JP3297929B2 - 陰極線管の蛍光面の形成方法 - Google Patents
陰極線管の蛍光面の形成方法Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、陰極線管の蛍光面の形
成方法に関する。
成方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、高コントラストのカラー陰極線管
としては、例えば陰極線管体を構成するガラスパネル、
即ち、内面に蛍光体層を有するパネルを光透過率が４０
〜４５％程度のダークガラスで形成したカラー陰極線
管、或は、蛍光体粒子の表面にその蛍光体の発光色と同
色の顔料を付着させた所謂顔料付き蛍光体を用いてパネ
ル内面に蛍光面を形成したカラー陰極線管等が知られて
いる。
としては、例えば陰極線管体を構成するガラスパネル、
即ち、内面に蛍光体層を有するパネルを光透過率が４０
〜４５％程度のダークガラスで形成したカラー陰極線
管、或は、蛍光体粒子の表面にその蛍光体の発光色と同
色の顔料を付着させた所謂顔料付き蛍光体を用いてパネ
ル内面に蛍光面を形成したカラー陰極線管等が知られて
いる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ところで、前者のダー
クガラスでパネルを形成したカラー陰極線管において
は、ダークガラスによって外光を吸収するため、コント
ラストを向上させることができるが、しかし、同時に蛍
光面からの発光もダークガラスのパネルによって吸収さ
れるので、輝度が低下する。
クガラスでパネルを形成したカラー陰極線管において
は、ダークガラスによって外光を吸収するため、コント
ラストを向上させることができるが、しかし、同時に蛍
光面からの発光もダークガラスのパネルによって吸収さ
れるので、輝度が低下する。
【０００４】また、後者の顔料付き蛍光体を用いて蛍光
面を形成したカラー陰極線管では、顔料により外光を吸
収するためコントラストの向上が図れるが、しかし、こ
の場合、蛍光体粒子が幾層（例えば３〜４層）か積み重
なって蛍光面が形成されるので、蛍光体粒子からの発光
の一部が顔料に吸収されることになり、輝度が１０〜１
５％程度低下する。
面を形成したカラー陰極線管では、顔料により外光を吸
収するためコントラストの向上が図れるが、しかし、こ
の場合、蛍光体粒子が幾層（例えば３〜４層）か積み重
なって蛍光面が形成されるので、蛍光体粒子からの発光
の一部が顔料に吸収されることになり、輝度が１０〜１
５％程度低下する。
【０００５】本発明は、上述の点に鑑み、コントラスト
及び輝度が共に向上した陰極線管の蛍光面の形成方法を
提供するものである。
及び輝度が共に向上した陰極線管の蛍光面の形成方法を
提供するものである。
【０００６】
【０００７】
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明は、蛍光体層及び
色フィルタ層からなる陰極線管の蛍光面の形成方法にお
いて、陰極線管のパネル１内面に所定位置を除いて第１
の感光液によるレジスト膜３Ａを形成する工程と、顔料
を第２の感光液に分散してなる懸濁液を塗布してパネル
１内面にレジスト膜３Ａを覆って色フィルタ用塗膜４を
形成する工程と、所定位置の色フィルタ用塗膜４に対し
てパネル１の外面より露光する工程と、反転剤にてレジ
スト膜３Ａを分解し、反転現像して所定位置に色フィル
タ層４Ｒ，４Ｇ，４Ｂを形成する工程を有する。
色フィルタ層からなる陰極線管の蛍光面の形成方法にお
いて、陰極線管のパネル１内面に所定位置を除いて第１
の感光液によるレジスト膜３Ａを形成する工程と、顔料
を第２の感光液に分散してなる懸濁液を塗布してパネル
１内面にレジスト膜３Ａを覆って色フィルタ用塗膜４を
形成する工程と、所定位置の色フィルタ用塗膜４に対し
てパネル１の外面より露光する工程と、反転剤にてレジ
スト膜３Ａを分解し、反転現像して所定位置に色フィル
タ層４Ｒ，４Ｇ，４Ｂを形成する工程を有する。
【０００９】また、本発明は、蛍光体層及び色フィルタ
層からなる陰極線管の蛍光面の形成方法において、パネ
ル１内面に所定位置を除いてポリビニルアルコール（Ｐ
