm 以上の蛍光
体の点数として測定した。また、シリカ液塗布を行なわ
ず、フィルター層上に直接蛍光体層を形成する場合（比
較例１）、およびフィルター層なしでパネル内面に直接
蛍光体層を形成する場合（比較例２）についても、同様
に青蛍光体の残査レベルを調べた。これらの結果を表１
に示す。
【００３９】
【表１】 さらに、蛍光体の付着力（接着性）をチェックするため
に、実施例１および比較例１、２のパネルについて、平
均粒径 5.5μm の各色の蛍光体が脱落しない限界膜厚を
調べた。なお、膜厚は、16cm平方の面積における塗布重
量として表した。結果を表２に示す。
に、実施例１および比較例１、２のパネルについて、平
均粒径 5.5μm の各色の蛍光体が脱落しない限界膜厚を
調べた。なお、膜厚は、16cm平方の面積における塗布重
量として表した。結果を表２に示す。
【００４０】
【表２】 表１および表２から明らかなように、本発明の実施例に
よれば、フィルター付き蛍光面の形成において、蛍光体
の残査レベルが大幅に改善され、しかも蛍光体の付着力
も向上するため、高品位で高輝度のカラー陰極線管を得
ることができる。
よれば、フィルター付き蛍光面の形成において、蛍光体
の残査レベルが大幅に改善され、しかも蛍光体の付着力
も向上するため、高品位で高輝度のカラー陰極線管を得
ることができる。
【００４１】次に、本発明の第２の実施例について、図
３および図４に基づいて説明する。 実施例２ 本実施例の工程の流れは図３に示すようになっており、
Ａ１〜Ａ４およびＣ〜Ｅの工程を繰り返すことにより、
複数色のフィルターパターンを形成することができる。
３および図４に基づいて説明する。 実施例２ 本実施例の工程の流れは図３に示すようになっており、
Ａ１〜Ａ４およびＣ〜Ｅの工程を繰り返すことにより、
複数色のフィルターパターンを形成することができる。
【００４２】まず、図４（ａ）に示すように、カラー陰
極線管のパネル１内面に、実施例１と同様にして、ブラ
ックマトリックスとして所定パターンの光吸収層２を形
成した後、顔料分散液塗布工程Ａ１および乾燥工程Ａ２
を、以下に示す方法で行なった。
極線管のパネル１内面に、実施例１と同様にして、ブラ
ックマトリックスとして所定パターンの光吸収層２を形
成した後、顔料分散液塗布工程Ａ１および乾燥工程Ａ２
を、以下に示す方法で行なった。
【００４３】青、緑、赤の各色のフィルター層を形成す
るための顔料分散液として、次の組成のものを準備し
た。なお、これらの液は、実施例１で使用した顔料分散
液と比べて、フォトレジストを含有しない点のみが異な
っている。
るための顔料分散液として、次の組成のものを準備し
た。なお、これらの液は、実施例１で使用した顔料分散
液と比べて、フォトレジストを含有しない点のみが異な
っている。
【００４４】すなわち、青顔料分散液は、青顔料粒子と
してコバルトブルーX を30重量％、高分子電解質として
ディスペック GA-40を 0.7重量％の割合で、それぞれ純
水中に分散させて調製した。このとき、高分子電解質濃
度／顔料濃度は 0.023となっている。
してコバルトブルーX を30重量％、高分子電解質として
ディスペック GA-40を 0.7重量％の割合で、それぞれ純
水中に分散させて調製した。このとき、高分子電解質濃
度／顔料濃度は 0.023となっている。
【００４５】緑顔料分散液は、緑顔料粒子としてダイピ
ロキサイドTMグリーン＃3320を30重量％、高分子電解質
としてディスペックN-40を 0.7重量％の割合で、それぞ
れ純水中に分散させて調製した。このとき、高分子電解
質濃度／顔料濃度は 0.023となっている。
ロキサイドTMグリーン＃3320を30重量％、高分子電解質
としてディスペックN-40を 0.7重量％の割合で、それぞ
