JP3074798B2 - 移相器 - Google Patents

移相器

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JP3074798B2 JP03153090A JP15309091A JP3074798B2 JP 3074798 B2 JP3074798 B2 JP 3074798B2 JP 03153090 A JP03153090 A JP 03153090A JP 15309091 A JP15309091 A JP 15309091A JP 3074798 B2 JP3074798 B2 JP 3074798B2
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修治 浦崎
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は移相器の移相量設定精
度の向上に関するものである。
【0002】
【従来の技術】第4図は、例えば、C.W.Suckl
ing,”S−BandPhaseShifter u
sing Monolithic GaAs Circ
uits”IEEE International S
olid−State Circuit Confer
ence 1982 PP.134〜135に示された
従来の移相器の一例を示す等価回路図である。図におい
て、1は入力端子、2は出力端子、3、4、5、6はそ
れぞれ第1、第2、第3、第4のスイッチ用電界効果ト
ランジスタ(以下、スイッチ用FETと略称する)、7
は入力端子1に電気的に接続された第1のスイッチ用F
ET3、第2のスイッチ用FET4から構成された第1
の単極双投スイッチ(以下、SPDTスイッチと略称す
る)、8は出力端子2に電気的に接続された第3のスイ
ッチ用FET5、第4のスイッチ用FET6から構成さ
れた第2のSPDTスイッチ、9は第1のスイッチ用F
ET3と第3のスイッチ用FET5との間に直列に接続
されている第1のインダクタ、10a、10bは一端が
第1のインダクタ9に接続され、他端が接地されている
第1のキャパシタ、11は第2のスイッチ用FET4と
第4のスイッチ用FET6との間に直列に接続されてい
る第2のキャパシタ、12a、12bは一端が第2のキ
ャパシタ11に接続され、他端が接地されている第2の
インダクタ、13a、13bはそれぞれ第1、第2のバ
イアス端子である。ここで、第1のスイッチ用FET3
と第2のスイッチ用FET4と第3のスイッチ用FET
5と第4のスイッチ用FET6には第1、第2のバイア
ス端子13a、13bを介してバイアス電圧が印加され
るが、この際に必要なバイアス回路の詳細は、ここでは
図示を省略している。また、第1のインダクタ9と第1
のキャパシタ10a、10bとで、低域通過形フィルタ
14(以下、LPFと省略する。)が形成されており、
第2のキャパシタ11と第2のインダクタ12a、12
bとで高域通過形フィルタ15(以下、HPFと略称す
る。)が形成されている。また、ここで、LPF、HP
Fは、ともに所要の周波数を通過帯域とするようにし
て、上記各リアクタンス素子の素子値が設定されてい
る。
【0003】次に動作について説明する。従来の移相器
は上記のように構成され、LPF14の通過帯域におい
て位相遅れが生じ、HPF15の通過帯域において位相
進みが生じることを利用し、電波伝搬経路をLPF14
側またはHPF15側へと切り替えることにより、所要
の移相量を得るものである。まず、第1のスイッチ用F
ET3と第3のスイッチ用FET5のゲートとに第1の
バイアス端子13aから印加するバイアス電圧をそれぞ
れ0Vとし、第2のスイッチ用FET4と第4のスイッ
チ用FET6のゲートとに第2のバイアス端子13bか
ら印加するバイアス電圧をそれぞれピンチオフ電圧とし
た場合について説明する。この場合には、第1のスイッ
チ用FET3と第2のスイッチ用FET4のドレイン・
ソース間が導通状態となり、第3のスイッチ用FET5
と第4のスイッチ用FET6のドレイン・ソース間が遮
断状態となるため、入力端子1から入射した電波は、L
PF14を通過することにより、位相遅れを生じて出力
端子2にあらわれる。次に、4個のスイッチ用FETに
印加するバイアス電圧を上記と逆転した場合には、前記
の場合とは電波伝搬路が逆転して、入力端子1から入射
した電波は、HPF15を通過することにより、位相進
みを生じて出力端子2にあらわれる。従って、従来の移
相器では、上記のように4個のスイッチ用FETに印加
するバイアス電圧を切り換えて、第1のSPDTスイッ
チ7と第2のSPDTスイッチ8を切り換えることによ
り、入出力端子間の移相量を変えることができる。な
