JP3344363B2 - マスクフィルムとその製造方法およびそれを用いた回路基板の製造方法 - Google Patents
マスクフィルムとその製造方法およびそれを用いた回路基板の製造方法Info
- Publication number
- JP3344363B2 JP3344363B2 JP13672199A JP13672199A JP3344363B2 JP 3344363 B2 JP3344363 B2 JP 3344363B2 JP 13672199 A JP13672199 A JP 13672199A JP 13672199 A JP13672199 A JP 13672199A JP 3344363 B2 JP3344363 B2 JP 3344363B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mask film
- release layer
- film according
- layer portion
- base material
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/40—Forming printed elements for providing electric connections to or between printed circuits
- H05K3/4038—Through-connections; Vertical interconnect access [VIA] connections
- H05K3/4053—Through-connections; Vertical interconnect access [VIA] connections by thick-film techniques
- H05K3/4069—Through-connections; Vertical interconnect access [VIA] connections by thick-film techniques for via connections in organic insulating substrates
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2201/00—Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
- H05K2201/03—Conductive materials
- H05K2201/0332—Structure of the conductor
- H05K2201/0335—Layered conductors or foils
- H05K2201/0355—Metal foils
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2203/00—Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
- H05K2203/01—Tools for processing; Objects used during processing
- H05K2203/0191—Using tape or non-metallic foil in a process, e.g. during filling of a hole with conductive paste
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2203/00—Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
- H05K2203/05—Patterning and lithography; Masks; Details of resist
- H05K2203/0502—Patterning and lithography
- H05K2203/0522—Using an adhesive pattern
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2203/00—Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
- H05K2203/14—Related to the order of processing steps
- H05K2203/1461—Applying or finishing the circuit pattern after another process, e.g. after filling of vias with conductive paste, after making printed resistors
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T29/00—Metal working
- Y10T29/49—Method of mechanical manufacture
- Y10T29/49002—Electrical device making
- Y10T29/49117—Conductor or circuit manufacturing
- Y10T29/49124—On flat or curved insulated base, e.g., printed circuit, etc.
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T29/00—Metal working
- Y10T29/49—Method of mechanical manufacture
- Y10T29/49002—Electrical device making
- Y10T29/49117—Conductor or circuit manufacturing
