JP3189886B2 - 半導体記憶装置 - Google Patents
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Description
関し、特に不良が発生したメモリセルアレイを置換する
冗長メモリセルアレイを有する半導体記憶装置に関す
る。
留まりを向上させるために、正規のメモリセルアレイの
他に予備のメモリセルアレイである冗長メモリセルアレ
イを予め用意しておき、半導体記憶装置の出荷前のテス
トにより不良と診断されたメモリセルアレイを冗長メモ
リセルアレイと置換して半導体記憶装置全体を良品とす
る方法が取られている。
メモリセルアレイを置換するには、予め設定されたアド
レス信号が入力されると冗長メモリセルアレイを動作状
態とする冗長デコーダに不良と診断されたメモリセルア
レイのアドレスをヒューズ素子をトリミングすることに
より設定して行う。
セルアレイを冗長メモリセルアレイにより置換する方法
を図4のフローチャートを用いて説明する。
われ(ステップ601)、正規メモリセルアレイ中に不
良が検出されなかった場合には、半導体記憶装置は良品
と判断される(ステップ604)。ステップ601にお
いて不良が検出された場合、上記で説明したように、ヒ
ューズ素子のトリミングが行われ、不良メモリセルアレ
イは冗長メモリセルアレイにより置換される(ステップ
602)。そして、冗長メモリセルアレイによる置換が
行われた後に、置換した冗長メモリセルアレイのテスト
が行われ(ステップ603)、不良が検出されれば半導
体記憶装置は不良品と判断され(ステップ605)、不
良が検出されなければ半導体記憶装置は良品と判断され
る(ステップ604)。
素子のトリミングを一度行うと元には戻せないため、置
換前に冗長メモリセルのテストを行うことができなかっ
た。それでも、冗長メモリセルアレイの数が少ない場合
には、置換した後のテストにおいて不良となる場合は少
なかった。しかし、近年の半導体記憶装置の大容量化に
伴い冗長メモリセルの数が増加することにより、置換し
た冗長メモリセルが不良であるという場合が発生し、冗
長メモリセルが他にも余っているにもかかわらず半導体
記憶装置は製品としては不良品となってしまうという問
題が発生していた。
ートにおいてステップ603において、置換した冗長メ
モリセルアレイが置換後に不良だと診断された場合に
は、半導体記憶装置全体が不良と判断されてしまう(ス
テップ605)。
開平7−226100号公報に記載されている。図5は
この従来の半導体記憶装置の構成を示したブロック図、
図7は図5中の冗長デコーダ15の回路図である。
モリセルアレイ11と、デコーダ12と、冗長メモリセ
ルアレイ14、冗長デコーダ15と、コントロール回路
13とを有している。
複数設けられているが、説明のために1つのみの場合で
説明する。
介して入力されたアドレス信号が設定されたアドレスと
同一と判定し、さらにデコード禁止信号106がロウレ
ベル(以下Lと称する。)の場合に、デコード信号10
4をハイレベル(以下Hと称する。)とする。
号104がHとなるとデータ信号線102を介して記憶
しているデータの出力またはデータ信号102を介して
伝達されたデータの記憶を行う。
5の動作を制御するための制御信号103a、103b
を冗長デコーダ15に出力する。
1を介して入力されたアドレス信号がヒューズ素子トリ
ミングにより設定されたアドレスと同一と判定すると、
デコード信号105をHとしデコード禁止信号106を
Hとする。そして、冗長デコーダ15の置換前のテスト
を行う際にアクティブとなるテスト信号110がアクテ
ィブとなると、アドレス信号に関係なくデコード信号1
05をHとしデコード禁止信号106をHとする。但
し、テスト信号110がHとなっても、制御信号103
a、103bの状態によってはデコード信号105、デ
コード禁止信号106がアクティブとならない場合もあ
る。
用いて説明する。
スタ201〜2016と、MOSトランジスタ21と、ヒ
ューズ素子221〜2216と、2入力ナンド回路20
4、205と、3入力ナンド回路202と、オア回路2
03とから構成されている。
が2つ存在する場合の動作について説明するため、2つ
の冗長デコーダ15、15aが存在しているものとして
説明する。そして、冗長デコーダ15aは、冗長デコー
ダ15と同じ構成となっている。
3aがLとなるとオンし節点201をHとする。
れている場合について説明する。アドレス信号はX1
T、X2T、・・X8Tにより構成されている。そし
て、アドレス信号と論理が反対である相補アドレス信号
は、X1N、X2N、・・X8Nにより構成されてい
る。ここで、X1TとX1N、X2TとX2N、・・、
X8TとX8Nはそれぞれ論理が逆となっている。
れぞれゲートにアドレス信号X1T〜X8T、X1N〜
X8Nがそれぞれ交互に入力され、ドレインがヒューズ
素子221〜2216を介して節点201に接続され、ソ
ースがグランドに接続されている。
信号と制御信号103bを演算してその演算結果を出力
