JP2968539B2 - 窒化アルミニウム構造物の製造方法 - Google Patents
窒化アルミニウム構造物の製造方法Info
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- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical group Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 title claims description 199
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 19
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 7
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims description 92
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 77
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 76
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 76
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 31
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 21
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 claims description 3
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 claims description 3
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N yttrium atom Chemical compound [Y] VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 claims 1
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 34
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 28
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 24
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 19
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 17
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 17
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 13
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 11
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 10
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 10
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 9
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 8
- 230000008859 change Effects 0.000 description 7
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 7
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 7
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 description 7
- 229910018516 Al—O Inorganic materials 0.000 description 6
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 6
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 4
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 238000007731 hot pressing Methods 0.000 description 3
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 3
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920005822 acrylic binder Polymers 0.000 description 2
- AJXBBNUQVRZRCZ-UHFFFAOYSA-N azanylidyneyttrium Chemical compound [Y]#N AJXBBNUQVRZRCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 239000006104 solid solution Substances 0.000 description 2
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 2
- 229910017109 AlON Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052691 Erbium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052689 Holmium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017768 LaF 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- -1 Ti and Zr Chemical class 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007767 bonding agent Substances 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 238000000280 densification Methods 0.000 description 1
- 238000010292 electrical insulation Methods 0.000 description 1
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 1
- 238000009408 flooring Methods 0.000 description 1
- 150000002222 fluorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000002223 garnet Substances 0.000 description 1
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 1
- 150000001247 metal acetylides Chemical class 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/515—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics
- C04B35/58—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics based on borides, nitrides, i.e. nitrides, oxynitrides, carbonitrides or oxycarbonitrides or silicides
- C04B35/581—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics based on borides, nitrides, i.e. nitrides, oxynitrides, carbonitrides or oxycarbonitrides or silicides based on aluminium nitride
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- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
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Description
方性を有するAN構造物及びその製造方法に関する。
衝撃性に優れ、かつ溶融金属に濡れず、更に電気絶縁性
が高く、高熱伝導性である等、多くの優れた特性を有す
る。このようなANの中でも特に優れた特性を有する
ANセラミックスは、例えば特開昭60−127267号等に
開示されている製造方法により得ることができる。
ラミックスでは、各種の物性は等方性を示しているが、
近年各種の物性が異方性を示すAN構造物を実用化す
ることが要望されている。係る要望に対し、特開昭60−
73843号では熱伝導異方性を有するAN構造物が示さ
れている。しかしながら、このAN構造物はANと
Al−O−N系またはAl−Si−O−N系等の化合物とが一
体化された構造を有することから、ANの優れた特性
を充分に活用するまでには至っていない。
われること、および、高温下や金属蒸気中等の厳しい環
境化においては、Al−O−N系またはAl−Si−O−N系
等の化合物の耐性が劣り、腐蝕等による劣化が進んでし
まうため用いることができなかった。
にANが用いられていないため、AN以外の材料を
用いた部分において劣化が生じるという問題があり、A
Nの優れた特性が充分に活用されているとは言えなか
った。
有する耐熱性、耐食性等は保持しながら、熱伝導性、透
光、強度等の物性については異方性を有するAN構造
物及びその製造方法を提供することを目的としている。
過率あるいは強度の物性が、所定の位置によって異なる
ように、純度の異なる複数の窒化アルミニウム基体が所
定の位置関係で一体化されていることを特徴とする窒化
アルミニウム構造物である。すなわち上記したような構
成により、熱伝導率、透光、強度等の物性について異方
性が付与されたことを特徴としている。
存在するAN粒内の固溶酸素、AN基体中に含有さ
れる遷移金属、AN基体中の気孔等の量により定義さ
れるものとする。従って本発明のAN構造物は、A
N粒内の酸素含有量、AN基体中の遷移金属含有量、
及びAN基体中の気孔率が少なくとも1種が異なる複
数のAN基体が一体化されて構成される。前記AN
基体においては、前述の如く定義された純度を変化させ
ることにより、熱伝導性、透光性、強度等の値がその都
度変化するので、上記したような構成のAN構造物で
は前述したような物性値についての異方性が付与するこ
とが可能である。
は、ANセラミックスが特に優れた特性を有し、好適
である。以下に純度の異なる複数のANセラミックス
が所定の位置関係で一体化されてなるAN構造物につ
いて、より詳細に説明する。
種の物性値は、前記した複数のANセラミックスにお
ける先に定義した純度によって決定される。すなわち、
AN粒内の酸素含有量はANセラミックスの熱伝導
率と相関関係があり、酸素含有量が少ないと前記熱伝導
率が上昇し、逆に酸素含有量が多いと熱伝導率が低下す
る。また、ANセラミックスの遷移金属含有量も前記
熱伝導率及び透光性と相関関係があり、遷移金属含有量
が少ないほど熱伝導率及び透光性が上昇する。さらにA
Nセラミックスの気孔率はANセラミックスの熱伝
導率及び強度と相関関係があり、気孔率が小さいと前記
熱伝導率及び強度が増大し、気孔率が大きいと熱伝導率
及び強度が低下する。従って、AN粒内の酸素含有量
の異なるANセラミックスまたはANセラミックス
中の遷移金属含有量の異なるANセラミックスを一体
化せしめると、熱伝導率及び透光率について異方性が付
与される。また、ANセラミックス中の気孔率の異な
るANセラミックスを一体化せしめる場合には、熱伝
導率及び強度について異方性が付与される。
等は、AN構造物の用途等を考慮して制御されること