- Y10T29/49124—On flat or curved insulated base, e.g., printed circuit, etc.
- Y10T29/49126—Assembling bases
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T29/00—Metal working
- Y10T29/49—Method of mechanical manufacture
- Y10T29/49002—Electrical device making
- Y10T29/49117—Conductor or circuit manufacturing
- Y10T29/49124—On flat or curved insulated base, e.g., printed circuit, etc.
- Y10T29/49155—Manufacturing circuit on or in base
Description
その製造方法およびそれを用いた回路基板の製造方法に
関するものである。
い、産業用にとどまらず民生用の分野においても回路基
板の多層化が強く要望されるようになってきた。このよ
うな回路基板では、複数層の回路パターンの間をインナ
ービアホール接続する製造方法および信頼度の高い構造
の新規開発が不可欠なものになっているが、導電ペース
トによるインナービアホール接続した新規な構成の高密
度の回路基板の製造法(特開平6−268345号公
報)が提案されている。この回路基板の製造方法を以下
に説明する。
明する。
図8(a)〜(f)は従来の両面回路基板の製造方法の
工程断面図であり、図9は従来例におけるマスクフィル
ムの張力大の部位を示す斜視図である。
m、厚さ約150μmのプリプレグシートであり、例え
ば不織布の全芳香族ポリアミド繊維に熱硬化性エポキシ
樹脂を含浸させた複合材からなる基材が用いられる。2
2a,22bはマスクフィルムであり、図7に示すよう
にベース材11のマスクフィルム22a,22bと接着
する面に0.01μm以下の厚みでSi系の離型剤を塗
布した離型層部12を形成した厚さ約16μm、幅30
0mmのプラスチックフィルム、例えばポリエチレンテレ
フタレートが用いられる。
2a,22bの張り合わせは、ラミネート装置を用いて
プリプレグシート21の樹脂成分を溶融させてマスクフ
ィルム22a,22bを連続的に接着する方法(特開平
7−106760)が提案されている。23は貫通孔で
あり、プリプレグシート21の両面に取り付ける厚さ3
5μmのCuなどの金属箔25a,25bと電気的に接
続する導電ペースト24が充填されている。
bが接着されたプリプレグシート21(図8(a))の
所定の箇所に図8(b)に示すようにレーザ加工法など
を利用して貫通孔23が形成される。
に導電ペースト24が充填される。導電ペースト24を
充填する方法としては、貫通孔23を有するプリプレグ
シート21を一般の印刷機(図示せず)のテーブル上に
設置し、ウレタンゴムスキージなどで直接導電ペースト
24がマスクフィルム22aの上から充填される。この
とき、上面のマスクフィルム22a,22bは印刷マス
クの役割と、プリプレグシート21の表面の汚染防止の
役割を果たしている。
シート21の両面からマスクフィルム22a,22bを
剥離する。そして、図8(e)に示すように、プリプレ
グシート21の両面にCuなどの金属箔25a,25b
を重ねる。この状態で熱プレスで加熱加圧することによ
り、図8(f)に示すように、プリプレグシート21の
厚みが圧縮される(t2=約100μm)とともにプリ
プレグシート21と金属箔25a,25bとが接着さ
れ、両面の金属箔25a,25bは所定位置に設けた貫
通孔23に充填された導電ペースト24により電気的に
接続されている。そして、両面の金属箔25a,25b
を選択的にエッチングして回路パターンが形成され(図
示せず)て両面回路基板が得られる。
来の多層基板の製造方法においては、第一にプリプレグ
シートとマスクフィルムの張り合わせに一定の張力を与
えて張り合わせるラミネート法を用いた場合、張り合わ
せ後、図9に示すようにプリプレグシートの4コーナー
の収縮応力が最も大きく、その部分から剥がれが発生し
て製造工程での搬送や取り扱いで徐々に拡大していくた
め、マスクフィルムの離型層部を0.01μm以下と非
常に薄くして離型層部のピンホールを意図的に形成する
ことで接着強度を保っているが、所定箇所にレーザ加工
法、特にCO2レーザなど加熱加工で貫通孔を形成する
場合、加工時に加工熱でマスクフィルムの熱可塑性樹脂
であるポリエチレンテレフタレートが溶融してプリプレ
グの樹脂成分やプリプレグシート中のアラミド繊維など
と融着して、導電ペースト充填後プリプレグシートから
マスクフィルムを剥離する際、プリプレグシート中の樹
脂成分やアラミド繊維が剥がされたり、貫通孔の有無に
よって接着強度が異なることで衝撃剥離となり導電ペー
ストの一部が剥がされたりして品質に影響を及ぼす場合
があるという問題があった。
に、本発明のマスクフィルムおよびマスクフィルムを用
いた回路基板の製造方法は、ベース材の一方面に所定位
置に離型層部と非離型層部で構成されたマスクフィル
ム、またはベース材の一方の全面に離型層を塗布形成
し、さらに離型層上の所定位置に接着層部を配置したマ
スクフィルムを用い、回路基板を製造することで品質に
優れた回路基板が得られる。
ベース材の片面に離型層が塗布形成された離型層部と、
離型層が形成されていない非離型層部とで構成され、前
記非離型層部に接着層を形成したマスクフィルムとした
ものであり、マスクフィルムとプリプレグシートを張り
合わせた場合、離型層部で離型性能を有し、かつ非離型
層部に接着層を形成し、マスクフィルムとプリプレグシ
ートの張り合わせ後の剥がれを防止することができ、さ
らにマスクフィルムをプリプレグシートから剥離する場
合も剥離性を設定しやすいという作用を有する。
をベース材の両端を除く領域に形成した請求項1に記載
のマスクフィルムとしたものであり、これにより、非離