する。3入力ナンド回路202は、制御信号103b、
テスト信号110、アドレス信号101dの演算を行い
その演算結果を出力する。2入力ナンド回路205は、
2入力ナンド回路204と3入力ナンド回路202の出
力信号との演算を行いその演算結果をデコード信号10
5として出力する。オア回路203は、デコード信号1
05と、冗長デコーダ15aから同様に出力されたデコ
ード信号105aの論理和を演算し、その演算結果をデ
コード禁止信号106として出力する。
4のテストを行う場合には、制御信号103b、アドレ
ス信号101d、テスト信号110を全てHとし、制御
信号103aをLとする。すると、先ず制御信号103
aがLであることによりMOSトランジスタ21がオン
し、節点201がHとなる。しかしヒューズ素子20 1
〜2016はまだどれも切断されていないので、アドレス
信号X1T〜X8Tがどのような信号であっても、アド
R>レス信号X1T〜X8Tまたはアドレス相補信号X1
N〜X8Nにより節点201はグランド電位となる。し
かし、制御信号103b、テスト信号110、アドレス
信号101dがHなことにより。デコード信号105は
Hとなり、デコード禁止信号106もHとなる。このこ
とにより、正規メモリセルアレイ11の動作は停止し、
冗長メモリセルアレイ14のテストを行うことができ
る。
う場合には、アドレス信号101dの代わりにアドレス
信号101eをアクティブとすれば上記で説明したのと
同様にテストを行うことができる。この場合には、デコ
ード信号105の代わりにデコード信号105aがHと
なる。
り、正規メモリセルアレイ11の置換を行う場合には、
不良と診断された正規メモリセルアレイ11のアドレス
を示すアドレス信号X1T〜X8Tおよび相補アドレス
信号X1N〜X8NにおいてHとなるビットに対応した
ヒューズ素子201〜2016を切断する。このことによ
り、不良と診断された正規メモリセルアレイ11のアド
レスがアドレス信号線101により冗長デコーダ15に
入力された場合には、節点201はHのままとなる。そ
して、この状態ではテスト信号110はLとなっている
ので、2入力ナンド回路202の出力は常にHとなって
いる。そして、節点201がHであることと制御信号1
03bがHレベルであることにより、2入力ナンド回路
204の出力はLとなる。そのため、2入力ナンド回路
205の出力であるデコード信号105はHとなりデコ
ード禁止信号106もHとなり不良と診断された正規メ
モリセルアレイ11の動作は停止し、冗長メモリセルア
レイ14がその代わりの動作を行う。
前に冗長メモリセルアレイのテストを行う方法について
図7のフローチャートを用いて説明する。
い(ステップ401)、不良が検出されなければ半導体
記憶装置は良品と判断される(ステップ405)。ステ
ップ401において不良が検出された場合、テスト信号
110をHとして冗長メモリセルアレイのテストが行わ
れる(ステップ402)。このステップ402におい
て、良品の冗長メモリセルアレイの数が不良の正規メモ
リセルアレイの数より大きい場合には、冗長デコードに
おいてヒューズ素子のトリミングが行われ不良の正規メ
モリセルアレイは良品の冗長メモリセルアレイによって
置換される。(ステップ302)。ステップ402にお
いて良品の冗長メモリセルアレイの数が不良の正規メモ
リセルアレイの数より小さい場合には、半導体記憶装置
は不良品と判断される(ステップ406)。ステップ4
03でヒューズトリミングによる置換が行われた後に
は、置換後の半導体記憶装置のテストが行われ不良が検
出されなければ、半導体記憶装置は良品であると判断さ
れる(ステップ405)。
aを用いた半導体記憶装置では、アドレス信号101
d、101eによりどちらの冗長メモリセルアレイをテ
ストするかの選択を行っているが、冗長メモリセルアレ
イの数が増え冗長デコーダの数が増えればその選択を行
うための信号線の数も増えてしまう。例えば冗長デコー
ダの数が16になった場合には16本の信号線が必要と
なる。そして、信号線の数を減らすために、16の冗長
デコーダの選択を、4本の信号のH、Lの組み合わせで
選択しようとすると、その4本の信号を16の出力信号
に変換するためのデコード回路が必要となる。
は、置換前に冗長メモリセルのテストを行うことができ
るが、多くの冗長メモリセルを有する半導体記憶装置に
適用した場合には、デコード回路が必要になり回路規模
が増大してしまう。
記憶装置では、多くの冗長メモリセルを有している場合
に、置換前に冗長メモリセルのテストを行うためには回
路規模が増大してしまうという問題点があった。
レイを有している場合でも回路規模を増大させずに置換
前に冗長メモリセルアレイのテストを行うことができる
半導体記憶装置を提供することである。
に、請求項1記載の半導体記憶装置は、正規メモリセル
アレイと、前記正規メモリセルアレイ中のメモリセルを
選択するためのデコーダと、前記正規メモリセルアレイ
のうち不良と診断された不良メモリセルを置換するため