がより好ましい。ただしANセラミックスの純度は、
耐熱性、耐食性等のANセラミックスが有する優れた
特性を失わない程度であることが必要であり、ANセ
ラミックス中遷移金属含有量は40wt%以下、気孔率は40
vol%以下であることが望ましい。また本発明に係るA
Nセラミックスを得るためには、アルカリ土類元素や
希土類元素等を含有する焼結助剤が必要に応じて用いら
れる。この場合本発明のANの構造物中に、前記焼結
助剤に起因する残留成分が含有されていても構わない。
このような残留成分としては、R−Al−O系化合物(た
だしRはアルカリ土類元素を示す)、Ln−Al−O系化合
物(ただしLnはイットリウム(Y)及び希土類元素の少
なくとも1種を示す)、Ln−R−Al−O系化合物等が上
げられる。上述したLn元素のANセラミックス焼結時
における添加量を変化させることにより、ANセラミ
ックスの純度を変化させてもよい。ただし、上述したよ
うな物性値の異方性を付与せしめるための遷移金属とし
ては、Ti,Zr,Hf等が好ましい成分である。さらに本発明
のAN構造物中には、上記したような焼結助剤の残留
成分以外に、AN粒内への酸素固溶に起因するAl
(8/3+X/3)O4-XNXやAl9O3N7(27R型ポリタイプ)等の
Al−O−N系化合物が少量存在していても良い。以上
に、本発明のAlN構造物においてもAN基体としてA
Nセラミックスが用いられていた場合を詳細に説明し
たが、本発明はこれによって限定されることなく、例え
ばAN基体はスパッタリング等の方法で基板上に形成
されたAN薄膜等であっても構わない。
に酸素トラップ物質を設置した後、非酸化性雰囲気中で
加熱して酸素トラップ物質が設置された領域のAN基
体を高純度化せしめることにより得ることができる。こ
の製造方法は、特にAN粒内の酸素含有量の異なる複
数のAN基体が所定の位置関係で一体化されてなるA
N構造物の製造が好適である。
発明者らが次のような知見を得たことに基づく。すなわ
ち前述した加熱時には、AN基体とAN基体上の所
定の位置に設置された酸素トラップ物質との間で反応が
進む。ただし、本発明で述べるところの酸素トラップ物
質とは、AN基体との共存下で加熱することにより、
AN基体と反応してAN粒内に固溶する酸素をトラ
ップする機能を有する物質を示す。この反応により、A
N粒内に含有される酸素が前記酸素トラップ物質中に
トラップされ、AN基体の高純度化が進む。しかもこ
のとき、AN基体の高純度化はAN基体と酸素トラ
ップ物質との接触面から垂直方向にのみ、面体方向には
拡がらない。つまりこのような高純度化はほとんどにじ
みのない状態でAN基体内部へと進行するので、前記
酸素トラップ物質を設置する位置によりAN基体にお
いて高純度化される部分を制御することができる。従っ
てAN基体中、所定の位置における酸素含有量の少な
い本発明に係るAN構造物を得ることができる。
ラミックス焼結時に適宜添加され、出発材料のAN粉
末中に含有される酸素をトラップする働きを有する公知
の焼結助剤をそのまま利用することができる。このよう
な焼結助剤としては、前述したようなR元素やLn元素の
酸化物、フッ化物、炭化物、チッ化物、さらには焼成に
よりこれらに変化する化合物等が挙げられる。本発明の
酸素トラップ物質は、このような焼成助剤の粉末をその
まま用いることもできるが、このような焼成助剤の成形
物や焼結助剤を含有するANセラミックスを用いるこ
ともできる。なおこのような焼結助剤は、本発明に係る
AN基体がANセラミックスである場合、このA
Nセラミックスを焼結する際に、必要に応じて添加が可
能であることはいうまでもない。
属含有量や気孔率の異なる本発明に係るAN構造物に
適用することも可能である。これらは本発明者が研究を
進めた結果、前述したような酸素トラップ物質がTi,Zr
等の遷移金属をもトラップする働きを有する事実を見出
したことに基づく。また、前記酸素トラップ物質として
利用される焼結助剤は、焼結時に液相となってAN基
体の緻密化を促進させる成分である。従って本発明の製
造方法において、再焼結時の焼結条件を適当に設定すれ
ば、所定の位置における気孔率の少ない本発明に係るA
N構造物が実現できる。
中でもFe等については比較的トラップ効果が少ない。従
って、AN基体中にこのようなトラップ効果の少ない
遷移金属が含有されている時には、本発明の製造方法に
より所定の位置において、遷移金属含有量はほとんど変
化させることなく、酸素含有量や気孔率のみ変化させる
こともできる。
を用いて研究を進めた結果、次のような知見を得た。前
記酸素トラップ物質への酸素のトラップが進むにつれ、
酸素トラップ物質は組成及び結晶構造が逐次変化する。
例えば、組成が2Y2O3・A2O3で表される化合物を含有
した酸素トラップ物質を用いた場合には、組成がY2O3・
A2O3から3Y2O3・5A2O3へと変化していく。またこ
れに伴ない結晶構造もペロブスカイト系からガーネット
系へと変化する。すなわち上述したような組成の変化に
示されるように、AN粒内の酸素はアルミナ(A2O
3)として前記酸素トラップ物質にトラップされ高純度
化が進行する。さらに前記トラップ物質が3Y2O3・5A2
O3で表される化合物になると、A2O3のトラップが限
界となるため酸素のトラップ効果が微少となる。また他
のLn元素を含有した酸素トラップ物質についても、前述
したような減少、つまり高純度化の際にはA2O3がト
ラップされ、このようなA2O3のトラップには限界が
あることが確認された。さらにこのようにA2O3のト
ラップが限界となるときの組成は3Ln2O3・5A2O3及びL
n2O3・11A2O3のいずれかであり、3Ln2O3・5A2O3に
おいてA2O3のトラップが限界となる元素はY,Ho,Er等
があり、Ln2O3・11A2O3においてA2O3のトラップが
限界となる元素はLa,Nd,Pr等であった。
究を進め、R元素を含有した酸素トラップ物質について
考察したところ、やはり同様の現象、すなわち高純度化
の際にはA2O3がトラップされ、このようなA2O3の
トラップには限界があることが確認された。例えば、組
成が3CaO・A2O3で表される化合物を含有した酸素ト
ラップ物質を用いた場合には、組成が12CaO・7A2O3,C
aO・A2O3へと変化し、CaO・6A2O3になるとA2O3
のトラップが限界となる。このようにA2O3のトラッ
プが限界になるときの組成は、R元素の場合RO・6A2O
3であった。さらに酸素トラップ物質中にR元素及びLn
元素が混合されて含有されている場合には、組成が2RO.
