JP2996579B2

JP2996579B2 - 把持装置の洗浄処理装置と洗浄処理方法及び基板の洗浄処理装置

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Publication number: JP2996579B2
Application number: JP22813693A
Authority: JP
Inventors: 和也山口
Original assignee: Tokyo Electron Ltd
Current assignee: Tokyo Electron Ltd
Priority date: 1993-08-20
Filing date: 1993-08-20
Publication date: 2000-01-11
Anticipated expiration: 2015-01-11
Also published as: JPH0758074A

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、把持装置の洗浄処理装
置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】例えばＬＳＩ等の半導体デバイスの製造
工程における洗浄処理を例にとって説明すると、従来か
ら半導体ウエハ（以下、「ウエハ」という）表面のパー
ティクル、有機汚染物、金属不純物等のコンタミネーシ
ョンを除去するために洗浄処理装置が使用されており、
その中でもとりわけウエット洗浄装置は、前記コンタミ
ネーションを効果的に除去できしかもスループットが良
好なため、幅広く普及している。

【０００３】かかるウエット洗浄装置においては、例え
ば連続バッチ処理が行えるように、被洗浄処理体である
ウエハを所定の枚数、例えば５０枚を一括して薬液洗浄
処理槽や水洗洗浄処理槽での各種洗浄処理を順次実施す
る如く構成されている。そのためこのようなウエット洗
浄装置では、前記ウエハを一括して整列状態で把持し
て、これを搬送するためのウエハチャックと呼ばれる把
持装置が使用されている。

【０００４】この種の把持装置は、通常一対の把持部材
を具備し、これら各把持部材相互の接近、離隔によって
ウエハの把持、解放を行うように構成されているが、前
記したウエット洗浄装置においては、ウエハのみならず
このような把持装置をも洗浄、乾燥処理する必要がある
ため、ウエハ用の前出各種の洗浄処理槽の他に、前記把
持装置の乾燥、処理を行うためのウエハチャック用の洗
浄処理装置が備えられている。

【０００５】そして従来のウエハチャック用の洗浄処理
装置は、例えば実開昭６１−１５３３４０号公報に記載
された「浸漬型基板処理装置」において開示されている
ように、把持部材に相当する一対の挟持用取手を処理槽
内に降下させつつ、処理槽内に設けた洗浄ノズルからの
洗浄水の噴射、及びエアー吹き出し孔からのエアーによ
って、一対の挟持用取手を同時に洗浄したり、乾燥した
りするように構成されていた。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら近年で
は，従来のような昇降動作を行わない，水平移動のみを
行うウェハチャックの実用化が図られている。また，最
近はウエハなどの被洗浄処理体のサイズが大きくなり，
それに伴って洗浄処理槽も大型化する傾向にあり，その
結果前記したようなウエット洗浄装置も全体として極め
て大きくなってしまう。そのうえ連続洗浄処理の種類の
増加が加わると，益々装置全体の大型化するという問題
がある。そのため各種搬送系や排気系，配管系の各装置
についても，可能な限りコンパクトにすることが求めら
れている。

【０００７】ところが前記従来のウエハチャック用の洗
浄処理装置は，処理槽が昇降できる構成ではないため，
最近実用化が図られている水平移動のみを行うウェハチ
ャックを洗浄することができない。また，従来のウエハ
チャック用の洗浄処理装置は，一対の挟持用取手を同時
に処理槽内にて洗浄，乾燥させているため，必然的にこ
の処理槽を２本の挟持用取手を収納するに十分な大きさ
としなければならない。通常この種の把持装置では，一
対の把持部材によってウエハの両周縁部を挟むようにし
て保持する如く構成されているから，個々の把持部材相
互間には，ほぼウエハの直径に相当する長さ分の間隔が
設けられている。したがってそのような間隔を有する２
本の把持部材を同時に処理槽内にて洗浄，乾燥させるに
は，本来必要な２本の把持部材に対応する空間のみなら
ず，上記間隔をも加えたスペースが処理槽に要求されて
いたのである。

【０００８】しかも２本の把持部材に対して洗浄水の噴
射やエアーの吹き出しを同時に実施するには、それに応
じた定格出力を有するポンプや、各種給排気系の装置を
使用しなければならない。

