CN1175786A - 荧光面的形成方法 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及荧光面的形成方法。在构成滤光层的颜料层上涂布胶态氧化硅的分散液并进行烘干等操作,控制滤光层的表面状态使滤光层(颜料层)不受到破坏,在该滤光层上形成荧光体层。

Description

荧光面的形成方法
本发明涉及例如阴极射线管和等离子体显示面板(PDP)等的显示装置使用的荧光面的形成方法。
向来，在例如彩色阴极射线管的面板内表面形成有发蓝、绿或红色荧光的荧光体的点状或条状等形状的荧光体层，在彩色阴极射线管中，电子束撞击这种荧光体层，荧光体发出蓝、绿或红色荧光以显示出图像。曾经进行过在上述彩色阴极射线管中，在荧光体层的前面，即面板内表面与荧光体层之间设置与荧光体发出的荧光的颜色相应的滤光层的尝试。滤光层是在面板与荧光体层之间配置含有颜料、能够透过与荧光体层所发的荧光大致相同波长的光的颜料层，将其做成规定的图案而成的，因此入射的外来光中的绿光和蓝光成份、绿光和红光成份、蓝光和红光成份分别被红色颜料层、蓝色颜料层、绿色颜料层所吸收，能够提高图像的对比度和色纯度等特性。
形成滤光层的一般方法是，在面板的内表面涂布、形成颜料层后进行曝光，接着进行显影形成颜料层的图案。这时在面板的内表面作为滤光层的图案，应该留有颜料层的区域要求具有对颜料层的附着性，应该除去颜料层的地方要求具有颜料层的易剥离性。而且颜料层需要透明性，因此也要求颜料的颗粒均匀发散、不凝集。然後，在这样形成的滤光层上用涂浆等方法形成具有与各颜料层对应的发光色的荧光体层。
但是，在这样形成荧光体层的时候，存在有在滤光层(颜料层)上残留具有不同发光色的荧光体的问题。例如用涂浆方法，一旦首先形成蓝色荧光体层，则在绿色和红色的滤光层上残留蓝色荧光体，接着一旦同样形成绿色荧光体层，则在红色的滤光层上残留绿色荧光体，因此产生彩色阴极射线管的均匀性等级下降的问题。
这样在滤光层上残留荧光体的原因虽未必清楚，但是被认为大致是由于下述原因引起的。也就是说人们认为，由于构成滤光层的颜料的颗粒是金属氧化物，而且通常在形成滤光层时在颜料中添加高分子化合物(树脂)，因此，用于荧光体的表面处理的二氧化硅与滤光层之间有静电力相互作用着，由于该静电力的作用，荧光体残留在滤光层上。通常还认为由于二氧化硅带负电，所以滤光层带正电。
而且形成荧光体层的方法通常使用涂浆方法，使用加重铬酸铵的聚乙烯醇水溶液作为感光胶，而使用超高压汞灯作为曝光光源。但是构成滤光层的颜料通常在感光胶起光架桥作用的365nm附近的波长区域存在吸收，因此感光胶在曝光时灵敏度不足，特别是与滤光层接触的一侧的感光胶的曝光灵敏度下降，产生显象后的荧光体从滤光层脱落的问题。
本发明是为解决这样的问题而做出的，目的在于提供在从滤光层上去除荧光体层时大致防止该荧光体层的一部分及/或该荧光体层含有的荧光体残留的荧光面形成方法。
本发明的目的还在于提供大致防止显象后的荧光体从滤光层上脱落的荧光面形成方法。
本发明的目的又在于提供大致防止彩色阴极射线管的均匀性等级下降，有助于进行高辉度和对比度的图像显示的荧光面形成方法。
本发明涉及的荧光面形成方法具备在基体材料上形成含有颜料、能够透过规定波长的光的颜料层的工序，控制所述形成的颜料层表面的电荷和该表面的光吸收的工序，以及将控制所述电荷和所述光的吸收的颜料层的表面用含有荧光体的荧光体层覆盖的工序。
又，本发明涉及的荧光面形成方法具备在基体材料上形成含有颜料、能够透过规定波长的光的颜料层的工序，在上述形成的颜料层上形成含有二氧化硅的二氧化硅层的工序，以及用含有荧光体的荧光体层覆盖所述形成的二氧化硅层的工序。