ＶＡ）−重クロム酸アンモニウム（ＡＤＣ）系感光液に
よるレジスト膜３Ａを形成する工程と、所定の顔料をポ
リビニルアルコール（ＰＶＡ）−スチルバゾリウム（Ｓ
ＢＱ）系感光液に分散してなる懸濁液を塗布してパネル
１内面にレジスト膜３Ａを覆って色フィルタ用塗膜４を
形成する工程と、上記所定位置の色フィルタ用塗膜４に
対してパネルの外面より露光する工程と、過酸化水素水
によりレジスト膜３Ａを分解し、反転現像して所望の色
フィルタ層４Ｇを形成する工程と、この色フィルタ層４
Ｇをタンニン酸溶液で硬膜処理する工程と、アンモニア
水溶液で中和処理する工程を有し、上記工程を繰返して
他の所定位置に他の色フィルタ層４Ｂ，４Ｒを形成する
ようになす。
層からなる陰極線管の蛍光面の形成方法において、パネ
ル１内面に所定位置を除いてポリビニルアルコール（Ｐ
ＶＡ）−重クロム酸アンモニウム（ＡＤＣ）系感光液に
よるレジスト膜３Ａを形成する工程と、所定の顔料をポ
リビニルアルコール（ＰＶＡ）−スチルバゾリウム（Ｓ
ＢＱ）系感光液に分散してなる懸濁液を塗布してパネル
１内面にレジスト膜３Ａを覆って色フィルタ用塗膜４を
形成する工程と、上記所定位置の色フィルタ用塗膜４に
対してパネルの外面より露光する工程と、過酸化水素水
によりレジスト膜３Ａを分解し、反転現像して所望の色
フィルタ層４Ｇを形成する工程と、この色フィルタ層４
Ｇをタンニン酸溶液で硬膜処理する工程と、アンモニア
水溶液で中和処理する工程を有し、上記工程を繰返して
他の所定位置に他の色フィルタ層４Ｂ，４Ｒを形成する
ようになす。
【００１０】色フィルタ層４Ｒ，４Ｇ，４Ｂを形成した
後は、通常の方法を用いて色フィルタ層４Ｒ，４Ｇ，４
Ｂ上に対応する色の蛍光体層９Ｒ，９Ｇ，９Ｂを形成
し、蛍光面１０を形成する。
後は、通常の方法を用いて色フィルタ層４Ｒ，４Ｇ，４
Ｂ上に対応する色の蛍光体層９Ｒ，９Ｇ，９Ｂを形成
し、蛍光面１０を形成する。
【００１１】
【作用】陰極線管において、パネル１内面に蛍光体層９
Ｒ，９Ｇ，９Ｂ及び色フィルタ層４Ｒ，４Ｇ，４Ｂから
なり、その色フィルタ層４Ｒ，４Ｇ，４Ｂを蛍光体層９
Ｒ，９Ｇ，９Ｂとパネル１内面間に設けた蛍光面１０を
形成することにより、外光が色フィルタ層４Ｒ，４Ｇ，
４Ｂにて吸収され、より色が鮮明になり高コントラスト
が得られる。そして、パネル１として光透過率の高いガ
ラスで形成することができると共に、色フィルタ層４
Ｒ，４Ｇ，４Ｂ自体薄く形成でき、且つ蛍光体の量が多
くなるので、蛍光体層９Ｒ，９Ｇ，９Ｂからの発光の吸
収が低減し、輝度が向上する。
Ｒ，９Ｇ，９Ｂ及び色フィルタ層４Ｒ，４Ｇ，４Ｂから
なり、その色フィルタ層４Ｒ，４Ｇ，４Ｂを蛍光体層９
Ｒ，９Ｇ，９Ｂとパネル１内面間に設けた蛍光面１０を
形成することにより、外光が色フィルタ層４Ｒ，４Ｇ，
４Ｂにて吸収され、より色が鮮明になり高コントラスト
が得られる。そして、パネル１として光透過率の高いガ
ラスで形成することができると共に、色フィルタ層４
Ｒ，４Ｇ，４Ｂ自体薄く形成でき、且つ蛍光体の量が多
くなるので、蛍光体層９Ｒ，９Ｇ，９Ｂからの発光の吸
収が低減し、輝度が向上する。
【００１２】一方、蛍光面、従ってその色フィルタ層４
Ｒ，４Ｇ，４Ｂの形成においては、パネル１外面よりの
露光により、パネル１との界面での塗膜４が十分架橋
し、色フィルタ層４Ｒ，４Ｇ，４Ｂのパネル１内面との
接着強度が十分得られる。従って、色フィルタ層４Ｒ，
４Ｇ，４Ｂのゆるみ不良は発生しない。
Ｒ，４Ｇ，４Ｂの形成においては、パネル１外面よりの
露光により、パネル１との界面での塗膜４が十分架橋
し、色フィルタ層４Ｒ，４Ｇ，４Ｂのパネル１内面との
接着強度が十分得られる。従って、色フィルタ層４Ｒ，
４Ｇ，４Ｂのゆるみ不良は発生しない。
【００１３】また、反転現像を利用して色フィルタ層４
Ｒ，４Ｇ，４Ｂを形成するので、一度の懸濁液の塗布で
所望の光学特性（即ち透過特性及び反射特性）を有する
色フィルタ層が得られる。
Ｒ，４Ｇ，４Ｂを形成するので、一度の懸濁液の塗布で
所望の光学特性（即ち透過特性及び反射特性）を有する
色フィルタ層が得られる。
【００１４】さらに、第１の感光液としてＰＶＡ−ＡＤ
Ｃ系感光液を用い、第２の感光液としてＰＶＡ−ＳＢＱ