【０００９】従ってこれらの必然的条件の下では、ウエ
ハチャック用の洗浄処理装置をコンパクトにするにも限
界があった。前記したコンパクト化の限界は、一対の挟
持用取手を同時に処理槽内にて洗浄、乾燥していること
にその根本的な問題があり、また２本の把持部材相互間
の前記間隔は、把持部材の洗浄、乾燥が行われる処理槽
にとっては、本来的には無駄な空間でもある。

【００１０】本発明はかかる点に鑑みてなされたもので
あり，最近実用化が図られている水平移動のみを行うウ
ェハチャックを洗浄することができ，また，一対の把持
部材によって被洗浄処理体を整列して把持する如く構成
された把持装置を洗浄，乾燥するにあたり，個々の把持
部材毎に洗浄，乾燥が行えるようにして，その分処理槽
の大きさや，ポンプ，各種給排気系の装置などをコンパ
クトにできる把持装置の洗浄処理装置を提供して，上記
問題の解決を図ることを目的とするものである。

【００１１】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め，請求項１の発明は，一対の把持部材で複数の被処理
体を整列状態で把持する如く構成された把持装置を，適
宜の処理槽内で洗浄・乾燥する如く構成された把持装置
の洗浄処理装置において，前記処理槽を，上下動自在に
構成したことを特徴とする。この請求項１の洗浄処理装
置において，請求項２に記載したように，前記処理槽
を，前記一対の把持部材のうちの１の把持部材のみを洗
浄・乾燥するのに必要十分な大きさとしても良い。ま
た，請求項３に記載したように，前記処理槽内に，前記
把持部材に向かって乾燥ガスを吹き出すエアー吹出装置
と，このエアー吹出装置の下側に配置されて前記把持部
材に向かって洗浄液を吹き出す洗浄液吹出装置を設ける
ことができる。この場合，請求項４に記載したように，
前記処理槽は少なくとも四側を構成する側板を備えてお
り，前記エアー吹き出し装置と前記洗浄液吹き出し装置
がそれら側板のうち長尺の各側板表面に設けられること
が好ましい。また，請求項５に記載したように，前記処
理槽に対して前記把持部材が相対的に上昇しているとき
に前記洗浄液吹出装置が洗浄液を吹き出すことが好まし
い。更にまた，請求項６に記載したように，前記処理槽
に対して前記把持部材が相対的に上昇しているときに前
記エアー吹出装置が乾燥ガスを吹き出すことが好まし
い。また，請求項７に記載したように，前記処理槽の上
下動が往復して行われるように構成しても良い。また，
請求項８に記載したように，前記処理槽を透明に構成し
ても良い。請求項９の発明は，処理槽を上昇させて把持
部材を処理槽内に収納させる工程と，洗浄液を把持部材
に対して吹き付ける工程と，更に洗浄液を把持部材に対
して吹き付けながら処理槽を下降させる工程と，洗浄処
理の終了後，再び処理槽を上昇させ，乾燥ガスを把持部
材に対して吹き付ける工程と，更に乾燥ガスを把持部材
に対して吹き付けながら処理槽を下降させる工程を備え
ることを特徴とする把持装置の洗浄処理方法である。こ
の請求項９の洗浄処理方法において，請求項１０に記載
したように，洗浄液を把持部材に対して吹き付けながら
把持部材を水平方向に往復移動させることが好ましい。
また，請求項１１に記載したように，乾燥ガスを把持部
材に対して吹き付けながら把持部材を水平方向に往復移
動させることが好ましい。請求項１２の発明は，一対の
把持部材で複数の被処理体を整列状態で把持する如く構
成された把持装置と，この把持装置の把持部材を洗浄・
乾燥するための請求項１，２，３，４，５，６，７又は
８のいずれかに記載の把持装置の洗浄処理装置と，被処
理体を洗浄・乾燥するための処理槽を備えることを特徴
とする被処理体の洗浄処理装置である。

【００１２】

【作用】本発明によれば，把持装置の洗浄，乾燥が行わ
れる処理槽が，上下動自在に構成されているので，従来
の洗浄，乾燥プロセスと異なり，把持部材がそのままの
位置に停止した状態で，処理槽側が上下動することによ
ってこの処理槽内で把持部材の洗浄，乾燥が行われるこ
とになる。そしてこの処理槽は１の把持部材のみを洗浄
・乾燥するのに必要十分な大きさとすることができるか
ら，一対の把持部材における個々の把持部材毎に，これ
を洗浄・乾燥することが可能になり，前記処理槽のコン
パクト化を始めとして，洗浄・乾燥処理に必要な各種装
置のダウンサイズ化が図れる。