お、ここで第1のSPDTスイッチ7に加え第2のSP
DTスイッチ8を設けることにより、移相器を構成して
いる回路素子と移相器が挿入された外部回路との分離を
完全に行い、互いに影響なく動作させるようにしたもの
である。以上のように、この種の移相器は、LPF14
側とHPF15側との電波伝搬経路の切り換えにより2
通りの通過位相差が得られるものであり、このようにし
て得られる移相量の異なる移相器を多段に縦続接続する
ことにより所要の移相量を実現できる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】従来のマイクロ波半導
体移相器は以上のように構成されており、LPF、HP
Fを実現するためにインダクタ、キャパシタが必要であ
る。従来は上記文献にも示されているように、このよう
な素子をスパイラルインダクタやMIMキャパシタ等の
受動素子で構成していた。従って、大量生産に適したモ
ノリシック回路技術によりこの種の移相器を実現する場
合、製造上の問題から上記のような受動素子の素子値を
一定にすることが困難であり、その値がばらつく。この
結果としてLPF、HPFの通過位相が設計値から変化
し、所要の移相量が得られない問題が生じる。さらに、
従来のマイクロ波半導体移相器では、一段の移相器で連
続的な移相量の変化が得られないため、所要の移相量を
精度良く設定するためには多段構成にする必要があり、
コストやサイズの増大をまねいていた。
【0005】この発明は上記のような問題点を解決する
ためになされたもので、所要能動素子数は従来の移相器
と同等のままで位相遅れと位相進みを切り替え、かつ、
連続的な移相量の設定ができる移相量設定精度の高い移
相器を得ることを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】入力端子と、出力端子
と、上記入力端子と出力端子との間に接続され、トラン
ジスタや電界効果トランジスタ等の能動素子と抵抗およ
びキャパシタとを有して構成されたリアクタンストラン
ジスタやリアクタンス電界効果トランジスタ等のリアク
タンス能動素子で、上記抵抗あるいはキャパシタを可変
としてリアクタンスを可変とするように形成された能動
インダクタあるいは能動キャパシタを備えて構成された
低域通過形フィルタを有する第1の電波伝搬経路と、上
記能動インダクタあるいは能動キャパシタを備えて構成
された高域通過形フィルタを有する第2の電波伝搬経路
とを備え、上記第1の電波伝搬経路と第2電波伝搬経路
のそれぞれが有する能動インダクタあるいは能動キャパ
シタの少なくとも一つが上記入力端子端に配置され、上
記能動インダクタあるいは能動キャパシタへの印加バイ
アス条件を変えることにより第1の電波伝搬経路と第2
電波伝搬経路の一方を選択するものである。
【0007】
【作用】上記のように構成された移相器においては、第
1の電波伝搬経路と第2電波伝搬経路のそれぞれが有す
る能動インダクタあるいは能動キャパシタの少なくとも
一つが入力端子端に配置されているので、能動インダク
タあるいは能動キャパシタのそれぞれの能動素子への印
加バイアス条件を変えることにより一方の電波伝搬経路
が選択され、さらに、低域通過形フィルタおよび高域通
過形フィルタは抵抗あるいはキャパシタを可変としてリ
アクタンスを可変とするように形成された能動インダク
タあるいは能動キャパシタを備えて構成されているの
で、選択された電波伝搬経路での位相遅れまたは位相進
みを与える移相量を連続的に設定できる。
【0008】
【実施例】実施例1.図1はこの発明の移相器の一実施
例を示す回路構成図である。なお、この実施例では従来
例と同様のマイクロ波半導体移相器をリアクタンス電界
効果トランジスタ(以下、リアクタンスFETと略称す
る)を用いて構成した場合について説明する。図におい
て、16a〜16fは可変キャパシタ、17a〜17f
は可変レジスタ、18a〜18fは電界効果トランジス
タ(以下、FETと略称する)、19、20は可変キャ
パシタ16a、16cをそれぞれFET18a、18c
のゲートとソース間に、可変レジスタ17a、17cを
それぞれFET18a、18cのゲートとドレイン間に
設けた第1、第2の能動インダクタ、21は可変レジス
タ17bをFET18a、18cのゲートとソース間
に、可変キャパシタ16bはFET18a、18cのゲ
ートとドレイン間に設けた第1の能動キャパシタ、22
は上記第1、第2の能動インダクタと同様の構成の第3
の能動インダクタ、23、24は上記第1の能動キャパ
シタ21と同様の構成の第2、第3の能動キャパシタで
ある。ここでは、第1、第2の能動インダクタ19、2
0と第1の能動キャパシタ21により入力端子1と出力
端子2の間にT形のLPF14が構成され、第3の能動
