JP3076569B2 - 安息香酸誘導体の新規製造法 - Google Patents

安息香酸誘導体の新規製造法

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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、レチノイド活性
を有する化合物を工業的に有利に製造する方法、並びに
医薬として有用な新規結晶形の4−[(5,6,7,8
−テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル−2−
ナフタレニル)カルバモイル]安息香酸およびその製造
方法に関する。
【0002】
【従来の技術】この発明により得られる化合物は、テト
ラヒドロナフチルアミン誘導体にテレフタル酸モノエス
テルハライドを作用せしめたのち、脱エステル化反応に
付すことにより得られていた(特開昭61−7644
0)。しかしながら、この方法は、原料の入手が困難で
あり、しかも該アミンは人体に有害であるため、更に繁
雑な工程を要するため工業的製法には不向きな方法であ
る。またこの方法によって得られた目的化合物は製剤化
において、必ずしも適しているとは言いがたいものであ
る。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】この発明方法では、工
業的に入手しやすく、安価で且つ人体に有害な作用を示
さない原料を用いて、簡単な操作で、純度、収率ともに
よく、目的化合物を有利に製造する方法を提供するもの
である。
【0004】
【課題を解決するための手段】この発明方法によれば、
(a)アシル化アニリン誘導体(I)
【化8】 (式中、R1は低級アルキル基またはアリール基を、R2
は水素原子または低級アルキル基を意味する。)と1,
4−ジハロブタン誘導体(II)
【化9】 (式中、R3、R4、R5およびR6は各々独立に低級アル
キル基を、R7は水素原子または低級アルキル基を、X
はハロゲン原子を表わす。)を、フリーデルクラフツ触
媒の存在下、反応に不活性な溶媒中フリーデルクラフツ
反応せしめることにより、一般式(III)
【化10】 (式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6およびR7はそ
れぞれ前記と同意義を有する。)で示される新規な二環
式アミド化合物を得、(b)得られた二環式アミド化合
物を、ハロゲン化剤、アルコールと順次反応させた後、
テレフタル酸モノエステルハライドによりアシル交換反
応せしめることにより、一般式(IV)
【化11】 (式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6およびR7はそ
れぞれ前記と同意義を有し、R8は低級アルキル基を、
9は水素原子もしくは低級アルキル基を表わす。)で
示されるアミド化合物を得、(c)次いで、このアミド
化合物を加水分解することにより、目的とする安息香酸
誘導体(V)
【化12】 (式中、R2、R3、R4、R5、R6、R7およびR9は前
記と同意義を有する。)を製造する。
【0005】この発明において、低級アルキル基とは炭
素数が1〜4のアルキル基を意味し、具体的にはメチル
基、エチル基、プロピル基、i−プロピル基、ブチル
基、i−ブチル基、t−ブチル基等が例示される。アリ
ール基としてはフェニル基、置換フェニル基等を意味
し、フェニル環上の置換基としては、反応に不活性な基
であればいずれの基も可能であるが、低級アルキル基、
低級アルコキシカルボニル基、ニトロ基、ハロゲン原子
等が例示される。
【0006】工程(a)のフリーデルクラフツ触媒とし
ては、ルイス酸(AlCl3、AlBr3、ZnCl2
ZnCl4、ZnBr2、ZnBr4、BF3とそのエーテ
ル溶媒和物、SnCl4、SnBr4、TiCl4、Ti
Br4)、プロトン酸(硫酸、無水フッ化水素酸、リン
酸、ポリ燐酸、過塩素酸、クロルスルホン酸、フルオロ
スルホン酸、有機スルホン酸、トリフルオロ酢酸、クロ
ル酢酸等)、カチオン交換樹脂、金属カチオン形成剤
(AgClO4、AgBF4、AgPO4、AgSbF6
AgPF6、AgAsF6)等の通常フリーデルクラフツ
反応用触媒が用いられるが、ルイス酸が特に好ましい。
そして、触媒の使用量は原料のアシル化アニリンに対し
て0.5〜5倍モル、好ましくは1〜3倍モル、より好
ましくは1.5〜2倍モルである。
【0007】アシル化アニリンとジハロブタンは等モル
量の使用でよいが、どちらか一方を過剰に用いると好ま
しい結果がえられる。例えばアシル化アニリン1モルに
対しジハロブタンを0.5〜3モルの使用が好ましく、
さらには1.5〜2モルの使用がより好ましい。また、