の冗長メモリセルを有する冗長メモリセルアレイと、前
記正規メモリセルアレイ中の不良メモリセルのアドレス
が複数の第1のヒューズ素子のうちのいずれかを切断す
ることにより設定され、設定された該アドレスと同一の
アドレス信号および前記アドレス信号と論理が逆のアド
レス相補信号が入力されると前記冗長メモリセルアレイ
をアクティブとするためのデコード信号を出力する複数
の冗長デコーダと、前記複数の冗長デコーダから出力さ
れる各デコード信号のうちのいずれか1つの信号がアク
ティブの場合に前記デコーダの動作を停止させるための
デコード禁止信号をアクティブとする手段とを有する半
導体記憶装置において、前記各冗長デコーダが、前記複
数の第1のヒューズ素子のうちのいずれかを切断して不
良メモセルを冗長メモリセルに置換する前に前記冗長メ
モリセルアレイ中の冗長メモリセルの機能をテストする
際にアクティブとなるテスト信号が入力され、該テスト
信号がインアクティブの場合に前記デコード信号を強制
的にインアクティブとする手段を有し、前記各冗長デコ
ーダに入力される前記アドレス信号および前記アドレス
相補信号の入力順序が、前記アドレス信号のうちのある
ビットと該ビットに対応する前記アドレス相補信号のビ
ットの組みが少なくとも1組み以上入れ替わることによ
り前記各冗長デコーダ毎に異なることを特徴とする。
ずれかを切断して冗長メモリセルアレイによる置換を行
う前であっても、テスト信号をアクティブとすることに
よりデコード信号を強制的にアクティブとし、冗長メモ
リセルアレイのテストができるようにしたものである。
を、不良メモリセルとの置換前にテストすることができ
る。
ドレス相補信号の入力順序をそれぞれの冗長デコーダで
異なるようにしたので、冗長メモリセルアレイの機能テ
ストを不良メモリセルとの置換を行う前に行う場合で
も、デコード回路等を必要とせずに複数の冗長デコーダ
中から1つの冗長デコーダの選択を行うことができる。
冗長デコーダ回路数が増大した場合でも、回路規模の増
大化を最小限とすることができる。
信号がインアクティブの場合に前記デコード信号を強制
的にインアクティブとする手段が、一端がハイレベルの
電位に接続された第2のヒューズ素子と、 該第2のヒュ
ーズ素子が切断されていない場合にアクティブとなる信
号がゲートに入力され、前記ゲート以外の一方の端子が
前記デコード信号に接続された第1のMOSトランジス
タと、前記テスト信号がゲートに入力され、前記ゲート
以外の一方の端子が前記第1のMOSトランジスタの他
方の端子に接続され、他方の端子がグランドに接続され
た第2のMOSトランジスタとから構成されている。
換が行われていないため第1のヒューズ素子が切断され
ていない場合でも、テスト信号をアクティブとすること
により第2のMOSトランジスタをオフとして第1のM
OSトランジスタをオフさせ、デコード信号がハイレベ
ルとなるようにし、冗長メモリセルアレイのテストがで
きるようにしたものである。
を、不良と診断された正規メモリセルアレイとの置換前
にテストすることができる。
各冗長デコーダが、 一端がハイレベルの電位に接続され
た第2のヒューズ素子と、 該第2のヒューズ素子が切断
されていない場合にアクティブとなる信号がゲートに入
力され、前記ゲート以外の一方の端子が前記デコード信
号に接続された第1のMOSトランジスタと、前記テス
ト信号がゲートに入力され、前記ゲート以外の一方の端
子が前記第1のMOSトランジスタの他方の端子に接続
され、他方の端子がグランドに接続された第2のMOS
トランジスタと、前記デコード信号をハイレベルとする
ための第3のMOSトランジスタと、一端がハイレベル
の電位に接続された複数の前記第1のヒューズ素子と、
前記第1のヒューズ素子が切断されていない場合にイン
アクティブとなる信号がゲート入力され、前記ゲート以
外の一方の端子が前記デコード信号に接続された複数の
第4のMOSトランジスタと、前記アドレス信号の各ビ
ットがそれぞれゲートに入力され、前記ゲート以外の一
方の端子が前記第4のMOSトランジスタの他方の端子
に接続され、他方の端子がグランドに接続された複数の
第5のMOSトランジスタと、前記第1のヒューズ素子
が切断されていない場合にアクティブとなる信号がゲー
ト入力され、前記ゲート以外の一方の端子が前記デコー
ド信号に接続された複数の第6のMOSトランジスタ
と、前記相補アドレス信号の各ビットがそれぞれゲート
に入力され、前記ゲート以外の一方の端子が前記第6の
MOSトランジスタの他方の端子に接続され、他方の端
子がグランドに接続された複数の第7のMOSトランジ
スタとから構成されている。
各冗長デコーダが、一端がハイレベルの電位に接続され
た第2のヒューズ素子と、前記第2のヒューズ素子が切
断されていない場合にアクティブとなる信号と前記テス
ト信号との論理積の反転を演算するナンド回路と、一端
がハイレベルの電位に接続された複数の前記第1のヒュ
ーズ素子と、前記第1のヒューズ素子が切断されていな
い場合にアクティブとなる信号がゲート入力され、前記