系感光液を用いることにより、反転剤である過酸化水素
水に対してＰＶＡ−ＡＤＣ系のレジスト膜のみ分解さ
れ、顔料を分散したＰＶＡ−ＳＢＱ系の塗膜は分解され
ない。従って良好な反転現像が行える。
Ｃ系感光液を用い、第２の感光液としてＰＶＡ−ＳＢＱ
系感光液を用いることにより、反転剤である過酸化水素
水に対してＰＶＡ−ＡＤＣ系のレジスト膜のみ分解さ
れ、顔料を分散したＰＶＡ−ＳＢＱ系の塗膜は分解され
ない。従って良好な反転現像が行える。
【００１５】また色フィルタ層４Ｒ，４Ｇ，４Ｂを形成
した後、タンニン酸溶液で硬膜処理することで、色フィ
ルタ層４Ｒ，４Ｇ，４Ｂの膜強度を大とし、その後、ア
ンモニア水溶液で中和処理することにより、爾後色フィ
ルタ層４Ｒ，４Ｇ，４Ｂ上に形成する蛍光体層９Ｒ，９
Ｇ，９Ｂに対し、酸の影響をなくし、変色を回避するこ
とができる。
した後、タンニン酸溶液で硬膜処理することで、色フィ
ルタ層４Ｒ，４Ｇ，４Ｂの膜強度を大とし、その後、ア
ンモニア水溶液で中和処理することにより、爾後色フィ
ルタ層４Ｒ，４Ｇ，４Ｂ上に形成する蛍光体層９Ｒ，９
Ｇ，９Ｂに対し、酸の影響をなくし、変色を回避するこ
とができる。
【００１６】
【実施例】以下、図面を参照して本発明の実施例を説明
する。
する。
【００１７】本例においては、図１に示すように、光透
過率が高い（例えば９０％程度）ガラスにて陰極線管体
のパネル１を形成し、このパネル１の内面に所定パター
ンの光吸収層例えば黒色ストライプ２を形成し、各対応
する黒色ストライプ２間に微粒子無機顔料を含む色フィ
ルタ層例えば緑色フィルタストライプ４Ｇ、青色フィル
タストライプ４Ｂ及び赤色フィルタストライプ４Ｒを被
着形成すると共に、各色フィルタストライプ４Ｇ，４Ｂ
及び４Ｒ上に夫々同色で発光する蛍光体層、例えば緑色
蛍光体ストライプ９Ｇ、青色蛍光体ストライプ９Ｂ及び
赤色蛍光体ストライプ９Ｒを形成し、この各色蛍光体ス
トライプ９Ｇ，９Ｂ，９Ｒとその下の各色フィルタスト
ライプ４Ｇ，４Ｂ，４Ｒにてカラー蛍光面１０を形成し
てカラー陰極線管１１を構成する。
過率が高い（例えば９０％程度）ガラスにて陰極線管体
のパネル１を形成し、このパネル１の内面に所定パター
ンの光吸収層例えば黒色ストライプ２を形成し、各対応
する黒色ストライプ２間に微粒子無機顔料を含む色フィ
ルタ層例えば緑色フィルタストライプ４Ｇ、青色フィル
タストライプ４Ｂ及び赤色フィルタストライプ４Ｒを被
着形成すると共に、各色フィルタストライプ４Ｇ，４Ｂ
及び４Ｒ上に夫々同色で発光する蛍光体層、例えば緑色
蛍光体ストライプ９Ｇ、青色蛍光体ストライプ９Ｂ及び
赤色蛍光体ストライプ９Ｒを形成し、この各色蛍光体ス
トライプ９Ｇ，９Ｂ，９Ｒとその下の各色フィルタスト
ライプ４Ｇ，４Ｂ，４Ｒにてカラー蛍光面１０を形成し
てカラー陰極線管１１を構成する。
【００１８】次に、上記のカラー蛍光面１０の形成方法
を説明する。
を説明する。
【００１９】先ず、図２Ａに示すように、パネル１の内
面に所定パターンの黒色ストライプ（光吸収層）２を形
成する。この黒色ストライプ２の形成は次のようにして
行う。パネル１内面に例えばポリビニルアルコール（Ｐ
ＶＡ）と重クロム酸アンモニウム（ＡＤＣ）による感光
膜を塗布し、乾燥後、色選別電極を光学マスクとして紫
外線露光し（この場合、光源位置を相対的に変えて赤、
緑、青に対応した３回露光を行う）、水洗等で現像処理
して各色に対応した位置にストライプ状のレジスト層を
形成する。、次いで、レジスト層を含む前面にカーボン
スラリーを塗布し、乾燥後、反転現像して（即ち、レジ
スト層と共にその上のカーボン層を除去して）、所定パ
ターンのカーボンストライプ即ち黒色ストライプ２を形
成する。
面に所定パターンの黒色ストライプ（光吸収層）２を形
成する。この黒色ストライプ２の形成は次のようにして
行う。パネル１内面に例えばポリビニルアルコール（Ｐ
ＶＡ）と重クロム酸アンモニウム（ＡＤＣ）による感光
膜を塗布し、乾燥後、色選別電極を光学マスクとして紫
外線露光し（この場合、光源位置を相対的に変えて赤、
緑、青に対応した３回露光を行う）、水洗等で現像処理
して各色に対応した位置にストライプ状のレジスト層を
形成する。、次いで、レジスト層を含む前面にカーボン