还有，本发明涉及的荧光面形成方法具备在基体材料上的互不相同的区域形成含有第1颜料、能够透过第1波长的光的第1颜料层和含有第2颜料、能够透过第2波长的光的第2颜料层的工序，在上述形成的第1和第2颜料层上分别形成含有二氧化硅的第1和第2二氧化硅层的工序，用含有第1荧光体的第1荧光体层覆盖所述形成的第1二氧化硅层的工序，以及用含有第2荧光体的第2荧光体层覆盖所述形成的第2二氧化硅层的工序。
下面对本发明进一步作详细说明。
在本发明的荧光面形成方法中，能够根据不同目的等对颜料层表面的电荷进行合适的控制。例如在从颜料层构成的滤光层上去除荧光体层时，在对该荧光体层的一部分及/或该荧光体层所含有的荧光体在滤光层上的残留进行抑制的情况下，通常控制使颜料层表面的电荷为负电荷。这里把颜料层表面的电荷控制为负的理由，如下面所述，是由于荧光体层带负电。另外，颜料层表面的光吸收可以相应于不同目的等进行合适的控制。例如在对覆盖颜料层的荧光体层进行显象的情况下，控制使颜料层表面不吸收感光胶起光架桥作用的波长区域的光线，通常是365nm附近的波长区域的光线，防止在显象时使用的感光胶曝光不足。而控制颜料层表面的电荷及在该表面光线的吸收的方法只要不是使形成的荧光面的特性恶化的方法，就没有特别限定。
又，在本发明中使用的颜料可以是无机颜料，也可以是有机颜料。最好是使用能够在滤光层中均匀分散，能够使该滤光层有充分良好的光的透射性能而不引起光散射的颜料。还有，在彩色阴极射线管的制造工序中颜料暴露在高温环境下，因此最好是使用无机颜料。具备这样的特性的颜料的具体例子可以列举如下：
红色颜料有氧化铁(bengala)系颜料シコトランスred L-2817(颗粒直径0.01微米～0.02微米，BASF株式会社)，蒽醌系颜料クロモファ-タルred A2B(颗粒直径0.0 1微米，チバガイギ-株式会社)，
蓝色颜料有铝酸钴(Al2O3-CoO)系颜料钴蓝-X(颗粒直径0.01～0.02微米，东洋颜料株式会社)，群青系颜料群青No.8000(颗粒直径0.03微米，第1化成株式会社)，酞菁蓝系颜料リオノ-ル蓝FG-7370(颗粒直径0.01微米，东洋インキ株式会社)，
绿色颜料有TiO2-NiO-CoO-ZnO系颜料グイピロキサイド TM绿#3320(颗粒直径0.01微米～0.02微米，大日精化株式会社)，CoO-Al2O3-Cr2O3系颜料グイピロキサイド TM绿#3420(颗粒直径0.01微米～0.02微米，大日精化株式会社)，Cr2O3系颜料ND-801(颗粒直径0.35微米，日本电工株式会社)，氯化酞菁绿系颜料ファ-ストゲン绿S(颗粒直径0.01微米，大日本インキ株式会社)，溴化酞菁绿系颜料ファ-ストゲン绿2YK(颗粒直径0.01微米，大日本インキ株式会社)等。
在本发明中，由这样的颜料层构成的滤光层的形成如日本专利特愿平6-315059号公报所述，按照下面所示步骤进行。
即首先把颜料颗粒和高分子电解质构成的分散剂为主成份的颜料分散液涂布在例如具有黑底(black matrix)的面板内表面。涂布颜料分散液的方法可以使用旋转涂布方法、滚筒涂布方法、浸渍方法等，可以根据面板等涂布的基体材料的形状和大小适当选择。特别是鉴于要得到规定膜厚的均匀涂膜，最好是使用旋转涂膜方法。这样在基体材料上涂布颜料分散液后，使涂膜干燥，干燥方法没有特别限定，只要是能够在使水份挥发的同时使高分子电解质中的盐的一部分分解的方法即可，可以使用加热器加热烘干，热风烘干，室温长时间自然干燥等各种方法。
还有，在形成颜料层的图案时，只要使颜料分散液中含有重铬酸铵(ADC)/聚乙烯醇(PVA)、重铬酸钠(SDA)/PVA、重氮盐(diazonium salt)/PVA等感光胶即可。含有这样的感光胶的颜料层形成于基体材料上，用高压汞灯等进行曝光，以此使光线(紫外线)照射的部分硬化，然後用包含有可以溶解不溶于水等溶剂的高分子电解质的物质的碱水溶液对颜料层进行显象，以此可以形成具备规定图案的滤光层。又可以不是这样使颜料分散液含有感光胶，而在基体材料上形成颜料层后在颜料层上形成感光胶层，用曝光、显象的方法可以形成颜料层的图案。在这种情况下能够提高感光胶的感光性能，即缩短曝光时间，提高基体材料与颜料层的粘合性能，又可以谋求增加形成的滤光层的厚度。