ゲート以外の一方の端子が前記アドレス信号の各ビット
に接続された複数の第1のMOSトランジスタと、前記
第1のヒューズ素子が切断されていない場合にインアク
ティブとなる信号がゲート入力され、前記ゲート以外の
一方の端子が前記アドレス相補信号の各ビットに接続さ
れ、他方の端子が前記各第1のMOSトランジスタの他
方の端子に接続された複数の第2のMOSトランジスタ
と、前記ナンド回路からの出力信号および前記各第1の
MOSトランジスタのそれぞれの他方の端子からの出力
信号の論理積を演算し該演算結果を前記デコード信号と
して出力するアンド回路とから構成されている。
換が行われていないため第1のヒューズ素子が切断され
ていない場合でも、テスト信号をアクティブとすること
によりナンド回路の出力をハイレベルとし、アンド回路
から出力されるデコード信号をハイレベルとするように
し、冗長メモリセルアレイのテストができるようにした
ものである。
を、不良と診断された正規メモリセルアレイとの置換前
にテストすることができる。
第1のヒューズ素子が切断されていない場合にインアク
ティブとなる信号および前記第1のヒューズ素子が切断
されていない場合にアクティブとなる信号は、ゲート以
外の一方の端子がグランドに接続された第8のMOSト
ランジスタと、前記第1のヒューズ素子の他端および前
記第8のMOSトランジスタの他方の端子が入力端子に
接続され、前記第8のMOSトランジスタの前記ゲート
が入力端子に接続された第1のインバータと、前記第1
のインバータの出力信号を入力し論理反転して出力する
第2のインバータとから構成される回路により生成され
る。
項2〜5記載の発明において、ハイレベルの電位とグラ
ンド電位を逆に印加するようにしたものであり、請求項
2〜5記載の発明と同様な機能を行うものである。
図面を参照して詳細に説明する。
実施形態の半導体記憶装置の構成を示したブロック図で
ある。図5中と同番号は同じ構成要素を示す。
来の半導体記憶装置において、冗長デコーダ15の代わ
りに図1に示した冗長デコーダ5a、5b、5c、・・
を用いたものである。冗長デコーダ5a、5b、5c、
・・には、それぞれアドレス信号X1T〜X8Tおよび
アドレス相補信号X1N〜X8Nおよびテスト信号10
が入力されている。
長メモリセルアレイの置換前のテストを行うときにはL
となり、それ以外の時にはHとなる信号であり、図5、
6におけるテスト信号110とは論理が反対のものであ
る。
c、・・では、アドレス信号X1T〜X8Tおよびアド
レス相補信号X1N〜X8Nが入力される順番がそれぞ
れ異なっていて、アドレス信号X1T〜X8Tのうちの
あるビットとそのビットに対応するアドレス相補信号X
1N〜X8Nの組の少なくとも1組以上が逆に入力され
ている。そして、本実施形態では、アドレス信号X1T
〜X8Tが8ビットであるため、この組は8組存在し、
最大で2の8乗通り(256通り)の組み合わせの入力
順序を得ることができる。
ドレス信号X1T〜X8Tとアドレス相補信号X1N〜
X8Nが基準となる向きで入力されているが、冗長デコ
ーダ5bではアドレス信号X1Tとアドレス相補信号X
1Nが逆に入力されている。また、冗長デコーダ5cで
は、冗長デコード5aに対して、アドレス信号X2Tと
アドレス相補信号X2Nが逆に入力されている。
・・からそれぞれ出力されるデコード信号105a、1
05b、105c、・・をオア回路6に入力し、論理和
演算を行ってその結果をデコード禁止信号106として
出力する。
路図を用いて説明する。
スタ28、30〜37と、インバータ24〜27と、ヒ
ューズ素子23、29を有している。
信号X1T、アドレス相補信号X1Nに対応した回路の
みについて説明するが、アドレス信号X2T〜X8T、
アドレス相補信号X2N〜X8Nに対応した回路も同様
に構成されている。
3aがLとなるとオンし、節点41をHとする。
断されていない場合にはHが入力されLの信号を出力
し、ヒューズ素子23が切断されている場合にはLが入
力されHの信号を出力する。
23が切断された際に、インバータ24から出力される
Hの信号によりオンしてインバータ24の入力をLに固
定して動作を安定させるためのものである。
信号を反転して出力する。
4の出力信号がHとなるとオンする。MOSトランジス
タ31は、アドレス信号X1TがHとなるとオンする。
そして、MOSトランジスタ30、31が共にオンする
ことにより節点41の電位はLとなる。
5の出力信号がHとなるとオンする。MOSトランジス
タ33は、アドレス相補信号X1NがHとなるとオンす
る。そして、MOSトランジスタ32、33が共にオン
することにより節点41の電位はLとなる。
6、27、MOSトランジスタ28は、それぞれヒュー
ズ素子23、インバータ24、25、MOSトランジス
タ36と同様な動作を行う。
バータ27の出力信号がHであるとオンする。つまり、
MOSトランジスタ34は、ヒューズ素子29が切断さ
れていなければオンすることになる。MOSトランジス