Ln2O3・3A2O3で表される化合物がA2O3のトラップ
限界となることがわかった。
5A2O3,Ln2O3・11A2O3及び2RO・Ln2O3・3A2O3より
選ばれた少なくとも1種を酸素トラップ物質に利用し
て、AN基体における所定の位置の高純度化を行なえ
ば、酸素含有量はほとんど変化させることなく、遷移金
属含有量や気孔率を変化させることが可能となる。
有量、遷移金属含有量、気孔率等の異なる複数のAN
基体が所定の位置関係で一体化されてなる本発明のA
構造物を得ることができる。従って、熱伝導率、透光
率、強度等の物性について異方性を有する複数のAN
基体からなるAN構造物が実現される。さらに純度の
異なるANセラミックスが所定の位置関係で一体化さ
れてなる本発明のAN構造物においては、次に示すよ
うな方法でも製造が可能である。すなわちまず、純度や
物性の異なる複数のANセラミックスをそれぞれ焼結
し、次いで必要に応じて得られた複数のANセラミッ
クスを所定の形状に加工した後、これらを接合物質を介
して組合わせて、非酸化性雰囲気で再結晶を行ない一体
化せしめる。
物質を用いるかが重要な問題となる。従来、ANセラ
ミックス同志の接合に用いられる接合物質としては、A
Nセラミックス焼結時に添加される公知の焼結助剤、
すなわちR元素やLn元素の化合物が有効である。
係る酸素トラップ物質に利用される成分であり、AN
粒内の酸素をトラップしてANセラミックスを高純度
化を促進させる機能が強い。そのため前記化合物を接合
物質として用いると、接合されるANセラミックスの
純度が変化してしまい本発明の機能性セラミックスが得
られなくなる可能性が大きい。本発明者らは接合物質と
して、RO・6A2O3,3Ln2O3・5A2O3,Ln2O3.11A2O3,2
RO・Ln2O3・3A2O3より選ばれた少なくとも1種を用い
ることにより、このような問題を解決した。すなわち前
述したように、R元素、Ln元素の化合物の中で上記した
4種は酸素をトラップする効果がほとんど無い。従って
これらを接合物質として用いることにより、接合される
ANセラミックスにおいてAN粒内の酸素含有量を
変化させることなく、本発明のAN構造物を実現する
ことが可能となった。さらに、ANセラミックス中の
Ti,Zr等の遷移金属含有量や気孔率等を変化させないた
めに、前記接合物質の使用量は少量とすることが望まし
い。
素含有量に対して精密な値が要求されない場合は、前記
接合物質としては上記した4種に限定されない。例え
ば、遷移元素含有量や気孔率等の異なるANセラミッ
クスが一体化されており、AN粒内の酸素含有量につ
いては特にこだわらない本発明に係るAN構造物等を
製造する場合は、接合物質としてはR元素やLn元素の化
合物を広く用いることができる。
る際に焼結助剤としてR元素やLn元素の化合物を用いた
場合には、残留成分としてR−Al−O系化合物、Ln−Al
−O系化合物、Ln−R−Al−O系化合物等が含有されて
いることがある。従って、接合されるANセラミック
スの少なくとも一方にこのような残留成分が含有されて
いるときには、改めて接合物質を用いることなく接合を
行なうことができる。ただしこの場合も、前記残留成分
がRO・6A2O3,3Ln2O3・5A2O3,3A2O3より選ばれた
少なくとも1種であることが望まれている。そのため接
合されるANセラミックスの焼結を行なう際に、出発
材料のAN粉末中の酸素含有量を考慮して添加する焼
結助剤の量を決定し、残留成分が上述したような化合物
となるように制御することが好ましい。
は、高温かつ長時間の焼結を行なえば接合物質が全く無
くても可能である。しかしながらこの場合には、接合さ
れるANセラミックスの純度が変化するおそれが極め
て大きいので、得られるAN構造物において各物性に
対し精密な値が要求される場合には、接合物質を用いて
接合を行なう方が好ましい。
スの接合を利用した本発明のAN構造物の製造方法で
は、酸素トラップ物質を用いた本発明に係る製造方法と
比較して工程は多くなるが、より複雑な形状のAN構
造物を実現することが可能となる。また接合されるA
Nセラミックスの形状にとっては、ホットプレスにより
接合を行なうことも可能である。
Nの有する優れた特性が最大限に活用されていることか
ら、高温下や金属蒸気中等の極めて厳しい環境下におい
ても用いることのできるスイッチング素子や各種回路と
しての応用が期待される。
子定数がa軸3.11122(4),C軸4.98038(9),c/a軸比
1.60078AN粉末を、窒素雰囲気下、ホットプレスによ
り焼結し、直径100mm、厚さ1.5mmの円板状ANセラミ
ックスを得た。ホットプレスは黒鉛プレス型に前記A
N粉末を入れ、最高温度1800℃で1時間、400kg/cm2の