溶媒としては、二硫化炭素、エーテル、ハロゲン化炭化
水素、ニトロアルカン等が用いられるが、特にハロゲン
化炭化水素が望ましい。反応温度は−70〜50℃の範
囲での加熱下、室温もしくは冷却下のいずれにしても可
能であるが、室温ないし冷却下での反応が好ましい。反
応時間は反応温度により影響をうけるが、0.5〜20
時間で充分である。
【0008】工程(b)におけるハロゲン化剤としては
三ハロゲン化リン、オキシハロゲン化リン、五ハロゲン
化リン、チオニルハライド等のハロゲン化剤が用いられ
るが、五塩化リンが特に好ましい。アルコールとしては
低級アルカノールが好ましく、工業的にはメタノールが
好都合である。反応温度としては、室温ないし冷却下が
採用されるが、冷却下での反応が好ましい。工程(c)
の加水分解は塩基性条件下、室温ないし加熱条件下でお
こなわれるが、加熱すると速やかに進行する。
【0009】即ち、本発明の1例である4−[(5,
6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラメ
チル−2−ナフタレニル)カルバモイル]安息香酸は
(a)アシル化アニリン誘導体(I)
【化13】 と1,4−ジハロブタン誘導体(II)
【化14】 をフリーデルクラフツ反応に付して、式(III)
【化15】 で示される二環式アミド化合物を得、(b)(a)で得
られた化合物をテレフタル酸モノエステルハライド反応
せしめて式(IV)
【化16】 として、(c)(b)に得られた化合物(IV)を脱エス
テル化反応に付すことにより得られる。
【0010】前述した公知技術特開昭61−76440
に記載の方法によると5,6,7,8−テトラヒドロ−
5,5,8,8−テトラメチル−2−ナフチルアミンを
出発原料としてこれにテレフタル酸モノメチルエステル
クロライドを反応させて目的化合物のメチルエステルを
得て、これをメタノール−水に溶解し、これに水酸化ナ
トリウムを加えて加水分解に付す。次いで、抽出分離法
により、得られた結晶を酢酸エチル−ヘキサンから再結
晶することにより目的化合物を得る。一方、本発明の合
成法によると加水分解後、すぐに塩酸を加え、析出する
結晶をメタノール系溶媒から再結晶して目的化合物を得
る。その為、公知技術のような抽出、留去等の繁雑な操
作が省略でき、相異なる数種の反応工程を同一反応容器
内で連続的に実施できる。また、再結晶溶媒が反応系と
同一溶媒系であるため操作が容易である。
【0011】本発明において、メタノール系溶媒とは、
メタノールまたはメタノール−水の混合溶媒を意味し、
メタノール−水が好適に使用される。用いられる水の量
は、メタノールに対して0.5〜2倍量の使用が好まし
いが、メタノールと同量で用いられるのが最適である。
また、本発明化合物は、生理活性が特に強いため、密閉
系での操作が特に要求される。このような点からも、同
一容器内で簡便に操作が可能である本発明方法は、有利
であると言える。また、公知技術で出発原料として用い
られている5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,
8,8−テトラメチル−2−ナフチルアミンは多量に安
価に入手することは困難であり、一般にアミン類には血
液毒性のあるものが多い。
【0012】しかし、本発明方法で出発原料として用い
られているアセトアニリドは多量に入手することがで
き、また取り扱いが安全である。また、本発明方法の1
例として示した実施例3で得られた化合物4−[(5,
6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラメ
チル−2−ナフタレニル)カルバモイル]安息香酸と公
知技術の方法により得られた4−[(5,6,7,8−
テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル−2−ナ
フタレニル)カルバモイル]安息香酸のそれぞれの結晶
形のX線回折図(図5および図6)を読みとって以下の
表1および表2にそれぞれの結果を示す。
【0013】
【表1】
【0014】
【表2】
【0015】上述した結果より、それぞれの方法により
合成された結晶形は異なることが判明する。さらにこれ
らの結晶の性質を比較してみると、本発明方法によると
再結晶溶媒に使用したメタノールの目的化合物への残留
は50ppm以下であるが、公知技術によると再結晶溶
媒に使用した酢酸エチルの残留は1200ppm、ヘキ
サンは190ppmである。これは、最終産物への残留
溶媒の基準値が50ppm以下という厚生省の規定を遙
かに上回る値であり、該化合物が医薬品にも用いられる
という点からして、好ましいこととは言いがたい。また
それぞれの粒度を比較してみると、本発明方法では0.
2mm以下で均一であるが、公知技術によると1mm以
上であり不均一である。そのため、製剤化に際しては本
発明方法によると粉末化工程が省略でき、大変有利であ
る。以上により、本発明方法は簡単な操作で、安全に、
収率よく目的化合物を有利に合成する工業的に優れたも
のである。
【0016】
【実施例】以下に実施例を示して、本発明を更に詳しく
説明するが、これらは本発明を何ら制限するものではな
い。 実施例1−12,5−ジクロロ−2,5−ジメチルヘキサン 2,5−ジメチル−2,5−ヘキサンジオール48g
(0.328モル)を濃塩酸480mlに懸濁させ、室
温で1時間激しく撹拌した。析出晶を濾取した後CH2
Cl2120mlに溶解、水洗、MgSO4で乾燥した
後、濃縮乾固して標記化合物49.3g(82%)を得
た。mp65〜66℃ NMRδ(CDCl3 ):1.63(12H,s,CH
3 ×4)、1.97(4H,s,CH2 ×2)
【0017】1,2,3,4−テトラヒドロ−1,1,
4,4−テトラメチル−6−アセトアミノナフタレン アセトアニリド20.28g(0.15モル)を、CH
2Cl2170mlに懸濁させ、液温−15℃でAlCl
342g(0.15×2.0モル)、次いで、2,5−
ジクロロ−2,5−ジメチルヘキサン48.07g
(0.15×1.75モル)を加え、同温度で2時間撹
拌した。この反応液を氷水700mlへ注ぎ、CH2
2層を分離した後、水層をCH2Cl2100mlで抽
出した。CH2Cl2層を合わせ、水洗、芒硝乾燥後、濃
縮乾固して残渣61.4gを得た。この残渣にn−ヘキ
サン110mlを加え一夜冷蔵庫で放置した。析出する
結晶29g(78%)をエタノール−水から再結晶し、
mp.116−118℃の標記化合物25g(67%)
を得た。 NMRδ(CDCl3):1.27(12H,s,CH3
×4)、1.68(4H,s,CH2 ×2)、2.13
(3H,s,COCH3)、7.15−7.45(3
H,m,aromatic H);7.69(1H,b
road−s,NH) 次いで、異なる反応条件で実施例1−1と同様の反応を
行ない、表3に示す結果(実施例1−2〜−14)を得
た。
【0018】
【表3】
【0019】実施例2 メチル 4−[(5,6,7,8−テトラヒドロ−5,
5,8,8−テトラメチル−2−ナフタレニル)カルバ
モイル]ベンゾエート 1,2,3,4−テトラヒドロ−1,1,4,4−テト
ラメチル−6−アセトアミノナフタレン125g(0.
51モル)をCH2Cl2625mlに溶解した後、窒素
気流下、−25℃でジメチルアニリン206ml、次い
で五塩化リン116.6g(0.51×1.1モル)を
加えて同温度で1.5時間攪拌した。この反応液にメタ
ノール2.06リットルを滴下した後、冷却槽を除き2
時間攪拌を続けた(−25℃〜室温)。更に、この反応
液を−25℃に冷却した後、ジメチルアニリン306m
l、次いでテレフタル酸モノメチルエステルクロライド
101.1g(1.01×0.51)を加えて−20〜
−30℃で1時間攪拌した。反応終了後、冷1規定塩酸
2.6リットルへ注ぎ、CH2CH21.3リットルで抽
出した。CH2Cl2層を1規定塩酸2.6リットル、水
4リットル、5%重曹水および水4リットルで順次洗浄
し、芒硝乾燥後濃縮乾固した。残渣にメタノール740
mlを加えて一夜放置すると標記化合物151g(81
%)が得られた。
【0020】NMR(CDCl3)δ:1.29(6
H,s,CH3×2);1.31(6H,s,CH3×
2);1.72(4H,s,CH2×2);3.95
(3H,s,COCH3 );7.29(1H,d,J=
8Hz,aromatic H);7.46(1H,d
−d,J=2および8Hz,aromatic H);
7.64(1H,d,J=2Hz,aromatic
H);8.00(2H,d,J=8Hz,aromat
ic H);8.13(2H,d,J=8Hz,aro
matic H)
【0021】実施例3 4−[(5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,8,
8−テトラメチル−2−ナフタレニル)カルバモイル]
安息香酸 メチル4−[(5,6,7,8−テトラヒドロ−5,
5,8,8−テトラメチル−2−ナフタレニル)カルバ
モイル]ベンゾエート40g(0.1094モル)をメ
タノール400mlに懸濁させ、カ性ソーダ13.1g
(0.1094×3モル)を水200ml溶解した溶液
を加え、煮沸還流下に1時間攪拌した。反応液を水冷し
た後、2規定塩酸を加えてpH2〜3とすると結晶性の
目的化合物が析出した。これをメタノール−水(1:
1)から再結晶して、純粋な標記化合物35.4g(9
2%)を得た。
【0022】IR(Nujol)cm-1:3300,1
700,1645,1610,1270,535 NMR(d6−DMSO)δ:1.24(12H,s,
CH3×4);1.67(4H,s,CH2 ×2);
7.30(1H,d,J=Hz,aromatic
H);8.08(4H,s,aromatic H);
10.27(1H,s)
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の製造方法に従って、合成された目的化
合物4−[(5,6,7,8−テトラヒドロ−5,5,
8,8−テトラメチル−2−ナフタレニル)カルバモイ
ル]安息香酸のIRスペクトル図(Nujol)。
【図2】公知技術によって合成された4−[(5,6,
7,8−テトラヒドロ−5,5,8,8−テトラメチル
−2−ナフタレニル)カルバモイル]安息香酸のIRス
ペクトル図(Nujol)。
【図3】本発明の製造方法に従って、合成された目的化
合物の熱分解図で、193℃で融解している。
【図4】公知技術の製造方法に従って、合成された目的
化合物の熱分解図で、233℃で融解している。図3、
図4から明らかなように本発明の合成法によっで合成さ
れた目的化合物と公知技術の合成法によるものでは、異
なった物性を有する化合物が得られることが明らかであ
る。
【図5】本発明の製造方法に従って、合成された目的化
合物の粉末X線回折図。(CuKα,40kV,40m
A)
【図6】公知技術の製造方法に従って、合成された目的
化合物の粉末X線回折図。(CuKα,40kV,40
mA) 図5および図6から、それぞれ別の合成法により、得ら
れた目的化合物は結晶形がことなることが判明する。
フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭61−76440(JP,A) 特開 昭63−295556(JP,A) 特開 平3−74353(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C07C 231/12 C07C 233/65 CA(STN) REGISTRY(STN)

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 一般式(III) 【化1】 (式中、R1は低級アルキル基を意味し、R2は水素原子
    を意味し、R3、R4、R5およびR6は各々メチル基を意
    味し、R7は水素原子を意味する。)で示される二環式
    アミド化合物。
  2. 【請求項2】 (a)一般式(III) 【化2】 (式中、R1は低級アルキル基を意味し、R2は水素原子
    を意味し、R3、R4、R5およびR6は各々メチル基を意
    味し、R7は水素原子を意味する。)で示される二環式
    アミド化合物をテレフタル酸モノエステルハライドと反
    応せしめて一般式(IV)で示される化合物 【化3】 (式中、R2、R3、R4、R5、R6およびR7はそれぞれ
    前記と同意義を有し、R8は低級アルキル基、R9は水素
    原子を意味する。)とし、 (b)工程(a)で得られた化合物(IV)を脱エステル
    化反応に付すことを特徴とする一般式(V) 【化4】 (式中、R2、R3、R4、R5、R6、R7およびR9はそ
    れぞれ前記と同意義を有する。)で示される安息香酸誘
    導体の製造法。
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