型層部をベース材の両端に構成することとなり、これに
よりマスクフィルムとプリプレグシートの張り合わせ後
の剥がれを防止するための接着層をベース材両端に形成
することが可能となるという作用を有する。
を接着強度調整パターンとして形成した請求項1に記載
のマスクフィルムとしたものであり、プリプレグシート
からマスクフィルムを剥離する時の強度の設定が可能で
あるという作用を有する。
部に空気侵入防止パターンを形成した請求項1に記載の
マスクフィルムとしたものであり、マスクフィルムとプ
リプレグシート間の空気の侵入が防止可能となり、空気
侵入によるマスクフィルムの剥がれを防止するという作
用を有する。
の片側全面に離型層を形成し、前記離型層上の両端に一
定幅で接着層を形成したマスクフィルムとしたものであ
り、ベース材に離型層のみを予め形成することで、マス
クフィルム製造の生産性を高め、さらに請求項1に記載
の発明と同様にプリプレグシートと張り合わせた場合の
離型層部で離型性能、接着層部で接着補強とマスクフィ
ルム剥がれを防止し、さらにマスクフィルムをプリプレ
グシートから剥離する場合も剥離性を設定しやすいとい
う作用を有する。
接着強度調整パターンとして形成した請求項5に記載の
マスクフィルムとしたものであり、プリプレグシートか
らマスクフィルムを剥離する時の強度の設定が可能であ
るという作用を有する。
空気侵入防止パターンを形成した請求項5に記載のマス
クフィルムとしたものであり、マスクフィルムとプリプ
レグシート間の空気の侵入が防止可能となり、空気侵入
によるマスクフィルムの剥がれを防止するという作用を
有する。
調整パターンをベース材長手方向と平行に複数の線状パ
ターンとして形成した請求項3または請求項6に記載の
マスクフィルムとしたものであり、マスクフィルムとプ
リプレグシートの張り合わせ後の剥がれを防止するだけ
の接着強度を有し、かつマスクフィルムをプリプレグシ
ートから剥離する場合も容易に隔離できるパターンであ
り、上記の線状パターンの接着層を有するマスクフィル
ム製造が容易であるという作用を有する。
調整パターンが、ベース材長手方向と平行かつベース端
から一定距離内側に形成された空気侵入防止パターン
と、ベース材長手方向に垂直に形成された不連続パター
ンで形成された請求項4または請求項7に記載のマスク
フィルムとしたものであり、離型層部分に空気が侵入す
ることを防止するとともに、接着強度調整パターン内に
空気が滞留し、外圧等で接着層が剥がれるのを防止する
作用を有する。
部または離型層の表面張力が40mN/m以上である請
求項1または請求項5に記載のマスクフィルムとしたも
のであり、マスクフィルムとプリプレグシートとの接着
力を向上させるという作用を有し、さらに表面張力が請
求項5記載の40mN/m以上とすることで製造プロセ
ス上剥がれ等の問題を生じない程度接着力が得られる。
部または離型層に、コロナ放電またはプラズマ放電処理
を施した請求項1または請求項5に記載のマスクフィル
ムとしたものであり、離型層部側にコロナ放電やプラズ
マ放電処理をすることで離型層面の表面が活性化してプ
リプレグシートとの接着力を向上させるという作用を有
し、さらに表面張力が請求項5記載の40mN/m以上
とすることで製造プロセス上問題のない接着強度が得ら
れる。
Vの電圧で1〜5秒間の条件でコロナ放電処理を施す請
求項11に記載のマスクフィルムとしたものであり、上
記条件で処理することにより、表面張力が40mN/m
以上となり、プリプレグシート中の樹脂成分の濡れ性が
改善され、剥がれが防止できるという作用を有する。
を融点を持たない材料で形成した請求項1または請求項
5に記載のマスクフィルムとしたものであり、離型層を
融点を持たない材料で形成したことで、プリプレグシー
トの所定の箇所にレーザ加工法、特にCO2レーザなど
加熱加工で貫通孔を形成する場合、加工時に加工熱でマ
スクフィルムの熱可塑性樹脂が溶融しても、融点を持た
ない離型層がバリヤの役目を果たしマスクフィルムとプ
リプレグシートとの融着を最小限にできるという作用を
有し、融点を持たない材料としては本発明の請求項16
記載の熱硬化性樹脂や無機物がより好ましい。
持たない材料として熱硬化性樹脂を用いた請求項13に
記載のマスクフィルムとしたものであり、CO2レーザ
など加熱加工で貫通孔を形成する場合、加工時に加工熱
でマスクフィルムの熱可塑性樹脂が溶融しても、融点を
持たない熱硬化性樹脂材料で形成した離型層がレーザの
エネルギーを樹脂の硬化エネルギーとして使われること
によりマスクフィルムの溶融領域の拡大を防ぐバリヤの
役目を果たし、マスクフィルムとプリプレグシートとの
融着を最小限にできるという作用を有する。
部を常温で粘着性を持たない熱可塑性樹脂で形成した請
求項1または請求項5に記載のマスクフィルムとしたも
のであり、接着層部を常温で粘着性を持たない熱可塑性
樹脂で形成することで常温では接着性が小さく取り扱い
が容易となり、プリプレグシートと張り合わせる際に加
熱することで再溶融して接着しやすくなるという作用を
有する。
材に融点を持たない材料を用いた請求項1または請求項
5に記載のマスクフィルムとしたものであり、マスクフ
ィルムのベース材に融点を持たない材料を用いること
で、レーザ加工時の熱影響を受けても加工穴周辺は軟化
は起こるものの溶融しないため、プリプレグシートとの
融着がより発生しにくくなるという作用を有する。
エポキシ樹脂と、硬化剤のメラミン架橋剤を溶剤のメチ
ルエチルケトンで希釈し、それを仕上がり膜厚が1μm
となるようグラビア法を用いてベース材上に塗布し、乾
燥硬化して請求項1または請求項5に記載のマスクフィ
ルムの離型層を形成するマスクフィルムの製造方法とし
たものであり、この製造方法を用いることによって、離
型性およびレーザー加工性に優れた離型層を有するマス
クフィルムを提供できるものである。
17記載のマスクフィルム製造方法を用いて離型層を形
成する際、グラビア法で用いるロール状のグラビア版に