【００１３】

【実施例】以下、本発明の実施例を添付図面に基づいて
説明すると、本実施例は半導体ウエハ（以下、「ウエ
ハ」という）の洗浄処理装置において適用された例であ
り、まずその洗浄処理装置全体について説明すると、こ
の洗浄処理装置１は、図１に示したように、大別して洗
浄処理前のウエハをキャリア単位で投入たるための搬入
部２と、ウエハなどの洗浄処理が行われる洗浄処理部３
と、洗浄処理後のウエハをキャリア単位で取り出すため
の搬出部４の、計３つのゾーンによって構成されてい
る。

【００１４】前記搬入部２には、洗浄処理前のウエハが
所定枚数、例えば２５枚収納されたキャリア５を待機さ
せる待機部６と、このキャリア５からのウエハの取り出
し、オリフラ合わせ、さらには枚葉検出等を行うローダ
部７が設けられており、さらにまた外部から搬送ロボッ
トなどによって搬入されるキャリア５の前記待機部６へ
の搬送、及びこの待機部６と前記ローダ部７との間で、
キャリア５の搬送を行うための搬送アーム８が設けられ
ている。

【００１５】前記洗浄処理部３には、その前面側（図１
における手前側）に３つのウエハ搬送装置１１、１２、
１３が配列されており、また前記洗浄処理部３の上方に
は、前記ウエハ搬送装置１１、１２、１３によってウエ
ハが取り出された後の空のキャリア５を、洗浄、乾燥処
理するキャリア洗浄・乾燥ライン１４が前記洗浄処理部
３に沿って設けられている。このキャリア洗浄・乾燥ラ
イン１４へのキャリアの供給は、前出ローダ部７と昇降
機構１５によって行われる。

【００１６】一方、搬出部４においても、前記昇降機構
１５と同様な昇降機構（図示せず）が設けられており、
前記洗浄・乾燥ライン１４を経た空のキャリア５は、こ
の昇降機構によって前記搬出部４内の所定の受け取り位
置にセットされるように構成されている。

【００１７】前記洗浄処理部３には、前記ローダ部７側
から順に、前記ウエハ搬送装置１１のウエハチャック１
６を洗浄、乾燥するチャック洗浄・乾燥処理槽２１、ウ
エハ表面の有機汚染物、金属不純物、パーティクル等の
不純物質を薬液によって洗浄処理する薬液洗浄処理槽２
２、前記薬液洗浄処理槽２２で洗浄されたウエハを例え
ば純水によって洗浄する２つの水洗洗浄処理槽２３、２
４、前記薬液洗浄処理槽２２における薬液とは異なった
薬液で洗浄処理する薬液洗浄処理槽２５、前記薬液洗浄
処理槽２５で洗浄されたウエハを例えば純水によって洗
浄する２つの水洗洗浄処理槽２６、２７、前記ウエハ搬
送装置１３のウエハチャック１８を洗浄、乾燥するチャ
ック洗浄・乾燥処理槽２８、及び前記不純物質が除去さ
れたウエハを、例えばＩＰＡ（イソプロピルアルコー
ル）等で蒸気乾燥させるための乾燥処理槽２９が夫々配
設されている。また前記薬液洗浄処理槽２２、２５は夫
々の洗浄処理液がオーバーフローして循環し、この循環
時にそれぞれの洗浄処理液内に蓄積された不純物が除去
されるように構成されている。

【００１８】本実施例は、前記チャック洗浄・乾燥処理
槽２１、２８に夫々適用されており、いずれも同一構成
であるから、チャック洗浄・乾燥処理槽２８への適用例
について図１、図２に基づき説明すると、まず前記ウエ
ハチャック１８が装着されているウエハ搬送装置１３
は、基台の１３ａの下部に設けられて前出各洗浄処理槽
の配列方向（Ｘ方向）に沿って移動する搬送ベース１３
ｂと、前記ウエハチャック１８を前出各洗浄処理槽の長
手方向（Ｙ方向）及び上下方向（Ｚ方向）に移動させる
駆動機構１３ｃによって構成されている。

【００１９】そしてウエハチャック１８は、一対の対向
した把持部材３１、３２によって構成されており、この
把持部材３１、３２の各基部が前記駆動機構１３ｃの前
面に回動自在に設けられている。