スラリーを塗布し、乾燥後、反転現像して（即ち、レジ
スト層と共にその上のカーボン層を除去して）、所定パ
ターンのカーボンストライプ即ち黒色ストライプ２を形
成する。
【００２０】次に、図２Ｂに示すように、全面に第１の
感光液本例ではＰＶＡ−ＡＤＣ系感光液を塗布し、乾燥
してＰＶＡ−ＡＤＣ系感光膜３を形成する。
感光液本例ではＰＶＡ−ＡＤＣ系感光液を塗布し、乾燥
してＰＶＡ−ＡＤＣ系感光膜３を形成する。
【００２１】次に、図２Ｃに示すように、色選別電極を
光学マスクとして、青及び赤の位置の感光膜３に対して
紫外線露光し、温水で現像を行って緑の位置を除いて他
の青及び赤の位置にマスキング用のレジスト膜３Ａを形
成する。
光学マスクとして、青及び赤の位置の感光膜３に対して
紫外線露光し、温水で現像を行って緑の位置を除いて他
の青及び赤の位置にマスキング用のレジスト膜３Ａを形
成する。
【００２２】次に、第２の感光液、本例ではＰＶＡ−Ｓ
ＢＱ系感光液に微粒子無機緑色顔料を分散してなる下記
組成で示す懸濁液（スラリー）を全面塗布し、図３Ｄに
示すように緑色フィルタ用の塗膜４を形成する。
ＢＱ系感光液に微粒子無機緑色顔料を分散してなる下記
組成で示す懸濁液（スラリー）を全面塗布し、図３Ｄに
示すように緑色フィルタ用の塗膜４を形成する。
【００２３】 組成 緑色顔料（ＴｉＯ 2 ・ＺｎＯ・ＣｏＯ・ＮｉＯ） ５．０重量％ 〔商品名ダイピロキサイドＴＭグリーン＃３３２０：大日精化工業（株）製〕 有機系感光剤（ＰＶＡ−ＳＢＱ系） ３．０重量％ 〔商品名ＫＩＰ：王子化工（株）製〕 界面活性剤 ０．１重量％ 水 ８１．７重量％
【００２４】次に、図３Ｅに示すように、パネル１内面
より、色選別電極５を光学マスクとして緑の位置に対応
する塗膜４を紫外線露光する。いわゆる内面露光６を行
う。
より、色選別電極５を光学マスクとして緑の位置に対応
する塗膜４を紫外線露光する。いわゆる内面露光６を行
う。
【００２５】さらに、図３Ｆに示すように、黒色ストラ
イプ２をマスクに緑の位置の塗膜４に対してパネル１の
外面より紫外線露光する。いわゆる外面露光７を行う。
この外面露光７で塗膜４とパネル１との接着性が向上す
る。
イプ２をマスクに緑の位置の塗膜４に対してパネル１の
外面より紫外線露光する。いわゆる外面露光７を行う。
この外面露光７で塗膜４とパネル１との接着性が向上す
る。
【００２６】次いで、未露光部分を温水でリンスする。
【００２７】次に、過酸化水素水（Ｈ2 Ｏ2 １０重量
％）でＰＶＡ−ＡＤＣ系のレジスト膜３Ａを分解し、続
いて温水による反転現像を行って図４Ｇに示すように、
パネル１内面に接した緑色フィルタ層、即ち緑色フィル
タストライプ４Ｇを形成する。
％）でＰＶＡ−ＡＤＣ系のレジスト膜３Ａを分解し、続
いて温水による反転現像を行って図４Ｇに示すように、
パネル１内面に接した緑色フィルタ層、即ち緑色フィル
タストライプ４Ｇを形成する。
【００２８】次に、図４Ｈに示すように、タンニン酸
０．１重量％溶液で緑色フィルタストライプ４Ｇに対す
る硬膜処理８を施す。
０．１重量％溶液で緑色フィルタストライプ４Ｇに対す
る硬膜処理８を施す。
【００２９】次に、アンモニア水溶液（アンモニア１．
０重量％）で硬膜処理後の中和処理を施す。次いで、緑
色フィルタストライプ５Ｇを温水でリンスする。このよ
うにして緑色フィルタストライプ４Ｇを形成する。
０重量％）で硬膜処理後の中和処理を施す。次いで、緑
色フィルタストライプ５Ｇを温水でリンスする。このよ
うにして緑色フィルタストライプ４Ｇを形成する。
【００３０】以下、同様の工程（図２Ｂの工程から図４
Ｈの工程）を繰返して図４Ｉに示すように、青の位置に
青色フィルタストライプ４Ｂを形成し、さらに、図５Ｊ
に示すように、赤の位置に赤色フィルタストライプ４Ｒ
を形成する。
Ｈの工程）を繰返して図４Ｉに示すように、青の位置に
青色フィルタストライプ４Ｂを形成し、さらに、図５Ｊ
に示すように、赤の位置に赤色フィルタストライプ４Ｒ
を形成する。
【００３１】青色フィルタストライプ４Ｂに用いる微粒
子無機青色顔料としては、例えば商品名ダイピロキサイ
ドＴＭブルー＃３４１０（ＣｏＯ・Ａｌ 2 Ｏ 3 ）を用い
ることができる。