離型剤未塗工部を設けることによって、請求項1に記載
の非離型層部を形成するマスクフィルムの製造方法とし
たものであり、この製造方法を用いることによって、離
型性およびレーザー加工法、さらにプリプレグシート端
部との接着性の優れた離型層および接着層を有するマス
クフィルムを容易に製造することができる。
マスクフィルムを備えた非圧縮性を有するプリプレグシ
ートに貫通孔を形成し、その孔に導体ペーストを充填
し、前記マスクフィルムを剥離した後、プリプレグシー
トの表裏に金属箔を加熱加圧して基板の表裏を電気接続
し、さらにエッチングによって回路形成する回路基板の
製造方法であって、前記マスクフィルムに請求項1また
は請求項5に記載のマスクフィルムを使用して、ベース
フィルムの離型層部および非離型層部が形成された側を
プリプレグシートと張り合わせて表裏に配置した回路基
板の製造方法としたものであり、プリプレグシートの所
定の箇所にレーザ加工法、特にCO2レーザなど加熱加
工で貫通孔を形成する場合、加工時に加工熱でマスクフ
ィルムの熱可塑性樹脂が溶融しても、融点を持たない離
型層がバリヤの役目を果たし融着が最小限のものとな
り、導電ペースト充填後プリプレグシートからマスクフ
ィルムを剥離する際、剥離強度が小さく貫通孔の有無に
よって発生する衝撃剥離が軽減されることで、プリプレ
グシート中の樹脂成分やアラミド繊維および導電ペース
トの剥がれを激減させるという作用を有する。
層部または接着層がプリプレグシートの貫通孔を形成し
た位置にかからない部位に形成されたマスクフィルムを
使用した請求項19に記載の回路基板の製造方法とした
ものであり、レーザー加工および導電ペースト充填、さ
らにマスクフィルムを剥離する際に、非離型部に形成さ
れた接着層の影響による貫通孔形成の不具合を生じさせ
ないという作用を有する。
フィルムの剥離開始を非離型層部あるいは接着層部側か
らとした場合、離型層部の剥離速度より剥離終端の非離
型層部あるいは接着層部の剥離速度を遅くした請求項1
9記載の回路基板の製造方法としたものであり、マスク
フィルムの剥離開始を非離型層部あるいは接着層部側か
らとした場合、離型層部の剥離速度より非離型層部ある
いは接着層部の剥離速度を遅くしたことで、接着強度が
強くなる非離型層部あるいは接着層部の剥離強度を小さ
くして剥離できるという作用を有する。
用いて説明する。
と同一であり、説明を省略し、マスクフィルムの構成と
機能について説明する。図1は本発明の第1の実施の形
態のマスクフィルムの断面図である。図2は本発明の離
型層部と非離型層部を形成したマスクフィルムを示す斜
視図である。図3は本発明のマスクフィルムの剥離しや
すい部位と非離型層部、あるいは接着層部を示す平面図
である。図4は本発明の第1の接着強度調整パターンを
示す平面図、および断面図である。図5は本発明の第2
の接着強度調整パターンと空気侵入防止部を示す平面図
である。マスクフィルム10は、ベース材1に厚さ12
μm、幅300mmのポリエチレンテレフタレート(以下
PETと称す)、ポニフェニレンサルファイト(以下P
PSと称す)、ポリエチレンナフタレート(以下PEN
と称す)などを用い、ベース材の一方に離型層部2と非
離型層部3を形成している。
脂、たとえば主剤にエポキシ樹脂、硬化剤にメラミン架
橋剤を用いメチルエチルケトン(以下MEKと称す)な
どの溶剤で希釈し、仕上がり膜厚が1μmとなるようグ
ラビア法などを用いて塗布した後乾燥・硬化したもので
ある。
ル状のグラビア版に離型剤未塗工部を設ければ図2に示
すように離型層部2と同時に連続形成できる。非離型層
部3は離型性能を持たせていないためプリプレグシート
との張り合わせ時にベース材1とプリプレグシートを直
接張り合わせた時と同様の接着強度が得られる。
80度ピール、測定速度60mm/minで約0.5g/
10mm、非離型層部3が100g/10mm以上である。
プリプレグシートとマスクフィルムを張り合わせた後、
マスクフィルムの剥がれを防止するには、接着強度に優
れた非離型層部3を図2に示すように、マスクフィルム
に張力が最も働く4コーナーを補強すれば剥がれは起こ
らず、進行することはなくなる。
ドに非離型層部3を形成している。また、非離型層部3
の接着強度が強すぎて、導電ペースト充填後のマスクフ
ィルム剥離が困難となる場合は図4に示すように非離型
層部3と離型層部2を交互にかつ連続的に形成した接着
強度調整パターン5や図5に示すように接着強度調整パ
ターン5で不連続な非離型層部3を形成すれば接着強度
を任意に調整できる。
度調整パターン5を示したが、面積を調整するものであ
ればよい。また、接着強度調整パターン5は形状を限定
するものではないが、図5のように不連続のパターンの
場合は、接着強度の弱い部分が剥がれ、その後の製造工
程で加圧などによって空気がパターン間を通って中心部
に押し出され剥がれが拡大する場合があるため、図5に
示すように接着強度調整パターン5の一部に、もしくは
独立して連続状の空気侵入防止部6を設ければよい。
ナ処理などの表面処理によって離型層の表面改質をして
やればよい。コロナ処理を施さない離型層面の表面張力
は32dyneレベルであるが、たとえば35kVの電
圧で数秒間、望ましくは1〜5秒間のコロナ処理を行う
と、40dyneとプリプレグシート中の樹脂成分の濡
れ性などが改善される。ちなみに32dyne時の接着
強度は180度ピール、測定測度60mm/minで約
0.5g/10mmに対して、40dyne時の接着強度
が約4g/10mmと改善されて、より剥がれが防止でき
ることを確認した。
リプレグシートの両面に張り合わせて製造した回路基板
はプリプレグシートの所定の箇所にレーザ加工法、特に
CO2レーザなど加熱加工で貫通孔を形成する場合で
も、加工時に加工熱で貫通孔周辺のマスクフィルムのベ
ース材1(熱可塑性樹脂)が溶融しても、融点を持たな
い熱硬化性の離型層がバリヤの役目を果たし融着が最小
限のものとなり、導電ペースト充填後プリプレグシート
からマスクフィルムを剥離する際、剥離強度が小さく貫