タ35は、テスト信号10がHの信号となるとオンす
る。そして、MOSトランジスタ34、35が共にオン
することにより節点41の電位はLとなる。
長デコーダ15では、1ビットのアドレス信号X1Tに
対して、アドレス信号X1Tのためのヒューズ素子22
1およびアドレス相補信号X1Nのためのヒューズ素子
222の2つのヒューズ素子を必要としていた。しか
し、本実施形態の半導体記憶装置の冗長デコーダ5aで
は、MOSトランジスタ30、31およびMOSトラン
ジスタ32、33を直列に接続することにより、1ビッ
トのアドレス信号X1Tに対して1つのヒューズ素子2
3しか必要としない回路となっている。そして、このよ
うな回路が最近用いられるようになっている。このよう
な回路が用いられている理由を下記に説明する。
しているため、周辺回路の回路面積のコンパクト化が求
められている。しかし、ヒューズ素子はレーザトリミン
グ等により切断できるようにある一定以上の大きさが必
要となるため、ヒューズ素子が占める面積は他の回路素
子が占める面積よりも大きくなっている。そのため、ア
ドレス信号の1ビットに対してヒューズ素子を1つしか
必要としない、図2に示した本実施形態のような方法が
採用されている。
照して説明する。
う場合について説明する。
ティブであるHとなっているので、MOSトランジスタ
35はオンし、ヒューズ素子29は切断されていないの
でMOSトランジスタ34もオンするので、節点41は
Lとなり、デコード信号105aにはLが出力され、正
規メモリセルアレイのテストを行うことができる。
ストを行う場合について説明する。
OSトランジスタ37をオンとすることにより、節点4
1をHにチャージする。そして、アドレス信号X1T〜
X8Tを全てHの信号、つまり”11111111”と
する。この場合には、アドレス相補信号X1N〜X8N
は当然全てLの信号、つまり”00000000”とな
る。
T、アドレス相補信号X1Nが入力されている回路で説
明すると、アドレス信号X1TがHのためMOSトラン
ジスタ31はオンするが、ヒューズ素子23は切断され
ていないためインバータ24からはLが出力されMOS
トランジスタ30はオンしない。また、インバータ25
からの出力信号はHとなりMOSトランジスタ32はオ
ンするがアドレス相補信号X1NはLのためオンしな
い。このことにより、節点41はHのままとなる。同様
の動作がアドレス信号X2T〜X8T、アドレス相補信
号X2N〜X8Nが入力されている回路でも行われ節点
41はHのままとなる。そして、テスト信号10をLの
信号としてMOSトランジスタ35をオフとすることに
より、MOSトランジスタ34がオンしていても節点4
1はHのままとなる。
となりデコード信号105aはHのままで出力される。
品の冗長メモリセルアレイとを置換する場合には、置換
する正規メモリセルアレイのアドレスの”0”となるビ
ットに対応した回路のヒューズ素子を切断する。そし
て、さらにヒューズ素子29を切断する。ヒューズ素子
29が切断されることによりMOSトランジスタ34に
は常にLの信号が入力されオフ状態となる。
と置換された冗長メモリセルアレイは、不良のメモリセ
ルアレイのアドレスがアドレス信号として入力された場
合にのみデコード信号105aをHとして出力するよう
になる。
あったが、冗長デコーダ5bに接続された冗長メモリセ
ルアレイのテストを行う場合には、アドレス信号X1T
〜X8Tとして”01111111”を入力するように
する。冗長デコーダ5aと冗長デコーダ5bは、アドレ
ス信号X1Tと、アドレス相補信号X1Nが入れ代わっ
て入力されているため、アドレス信号として”0111
1111”が入力されると、冗長デコーダ5bは動作し
てデコード信号105bをHとして出力するが、冗長デ
コーダ5aから出力されるデコード信号105aはLの
ままとなる。
冗長メモリセルアレイのテストを行う場合には、アドレ
ス信号X1T〜X8Tとして”10111111”を入
力するようにする。
とグランドとの間にテスト信号10がHとなるとオン
し、LとなるとオフするMOSトランジスタ35を設け
ることによりヒューズ素子29を切断しなくても、冗長
メモリセルアレイのテストモード時に節点41をHとす
ることができるようにしている。
・に入力されるアドレス信号X1T〜X8Tおよびアド
レス相補信号X1N〜X8Nの入力順序をそれぞれ異な
るようにしたので、デコード回路等を必要とせずに冗長
デコーダ5a、5b、5c、・・の選択を行うことがで
きる。
実施形態の半導体記憶装置について説明する。
した第1の実施形態の半導体記憶装置における冗長デコ
ーダ5a、5b、5c、・・を図3で示す回路構成とし
たものである。
場合を用いて説明するが、他の冗長デコーダ5b、5
c、・・も同様な構成である。
29と、インバータ24〜27と、MOSトランジスタ
28、36、42、43と、ナンド回路40と、アンド
回路38とを有している。
信号X1T、アドレス相補信号X1Nに対応した回路の
みについて説明するが、アドレス信号X2T〜X8T、