子無機青色顔料としては、例えば商品名ダイピロキサイ
ドＴＭブルー＃３４１０（ＣｏＯ・Ａｌ 2 Ｏ 3 ）を用い
ることができる。
【００３２】赤色フィルタストライプ４Ｒに用いる微粒
子無機赤色顔料としては、酸化第２鉄（透明弁柄）、Ｃ
ｄ（Ｓ，Ｓｅ）等を用いることができる。
子無機赤色顔料としては、酸化第２鉄（透明弁柄）、Ｃ
ｄ（Ｓ，Ｓｅ）等を用いることができる。
【００３３】次に、図５Ｋに示すように、通常のスラリ
ー法によって、緑色フィルタストライプ４Ｇ、青色フィ
ルタストライプ４Ｂ及び赤色フィルタストライプ４Ｒ上
に夫々同色の緑色蛍光体ストライプ９Ｇ、青色蛍光体ス
トライプ９Ｂ及び赤色蛍光体ストライプ９Ｒを形成す
る。しかる後、図示せざるも中間膜であるアクリル層を
塗布し、Ａｌ等によるメタルバック層を形成する。斯く
して、図１に示すように、所定パターンの黒色ストライ
プ２を有するパネル１内面に各色フィルタストライプ４
Ｇ，４Ｂ，４Ｒと各色蛍光体ストライプ９Ｇ，９Ｂ，９
Ｒの積層体による蛍光面１０を形成してなる目的のカラ
ー陰極線管１１を得る。
ー法によって、緑色フィルタストライプ４Ｇ、青色フィ
ルタストライプ４Ｂ及び赤色フィルタストライプ４Ｒ上
に夫々同色の緑色蛍光体ストライプ９Ｇ、青色蛍光体ス
トライプ９Ｂ及び赤色蛍光体ストライプ９Ｒを形成す
る。しかる後、図示せざるも中間膜であるアクリル層を
塗布し、Ａｌ等によるメタルバック層を形成する。斯く
して、図１に示すように、所定パターンの黒色ストライ
プ２を有するパネル１内面に各色フィルタストライプ４
Ｇ，４Ｂ，４Ｒと各色蛍光体ストライプ９Ｇ，９Ｂ，９
Ｒの積層体による蛍光面１０を形成してなる目的のカラ
ー陰極線管１１を得る。
【００３４】かかるカラー陰極線管１１によれば、蛍光
面１０を構成する各色蛍光体ストライプ９Ｇ，９Ｂ，９
Ｒとパネル１内面との間に同色の色フィルタストライプ
４Ｇ，４Ｂ，４Ｒが設けられるので、外光がこの色フィ
ルタストライプ４Ｇ，４Ｂ，４Ｒにより吸収され、高コ
ントラストのカラー画像が得られる。同時に、パネル１
を光透過率の高いガラス例えば光透過率９０％程度のガ
ラスで形成できると共に、色フィルタストライプ４Ｇ，
４Ｂ，４Ｒ自体膜厚が薄いので、各色蛍光体ストライプ
９Ｇ，９Ｂ，９Ｒの発光の吸収が少なく、且つ色フィル
タストライプ４Ｇ，４Ｂ，４Ｒが薄い分、蛍光体の量が
多くなり、之等の相乗効果で、従来に比して輝度を向上
することができる。
面１０を構成する各色蛍光体ストライプ９Ｇ，９Ｂ，９
Ｒとパネル１内面との間に同色の色フィルタストライプ
４Ｇ，４Ｂ，４Ｒが設けられるので、外光がこの色フィ
ルタストライプ４Ｇ，４Ｂ，４Ｒにより吸収され、高コ
ントラストのカラー画像が得られる。同時に、パネル１
を光透過率の高いガラス例えば光透過率９０％程度のガ
ラスで形成できると共に、色フィルタストライプ４Ｇ，
４Ｂ，４Ｒ自体膜厚が薄いので、各色蛍光体ストライプ
９Ｇ，９Ｂ，９Ｒの発光の吸収が少なく、且つ色フィル
タストライプ４Ｇ，４Ｂ，４Ｒが薄い分、蛍光体の量が
多くなり、之等の相乗効果で、従来に比して輝度を向上
することができる。
【００３５】一方、各色フィルタストライプ４Ｇ，４
Ｂ，４Ｒの形成において、ＰＶＡ−ＳＢＱ系感光液に微
粒子無機顔料を分散した懸濁液をパネル１内面に塗布し
た後、その塗膜４に対してパネル１内面より紫外線露光
（内面露光力）し、更に、パネル１外面より紫外線露光
（外面露光７）するので、各色フィルタストライプ４
Ｇ，４Ｂ，４Ｒとパネル１内面の密着強度が十分に得ら
れる。また、一度の塗布で所定の光学特性、即ち透過特
性及び反射特性を有する各色フィルタストライプ４Ｇ，
４Ｂ，４Ｒを形成することができる。
Ｂ，４Ｒの形成において、ＰＶＡ−ＳＢＱ系感光液に微
粒子無機顔料を分散した懸濁液をパネル１内面に塗布し
た後、その塗膜４に対してパネル１内面より紫外線露光
（内面露光力）し、更に、パネル１外面より紫外線露光
（外面露光７）するので、各色フィルタストライプ４
Ｇ，４Ｂ，４Ｒとパネル１内面の密着強度が十分に得ら
れる。また、一度の塗布で所定の光学特性、即ち透過特
性及び反射特性を有する各色フィルタストライプ４Ｇ，
４Ｂ，４Ｒを形成することができる。