れ純水中に分散させて調製した。このとき、高分子電解
質濃度／顔料濃度は 0.023となっている。
【００４６】赤顔料分散液は、赤顔料粒子としてＦｅ2
Ｏ3 の微粒子（粒子径0.01μm 〜0.02μm ）を20重量
％、高分子電解質としてハイテノール08を 0.7重量％の
割合で、それぞれ純水中に分散させて調製した。このと
き、高分子電解質濃度／顔料濃度は 0.035となってい
る。
Ｏ3 の微粒子（粒子径0.01μm 〜0.02μm ）を20重量
％、高分子電解質としてハイテノール08を 0.7重量％の
割合で、それぞれ純水中に分散させて調製した。このと
き、高分子電解質濃度／顔料濃度は 0.035となってい
る。
【００４７】実施例１と同様に、カラー陰極線管のパネ
ル１を温度30℃に保持し、まず前記青顔料分散液を塗布
した。次いで、パネル１を 100〜150rpmで回転させ、過
剰の顔料分散液を振り切った後、ヒーター温度 120℃で
3〜 4分間乾燥し、図４（ｂ）に示すように、青顔料層
７Ｂを形成した。
ル１を温度30℃に保持し、まず前記青顔料分散液を塗布
した。次いで、パネル１を 100〜150rpmで回転させ、過
剰の顔料分散液を振り切った後、ヒーター温度 120℃で
3〜 4分間乾燥し、図４（ｂ）に示すように、青顔料層
７Ｂを形成した。
【００４８】次に、レジスト塗布工程Ａ３および乾燥工
程Ａ４を、以下に示す方法で行なった。ＰＶＡを 3重量
％、ＡＤＣを0.20重量％、界面活性剤を0.01重量％、残
部を純水とする組成のフォトレジスト溶液を準備し、こ
れを顔料層と同様の方法で塗布・乾燥して、図４（ｂ）
に示すように、青色顔料層７Ｂの上にフォトレジスト層
８を積層させた。
程Ａ４を、以下に示す方法で行なった。ＰＶＡを 3重量
％、ＡＤＣを0.20重量％、界面活性剤を0.01重量％、残
部を純水とする組成のフォトレジスト溶液を準備し、こ
れを顔料層と同様の方法で塗布・乾燥して、図４（ｂ）
に示すように、青色顔料層７Ｂの上にフォトレジスト層
８を積層させた。
【００４９】次いで、パターン露光工程Ｃを以下に示す
方法で行なった。図４（ｃ）に示すように、図示しない
シャドウマスクを介して、高圧水銀灯を用いて所定のパ
ターンに露光した。本実施例では、レジストを混合した
顔料分散液を用いた実施例１の方式に比べて、 1/5の露
光時間で済んだ。
方法で行なった。図４（ｃ）に示すように、図示しない
シャドウマスクを介して、高圧水銀灯を用いて所定のパ
ターンに露光した。本実施例では、レジストを混合した
顔料分散液を用いた実施例１の方式に比べて、 1/5の露
光時間で済んだ。
【００５０】次に、現像工程Ｄおよび乾燥工程Ｅを、以
下に示す方法で行なった。霧状にした現像液、例えばＮ
ａ2 ＣＯ3 を含有するｐΗ9 のアルカリ水溶液を、現像
液圧2〜 10kg/cm2 でスプレイすることにより現像し
て、図４（ｄ）に示すように、青顔料層７Ｂとレジスト
層８とが積層したパターンを形成した。
下に示す方法で行なった。霧状にした現像液、例えばＮ
ａ2 ＣＯ3 を含有するｐΗ9 のアルカリ水溶液を、現像
液圧2〜 10kg/cm2 でスプレイすることにより現像し
て、図４（ｄ）に示すように、青顔料層７Ｂとレジスト
層８とが積層したパターンを形成した。
【００５１】次いで、このような青顔料層の形成工程と
同様にして、緑顔料層および赤顔料層を順に形成した。
このとき現像液としては、緑顔料層、赤顔料層ともにＮ
ａ2ＣＯ3 を含有するアルカリ水溶液を用いた。
同様にして、緑顔料層および赤顔料層を順に形成した。
このとき現像液としては、緑顔料層、赤顔料層ともにＮ
ａ2ＣＯ3 を含有するアルカリ水溶液を用いた。
【００５２】こうして、パネル１内面に青顔料層７Ｂ、
緑顔料層７Ｇおよび赤顔料層７Ｒからなるフィルターパ