アドレス相補信号X2N〜X8Nに対応した回路も同様
に構成されている。
ータ24〜27とMOSトランジスタ28、36は図2
で説明したものと同じものであり、その動作も同じであ
るため説明は省略する。
5の出力信号がHとなるとオンし、アドレス信号X1T
を通過させてアンド回路38に出力する。
4の出力信号がHとなるとオンし、相補アドレス信号X
1Nを通過させてアンド回路38に出力する。
信号とテスト信号10との演算を行いその演算結果をア
ンド回路38に出力する。
出力信号と、MOSトランジスタ42、43および他の
アドレス信号、アドレス相補信号に対応した回路からの
出力信号を入力し、それらの信号の論理積演算を行いそ
の結果をデコード信号105aとして出力する。
る。
う場合には、テスト信号10をインアクティブであるH
の信号とする。そして、インバータ27の出力信号はH
であるためナンド回路40の出力信号はLとなる。その
ためアンド回路38から出力されるデコード信号105
aはLの信号として出力され、正規メモリセルアレイ1
1のテストを行うことができる。
ストを行う場合について説明する。
Hの信号、つまり”11111111”とする。そし
て、アドレス相補信号X1N〜X8Nは当然全てLの信
号、つまり”00000000”となる。
T、アドレス相補信号X1Nが入力されている回路で説
明すると、ヒューズ素子23が切断されていないため、
インバータ24からの出力信号はLとなり、インバータ
25からの出力信号はHとなる。そのため、MOSトラ
ンジスタ42はオンし、MOSトランジスタ43はオフ
となる。そのため、Hであるアドレス信号X1Tがアン
ド回路38に入力される。同様の動作がアドレス信号X
2T〜X8T、アドレス相補信号X2N〜X8Nが入力
されている回路でも行われアンド回路38に入力される
信号は全てHとなる。そして、テスト信号10がアクテ
ィブであるLの信号となっていることによりナンド回路
40の出力信号もHとなっている。そのため、アンド回
路38から出力されるデコード信号105aはHの信号
となる。
品の冗長メモリセルアレイと置換する場合には、置換す
るメモリセルアレイのアドレスの”0”となるビットに
対応した回路のヒューズ素子を切断する。そして、さら
にヒューズ素子29を切断する。ヒューズ素子29が切
断されることによりインバータ27の出力信号は常にL
となり、ナンド回路40の出力信号は常にHとなる。
と置換された冗長メモリセルアレイは、不良のメモリセ
ルアレイのアドレスがアドレス信号として入力された場
合にのみデコード信号105aをHとして出力するよう
になる。
あったが、冗長デコーダ5b、5cに接続された冗長メ
モリセルアレイのテストを行う場合には、上記第1の実
施形態で説明したと同じ方法によりそれぞれの選択を行
う。
回路38との間にテスト信号10を一方の端子に入力し
たアンド回路40を設けることによりヒューズ素子29
を切断しなくてもアンド回路38からの出力信号105
aを、冗長メモリセルのテストの際にHとすることがで
きるようにしている。
OSトランジスタ28、30〜36、42、43は、全
てnチャネルMOSトランジスタであり、ドレインは電
位の高い側に接続されソースは電位の低い側に接続され
ている。また、MOSトランジスタ37は、pチャネル
MOSトランジスタであり、ソースはHの信号に接続さ
れ、ドレインはデコード信号105aに接続されてい
る。
pチャネルMOSトランジスタであるMOSトランジス
タ30〜35、42、43をnチャネルMOSトランジ
スタで置き換え、これらのnチャネルMOSトランジス
タのゲートに入力される信号の論理を反転した場合でも
本発明は成立するものである。
おいて、pチャネルMOSトランジスタであるMOSト
ランジスタ28、30〜36、42、43をnチャネル
MOSトランジスタで置き換え、nチャネルMOSトラ
ンジスタであるMOSトランジスタ37をpチャネルM
OSトランジスタで置き換え、第2の実施形態における
ナンド回路40をアンド回路に置き換え、アンド回路8
をオア回路に置き換え、全ての信号のHとLを逆にして
も本発明は成立するものである。この場合においては、
デコード信号105aは、Lの時にアクティブとなる
が、冗長メモリセルアレイ側の論理をLでアクティブと
なるように変更すれば同様な動作を行うことができる。
は、アドレス信号およびアドレス相補信号が8ビットの
場合について説明したが、本発明はビット数に限定され
るものではなく、他のビット数の場合でも同様に適用す
ることができるものである。
冗長メモリセルアレイを有している場合でも回路規模を
増大させずに置換前に冗長メモリセルアレイのテストを
行うことができるという効果を有する。
成を示したブロック図である。
図である。
アレイによる置換方法を説明するフローチャートであ
る。
ック図である。
セルアレイによる置換方法を説明するフローチャートで
ある。
ード信号 106 デコード禁止信号 110 テスト信号 201 節点 202 3入力ナンド回路 203 オア回路 204、205 2入力ナンド回路 401〜406 ステップ 601〜605 ステップ