【００３６】因みに塗膜４に対して、内面露光６のみの
場合、架橋に必要な光（紫外線）が顔料自体に吸収さ
れ、塗膜４のパネル１との接着面への紫外線透過量が減
少し、色フィルタストライプ４Ｇ，４Ｂ，４Ｒのゆるみ
不良が発生する。このため、顔料濃度を下げ、多数回塗
布しなければ所定の透過特性及び反射特性を有する色フ
ィルタストライプが得られない。之に対し、本例では上
述したように、かかる点が改善され、パネル１との密着
性が強く、且つ１度の塗布工程で光学特性に優れた色フ
ィルタストライプ４Ｇ，４Ｂ，４Ｒを形成することがで
きる。
場合、架橋に必要な光（紫外線）が顔料自体に吸収さ
れ、塗膜４のパネル１との接着面への紫外線透過量が減
少し、色フィルタストライプ４Ｇ，４Ｂ，４Ｒのゆるみ
不良が発生する。このため、顔料濃度を下げ、多数回塗
布しなければ所定の透過特性及び反射特性を有する色フ
ィルタストライプが得られない。之に対し、本例では上
述したように、かかる点が改善され、パネル１との密着
性が強く、且つ１度の塗布工程で光学特性に優れた色フ
ィルタストライプ４Ｇ，４Ｂ，４Ｒを形成することがで
きる。
【００３７】また、本例では、ＰＶＡ−ＡＤＣ系のマス
キング用のレジスト膜３Ａを使用して反転現像で各色フ
ィルタストライプ４Ｇ，４Ｂ，４Ｒを形成するので、所
定の顔料の上への他の顔料のかぶり不良を低減すること
ができる。
キング用のレジスト膜３Ａを使用して反転現像で各色フ
ィルタストライプ４Ｇ，４Ｂ，４Ｒを形成するので、所
定の顔料の上への他の顔料のかぶり不良を低減すること
ができる。
【００３８】そして、特に、顔料を分散する感光液とし
てＰＶＡ−ＳＢＱ系感光液を使用し、マスキング用のレ
ジスト膜３Ａの感光液としてＰＶＡ−ＡＤＣ系感光液を
用いることにより、反転剤であるＨ2 Ｏ2 液による反転
処理時、ＰＶＡ−ＳＢＱ系は分解されず、ＰＶＡ−ＡＤ
Ｃ系のみが分解され、良好な反転現像を行うことができ
る。
てＰＶＡ−ＳＢＱ系感光液を使用し、マスキング用のレ
ジスト膜３Ａの感光液としてＰＶＡ−ＡＤＣ系感光液を
用いることにより、反転剤であるＨ2 Ｏ2 液による反転
処理時、ＰＶＡ−ＳＢＱ系は分解されず、ＰＶＡ−ＡＤ
Ｃ系のみが分解され、良好な反転現像を行うことができ
る。
【００３９】さらに、反転現像後、タンニン酸溶液で処
理することにより、色フィルタストライプ４Ｇ，４Ｂ，
４Ｒの膜強度が上がる。次いでアンモニア水溶液で酸を
中和することによって、爾後形成される蛍光体ストライ
プに対して変色の発生を回避することができる。
理することにより、色フィルタストライプ４Ｇ，４Ｂ，
４Ｒの膜強度が上がる。次いでアンモニア水溶液で酸を
中和することによって、爾後形成される蛍光体ストライ
プに対して変色の発生を回避することができる。
【００４０】尚、上例では塗膜４に対する紫外線露光と
して、内面露光６と外面露光７を組合せたが、その他、
外面露光７のみでも可能である。
して、内面露光６と外面露光７を組合せたが、その他、
外面露光７のみでも可能である。
【００４１】上例では蛍光体ストライプの蛍光面を有す
るカラー陰極線管に適用したが、その他、蛍光体ドット
の蛍光面を有するカラー陰極線管にも適用できる。
るカラー陰極線管に適用したが、その他、蛍光体ドット
の蛍光面を有するカラー陰極線管にも適用できる。
【００４２】また、上例ではカラー陰極線管に適用した
が、その他、プロジェクター用の単色陰極線管の蛍光面
にも本発明は適用できる。
が、その他、プロジェクター用の単色陰極線管の蛍光面
にも本発明は適用できる。
【００４３】
【発明の効果】本発明によれば、蛍光面を蛍光体層と色
フィルタ層で形成することにより、高コントラスで且高
輝度の陰極線管を提供することができる。また、この蛍
光面の一部を構成する色フィルタ層を所定の光学特性を
有し、且つパネル内面との密着強度を強くして形成する
ことができる。従って、信頼性の高いこの種の陰極線管
を製造することができる。
フィルタ層で形成することにより、高コントラスで且高
輝度の陰極線管を提供することができる。また、この蛍
光面の一部を構成する色フィルタ層を所定の光学特性を
有し、且つパネル内面との密着強度を強くして形成する