通孔の有無によって発生する衝撃剥離が軽減されて、プ
リプレグシート中の樹脂成分やアラミド繊維および導電
ペーストの剥がれがほとんどなくなっているのを確認し
た。なお、マスクフィルムの非離型層部3は貫通孔形成
部にかからない部位に形成することが必須条件である。
からとしても、例えば離型層部40mm/minに対して
非離型層部を20mm/minと離型層部より非離型層部
を遅くすることで剥離時の強度を低くできるため安定し
て剥離できることを確認した。剥離の速度は離型層、非
離型層とも遅い方が安定して剥離できるため、生産性に
支障のないレベルに設定すればよい。なお、マスクフィ
ルムの非離型層部3は貫通孔形成部にかからない部位に
形成されたものを使用する必要があり、これによりレー
ザ加工および導電ペースト充填、さらにマスクフィルム
を剥離する際に、非離型部に形成された接着層の影響に
よる貫通孔形成の不具合を生じさせることはない。
と同一であり、説明を省略し、マスクフィルムの構成と
機能について説明する。
クフィルムの断面図である。マスクフィルム10はベー
ス材1に厚さ20μm、幅30mmのパルプを溶解してキ
ャスティング法で製膜するセロハンを用いた。ベース材
1のプリプレグシートと接着する面に厚さ約1μmの離
型層部2を設けた後、離型層部2の上に厚さ約0.3μ
mの接着層部4を形成している。離型層部2は融点を持
たない熱硬化性樹脂、たとえば主剤にエポキシ樹脂、硬
化剤にメラミン架橋剤を用いMEKなどの溶剤で希釈
し、仕上がり膜厚が1μmとなるようグラビア法などを
用いて塗布した後乾燥・硬化したものである。接着層部
4はたとえば常温で粘着性を持たないポリエステルやア
クリルなどの熱可塑性樹脂をMEKなどの溶剤に溶融さ
せて、離型層部2の所定位置に仕上がりが所定厚となる
ように塗布した後、加熱乾燥することで形成する。接着
層部4に常温で粘着性を持たない熱可塑性離型樹脂を用
いることで、常温では接着性が小さく取り扱いが容易と
なり、プリプレグシートと張り合わせる際に加熱するこ
とで再溶融して接着しやすくなり、接着強度が大きくな
る。
80度ピール、測定速度60mm/minで約0.5g/
10mm、接着層部4が100g/10mm以上である。
プリプレグシート1の両面に張り合わせて製造した回路
基板はプリプレグシート1の所定の箇所にレーザ加工
法、特にCO2レーザなど加熱加工で貫通孔を形成する
場合でも、加工時に加工熱で貫通孔周辺のマスクフィル
ムのベース材1は溶融せず、かつ融点を持たない熱硬化
性の離型層がバリヤの役目を果たして融着は最小限のも
のとなり、導電ペースト充填後プリプレグシートからマ
スクフィルムを剥離する際、剥離強度が小さく貫通孔の
有無によって発生する衝撃剥離が軽減されて、プリプレ
グシート中の樹脂成分やアラミド繊維および導電ペース
トの剥がれがほとんどなくなっているのを確認した。な
お、マスクフィルムの接着層部4は貫通孔形成部にかか
らない部位に形成することが必要なことはいうまでもな
い。
一方の所定位置に離型層部と非離型層部を配置したマス
クフィルム、あるいはベース材の一方に離型層を配置
し、さらに離型層上の所定位置に接着層部を配置したマ
スクフィルムを用いたもので貫通孔加工でのマスクフィ
ルムとプリプレグシートとの融着を低減した品質に優れ
た回路基板を得ることができるものである。
ルムの断面図
クフィルムを示す斜視図
非離型層部、あるいは接着層部を示す平面図
示す平面図 (b)同断面図
入防止部を示す平面図
ムの断面図
面図
を示す斜視図
Claims (21)
- 【請求項1】 ベース材の片面に離型層が塗布形成され
た離型層部と、離型層が形成されていない非離型層部と
で構成され、前記非離型層部に接着層を形成したマスク
フィルム。 - 【請求項2】 離型層部をベース材の両端を除く領域に
形成した請求項1に記載のマスクフィルム。 - 【請求項3】 接着層を接着強度調整パターンとして形
成した請求項1に記載のマスクフィルム。 - 【請求項4】 非離型層部に空気侵入防止パターンを形
成した請求項1に記載のマスクフィルム。 - 【請求項5】 ベース材の片側全面に離型層を形成し、
前記離型層上の両端に一定幅で接着層を形成したマスク
フィルム。 - 【請求項6】 接着層を接着強度調整パターンとして形
成した請求項5に記載のマスクフィルム。 - 【請求項7】 接着層に空気侵入防止パターンを形成し
た請求項5に記載のマスクフィルム。 - 【請求項8】 接着強度調整パターンをベース材長手方
向と平行に複数の線状パターンとして形成した請求項3
または請求項6に記載のマスクフィルム。 - 【請求項9】 接着強度調整パターンが、ベース材長手
方向と平行かつベース端から一定距離内側に形成された
空気侵入防止パターンと、ベース材長手方向に垂直に形
成された不連続パターンで形成された請求項4または請
求項7に記載のマスクフィルム。 - 【請求項10】 離型層部または離型層の表面張力が4
0mN/m以上である請求項1または請求項5に記載の
マスクフィルム。 - 【請求項11】 離型層部または離型層に、コロナ放電
またはプラズマ放電処理を施した請求項1または請求項
5に記載のマスクフィルム。 - 【請求項12】 35kVの電圧で1〜5秒間の条件で
コロナ放電処理を施す請求項11に記載のマスクフィル
ム。 - 【請求項13】 離型層を融点を持たない材料で形成し
た請求項1または請求項5に記載のマスクフィルム。 - 【請求項14】 融点を持たない材料として熱硬化性樹
脂を用いた請求項13に記載のマスクフィルム。 - 【請求項15】 接着層部を常温で粘着性を持たない熱
可塑性樹脂で形成した請求項1または請求項5に記載の
マスクフィルム。 - 【請求項16】 ベース材に融点を持たない材料を用い
た請求項1または請求項5に記載のマスクフィルム。 - 【請求項17】 主剤のエポキシ樹脂と、硬化剤のメラ
ミン架橋剤を溶剤のメチルエチルケトンで希釈し、それ
を仕上がり膜厚が1μmとなるようグラビア法を用いて
ベース材上に塗布し、乾燥硬化して請求項1または請求