Claims (9)
- 【請求項1】 正規メモリセルアレイと、前記 正規メモリセルアレイ中のメモリセルを選択するた
めのデコーダと、 前記正規メモリセルアレイのうち不良と診断された不良
メモリセルを置換するための冗長メモリセルを有する冗
長メモリセルアレイと、 前記正規メモリセルアレイ中の不良メモリセルのアドレ
スが複数の第1のヒューズ素子のうちのいずれかを切断
することにより設定され、設定された該アドレスと同一
のアドレス信号および前記アドレス信号と論理が逆のア
ドレス相補信号が入力されると前記冗長メモリセルアレ
イをアクティブとするためのデコード信号を出力する複
数の冗長デコーダと、前記複数の冗長デコーダから出力される 各デコード信号
のうちのいずれか1つの信号がアクティブの場合に前記
デコーダの動作を停止させるためのデコード禁止信号を
アクティブとする手段とを有する半導体記憶装置におい
て、 前記各冗長デコーダが、前記複数の第1のヒューズ素子
のうちのいずれかを切断して不良メモセルを冗長メモリ
セルに置換する前に前記冗長メモリセルアレイ中の冗長
メモリセルの機能をテストする際にアクティブとなるテ
スト信号が入力され、該テスト信号がインアクティブの
場合に前記デコード信号を強制的にインアクティブとす
る手段を有し、前記各冗長デコーダに入力される前記アドレス信号およ
び前記アドレス相補信号の入力順序が、前記アドレス信
号のうちのあるビットと該ビットに対応する前記アドレ
ス相補信号のビットの組みが少なくとも1組み以上入れ
替わることにより前記各冗長デコーダ毎に異なる ことを
特徴とする半導体記憶装置。 - 【請求項2】 前記テスト信号がインアクティブの場合
に前記デコード信号を強制的にインアクティブとする手
段が、一端がハイレベルの電位に接続された第2のヒューズ素
子と、 該第2 のヒューズ素子が切断されていない場合にアクテ
ィブとなる信号がゲートに入力され、前記ゲート以外の
一方の端子が前記デコード信号に接続された第1のMO
Sトランジスタと、 前記テスト信号がゲートに入力され、前記ゲート以外の
一方の端子が前記第1のMOSトランジスタの他方の端
子に接続され、他方の端子がグランドに接続された第2
のMOSトランジスタとから構成されている請求項1記
載の半導体記憶装置。 - 【請求項3】 前記各冗長デコーダが、 一端がハイレベルの電位に接続された第2のヒューズ素
子と、 該第2 のヒューズ素子が切断されていない場合にアクテ
ィブとなる信号がゲートに入力され、前記ゲート以外の
一方の端子が前記デコード信号に接続された第1のMO
Sトランジスタと、 前記テスト信号がゲートに入力され、前記ゲート以外の
一方の端子が前記第1のMOSトランジスタの他方の端
子に接続され、他方の端子がグランドに接続された第2
のMOSトランジスタと、 前記デコード信号をハイレベルとするための第3のMO
Sトランジスタと、 一端がハイレベルの電位に接続された複数の前記第1の
ヒューズ素子と、 前記第1のヒューズ素子が切断されていない場合にイン
アクティブとなる信号がゲート入力され、前記ゲート以
外の一方の端子が前記デコード信号に接続された複数の
第4のMOSトランジスタと、 前記アドレス信号の各ビットがそれぞれゲートに入力さ
れ、前記ゲート以外の一方の端子が前記第4のMOSト
ランジスタの他方の端子に接続され、他方の端子がグラ
ンドに接続された複数の第5のMOSトランジスタと、 前記第1のヒューズ素子が切断されていない場合にアク
ティブとなる信号がゲート入力され、前記ゲート以外の
一方の端子が前記デコード信号に接続された複数の第6
のMOSトランジスタと、 前記相補アドレス信号の各ビットがそれぞれゲートに入
力され、前記ゲート以外の一方の端子が前記第6のMO
Sトランジスタの他方の端子に接続され、他方の端子が
グランドに接続された複数の第7のMOSトランジスタ
とから構成されている請求項1記載の半導体記憶装置。 - 【請求項4】 前記各冗長デコーダが、一端がハイレベルの電位に接続された第2のヒューズ素
子と、 前記第2のヒューズ素子が切断されていない場合にアク
ティブとなる信号と前記テスト信号との論理積の反転を
演算するナンド回路と、 一端がハイレベルの電位に接続された複数の前記第1の
ヒューズ素子と、 前記第1のヒューズ素子が切断されていない場合にアク
ティブとなる信号がゲート入力され、前記ゲート以外の
一方の端子が前記アドレス信号の各ビットに接続された
複数の第1のMOSトランジスタと、 前記第1のヒューズ素子が切断されていない場合にイン
アクティブとなる信号がゲート入力され、前記ゲート以
外の一方の端子が前記アドレス相補信号の各ビットに接
続され、他方の端子が前記各第1のMOSトランジスタ
の他方の端子に接続された複数の第2のMOSトランジ
スタと、 前記ナンド回路からの出力信号および前記各第1のMO
Sトランジスタのそれぞれの他方の端子からの出力信号