ことができる。従って、信頼性の高いこの種の陰極線管
を製造することができる。
【図１】本発明に係る陰極線管の実施例を示す要部の断
面図である。
面図である。
【図２】本発明に係る蛍光面の形成方法の工程図（その
１）である。
１）である。
【図３】本発明に係る蛍光面の形成方法の工程図（その
２）である。
２）である。
【図４】本発明に係る蛍光面の形成方法の工程図（その
３）である。
３）である。
【図５】本発明に係る蛍光面の形成方法の工程図（その
４）である。
４）である。
１ パネル ２ 黒色ストライプ ３ ＰＶＡ−ＡＤＣ系感光膜 ３Ａ レジスト膜 ４ 塗膜 ４Ｒ，４Ｇ，４Ｂ 色フィルタストライプ ５ 色選別電極 ６ 内面露光 ７ 外面露光 ８ 硬膜処理 ９Ｒ，９Ｇ，９Ｂ 蛍光体ストライプ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭52−77578（ＪＰ，Ａ) 特開 昭58−68834（ＪＰ，Ａ) 特開 昭53−45165（ＪＰ，Ａ) 特開 昭58−68835（ＪＰ，Ａ) 特開 昭58−147740（ＪＰ，Ａ) 特開 昭58−82246（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) H01J 9/227 H01J 29/18 H01J 29/89
Claims (2)
- 【請求項１】 蛍光体層及び色フィルタ層からなる陰極
線管の蛍光面の形成方法において、 陰極線管のパネル内面に所定位置を除いて第１の感光液
によるレジスト膜を形成する工程と、 顔料を第２の感光液に分散した懸濁液を塗布して上記パ
ネル内面に上記レジスト膜を覆って色フィルタ用塗膜を
形成する工程と、 上記所定位置の色フィルタ用塗膜に対して上記パネルの
外面より露光する工程と、 反転剤にて上記レジスト膜を分解し、反転現像して上記
所定位置に色フィルタ層を形成する工程を有することを
特徴とする陰極線管の蛍光面の形成方法。 - 【請求項２】 蛍光体層及び色フィルタ層からなる陰極
線管の蛍光面の形成方法において、 陰極線管のパネル内面に所定位置を除いてポリビニルア
ルコール−重クロム酸アンモニウム系感光液によるレジ
スト膜を形成する工程と、 所定の顔料をポリビニルアルコール−スチルバゾリウム
系感光液に分散してなる懸濁液を塗布して上記パネル内
面に上記レジスト膜を覆って色フィルタ用の塗膜を形成
する工程と、 上記所定位置の色フィルタ用塗膜に対して上記パネルの
外面より露光する工程と、 過酸化水素水により上記レジスト膜を分解し、反転現像
して上記所定位置に色フィルタ層を形成する工程と、 上記色フィルタ層をタンニン酸溶液で硬膜処理する工程
と、 アンモニア水溶液で中和処理する工程を有し、 上記工程を繰返して他の所定位置に他の色フィルタ層を
形成することを特徴とする陰極線管の蛍光面の形成方
法。
Priority Applications (6)
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|---|---|---|---|
| JP06757192A JP3297929B2 (ja) | 1992-03-25 | 1992-03-25 | 陰極線管の蛍光面の形成方法 |
| KR1019930002954A KR100242862B1 (ko) | 1992-03-25 | 1993-03-02 | 음극선관 및 그 형광면의 형성방법 |
| TW082102029A TW231362B (ja) | 1992-03-25 | 1993-03-19 | |
| US08/293,185 US5476737A (en) | 1992-03-25 | 1994-08-19 | method of forming a phosphor screen of a cathode ray tube |
| US08/430,144 US5914558A (en) | 1992-03-25 | 1995-04-26 | Cathode ray tube with color filters aligned with phosphors |