ターンを形成した後、図４（ｅ）に示すように、青、
緑、赤各色の顔料層の上のレジスト層８を剥離し、次い
でシリカ液塗布工程Ｆで、実施例１と同様にｐＨ 3.5〜
4.0に調整されたコロイダルシリカ液を、フィルターパ
ターンの全面に塗布し、乾燥工程Ｇで乾燥させてシリカ
層５を形成した。
緑顔料層７Ｇおよび赤顔料層７Ｒからなるフィルターパ
ターンを形成した後、図４（ｅ）に示すように、青、
緑、赤各色の顔料層の上のレジスト層８を剥離し、次い
でシリカ液塗布工程Ｆで、実施例１と同様にｐＨ 3.5〜
4.0に調整されたコロイダルシリカ液を、フィルターパ
ターンの全面に塗布し、乾燥工程Ｇで乾燥させてシリカ
層５を形成した。
【００５３】しかる後、蛍光体層形成工程Ｈで、図４
（ｆ）に示すように、青顔料層７Ｂの上に青蛍光体層６
Ｂを、緑色顔料層７Ｇの上に緑色蛍光体層６Ｇを、赤色
顔料層７Ｒの上に赤色蛍光体層６Ｒを、通常の方法によ
りそれぞれ順に形成した。
（ｆ）に示すように、青顔料層７Ｂの上に青蛍光体層６
Ｂを、緑色顔料層７Ｇの上に緑色蛍光体層６Ｇを、赤色
顔料層７Ｒの上に赤色蛍光体層６Ｒを、通常の方法によ
りそれぞれ順に形成した。
【００５４】こうして、パネル１内面に青、緑、赤色の
顔料層および蛍光体層が所定のパターンで形成された、
フィルター付き蛍光面が得られた。そして、得られたフ
ィルター付き蛍光面においては、実施例と同様に、顔料
層上の蛍光体の残査レベルが大幅に改善されており、か
つ蛍光体の付着力が向上していた。
顔料層および蛍光体層が所定のパターンで形成された、
フィルター付き蛍光面が得られた。そして、得られたフ
ィルター付き蛍光面においては、実施例と同様に、顔料
層上の蛍光体の残査レベルが大幅に改善されており、か
つ蛍光体の付着力が向上していた。
【００５５】なお、実施例１では、レジストを添加混合
した顔料分散液の露光感度を向上させようとすると、顔
料に対するレジストの含有割合を高めることになり、顔
料層（フィルター層）の透明性が低下してしまうおそれ
があるが、実施例２では、レジスト層を別に設けている
ため、顔料層の透明性に影響を与えることなく、露光感
度を大幅に向上させることができる。
した顔料分散液の露光感度を向上させようとすると、顔
料に対するレジストの含有割合を高めることになり、顔
料層（フィルター層）の透明性が低下してしまうおそれ
があるが、実施例２では、レジスト層を別に設けている
ため、顔料層の透明性に影響を与えることなく、露光感
度を大幅に向上させることができる。
【００５６】
【発明の効果】以上の記載から明らかなように、本発明
の方法においては、フィルターパターンを構成する顔料
層の上に、コロイダルシリカ液の塗布によりシリカ微粒
子の層を形成しているので、フィルター層上での蛍光体
残査がなく、かつ蛍光体付着力が向上し現像後の脱落が
ないフィルター付き蛍光面を適切に得ることができる。
したがって、ユニフォミティ品位の劣化がなく、高輝
度、高コントラストのカラー陰極線管を得ることができ
る。
の方法においては、フィルターパターンを構成する顔料
層の上に、コロイダルシリカ液の塗布によりシリカ微粒
子の層を形成しているので、フィルター層上での蛍光体
残査がなく、かつ蛍光体付着力が向上し現像後の脱落が
ないフィルター付き蛍光面を適切に得ることができる。
したがって、ユニフォミティ品位の劣化がなく、高輝
度、高コントラストのカラー陰極線管を得ることができ
る。
【図１】本発明の第１の実施例（実施例１）の流れを示
す工程図。
す工程図。
【図２】実施例１の各工程におけるパネル面の断面図。
【図３】本発明の第２の実施例（実施例２）の流れを示
す工程図。
す工程図。
【図４】実施例２の各工程におけるパネル面の断面図。