【００２０】前記各把持部材３１、３２は、左右対称形
であり、夫々その両端部から下方に垂下された枠体３
３、３４間の下方に把持棒３５、３６が、上下平行に渡
されている。そしてこれら各把持棒３５、３６の表面に
は各々把持溝Ｐ、Ｑが一定間隔の下で、例えば５０本形
成されており、被洗浄処理体であるウエハは、その周縁
部がこれら把持溝Ｐ、Ｑに夫々挿入され、各把持部材３
１、３２が夫々内側に回動、即ち閉脚されると、これら
各把持部材３１、３２によって把持されるように構成さ
れている。

【００２１】一方前記把持部材３１、３２の洗浄、乾燥
の各処理が行われるチャック洗浄・乾燥処理槽２８は、
図３、図４に示したように、外側に位置して水洗洗浄処
理槽２７と乾燥処理槽２９とに挟まれてこれらと並設し
て設置されている外槽４１と、この外槽４１内に摺動自
在に収納されかつ適宜の駆動機構（図示せず）によって
上下動自在に構成されている上下面が開口した処理槽４
２によって構成されている。

【００２２】前記駆動機構には各種のモータを使用する
ことができ、またこの駆動機構の駆動によって前記処理
槽４２を上下動させるには、例えば前記処理槽４２の側
面に適宜のブラケット４３を固定し、このブラケット４
３又はシャフト４４を介して取り付けたブロック４４ａ
を適宜のスクリューシャフトによって昇降させるように
構成したり、その他例えばタイミングベルトによる駆動
方式を採ってもよく、その他エアシリンダの伸縮によっ
て上下動させるように構成してもよい。いずれにしても
洗浄処理装置１内の雰囲気を鑑みれば、これら駆動機構
やその伝達機構は、外槽４１外部にて気密状態で設置す
ることが好ましい。

【００２３】そして前記処理槽４２内の四側を構成する
側板のうち、長尺の各側板４５、４６の内側表面各上方
には、エアー吹き出し装置５１、及びこのエアー吹き出
し装置５１の下側に平行に位置する洗浄液吹き出し装置
６１が夫々対向して設けられている。

【００２４】前記エアー吹き出し装置５１は、両端部が
閉口した中空の管材によってその本体５２が構成され、
その表面にエアーノズルＡＮが一定間隔の下で多数（例
えば６０本：ＡＮ₁〜ＡＮ₆₀）設けられており、フレキ
シブルチューブ５４及び供給管５５を通じて前記本体５
２の一端部からその中空内部に供給される、乾燥空気や
不活性ガス（例えばＮ₂）が、前記各エアーノズルＡＮ
から処理槽３１内に対向して吹き出されるように構成さ
れている。

【００２５】一方前記洗浄液吹き出し装置６１も、両端
部が閉口した中空の管材によってその本体６２が構成さ
れ、その表面に複数の洗浄液ノズルＷＮがで設けられて
おり、フレキシブルチューブ６４及び供給管６５を通じ
て前記本体６２の中央部からその中空内部に供給され
る、純水などの洗浄液が、前記各洗浄液ノズルＷＮか
ら、夫々放射状に処理槽３１内に対向して吹き出される
ように構成されている。

【００２６】なお前記エアー吹き出し装置５１及び洗浄
液吹き出し装置６１における各エアーノズルＡＮや各洗
浄液ノズルＷＮについての設置数、設置間隔、設置角度
に関しては、洗浄、乾燥対象となるウエハチャックの把
持部材の形状、大きさ、表面状態などに応じて、適宜任
意に設定して使用することが可能である。

【００２７】例えばエアー吹き出し装置について言う
と、図５にその平面を示したエアー吹き出し装置５１Ａ
のように、本体５２に対する直角線に対して全てのエア
ーノズルＡＮ₁〜ＡＮ₆₀が傾斜するように構成してもよ
く、その他例えば図６にその平面を示したエアー吹き出
し装置５１Ｂのように、エアーノズルＡＮ₁〜ＡＮ₅₇に
ついては本体５２に対する直角線に対して傾斜し、エア
ーノズルＡＮ₅₈については、本体５２に対する直角線に
対して０゜（本体５２に対して直角）、残りのエアーノ
ズルＡＮ₅₉、ＡＮ₆₀については、本体５２に対する直角
線に対して前記エアーノズルＡＮ₁〜ＡＮ₅₇とは逆方向
に傾斜するように設定してもよい。

【００２８】さらにまた図７にその平面を示したエアー
吹き出し装置５１Ｃのように、一端部部近傍のエアーノ
ズルＡＮ₁、ＡＮ₂については本体５２に対する直角線に
対して傾斜し、他端部近傍のエアーノズルＡＮ₅₉、ＡＮ
₆₀については本体５２に対する直角線に対して前記エア
ーノズルＡＮ₁、ＡＮ₂とは逆方向に傾斜し、残りのエア
ーノズルＡＮ₃〜ＡＮ₅₈については、本体５２に対する
直角線に対して０゜（本体５２に対して直角）となるよ
うに設定しもよい。

【００２９】なお前記したエアーノズルＡＮの各設定角
度は、平面からみた水平方向の角度に関してであった
が、さらにエアーノズルＡＮの俯角についても、必要に
応じて各エアーノズルＡＮ毎に任意に設定してもよい。
このようにエアーノズルＡＮの水平方向の角度、並びに
俯角の設定を適宜調整することにより、被洗浄体である
ウエハチャックの形状、構造等に対して最適な洗浄、乾
燥処理を実行することが可能である。

【００３０】以上のように構成された処理槽４２内のサ
イズは、図４に示したように把持部材３１が処理槽４２
内に位置したときに、前記エアー吹き出し装置５１及び
洗浄液吹き出し装置６１がこの把持部材３１に接触せ
ず、支障なく洗浄、乾燥処理が行われる大きさに設定さ
れている。

【００３１】本実施例は以上のように構成されており、
次にその動作について説明すると、まず前出図２に示し
たように、ウエハチャック１８の把持部材３１が、チャ
ック洗浄・乾燥処理槽２８の真上にくるように、搬送ベ
ース１３ｂを移動させ、その位置で停止させる。次に駆
動機構によって図８に示したように処理槽４２を上昇さ
せて、把持部材３１を処理槽４２内に収納せる。

【００３２】そしてまず各洗浄液吹き出し装置６１、６
１の洗浄液ノズルＷＮによって洗浄液を把持部材３１に
対して吹き付ける。このとき例えば図８に示したよう
に、搬送装置１３の駆動機構１３ｃによって、把持部材
３１をＹ方向に往復移動させてもよい。そうすると洗浄
液が様々な方向から把持部材３１に吹き付けられ、極め
て良好な洗浄効果が得られる。

【００３３】その後さらに洗浄液ノズルＷＮによって洗
浄液を把持部材３１に対して吹き付けながら、処理槽４
２を下降させる。そうすることによって、洗浄液吹き出
し装置６１、６１がちょうど前記把持部材３１を下方に
走査することになり、前記把持部材３１は上方から下端
に至るまでくまなく洗浄される。この場合も処理槽４２
の下降中、把持部材３１をＹ方向に往復移動させてもよ
く、そうすることによって、前記把持部材３１は効果的
に洗浄される。

【００３４】そのようにして洗浄液吹き出し装置６１、
６１による水洗洗浄処理が終了すると、再び処理槽４２
を上昇させ、今度は各エアー吹き出し装置５１、５１の
エアーノズルＡＮからの乾燥空気の吹き出しによる乾燥
処理を行う。この場合も前記水洗洗浄処理と同様、把持
部材３１をＹ方向に往復移動させれば、様々な方向から
乾燥空気が把持部材３１に対して吹き付けられ、把持部
材３１の表面に付着した洗浄液を吹き飛ばして、これを
効果的に乾燥させることができ、乾燥時間の短縮等が図
れる。

【００３５】そしてエアーノズルＡＮからの乾燥空気の
吹き出しを行いつつ、処理槽４２を下降させると、前記
水洗洗浄処理の場合と同様、エアー吹き出し装置５１が
前記把持部材３１を下方に走査することになるので、前
記把持部材３１は上方から下端に至るまでくまなく乾燥
される。この場合も処理槽４２の下降中、把持部材３１
をＹ方向に往復移動させてもよく、そうすることによっ
て、前記把持部材３１をより効果的に乾燥させることが
可能である。

【００３６】以上のようにして、把持部材３１の洗浄、
乾燥の各処理が終了すると、搬送ベース１３ｂを移動さ
せて、図９に示したように、今度はウエハチャック１８
における把持部材３２を、チャック洗浄・乾燥処理槽２
８の真上にて停止させる。そして前記の把持部材３１の
洗浄、乾燥処理の場合と同様、まず図１０に示したよう
に、処理槽４２を上昇させて把持部材３２をこの処理槽
４２内に収納させる。後は、前記の把持部材３１の洗
浄、乾燥処理の場合と全く同様の処理手順にて、把持部
材３２を洗浄、乾燥処理させることができるものであ
る。

【００３７】このように本実施例によれば、一対の把持
部材３１、３２によって構成されるウエハチャック１８
の洗浄、乾燥処理を実施する場合、ウエハチャック１８
のＺ方向の位置はそのままで、洗浄、乾燥処理が行われ
る処理槽４２側が上昇し、個々の把持部材３１、３２毎
にこれを１本ずつ洗浄、乾燥処理するようになってお
り、それに対応して前記処理槽４２は、従来のこの種の
処理槽に較べてほぼ半分程度の大きさにまでコンパクト
化されている。

【００３８】また本実施例が適用された洗浄処理装置１
には、前記チャック洗浄・乾燥処理槽２８と同様な構成
にかかる他のチャック洗浄・乾燥処理槽２１も設けられ
ているので、両者相俟って洗浄処理装置１全体を極めて
コンパクト化することが可能である。

【００３９】しかも前記処理槽４２内では１本の把持部
材のみが洗浄、乾燥処理に付されるから、従来２本同時
に洗浄、乾燥していた場合と較べると、洗浄液、乾燥空
気の供給系もそれに対応してダウンサイズ化することが
でき、この点からも洗浄処理装置１全体をコンパクト化
することが可能である。

【００４０】さらに洗浄処理装置１におけるウエハなど
の洗浄処理が行われる既述の洗浄処理部３内は、浮遊パ
ーティクルによる汚染を防止するために、その雰囲気を
他のゾーンから遮断することが望ましいが、上記実施例
においては、この洗浄処理部３のほぼ両端にチャック洗
浄・乾燥処理槽２１、２８が位置しており、それぞれの
処理槽４２を上昇させることにより、この処理槽４２が
一種の遮断壁となって、洗浄処理部３内雰囲気を他のゾ
ーンから遮断させることが可能である。

【００４１】またさらに、前記処理槽４２を例えばアク
リルなどによって透明に構成すれば、この処理槽４２が
上昇して、洗浄、乾燥の各処理が行われている際のその
状況を確認することも可能である。

【００４２】そして把持部材３１、３２の洗浄、乾燥処
理自体についていえば、従来はウエハチャック自体を降
下、上昇させることによってその把持部材の上方から下
端まで洗浄、乾燥するようにしていたが、上記実施例に
おいては、処理槽４２側を下降させることによって把持
部材３１、３２の上方から下端まで洗浄、乾燥するよう
に構成されているので、例えば既述したように、この処
理槽４２の下降中に把持部材３１、３２をＹ方向に移動
させて、いわばジグザグ状に走査させることが可能であ
る。従来の方法では、搬送装置の駆動機構の構成上、そ
のようなジグザグ状の走査は困難であったが、上記実施
例においては、これを容易に実現させることが可能であ
り、それによって従来よりもより効果的な洗浄、乾燥処
理が行うことが可能となっている。なお把持部材３１、
３２のＹ方向への移動は、既述のように往復移動ではな
く、一方向への移動としてもよい。

【００４３】なお上記実施例はウエハの洗浄処理装置に
おいてウエハを把持するウエハチャックの洗浄、乾燥処
理に適用した例であったが、本発明はこれに限らず、他
の把持装置、例えばＬＣＤガラス基板等を把持する把持
装置の洗浄、乾燥処理装置に対しても適用可能である。

【００４４】

【発明の効果】本発明によれば，最近実用化が図られて
いる水平移動のみを行うウェハチャックを洗浄すること
ができるようになる。また，本発明によれば，一対の把
持装置における個々の把持部材毎に，これを洗浄，乾燥
することが可能であり，把持装置を洗浄，乾燥するため
の処理槽のコンパクト化を始めとして，これら洗浄・乾
燥処理に必要な各種装置のダウンサイズ化が図れる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施例が好適に使用されるウエハの洗
浄処理装置の斜視図である。