| US09/239,129 US6071657A (en) | 1992-03-25 | 1999-01-28 | Cathode ray tube and the method of the phosphor layer |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP06757192A JP3297929B2 (ja) | 1992-03-25 | 1992-03-25 | 陰極線管の蛍光面の形成方法 |
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| JPH05275006A JPH05275006A (ja) | 1993-10-22 |
| JP3297929B2 true JP3297929B2 (ja) | 2002-07-02 |
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ID=13348778
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| JP06757192A Expired - Fee Related JP3297929B2 (ja) | 1992-03-25 | 1992-03-25 | 陰極線管の蛍光面の形成方法 |
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| EP0720201B1 (en) * | 1994-12-26 | 1999-02-17 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Display screen and method of manufacturing the same |
| WO1998018147A1 (en) * | 1996-10-17 | 1998-04-30 | Philips Electronics N.V. | Method of manufacturing a color display device comprising color-filter layers |
| KR19980040892A (ko) * | 1996-11-30 | 1998-08-17 | 엄길용 | 칼라브라운관의 형광면 형성방법 |
| US6025097A (en) * | 1997-02-28 | 2000-02-15 | Candescent Technologies Corporation | Method for creating a color filter layer on a field emission display screen structure |
| JPH1140053A (ja) * | 1997-07-15 | 1999-02-12 | Nec Kansai Ltd | カラー陰極線管とその製造方法 |
| KR100278116B1 (ko) * | 1997-08-30 | 2001-01-15 | 김영남 | 건식 전자사진식 음극선관의 스크린 제조방법 및 그 음극선관 |
| WO1999034387A2 (en) * | 1997-12-29 | 1999-07-08 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Method of manufacturing a color display device and a color display device |
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| US4251610A (en) * | 1979-11-02 | 1981-02-17 | Tektronix, Inc. | Method of making multicolor CRT display screen with minimal phosphor contamination |
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-
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