インダクタ22と第2、第3の能動キャパシタ23、2
4により入力端子1と出力端子2の間にT形のHPF1
5が構成されている。それぞれのFETには第1、第
2、第3、第4のゲートバイアス端子25、26、2
7、28よりゲートバイアス電圧が印加される構成であ
る。ここで、FET18a〜18fにはドレインバイア
ス電圧も印加する必要があるが、ここではゲートバイア
ス回路の詳細並びにドレインバイアス回路の図示を省略
している。
【0009】また、図2はリアクタンスFETにおいて
インダクタ、キャパシタを実現する回路構成を説明する
ための回路図である。このような回路構成にすれば、ト
ランジスタやFET等の3端子能動素子を用いてリアク
タンス素子を実現できることは、例えば、大越による
「基礎電子回路」オーム社のPP.196〜198に記
載されている。ゲートに接続した可変レジスタ17、可
変キャパシタ16の値を変化させることにより、これら
の回路により得られるインダクタンス値、キャパシタン
ス値を変えることができる。従って、このような回路を
用いて構成されるLPF14、HPF15はその性能を
劣化させること無く通過位相を変えることができる。
【0010】次に移相器の動作について説明する。ここ
では、第1、第2の能動インダクタ19、20と第1の
能動キャパシタ21が機能するようにして第1、第2の
ゲートバイアス端子25、26にバイアスを印加するも
のとする。一方、第3のゲートバイアス端子27にピン
チオフ電圧を印加し、かつFET18dとFET18f
のドレインバイアス電圧を0Vとすると、FET18d
とFET18fそれぞれのドレイン・ソース間は遮断と
なる。さらに、第4のゲートバイアス端子28を0Vと
し、かつFET18eのドレインバイアス電圧を0Vと
すると、FET18eのドレイン・ソース間は短絡とな
る。この結果、HPF15側の経路は遮断となり、入力
端子1から入射した電波はすべてLPF14を通過する
ことになり、位相遅れを生じて出力端子2にあらわれ
る。ついで、第1、第2のゲートバイアス端子25、2
6の印加バイアスと第3、第4のゲートバイアス端子2
7、28の印加バイアスを逆転し、これに応じてドレイ
ンバイアス電圧条件を変えることにより、電波の伝搬経
路をHPF15側に切り換えることができ、入力端子1
から入射した電波はすべてHPF15を通過することに
なり、位相進みを生じて出力端子2にあらわれる。
【0011】以上のように、印加バイアス電圧条件に応
じて電波伝搬経路をLPF14側、HPF15側とに切
り換えることができ、かつ、LPF14、HPF15を
構成しているインダクタ、キャパシタの値が制御可能で
あるため、一段の移相器で位相遅れから位相進みまでの
比較的広い範囲に亙って任意の移相量を連続的に設定す
ることができる。
【0012】実施例2.図3はこの発明の移相器の他の
実施例を示す回路構成図である。上記実施例1において
は、HPF14、LPF15はともに3個ずつのリアク
タンスFETを用いてフィルタを構成する場合の構成に
ついて示したが、この実施例では5個のリアクタンスF
ETを用いてHPF14、LPF15を構成した場合の
マイクロ波半導体移相器の構成を示す。図において、1
6g〜16jは可変キャパシタ、17g〜17jは可変
レジスタ、18g〜18jはFET、29は第4の能動
キャパシタ、30は第4の能動インダクタ、31は第5
の能動インダクタ、32は第5の能動キャパシタであ
る。なお、それぞれの能動キャパシタおよび能動インダ
クタの構成は図1と同様である。また、第1、第2、第
4の能動インダクタ19、20、30と第1、第4の能
動キャパシタ21、29でHPF14が形成され、第
2、第3、第5の能動キャパシタ23、24、32と第
3、第5の能動インダクタ22、31でLPF15が形
成されている。
【0013】ここで、リアクタンスFETおよび移相器
の動作については上記実施例1と同様であり、説明を省
略する。
【0014】この実施例によれば、実施例1と同様の効
果に加えて、キャパシタおよびインダクタにより構成す
るフィルタを多段構成としたことにより広帯域化できる
利点がある。
【0015】ところで、上記実施例1および実施例2に
おいては、能動キャパシタまたは能動インダクタを構成
するリアクタンスFETを3個または5個用いてそれぞ
れHPF14、LPF15を構成した場合を示したが、
リアクタンスFETの使用数はこれに限らず、少なくと
も一つが入力端子1側の端に配置されていれば良く、さ
らに、HPF14とLPF15を構成するリアクタンス
FETの使用数は同数でなくても良い。なお、リアクタ
ンスFETは上記の入力端子1側の端に配置される少な
くとも一つが抵抗あるいはキャパシタを可変としてリア
クタンスを可変とするように形成されたものであれば良