而通常是对含有蓝色颜料、绿色颜料和红色颜料的颜料分散液按照这一顺序多次重复进行这一系列的工序，以此可以形成蓝色、绿色和红色三种颜色的颜料层构成的彩色滤光层。
在本发明中，这样形成规定的图案的滤光层后，在该滤光层上面涂布胶态氧化硅溶液，使其干燥形成氧化硅层，在其上用涂布浆液等方法分别形成蓝色、绿色和红色的荧光体层。
这里，胶态氧化硅的颗粒直径最好是在15nm以下，胶态氧化硅溶液的pH值最好是调整在2.0～5.0的范围内。使用颗粒直径大于15nm的胶态氧化硅时，抑制荧光体在滤光层上的残留的效果有下降的倾向。而在胶态氧化硅溶液的pH值调整在2.0以下的范围内时，溶液中氧化硅容易凝集，反之，在溶液的pH值超过5.0的情况下，也和pH值低的情况一样，氧化硅也容易凝集，滤光层更有被显象的可能。
还有，胶态氧化硅溶液中氧化硅的含量最好是在0.2～5.0重量％的范围内，更好的是在0.8～3.0重量％范围内。胶态氧化硅溶液中氧化硅的含量在0.2重量％以下时，胶态氧化硅溶液的涂布与干燥对防止荧光体残留的效果减小，而且滤光层与荧光体层之间的粘接性能的提高也减少。而在胶态氧化硅溶液中氧化硅的含量超过5.0重量％的情况下，滤光层与荧光体层之间的粘接性能提高，但是在滤光层上荧光体的残留有增大的倾向。
表1表示滤光层上涂布的胶态氧化硅溶液中氧化硅的含量改变时红色滤光层上残留的绿色荧光体残渣的多少(点数)，以及蓝色滤光层上蓝色荧光体的粘接性能(附着力)的测定结果。残渣多少的测定是在φ0.12毫米的范围内调查颗粒直径在5微米以上的荧光体的点数。残渣点数如果超过20点，则阴极射线管的白色均匀性(white uniformity)等级恶化，不适合实际应用。
              表1
氧化硅含量    绿色荧光体的残渣多少    蓝色荧光体的粘接性能
0.2wt％            15～20点            数点荧光体发生脱落
0.8wt％             5～15点            没有荧光体发生脱落
1.5wt％             1～3点             没有荧光体发生脱落
3.0wt％             5～10点            没有荧光体发生脱落
6.0wt％            30点以上          没有荧光体发生脱落
根据表1所示的测定结果可以确定，涂布在滤光层上的胶态氧化硅溶液的浓度最好是取0.2～5.0重量％的范围，更好的范围是0.8～3.0重量％的范围。
在本发明中，把胶态氧化硅分散液涂布在构成滤光层的各色颜料层上然後干燥，这样做不会破坏滤光层(颜料层)，而能够使滤光层表面带上负电，因此利用带负电的滤光层表面与荧光体表面处理使用的氧化硅之间的电荷相斥力大致可以防止荧光体在滤光层上的残留。又借助于在滤光层上设置氧化硅层，可以防止在荧光体层显象时感光胶的曝光灵敏度下降，因此可以大致防止显象后的荧光体脱落。而且，胶态氧化硅溶液涂布和干燥形成的氧化硅层起着粘接助剂的功能，因此滤光层与荧光体层之间的粘接性能得到改善，显象后荧光体的脱落得以防止。而且由于氧化硅层中的氧化硅进入滤光层的空隙，也能够改善滤光层与玻璃面板等基体材料之间的粘接力。
从而，本发明涉及的荧光面形成方法使用于阴极射线管等的制造时，可以得到高对比度和高辉度的彩色阴极射线管，而不降低阴极射线管荧光面的均匀性等级。
图1表示实施例1的荧光面形成工序。