１………パネル ２………光吸収層 ４Ｂ、７Ｂ………青顔料層 ４Ｇ、７Ｇ………緑顔料層 ４Ｒ、７Ｒ………赤顔料層 ５……シリカ層 ６Ｂ………青蛍光体層 ６Ｇ………緑蛍光体層 ６Ｒ………赤蛍光体層 ８………レジスト層
Claims (3)
- 【請求項１】 フェースプレートのパネル内面に複数色
の顔料層を所定のパターンに配列したフィルターパター
ンを形成する工程と、前記フィルターパターンの上に、
前記各色の顔料層に対応する発光色を有する蛍光体層を
形成する工程とを備えたフィルター付き蛍光面の形成方
法において、 前記フィルターパターンを構成する顔料層の上に、酸性
に調整されたコロイダルシリカ液を塗布して乾燥し、次
いでその上に前記蛍光体層を形成することを特徴とする
カラー陰極線管のフィルター付き蛍光面の形成方法。 - 【請求項２】 前記コロイダルシリカの粒子径が、15nm
以下であることを特徴とする請求項１記載のカラー陰極
線管のフィルター付き蛍光面の形成方法。 - 【請求項３】 前記コロイダルシリカ液のｐＨが、 2.0
〜 5.0であることを特徴とする請求項１または２記載の
カラー陰極線管のフィルター付き蛍光面の形成方法。
Priority Applications (8)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21565096A JP3648331B2 (ja) | 1996-08-15 | 1996-08-15 | カラー陰極線管のフィルター付き蛍光面の形成方法 |
| TW086111261A TW369663B (en) | 1996-08-15 | 1997-08-06 | Fluorescent surface forming method |
| US08/907,897 US5922395A (en) | 1996-08-15 | 1997-08-11 | Method for forming phosphor screen |
| EP97306145A EP0824265B1 (en) | 1996-08-15 | 1997-08-12 | Method for forming phosphor screen |
| DE69716536T DE69716536T2 (de) | 1996-08-15 | 1997-08-12 | Methode zur Erzeugung eines Phosphorschirms |
| MYPI97003678A MY123851A (en) | 1996-08-15 | 1997-08-12 | Method for forming phosphor screen |
| CN97117605A CN1100337C (zh) | 1996-08-15 | 1997-08-14 | 荧光面的形成方法 |
| KR1019970039764A KR100238906B1 (ko) | 1996-08-15 | 1997-08-14 | 형광면의 형성방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21565096A JP3648331B2 (ja) | 1996-08-15 | 1996-08-15 | カラー陰極線管のフィルター付き蛍光面の形成方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1064427A true JPH1064427A (ja) | 1998-03-06 |
| JP3648331B2 JP3648331B2 (ja) | 2005-05-18 |
Family
ID=16675922
Family Applications (1)
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