一軸加圧下で行なった。得られたANセラミックスは
灰黒色を呈した遮光体であり、密度3.264g/cm3と充分に
緻密化しており、熱伝導率をレーザーフラッシュ法で測
定すると室温(23±2℃)下で75w/m・kであった。
たところ、AN粒の多くは粒内割れを示しており、SE
M像からインターセプト法により計算した平均粒径は3.5
μmであった。またX線回析によればこのANセラミ
ックスは少量のAlONを含有していた。またANの格子
定数は、a軸3.11142(2),C軸4.97816(7),c/a軸比
1.59996であった。一般にAN中に酸素が固溶すると
a軸が長く、c軸が短く、c/a軸比が小さくなることが
知られており、得られたANセラミックスではAN
粒内に酸素が固溶していることが確認された。
し、対向する2つの領域に2Y2O3・A2O3粉末及び有機
溶媒からなるペースト状の酸素トラップ物質を1mm厚に
塗布した。ただし有機溶媒としてはエタノールを用い
た。第1図に酸素とトラップ物質を塗布したANセラ
ミックスの平面図を示す。この後、前記ANセラミッ
クスをAN製敷板上に塗布面を上にして載せ、これを
グラファイト容器中で窒素雰囲気下、1気圧,1850℃,20
時間の条件で焼結を行ない、本発明に係るAN構造物
を製造した。なおAN製敷板上には、焼結時のAN
セラミックスとAN製敷板の接合を防ぐため、前もっ
てh−BN粉末を少量塗布した。
素イットリウム(YN)が生成していた。YNは直ちに空気
中の水分と反応して分解してANセラミックス表面か
ら剥れ、その直下部分は透光性を示していた。一方、酸
素トラップ物質を塗布しなかった領域は灰黒色のままで
遮光性であり、得られたAN構造物は透光率について
異方性を示していた。さらに該AN構造物について、
ANの格子定数及び熱伝導性の測定を行なった。酸素
トラップ物質を塗布した領域でのAN格子定数は、a
軸3.11109(11),c軸4.98020(28),c/a軸比1.60079で
あり、塗布しなかった領域では、a軸3.11138(3),c
軸4.97902(8),c/a軸比が1.60026であった。これらの
数値より酸素トラップ物質を塗布した領域においては、
酸素トラップ物質を塗布しなかった領域と比較してA
N粒内に固溶した酸素含有量が少なく、高純度化が起こ
ったことが確認された。一方熱伝導は、酸素トラップ物
質を塗布した領域では150w/m・k,酸素トラップ物質を塗
布しなかった領域では81w/m・kであり、得られた機能
性セラミックスは熱伝導率についても異方性を示してい
た。またさらに、耐熱性、耐食性についても充分であ
り、高温の金属蒸気中でも劣化することなく、優れた特
性を保持していた。
格子定数がa軸3.11134(2),c軸4.98049(5),c/a軸
比m1.60075AN粉末に対して、一次粒子径0.2μmのY2
O3粉末を5wt%添加して、ボールミルを用いて解砕、混
合して原料を調整した。続いて前記原料に対し、アクリ
ル系バインダを7wt%添加して造粒した後500kg/cm2の圧
力でプレス成形して50×50×8mmの圧粉体とした。ひき
つづき、この圧粉体を窒素雰囲気下で700℃まで加熱し
てアクリル系バインダを除去した。次いて、カーボン製
容器内においてこの圧粉体を1気圧の窒素雰囲気下で、
850℃,96時間常圧焼結して第1のANセラミックスを
製造した。なお焼結時には、前記圧粉体をAN製敷板
上の載せ、その間には接合を防ぐためh−BNを少量塗布
した。
て熱伝導率が270w/m・kであり、格子定数はa軸3.1113
3(5),c軸4.98064(12),c/a軸比1.60081であった。
同様の方法でホットプレスにより焼結を行ない、40×40
×6.5mmの第2のANセラミックスを製造した。この
第2のANセラミックスにおいては、熱伝導率が81w/
m・k,格子定数がa軸3.11150(3),c軸4.97876(7),
c/a軸比1.60012であり、先に製造した第1のANセラ
ミックスと比較して、熱伝導率が小さく酸素含有量が多
かった。
×35×6mmの形状に加工した後、一方のANセラミッ
クスの35×6mmで囲まれた面に2CaO・Y2O3・3A2O3粉末
及びエタノールからなるペースト状の接合材を0.5mm厚
に塗布した。
クスを組み合わせ、これをh−BN粉末を少量塗布したA
N製敷板上に載せ、AN製容器中で焼結を行なっ
た。焼結条件は一気圧の窒素雰囲気下、1800℃,2時間と
した。焼結後、さらに70×35×0.5mmの寸法に切断加工
し、本発明に係るAN構造物を得た。得られたAN
構造物において、両ANセラミックスの接合性は良好
であり,実施例1で得られたAN構造物と同様の優れ
た特性を保持していた。
9μmの3Y2O3・5A2O3粉末5wt%及び一次粒子径1.1μ