图2A是表示在实施例1的工序中面板的状态的剖面图。
图2B是表示在实施例1的工序中面板的状态的剖面图。
图2C是表示在实施例1的工序中面板的状态的剖面图。
图2D是表示在实施例1的工序中面板的状态的剖面图。
图2E是表示在实施例1的工序中面板的状态的剖面图。
图2F是表示在实施例1的工序中面板的状态的剖面图。
图3表示实施例2的荧光面形成工序。
图4A是表示在实施例2的工序中面板的状态的剖面图。
图4B是表示在实施例2的工序中面板的状态的剖面图。
图4C是表示在实施例2的工序中面板的状态的剖面图。
图4D是表示在实施例2的工序中面板的状态的剖面图。
图4E是表示在实施例2的工序中面板的状态的剖面图。
图4F是表示在实施例2的工序中面板的状态的剖面图。
下面参照附图对本发明理想的实施例加以说明。
实施例1
图1表示本发明涉及的荧光面形成方法的一实施例的工序。图2是该实施例的工序中面板的状态的剖面图。在本实施例中，基本上是图1的工序A～工序E的工序中首先形成蓝色(或绿色)的滤光层，接着同样重复工序A～工序E，依序形成绿色(或蓝色)和红色的滤光层。接着，在工序F和工序G进行胶态氧化硅溶液的涂布和干燥后，在工序H以规定的图案形成荧光体层。
首先，如图2A所示，在彩色阴极射线管面板1的内表面以众所周知的方法形成作为黑底(black matrix)起作用的吸光层2。即在面板1内表面涂布感光胶，通过荫罩进行曝光、显象和干燥，在颜料层和荧光体层的预定形成部分留下带状或点状的光硬化膜。接着在留下光硬化膜的面板1内表面涂布吸光物质、例如石墨，粘合后用双氧水洗净，溶解光硬化膜，以除去光硬化膜上的吸光物质，使作为颜料层和荧光体层的预定形成部分的孔露出，形成吸光层图案2。
接着，按照如下组成准备用于形成蓝色、绿色、红色各色的滤光层的颜料分散液。
蓝色颜料分散液是按照蓝色颜料颗粒使用钴蓝-X30重量％，感光胶使用添加ADC的PVA0.5重量％，高分子电解质使用聚丙烯酸共聚体的铵盐(ディスペックGA-40，アライド.コロイド株式会社)0.7重量％的比例，分别在纯水中分散后调制成的。这时高分子电解质与颜料的重量比(高分子电解质/颜料)为0.023，感光胶与高分子电解质的重量比(感光胶/高分子电解质)为0.714，感光胶与颜料的重量比(感光胶/颜料)为0.017。
绿色颜料分散液是按照，绿色颜料颗粒使用グイピロキサイド TM绿#3320，30重量％，感光胶使用ADC/PVA，2重量％，高分子电解质使用丙烯酸纳盐(ディスペックN-40，アライド·コロイド株式会社)0.7重量％的比例，分别在纯水中分散后调制成的。这时高分子电解质与颜料的重量比(高分子电解质/颜料)为0.023，感光胶与高分子电解质的重量比(感光胶/高分子电解质)为2.857，感光胶与颜料的重量比(感光胶/颜料)为0.067。
红色颜料分散液是按照，红色颜料颗粒使用Fe2O3的微粒(颗粒直径0.01微米～0.02微米)30重量％，感光胶使用ADC/PVA，2重量％，高分子电解质使用硫酸聚氧化乙烯烷基醚(polyoxyethylene alkyl ether sulfate)的铵盐(ハイテノ-ル08，第一工业制药株式会社)0.7重量％的比例，分别在纯水中分散后调制成的。这时高分子电解质与颜料的重量比(高分子电解质/颜料)为0.023，感光胶与高分子电解质的重量比(感光胶/高分子电解质)为2.857，感光胶与颜料的重量比(感光胶/颜料)为0.067。
这里颜料分散液的涂布工序A和干燥工序B以下面所示方法进行。作为基体材料的彩色阴极射线管面板1的温度保持在30℃，首先涂布上述蓝色颜料分散液。接着使面板1以100～150rpm的转速旋转，把过剩的颜料分散液甩出，形成有一定膜厚的涂布层，而后进行120℃3～4分钟的烘干，如图2B所示，形成蓝色颜料涂布层3B。