の論理積を演算し該演算結果を前記デコード信号として
出力するアンド回路とから構成されている請求項1記載
の半導体記憶装置。 - 【請求項5】 前記第1のヒューズ素子が切断されてい
ない場合にインアクティブとなる信号および前記第1の
ヒューズ素子が切断されていない場合にアクティブとな
る信号は、 ゲート以外の一方の端子がグランドに接続された第8の
MOSトランジスタと、 前記第1のヒューズ素子の他端および前記第8のMOS
トランジスタの他方の端子が入力端子に接続され、前記
第8のMOSトランジスタの前記ゲートが入力端子に接
続された第1のインバータと、 前記第1のインバータの出力信号を入力し論理反転して
出力する第2のインバータとから構成される回路により
生成される請求項3または4記載の半導体記憶装置。 - 【請求項6】 前記テスト信号がインアクティブの場合
に前記デコード信号を強制的にインアクティブとする手
段が、一端がグランドに接続された第2のヒューズ素子と、 該第2 のヒューズ素子が切断されていない場合にアクテ
ィブとなる信号がゲートに入力され、前記ゲート以外の
一方の端子が前記デコード信号に接続された第1のMO
Sトランジスタと、 前記テスト信号がゲートに入力され、前記ゲート以外の
一方の端子が前記第1のMOSトランジスタの他方の端
子に接続され、他方の端子がハイレベルの電位に接続さ
れた第2のMOSトランジスタとから構成されている請
求項1記載の半導体記憶装置。 - 【請求項7】 前記各冗長デコーダが、 一端がグランド電位に接続された第2のヒューズ素子
と、 該第2 のヒューズ素子が切断されていない場合にアクテ
ィブとなる信号がゲートに入力され、前記ゲート以外の
一方の端子が前記デコード信号に接続された第1のMO
Sトランジスタと、 前記テスト信号がゲートに入力され、前記ゲート以外の
一方の端子が前記第1のMOSトランジスタの他方の端
子に接続され、他方の端子がハイレベルの電位に接続さ
れた第2のMOSトランジスタと、 前記デコード信号をグランド電位とするための第3のM
OSトランジスタと、一端がグランド電位に接続された
複数の前記第1のヒューズ素子と、 前記第1のヒューズ素子が切断されていない場合にイン
アクティブとなる信号がゲート入力され、前記ゲート以
外の一方の端子が前記デコード信号に接続された複数の
第4のMOSトランジスタと、 前記アドレス信号の各ビットがそれぞれゲートに入力さ
れ、前記ゲート以外の一方の端子が前記第4のMOSト
ランジスタの他方の端子に接続され、他方の端子がハイ
レベルの電位に接続された複数の第5のMOSトランジ
スタと、 前記第1のヒューズ素子が切断されていない場合にアク
ティブとなる信号がゲート入力され、前記ゲート以外の
一方の端子が前記デコード信号に接続された複数の第6
のMOSトランジスタと、 前記相補アドレス信号の各ビットがそれぞれゲートに入
力され、前記ゲート以外の一方の端子が前記第6のMO
Sトランジスタの他方の端子に接続され、他方の端子が
ハイレベルの電位に接続された複数の第7のMOSトラ
ンジスタとから構成されている請求項1記載の半導体記
憶装置。 - 【請求項8】 前記各冗長デコーダが、一端がハイレベルの電位に接続された第2のヒューズ素
子と、 前記第2のヒューズ素子が切断されていない場合にアク
ティブとなる信号と前記テスト信号との論理積の反転を
演算するナンド回路と、 一端がハイレベルの電位に接続された複数の前記第1の
ヒューズ素子と、 前記第1のヒューズ素子が切断されていない場合にアク
ティブとなる信号がゲート入力され、前記ゲート以外の
一方の端子が前記アドレス信号の各ビットに接続された
複数の第1のMOSトランジスタと、 前記第1のヒューズ素子が切断されていない場合にイン
アクティブとなる信号がゲート入力され、前記ゲート以
外の一方の端子が前記アドレス相補信号の各ビットに接
続され、他方の端子が前記各第1のMOSトランジスタ
の他方の端子に接続された複数の第2のMOSトランジ
スタと、 前記ナンド回路からの出力信号および前記各第1のMO
Sトランジスタのそれぞれの他方の端子からの出力信号
の論理積を演算し該演算結果を前記デコード信号として
出力するアンド回路とから構成されている請求項1記載
の半導体記憶装置。 - 【請求項9】 前記第1のヒューズ素子が切断されてい
ない場合にインアクティブとなる信号および前記第1の
ヒューズ素子が切断されていない場合にアクティブとな
る信号は、 ゲート以外の一方の端子がハイレベルの電位に接続され
た第8のMOSトランジスタと、 前記第1のヒューズ素子の他端および前記第8のMOS
トランジスタの他方の端子が入力端子に接続され、前記
第8のMOSトランジスタの前記ゲートが入力端子に接
続された第1のインバータと、 前記第1のインバータの出力信号を入力し論理反転して
出力する第2のインバータとから構成される回路により
生成される請求項7または8記載の半導体記憶装置。
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