mのTiO2粉末0.2wt%を添加して、これを実施例2と同
様の方法で圧粉体とした。この圧粉体をh−BN製容器中
で一気圧の窒素雰囲気下、1800℃,1時間焼結を行なっ
た。得られた第3のANセラミックスはやや茶色を帯
びた黒色の遮光体であり、熱伝導率は90w/m・k、格子
定数はa軸3.11145(8),c軸4.97960(21),c/a軸比が
1.60041であった。またX線回析によれば、この第3の
ANセラミックスでは3Y2O3・5A2O3の他に微量のTi
Nを含有していた。
ラミックスと比較してAN粒内の酸素含有量が少な
く、遷移金属を含有しない第1のANセラミックスを
製造した。第1のANセラミックスは透光性を示し、
さらに第3のANセラミックスより大きな値の熱伝導
率を有している。
により接合し、本発明に係るAN構造物を得た。得ら
れたAN構造物において、両ANセラミックスの接
合性は良好であり、実施例1で得られたAN構造物と
同様の優れた特性を保持していた。
5μmのLaF3粉末6wt%を添加し、実施例2と同様の方法
により圧粉体とした。この圧粉体をh−BN製容器中で一
気圧の窒素雰囲気下、1850℃,6時間の常圧焼結を行なっ
た。得られた第4のANセラミックスは透光性を示
し、熱伝導率は230w/m・k,格子定数はa軸3.11130
(5),c軸4.98079(13),c/a軸比1.60087であった。ま
たX線回析によれば、第4のANセラミックス中には
LaAO3が含有されていた。
し酸素含有量の多い第3のANセラミックスを製造し
た。第3のANセラミックスでは熱伝導率が小さく遮
光性を示している。
により接合し、本発明に係るAN構造物を得た。ただ
し、接合には3Y2O3・5A2O3及びエタノールからなる接
合剤を用いた。得られたAN構造物において、両A
Nセラミックスの接合性は良好であり、実施例1で得ら
れたAN構造物と同様の優れた特性を保持していた。
05μm,純度99.99%のY2O3粉末3wt%を添加し、実施例2
と同様の方法により圧粉体とした。この圧粉体をAN
製容器中で一気圧の窒素雰囲気下、1600℃,30分焼結を
行なった。得られた第5のANセラミックスは密度が
2.426g/cm3と充分に緻密化しておらず、気孔率が高かっ
た。また熱伝導率は47w/m・k,格子定数は、a軸3.11147
(10),c軸4.97982(16),c/a軸比1.60047であり、1.2w
t%のYAO3、4.3wt%の2Y2O3・A2O3を含有してい
た。
ラミックスを製造した。この第1のANセラミックス
では、前述した第5のANセラミックと比較してA
N粒内の酸素含有量が少なく、また密度が3.261g/cm3と
充分に緻密化していた。
セラミック及び25×25×5mmの寸法に加工した第5のA
Nセラミックスを用いて、第5のANセラミックス
が2つの第1のANセラミックスに狭持されたサンド
イッチ構造を有する本発明に係るAN構造物を製造し
た。なお接合の際は、前述したように第5のANセラ
ミックス中にLn−Al−O系化合物が含有されているの
で、接合剤は用いなかった。50kg/cm2の1軸加圧下で窒
素雰囲気、1600℃,30分の焼結条件にて行なった。得ら
れたAN構造物の斜視図を第2図に示す。
る中央部では密度が2.881g/cm3であり、焼結が進行した
ことを示していた。しかしならが前記中央部の強度は20
±5kg/mm2、また前述した第1のANセラミックス由
来する両端部の強度は35±5kg/mm2であり、本実施例に
係るAN構造物では強度について充分な異方性を示し
ていた。さらに熱伝導率についても、前記両端部では20
0w/m・k以上の値を示すのに対し前記中央部では87w/m
・kに過ぎず、充分は異方性を有していた。また得られ
たAN構造物において、両ANセラミックスの接合
性は良好であり、実施例1で得られたAN構造物と同
様7の優れた特性を保持していた。
する酸素トラップ物質を用いた以外は、実施例1と同様
にして本発明に係るAN構造物を製造した。第1表に
酸素トラップ物質を塗布した領域の高純度化終了後にお
けるANの格子定数及び熱伝導率を示す。第1表から
明らかなように、酸素トラップ物質を塗布した領域にお
いては、いずれも熱伝導率が130w/m・k以上に上昇して
おり、c/a軸比は1.60070以上となっている。このことか
ら得られたAN構造物においては、AN粒内に固溶
した酸素含有量の異なるANセラミックスが一体化さ
れており、熱伝導率について異方性が付与されているこ
とが確認された。またさらに、耐熱性、耐食性について
も充分であり、高温の金属蒸気中でも劣化することな
く、優れた特性を保持していた。
に優れ、金属蒸気中等の厳しい条件においても劣化する