接着进行工序C的形成图案的曝光工序，如图2C所示，通过未图示的荫罩曝光形成规定的图案。曝光光源使用高压汞灯。
接着以下面所示方法进行工序D的显象工序和工序E的烘干工序。即以2～10kg/cm2的显象液压力喷射雾状的显象液，例如含有NaOH的pH值为9左右的碱水溶液，以此使蓝色颜料涂布层3B显象，如图2D所示形成具有规定的图案的蓝色颜料层4B。
接着与上述蓝色颜料层4B的形成工序一样进行，依序形成绿色颜料层4G和红色颜料层4R。这时，对绿色颜料涂布层和红色颜料涂布层进行显象的显象液，对于绿色颜料涂布层和红色颜料涂布层都使用含有LiCl的碱的水溶液。
然後如图2E所示，在面板1的内表面形成蓝色颜料层4B、绿色颜料层4G和红色颜料层4R构成的滤光层后，在工序F中在整个滤光层上涂布具有如下组成的、pH值调整为3.5～4.0的胶态氧化硅溶液后，在工序G加以烘干形成氧化硅层5。而胶态氧化硅溶液的pH值调整为酸性是由于颜料层显象时使用碱水溶液，若涂布调整为碱性的溶液，则由于与显象液相同的作用会对滤光层造成破坏，造成滤光层从面板1内表面脱落的影响。
胶态氧化硅溶液
SNOWTEX-OS(日产化学工业株式会社，氧化硅
颗粒直径8～11nm，固体成份(SiO2)20.0～21.0％)…6.0kg
纯水                                          ……80升
接着在工序H，如图2F所示，分别用涂浆方法依序在蓝色颜料层4B、绿色颜料层4G和红色颜料层4R上分别形成配置蓝色荧光体层6B、绿色荧光体层6G和红色荧光体层6R。
调查这时在绿色和红色的各荧光体层的预定形成部位上的蓝色荧光体的残渣情况。该残渣情况是测定φ0.12毫米的范围内颗粒直径在5微米以上的荧光体的点数。另外，在不对滤光层涂布胶态氧化硅溶液，在滤光层上直接形成荧光体层的情况下(比较例1)，以及不形成滤光层，而直接在面板1的内表面形成荧光体层的情况下(比较例2)也同样调查了蓝色荧光体的残渣。这些调查结果示于表2
                  表2
                          实施例1   比较例1    比较例2
绿色荧光体层预定形成部位  1～3点    20点以上   1～3点
红色荧光体层预定形成部位  1～3点    20点以上   1～3点
而为了核查荧光体的附着力(粘接性能)，就实施例1和比较例1、2的面板，调查了平均颗粒直径5.5微米的各色荧光体不脱落的极限膜厚。还把膜厚表示为16cm2面积上各荧光体的涂布重量。结果表示于表3。
                 表3
                        实施例1   比较例1   比较例2
蓝色荧光体的涂布量(mg)    49        38         41
绿色荧光体的涂布量(mg)    49        37         39
红色荧光体的涂布量(mg)    67        46         48
从表1和表2可以看出，采用本实施例，在形成具备滤光层的荧光面时，荧光体残留的情况大大改善，而且荧光体的附着力也提高了。从而能够得到高对比度、高辉度的高等级彩色阴极射线管，而又不使阴极射线管等的荧光面的均匀性等级下降。
实施例2
下面参照图3和图4对本发明荧光体的形成方法的第2实施例加以说明。本实施例的工序流程示于图3，反复进行工序A1～工序A4和工序C～工序E的工序，以此可以形成多种颜色的滤光层图案。
首先如图4A所示，在彩色阴极射线管的面板1的内表面与实施例1一样，形成作为黑底起作用的吸光层2，然後以下面所示方法进行作为颜料分散液涂布工序的工序A1和作为烘干工序的工序A2。
用于形成蓝、绿、红各种颜色的滤光层的颜料分散液按下面所述组成准备。而这些颜料分散液与实施例1所使用的颜料分散液相比，只有不含感光胶这一点是不同的。
也就是说，蓝色颜料分散液是按照蓝色颜料颗粒使用钴蓝-X、30重量％，高分子电解质使用ディスペック GA-40、0.7重量％的比例，分别在纯水中分散后调制成的。这时高分子电解质与颜料的重量比(高分子电解质/颜料)为0.023。
绿色颜料分散液是按照，绿色颜料颗粒使用グイピロキサイド TM绿#3320、30重量％，高分子电解质使用ディスペック N-40、0.7重量％的比例，分别在纯水中分散后调制成的。这时高分子电解质与颜料的重量比(高分子电解质/颜料)为0.023。
红色颜料分散液是按照，红色颜料颗粒使用Fe2O3的微粒(颗粒直径0.01微米～0.02微米)20重量％，高分子电解质使用ハイテノ-ル08、0.7重量％的比例，分别在纯水中分散后调制成的。这时高分子电解质与颜料的重量比(高分子电解质/颜料)为0.035。
与实施例1一样，彩色阴极射线管面板1的温度保持在30℃，首先涂布上述蓝色颜料分散液。接着使面板1以100～150rpm的转速旋转，把过剩的颜料分散液甩出，在120℃进行3～4分钟的烘干，如图4B所示，形成蓝色颜料层7B。
接着以下面所示方法实施作为感光胶涂布工序的工序A3和作为烘干工序的工序A4。亦即准备3重量％PVA，0.20重量％ADC，0.01重量％表面活性剂，其余为纯水的组成的感光胶溶液，以与涂布上述颜料层的相同方法将其涂布、烘干，如图4B所示在蓝色颜料层7B上层积感光胶层8。
接着如图4C所示，进行作为图案曝光工序的工序C，通过未图示的荫罩曝光形成规定的图案。曝光光源使用高压汞灯。在本实施例，与使用混合有感光胶的颜料分散液的实施例1的方式相比，曝光时间只有其1/5。
接着，以下面所示方法进行作为显象工序的工序D和作为烘干工序的工序E。即以2～10kg/cm2的显象液压力对感光胶层8喷射雾状的显象液，例如含有Na2CO3的pH值为9左右的碱的水溶液，以此进行显象，如图4D所示形成蓝色颜料层7B和感光胶层8层积的图案。
接着与蓝色颜料层7B的形成工序一样进行，依序形成绿色颜料层和红色颜料层。这时，对绿色颜料层和红色颜料层进行显象的显象液都使用含有Na2CO3的碱的水溶液。
这样在面板1的内表面形成蓝色颜料层7B、绿色颜料层7G和红色颜料层7R构成的滤光层后，如图4E所示，剥离蓝、绿、红各色颜料层上的感光胶层8，接着在工序F，与实施例1一样在整个滤光层上涂布pH值调整为3.5～4.0的胶态氧化硅溶液，在工序G使涂布于滤光层上的胶态氧化硅溶液干燥，形成氧化硅层5。
接着，如图4F所示，在工序H分别用涂浆方法依序在蓝色颜料层7B、绿色颜料层7G和红色颜料层7R上分别形成蓝色荧光体层6B、绿色荧光体层6G和红色荧光体层6R。
于是在面板1的内表面得到以规定的图案形成蓝、绿、红色颜料层和荧光体层的、带有滤光层的荧光面。而在所得到的带有滤光层的荧光面上，与实施例1一样，颜料层上的荧光体残渣情况大大改善，并且荧光体的附着力得到了提高。从而能够得到高对比度、高辉度的高等级彩色阴极射线管，而又不使阴极射线管等的荧光面的均匀性等级下降。
还有，在实施例1，要使添加感光胶混合的颜料分散液的曝光灵敏度提高，就要提高颜料分散液中感光胶相对于颜料的比例，就有可能降低颜料层(滤光层)的透明性，而在实施例2由于与颜料层分开另外设置感光胶层，因此可以使曝光灵敏度大大提高而又不影响颜料层的透明性。
如上详述，采用本发明的荧光面形成方法，由于对颜料层表面的电荷及在该表面的光的吸收进行控制，在从滤光层上去除荧光体层时，可以大致防止该荧光体层的一部分和/或该荧光体层所含有的荧光体的残留，又可以大致防止显象后的荧光体从滤光层上脱落。
又，采用本发明的荧光面形成方法，由于在构成滤光层的颜料层上借助于涂布胶态氧化硅溶液形成含有氧化硅微粒的氧化硅层，在从滤光层上去除荧光体层时，可以大致防止该荧光体层的一部分和/或该荧光体层所含有的荧光体的残留，又可以大致防止显象后的荧光体从滤光层上脱落。
而且，把本发明的荧光面形成方法使用于制造阴极射线管和PDP等，可以得到具备高对比度、高辉度的荧光面的阴极射线管和PDP等，而又不使其均匀性等级下降。

Claims (18)

1.一种荧光面的形成方法，其特征在于，具备：
在基体材料上形成含有颜料、能够使规定波长的光透过的颜料层的工序，
控制所述形成的颜料层表面的电荷和该表面的光吸收的工序，以及
将控制所述电荷和所述光的吸收的颜料层的表面用含有荧光体的荧光体层覆盖的工序。
2.一种荧光面的形成方法，其特征在于，具备：
在基体材料上形成含有颜料、能够使规定波长的光透过的颜料层的工序，
在上述形成的颜料层上形成含有二氧化硅的二氧化硅层的工序，以及
用含有荧光体的荧光体层覆盖所述形成的二氧化硅层的工序。
3.一种荧光面的形成方法，其特征在于，具备：
在基体材料上的互不相同的区域形成含有第1颜料，能够透过第1波长的光的第1颜料层和含有第2颜料、能够透过第2波长的光的第2颜料层的工序，
在上述形成的第1和第2颜料层上分别形成含有二氧化硅的第1和第2二氧化硅层的工序，
用含有第1荧光体的第1荧光体层覆盖所述形成的第1二氧化硅层的工序，以及
用含有第2荧光体的第2荧光体层覆盖所述形成的第2二氧化硅层的工序。
4.根据权利要求1所述的荧光面的形成方法，其特征在于，所述颜料层表面的电荷能够根据所述荧光体层的电荷进行控制。
5.根据权利要求1所述的荧光面的形成方法，其特征在于，所述颜料层表面的电荷控制为负电荷。
6.根据权利要求1所述的荧光面的形成方法，其特征在于，控制所述颜料层表面的光的吸收，使其反射波长在365nm的光线。
7.根据权利要求1或2所述的荧光面的形成方法，其特征在于，所述荧光体层包含的荧光体根据所述颜料层透过的光线的波长选择。
8.根据权利要求1或2所述的荧光面的形成方法，其特征在于，所述荧光体层包含的荧光体发出包含有与所述颜料层透过的光线的波长大致相同波长的荧光。
9.根据权利要求2所述的荧光面的形成方法，其特征在于，形成所述氧化硅层的工序具备在所述颜料层表面涂布胶态氧化硅溶液的工序和烘干所述涂布的胶态氧化硅溶液的工序。
10.根据权利要求3所述的荧光面的形成方法，其特征在于，形成所述第1和第2氧化硅层的工序具备在所述第1和第2颜料层表面涂布胶态氧化硅溶液的的工序和烘干所述涂布的胶态氧化硅溶液的工序。
11.根据权利要求3所述的荧光面的形成方法，其特征在于，透过所述第1和第2颜料层的光线的波长的峰值互不相同。
12.根据权利要求3所述的荧光面的形成方法，其特征在于，所述第1和第2荧光体层所包含的荧光体分别根据所述第1和第2颜料层透过的光波波长选择。
13.根据权利要求3所述的荧光面的形成方法，其特征在于，所述第1和第2荧光体层所包含的荧光体发出包含与所述第1和第2颜料层透过的光波波长大致相同波长的荧光。
14.根据权利要求9或10所述的荧光面的形成方法，其特征在于，所述胶态氧化硅的颗粒直径是在15nm以下。
15.根据权利要求9或10所述的荧光面的形成方法，其特征在于，所述胶态氧化硅溶液是酸性的。
16.根据权利要求9或10所述的荧光面的形成方法，其特征在于，所述胶态氧化硅溶液的pH值是在2.0～5.0的范围内。
17.根据权利要求9或10所述的荧光面的形成方法，其特征在于，所述胶态氧化硅溶液中氧化硅的含量是在0.2～5.0重量％的范围内。
18.根据权利要求1或2或3所述的荧光面的形成方法，其特征在于，所述基体材料是所述阴极射线管的面板。
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