項5に記載のマスクフィルムの離型層を形成するマスク
フィルムの製造方法。 - 【請求項18】 請求項17記載のマスクフィルム製造
方法を用いて離型層を形成する際に、グラビア法で用い
るロール状のグラビア版に離型剤未塗工部を設けること
によって、請求項1に記載の非離型層部を形成するマス
クフィルムの製造方法。 - 【請求項19】 表裏にマスクフィルムを備えた非圧縮
性を有するプリプレグシートに貫通孔を形成し、その孔
に導体ペーストを充填し、前記マスクフィルムを剥離し
た後、プリプレグシートの表裏に金属箔を加熱加圧して
基板の表裏を電気接続し、さらにエッチングによって回
路形成する回路基板の製造方法であって、前記マスクフ
ィルムに請求項1または請求項5に記載のマスクフィル
ムを使用して、ベースフィルムの離型層部および非離型
層部が形成された側をプリプレグシートと張り合わせて
表裏に配置した回路基板の製造方法。 - 【請求項20】 非離型層部または接着層がプリプレグ
シートの貫通孔を形成した位置にかからない部位に形成
されたマスクフィルムを使用した請求項19に記載の回
路基板の製造方法。 - 【請求項21】 マスクフィルムの剥離開始を非離型層
部あるいは接着層部側からとした場合、離型層部の剥離
速度より剥離終端の非離型層部あるいは接着層部の剥離
速度を遅くした請求項19記載の回路基板の製造方法。
Priority Applications (7)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13672199A JP3344363B2 (ja) | 1999-05-18 | 1999-05-18 | マスクフィルムとその製造方法およびそれを用いた回路基板の製造方法 |
TW089107884A TW491010B (en) | 1999-05-18 | 2000-04-26 | Mask film, its manufacturing method, and manufacturing method of circuit board using the same |
CNB001089269A CN1205845C (zh) | 1999-05-18 | 2000-05-17 | 屏蔽薄膜及其制造方法、使用该薄膜的电路基片制造方法 |
EP00110617A EP1054582B1 (en) | 1999-05-18 | 2000-05-18 | Mask film, its manufacturing method, and manufacturing method of circuit board using the same |
US09/573,826 US6694612B1 (en) | 1999-05-18 | 2000-05-18 | Mask film having a non-parting portion |
DE60030908T DE60030908T2 (de) | 1999-05-18 | 2000-05-18 | Maskenfilm, Verfahren zu dessen Herstellung, und Verfahren zur Herstellung einer Leiterplatte unter Verwendung desselben |
US10/338,642 US7066344B2 (en) | 1999-05-18 | 2003-01-09 | Mask film, its manufacturing method, and manufacturing method of circuit board using the same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13672199A JP3344363B2 (ja) | 1999-05-18 | 1999-05-18 | マスクフィルムとその製造方法およびそれを用いた回路基板の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000332375A JP2000332375A (ja) | 2000-11-30 |
JP3344363B2 true JP3344363B2 (ja) | 2002-11-11 |
Family
ID=15181951
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP13672199A Expired - Fee Related JP3344363B2 (ja) | 1999-05-18 | 1999-05-18 | マスクフィルムとその製造方法およびそれを用いた回路基板の製造方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US6694612B1 (ja) |
EP (1) | EP1054582B1 (ja) |
JP (1) | JP3344363B2 (ja) |
CN (1) | CN1205845C (ja) |
DE (1) | DE60030908T2 (ja) |
TW (1) | TW491010B (ja) |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3344363B2 (ja) | 1999-05-18 | 2002-11-11 | 松下電器産業株式会社 | マスクフィルムとその製造方法およびそれを用いた回路基板の製造方法 |
JP4595284B2 (ja) * | 2003-01-28 | 2010-12-08 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 炭酸ガスレーザーによる孔あけ用補助シート |
US7251884B2 (en) * | 2004-04-26 | 2007-08-07 | Formfactor, Inc. | Method to build robust mechanical structures on substrate surfaces |