く、また、LPF14、HPF15を構成するキャパシ
タおよびインダクタのすべてを可変とする必要はない。
【0016】また、上記実施例1および実施例2におい
ては、図2に示した基本構成のリアクタンスFETによ
り能動キャパシタおよび能動インダクタを形成した場合
について示したが、損失特性改善や帯域特性改善のため
にさらに抵抗またはリアクタンス素子を付加した構成と
しても良い。
【0017】上記実施例1および実施例2においては、
3端子の能動素子としてFETを用いたリアクタンスF
ETの場合を示したが、これに限らず、たとえばバイポ
ーラトランジスタやHEMTを用いても同様に構成でき
る。
【0018】
【発明の効果】以上のようにこの発明によれば、リアク
タンスを可変とするように形成された能動インダクタあ
るいは能動キャパシタを備えて構成された低域通過形フ
ィルタを有する第1の電波伝搬経路と、高域通過形フィ
ルタを有する第2の電波伝搬経路とを備え、上記能動イ
ンダクタあるいは能動キャパシタへの印加バイアス条件
を変えることにより第1の電波伝搬経路と第2電波伝搬
経路の一方を選択するので、所要能動素子数を従来の移
相器と同等にして位相遅れと位相進みを切り替え、か
つ、連続的な移相量の設定ができる効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の実施例1を示す回路構成図である。
【図2】この発明の実施例1のリアクタンスFETにお
いて能動インダクタ、能動キャパシタを実現する回路構
成を説明するための回路図である。
【図3】この発明の実施例2を示す回路構成図である。
【図4】従来の移相器を示す等価回路図である。
【符号の説明】
1 入力端子 2 出力端子 3 第1のスイッチ用電界効果トランジスタ 4 第2のスイッチ用電界効果トランジスタ 5 第3のスイッチ用電界効果トランジスタ 6 第4のスイッチ用電界効果トランジスタ 7 第1の単極双投スイッチ 8 第2の単極双投スイッチ 9 第1のインダクタ 10 第1のキャパシタ 11 第2のキャパシタ 12 第2のインダクタ 13 バイアス端子 14 低域通過形フィルタ 15 高域通過形フィルタ 16 可変キャパシタ 17 可変レジスタ 18 電界効果トランジスタ 19 第1の能動インダクタ 20 第2の能動インダクタ 21 第1の能動キャパシタ 22 第3の能動インダクタ 23 第2の能動キャパシタ 24 第3の能動キャパシタ 25 第1のゲートバイアス端子 26 第2のゲートバイアス端子 27 第3のゲートバイアス端子 28 第4のゲートバイアス端子 29 第4の能動キャパシタ 30 第4の能動インダクタ 31 第5の能動インダクタ 32 第5の能動キャパシタ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 伊東 健治 鎌倉市大船五丁目1番1号 三菱電機株 式会社 電子システム研究所内 (56)参考文献 特開 昭64−12712(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H03H 11/16

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 入力端子と、出力端子と、上記入力端子
    と出力端子との間に接続され、トランジスタや電界効果
    トランジスタ等の能動素子と抵抗およびキャパシタとを
    有して構成されたリアクタンストランジスタやリアクタ
    ンス電界効果トランジスタ等のリアクタンス能動素子
    で、上記抵抗あるいはキャパシタを可変としてリアクタ
    ンスを可変とするように形成された能動インダクタある
    いは能動キャパシタを備えて構成された低域通過形フィ
    ルタを有する第1の電波伝搬経路と、上記能動インダク
    タあるいは能動キャパシタを備えて構成された高域通過
    形フィルタを有する第2の電波伝搬経路とを備え、上記
    第1の電波伝搬経路と第2電波伝搬経路のそれぞれが有
    する能動インダクタあるいは能動キャパシタの少なくと
    も一つが上記入力端子端に配置され、上記能動インダク
    タあるいは能動キャパシタへの印加バイアス条件を変え
    ることにより第1の電波伝搬経路と第2電波伝搬経路の
    一方を選択することを特徴とする移相器。
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WO2009113657A1 (ja) * 2008-03-13 2009-09-17 旭化成エレクトロニクス株式会社 発振器
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