【図２】実施例の斜視図である。

【図３】実施例の一部破断斜視図である。

【図４】実施例において処理槽が上昇した際の正面断面
図である。

【図５】実施例において使用されるエアー吹き出し装置
のエアーノズルの配設例を示すエアー吹き出し装置の平
面説明図である。

【図６】実施例において使用されるエアー吹き出し装置
のエアーノズルの他の配設例を示すエアー吹き出し装置
の平面説明図である。

【図７】実施例において使用されるエアー吹き出し装置
のエアーノズルの他の配設例を示すエアー吹き出し装置
の平面説明図である。

【図８】実施例において、処理槽が上昇してウエハチャ
ックの一の把持部材をその中に収納した際の様子を示す
斜視図である。

【図９】実施例において、ウエハチャックを移動させて
他の把持部材を洗浄、乾燥処理させる前の状態を示す斜
視図である。

【図１０】実施例において、処理槽が上昇してウエハチ
ャックの他の把持部材をその中に収納した際の様子を示
す斜視図である。

【符号の説明】

１洗浄処理装置１３搬送装置１８ウエハチャック２１、２８チャック洗浄・乾燥処理槽３１、３２把持部材４２処理槽５１エアー吹き出し装置６１洗浄液吹き出し装置ＡＮエアーノズルＷＮ洗浄液ノズル

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】一対の把持部材で複数の被処理体を整列
状態で把持する如く構成された把持装置を，適宜の処理
槽内で洗浄・乾燥する如く構成された把持装置の洗浄処
理装置において，前記処理槽を，上下動自在に構成したことを特徴とする
把持装置の洗浄処理装置。
【請求項２】前記処理槽を，前記一対の把持部材のう
ちの１の把持部材のみを洗浄・乾燥するのに必要十分な
大きさとしたことを特徴とする請求項１に記載の把持装
置の洗浄処理装置。
【請求項３】前記処理槽内に，前記把持部材に向かっ
て乾燥ガスを吹き出すエアー吹出装置と，このエアー吹
出装置の下側に配置されて前記把持部材に向かって洗浄
液を吹き出す洗浄液吹出装置を設けたことを特徴とする
請求項１又は２に記載の把持装置の洗浄処理装置。
【請求項４】前記処理槽は少なくとも四側を構成する
側板を備えており，前記エアー吹き出し装置と前記洗浄
液吹き出し装置がそれら側板のうち長尺の各側板表面に
設けられることを特徴とする請求項３に記載の把持装置
の洗浄処理装置。
【請求項５】前記処理槽に対して前記把持部材が相対
的に上昇しているときに前記洗浄液吹出装置が洗浄液を
吹き出すことを特徴とする請求項３又は４に記載の把持
装置の洗浄処理装置。
【請求項６】前記処理槽に対して前記把持部材が相対
的に上昇しているときに前記エアー吹出装置が乾燥ガス
を吹き出すことを特徴とする請求項３，４又は５のいず
れかに記載の把持装置の洗浄処理装置。
【請求項７】前記処理槽の上下動が往復して行われる
ことを特徴とする請求項１，２，３，４，５又は６のい
ずれかに記載の把持装置の洗浄処理装置。
【請求項８】前記処理槽が透明に構成されることを特
徴とする請求項１，２，３，４，５，６又は７のいずれ
かに記載の把持装置の洗浄処理装置。
【請求項９】処理槽を上昇させて把持部材を処理槽内
に収納させる工程と，洗浄液を把持部材に対して吹き付
ける工程と，更に洗浄液を把持部材に対して吹き付けな
がら処理槽を下降させる工程と，洗浄処理の終了後，再
び処理槽を上昇させ，乾燥ガスを把持部材に対して吹き
付ける工程と，更に乾燥ガスを把持部材に対して吹き付
けながら処理槽を下降させる工程を備えることを特徴と
する把持装置の洗浄処理方法。
【請求項１０】洗浄液を把持部材に対して吹き付けな
がら把持部材を水平方向に往復移動させることを特徴と
する請求項９に記載の把持装置の洗浄処理方法。
【請求項１１】乾燥ガスを把持部材に対して吹き付け
ながら把持部材を水平方向に往復移動させることを特徴
とする請求項９又は１０に記載の把持装置の洗浄処理方
法。
【請求項１２】一対の把持部材で複数の被処理体を整
列状態で把持する如く構成された把持装置と，この把持
装置の把持部材を洗浄・乾燥するための請求項１，２，
３，４，５，６，７又は８のいずれかに記載の把持装置
の洗浄処理装置と，被処理体を洗浄・乾燥するための処
理槽を備えることを特徴とする被処理体の洗浄処理装
置。