DE102005062604A1 (de) * | 2005-12-27 | 2007-07-05 | Robert Bosch Gmbh | Verfahren zur Herstellung eines elektronischen Schaltungsträgers, Veredelungsvorrichtung eines elektronischen Schaltungsträgers sowie Schaltungsträger |
JP2009076699A (ja) * | 2007-09-20 | 2009-04-09 | Fujikura Ltd | 多層プリント配線板の製造方法 |
JP5173358B2 (ja) * | 2007-10-31 | 2013-04-03 | 東邦テナックス株式会社 | 保護フィルム付プリプレグ |
JPWO2010113448A1 (ja) * | 2009-04-02 | 2012-10-04 | パナソニック株式会社 | 回路基板の製造方法および回路基板 |
CN101976716A (zh) * | 2010-10-21 | 2011-02-16 | 光颉科技股份有限公司 | 基板通孔的导电方法 |
JP5110613B2 (ja) * | 2010-11-25 | 2012-12-26 | 東洋アルミ千葉株式会社 | 樹脂ベース基板用離型材およびその製造方法 |
TWI489342B (zh) * | 2012-12-26 | 2015-06-21 | Ind Tech Res Inst | 凹版轉印組合物及凹版轉印製程 |
JP6431649B1 (ja) * | 2017-07-13 | 2018-11-28 | 株式会社寺岡製作所 | 多層マスキングシート |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1478341A (en) * | 1973-06-07 | 1977-06-29 | Hitachi Chemical Co Ltd | Printed circuit board and method of making the same |
US4915983A (en) * | 1985-06-10 | 1990-04-10 | The Foxboro Company | Multilayer circuit board fabrication process |
US4642160A (en) * | 1985-08-12 | 1987-02-10 | Interconnect Technology Inc. | Multilayer circuit board manufacturing |
JP2601128B2 (ja) * | 1992-05-06 | 1997-04-16 | 松下電器産業株式会社 | 回路形成用基板の製造方法および回路形成用基板 |
US5358604A (en) * | 1992-09-29 | 1994-10-25 | Microelectronics And Computer Technology Corp. | Method for producing conductive patterns |
JP2768236B2 (ja) | 1993-10-08 | 1998-06-25 | 松下電器産業株式会社 | 多層基板の製造方法 |
US5505321A (en) * | 1994-12-05 | 1996-04-09 | Teledyne Industries, Inc. | Fabrication multilayer combined rigid/flex printed circuit board |
JP3400164B2 (ja) * | 1995-01-23 | 2003-04-28 | 三井金属鉱業株式会社 | 多層プリント配線板およびその製造方法 |
US5902438A (en) * | 1997-08-13 | 1999-05-11 | Fry's Metals, Inc. | Process for the formation of anisotropic conducting material |
US6120693A (en) * | 1998-11-06 | 2000-09-19 | Alliedsignal Inc. | Method of manufacturing an interlayer via and a laminate precursor useful for same |
US6163957A (en) * | 1998-11-13 | 2000-12-26 | Fujitsu Limited | Multilayer laminated substrates with high density interconnects and methods of making the same |
JP3344363B2 (ja) * | 1999-05-18 | 2002-11-11 | 松下電器産業株式会社 | マスクフィルムとその製造方法およびそれを用いた回路基板の製造方法 |
JP3903701B2 (ja) * | 2000-08-17 | 2007-04-11 | 松下電器産業株式会社 | 多層回路基板とその製造方法 |
-
1999
- 1999-05-18 JP JP13672199A patent/JP3344363B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2000
- 2000-04-26 TW TW089107884A patent/TW491010B/zh not_active IP Right Cessation