ことなく、しかも熱伝導率、透光率、強度等の物性につ
いては異方性を有するAN構造物及びその製造方法を
提供することができる。
クスの平面図、第2図は本発明に係る構造物の一例を示
す縦断面図である。 1……A Nセラミックス、2……酸素トラップ物質、
3……両端部、4……中央部。
Claims (2)
- 【請求項1】窒化アルミニウム基体上の所定の面の一部
に酸素トラップ物質を設置した後、非酸化性雰囲気中で
加熱して酸素トラップ物質が設置された領域の前記窒化
アルミニウム基体の酸素を低減させることを特徴とする
窒化アルミニウム構造物の製造方法。 - 【請求項2】接合物質を介して純度の異なる窒化アルミ
ニウムセラミックスを組合わせて再焼結し、一体化する
工程を具備する窒化アルミニウム構造物の製造方法にお
いて、前記接合物質がRO・6Al2O3、3Ln2O3・5Al2O3、Ln
2O・11Al2O3及び2RO・Ln2O3・3Al2O3(ただしRはアル
カリ元素、Lnはイットリウム及び希土類元素の少なくと
も1種を示す)からなる群より選ばれた少なくとも1種
であることを特徴とする窒化アルミニウム構造物の製造
方法。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1166875A JP2968539B2 (ja) | 1989-06-30 | 1989-06-30 | 窒化アルミニウム構造物の製造方法 |
US07/545,691 US5204080A (en) | 1989-06-30 | 1990-06-29 | Method of manufacturing an aluminum nitride structure |
US07/988,666 US5284537A (en) | 1989-06-30 | 1992-12-10 | Method of manufacturing aluminum nitride structure with anisotropic properties |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1166875A JP2968539B2 (ja) | 1989-06-30 | 1989-06-30 | 窒化アルミニウム構造物の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0333066A JPH0333066A (ja) | 1991-02-13 |
JP2968539B2 true JP2968539B2 (ja) | 1999-10-25 |
Family
ID=15839246
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1166875A Expired - Lifetime JP2968539B2 (ja) | 1989-06-30 | 1989-06-30 | 窒化アルミニウム構造物の製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US5204080A (ja) |
JP (1) | JP2968539B2 (ja) |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07109573A (ja) * | 1993-10-12 | 1995-04-25 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | ガラス基板および加熱処理方法 |
JP3316167B2 (ja) * | 1996-10-08 | 2002-08-19 | 日本碍子株式会社 | 窒化アルミニウム質基材の接合体の製造方法およびこれに使用する接合助剤 |
TW421608B (en) * | 1996-11-12 | 2001-02-11 | Mitsubishi Gas Chemical Co | Method for drying resin-used electronic parts |
US6124635A (en) * | 1997-03-21 | 2000-09-26 | Honda Giken Kogyo Kabushiki Kaisha | Functionally gradient integrated metal-ceramic member and semiconductor circuit substrate application thereof |
JP3513736B2 (ja) * | 1997-08-22 | 2004-03-31 | 東芝セラミックス株式会社 | AlN焼結体用接合剤、その製造方法及びそれを用いたAlN焼結体の接合方法 |
US6861165B2 (en) * | 2000-02-24 | 2005-03-01 | Ibiden Co., Ltd. | Aluminum nitride sintered compact, ceramic substrate, ceramic heater and electrostatic chuck |
JP4942963B2 (ja) * | 2005-08-18 | 2012-05-30 | 日本碍子株式会社 | 耐食性部材及びその製造方法 |
JP4823622B2 (ja) * | 2005-09-14 | 2011-11-24 | 東芝機械株式会社 | スクリュチップのねじ込み固定用工具 |
KR102276101B1 (ko) * | 2013-12-27 | 2021-07-13 | 엔지케이 인슐레이터 엘티디 | 접합재 조성물, 질화알루미늄 접합체 및 그 제법 |
JP6335080B2 (ja) * | 2013-12-27 | 2018-05-30 | 日本碍子株式会社 | 接合材組成物、窒化アルミニウム接合体及びその製法 |
WO2016002852A1 (ja) * | 2014-07-01 | 2016-01-07 | 京セラ株式会社 | セラミック構造体および流路体ならびに電極内蔵プレート |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6073843A (ja) * | 1983-09-30 | 1985-04-26 | 株式会社東芝 | 機能性セラミツクス |
US4695517A (en) * | 1985-05-31 | 1987-09-22 | Ngk Spark Plug Co., Ltd. | Composite layer aluminum nitride base sintered body |
US4719187A (en) * | 1985-10-10 | 1988-01-12 | Corning Glass Works | Dense sintered bodies of nitride materials |
JPS62207789A (ja) * | 1986-03-08 | 1987-09-12 | 日本特殊陶業株式会社 | 窒化アルミニウム製基材の表面構造及びその製造法 |
US4883704A (en) * | 1987-03-30 | 1989-11-28 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Circuit substrate comprising nitride type ceramics, method for preparing it, and metallizing composition for use in it |
JPH01252581A (ja) * | 1988-03-31 | 1989-10-09 | Taiyo Yuden Co Ltd | 窒化物セラミツクスの製造方法 |
JPH02124778A (ja) * | 1988-11-04 | 1990-05-14 | Hitachi Metals Ltd | AlNセラミックス同志の接合体及びこれを用いた放熱装置 |
-
1989
- 1989-06-30 JP JP1166875A patent/JP2968539B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1990
- 1990-06-29 US US07/545,691 patent/US5204080A/en not_active Expired - Fee Related
-
1992
- 1992-12-10 US US07/988,666 patent/US5284537A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0333066A (ja) | 1991-02-13 |
US5204080A (en) | 1993-04-20 |
US5284537A (en) | 1994-02-08 |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20070820 Year of fee payment: 8 |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080820 Year of fee payment: 9 |
|
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|
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