- 2000-05-17 CN CNB001089269A patent/CN1205845C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2000-05-18 EP EP00110617A patent/EP1054582B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2000-05-18 DE DE60030908T patent/DE60030908T2/de not_active Expired - Lifetime
- 2000-05-18 US US09/573,826 patent/US6694612B1/en not_active Expired - Fee Related
-
2003
- 2003-01-09 US US10/338,642 patent/US7066344B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE60030908D1 (de) | 2006-11-09 |
US7066344B2 (en) | 2006-06-27 |
CN1274257A (zh) | 2000-11-22 |
US20030153197A1 (en) | 2003-08-14 |
TW491010B (en) | 2002-06-11 |
DE60030908T2 (de) | 2007-01-04 |
US6694612B1 (en) | 2004-02-24 |
EP1054582A3 (en) | 2005-09-07 |
JP2000332375A (ja) | 2000-11-30 |
CN1205845C (zh) | 2005-06-08 |
EP1054582A2 (en) | 2000-11-22 |
EP1054582B1 (en) | 2006-09-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3344363B2 (ja) | マスクフィルムとその製造方法およびそれを用いた回路基板の製造方法 | |
JP2009105446A (ja) | 多層プリント配線板の製造法 | |
US20020016018A1 (en) | Method of manufacturing multi-layer printed wiring board | |
JP2012015562A (ja) | 回路基板の製造方法 | |
WO2005072037A1 (ja) | 回路形成基板の製造方法および回路形成基板の製造用材料 | |
JP2002064269A (ja) | 多層回路基板とその製造方法 | |
WO2002034023A1 (fr) | Procede de production d"une carte de circuits imprimes, carte de circuits imprimes, et materiau pour carte de circuits imprimes | |
JP2874581B2 (ja) | 回路基板の製造方法 | |
JP2768236B2 (ja) | 多層基板の製造方法 | |
JPH05191046A (ja) | 多層プリント基板の製法 | |
JP2991032B2 (ja) | 多層基板の製造方法 | |
JP5287075B2 (ja) | 回路基板の製造方法 | |
JP3102109B2 (ja) | 多層プリント配線板の製造方法 | |
JPH10163603A (ja) | 回路基板の製造方法および回路基板の製造装置 | |
JP2818361B2 (ja) | 多層プリント配線板の製造方法 | |
JPH05283862A (ja) | 積層プリント基板の製造方法 | |
JPH1117295A (ja) | 回路基板用プリプレグの製造方法と回路基板用プリプレグおよびその回路基板用プリプレグを用いた回路基板の製造方法 | |
JP3654279B2 (ja) | 回路基板および回路基板への印刷方法 | |
JP2000228581A (ja) | 接着フィルムの真空積層法 | |
JPH07221440A (ja) | フレキシブル配線板とその製造方法 | |
JPH04165690A (ja) | 片面銅張積層板の製造方法 | |
JP2002144432A (ja) | プラスチックフィルム接着方法 | |
JPH01287989A (ja) | プリントの配線板の製造方法 | |
JP5287074B2 (ja) | 剥離きっかけ形成装置およびそれを用いた剥離きっかけ形成方法 | |
JP2002094233A (ja) | 回路基板の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20070830 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080830 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080830 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090830 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090830 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100830 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110830 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110830 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120830 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130830 Year of fee payment: 11 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |