JP2878171B2 - サブストレートを被覆するための方法と装置 - Google Patents

サブストレートを被覆するための方法と装置

Info

Publication number
JP2878171B2
JP2878171B2 JP7335316A JP33531695A JP2878171B2 JP 2878171 B2 JP2878171 B2 JP 2878171B2 JP 7335316 A JP7335316 A JP 7335316A JP 33531695 A JP33531695 A JP 33531695A JP 2878171 B2 JP2878171 B2 JP 2878171B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
fluid
container
substrate
capillary gap
outlet
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP7335316A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH08224528A (ja
Inventor
アピッヒ カール
シュトゥマー マンフレート
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Steag Microtech GmbH
SCP Germany GmbH
Original Assignee
Steag Microtech GmbH
SCP Germany GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Steag Microtech GmbH , SCP Germany GmbH filed Critical Steag Microtech GmbH
Publication of JPH08224528A publication Critical patent/JPH08224528A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2878171B2 publication Critical patent/JP2878171B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/6715Apparatus for applying a liquid, a resin, an ink or the like
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05CAPPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C9/00Apparatus or plant for applying liquid or other fluent material to surfaces by means not covered by any preceding group, or in which the means of applying the liquid or other fluent material is not important
    • B05C9/02Apparatus or plant for applying liquid or other fluent material to surfaces by means not covered by any preceding group, or in which the means of applying the liquid or other fluent material is not important for applying liquid or other fluent material to surfaces by single means not covered by groups B05C1/00 - B05C7/00, whether or not also using other means

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は毛管状隙間によりサ
ブストレートを被覆するための方法と装置に関する。
【0002】
【従来の技術】薄膜技術分野において、特にLCD図式
位置指示器、半導体製造のためのマスク、半導体サブス
トレート又はセラミックサブストレートの製作時に、ラ
ッカ又はその他のはじめは液状の媒体から成る均一な
層、例えば色フィルタ、フォトラッカ又は特別な保護層
を方形又は円形のディスクに備えるという課題がしばし
ば生じる。その場合、公知技術では被覆のためのディス
クが水平に回転テーブル上に固定される。ディスクの中
心点上に、上方からノズルを介して所定量のラッカが滴
下される。次いで、回転テーブルが運動させられる。遠
心力の作用により、回転運動中にラッカがサブストレー
ト上に分配される(スピンコーティング)。その際、ラ
ッカの大部分がサブストレートの縁を介して撥ね飛ばさ
れる。得られるべきラッカの厚さの均一性は回転の遠心
力、回転速度並びにラッカの粘度に依存する。
【0003】方形又は円形のディスク状のサブストレー
ト上でのラッカの厚さの均一性を得る困難はこの公知方
法では特にサブストレートの縁の領域内において著し
い。この公知方法によれば、ラッカの厚さが高くなって
いる縞、要するにラッカ隆起部が形成される。これによ
り、被覆の均一性は著しく悪化する。
【0004】サブストレートの縁を介して跳ね飛ばされ
たラッカを捕集するために、かつ被覆ステーションを保
護するために、この種の被覆用の回転テーブルは一般的
には一種のポット内に組込まれる。これについては例え
ばドイツ連邦共和国実用新案登録第9103494号明
細書を参照されたい。被覆中に跳ね返りがサブストレー
トの表面に達することがある。このことはサブストレー
トのその後の加工に不都合である。その上、この公知方
法では、使用されるラッカの90%より多い量がサブス
トレートの縁を介して跳ね飛ばされてしまう。このラッ
カ量の再使用のための費用は著しく高い。被覆できるデ
ィスクの大きさには上限がある。さらに、この種の装置
の回転する部分に摩滅が生じて、その粒子が剥離してデ
ィスクの表面に堆積し、次のプロセスの障害となる。さ
らに、遠心処理の際にラッカがサブストレートの縁に達
し、このことが次のプロセスで問題を生じる。その上、
この種の回転テーブルの構造全体及び駆動装置は複雑か
つ高価である。
【0005】 被覆液(以下には流体と呼ぶ)を毛管状に
狭くされた隙間を介して下方からサブストレートの下向
きの表面にもたらす形式のディスク被覆のための装置
(PCT/ドイツ連邦共和国93/00777号明細
書)により被覆過程の改善が得られている。サブスト
レートは均一な速度で隙間上を通過させられる。隙間は
毛管として作用してラッカを自動的にかつ特別均一な速
度で補充するように形成されている。毛管作用は、隙間
が例えば0.5mmより小さい幅を有することにより得
られる。この毛管作用により、流体は毛管状隙間内で自
動的に一定速度で重力に逆らって上昇してその出口から
流出する。隙間の上方でラッカの流れは狭い線状にサブ
ストレートの被覆面上に衝突し、その間にサブストレー
トが出口に対して相対的に運動させられる際に、この被
覆面上に均一な層として堆積する。
【0006】これによ被覆過程は毛管効果と付着効果
とを組合わせて利用することにより行われる。この装置
によれば、特に方形のサブストレート上のラッカ層の厚
さの均一性が改善され、かつラッカ消費量が軽減され
る。しかし、この場合の欠点とするところは、装置の運
転に関して長期的には流体が個々被覆過程の間に毛管
状隙間の出口の領域で乾燥して出口に付着もしくは出口
を塞いでしまうことにある。このことは後続被覆過程
に著しく不利に作用する。さらに不都合にも被覆すべ
きサブストレートの端縁のところの付着作用により、ラ
ッカ又は被覆材料の不所望な隆起部が生じる。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題とすると
ころは、サブストレート被覆のための新しい装置及び
新しい方法を提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】この課題を解決した本発
明装置の構成によれば、毛管状隙間を備えた部材によ
流体でサブストレートを被覆するための装置であって、
毛管状隙間を通って流体が毛管効果によってサブストレ
ートに供給可能であり流体により充填された容器が設
けられており、かつ、毛管状隙間が容器内の流体に接続
されて流体が毛管状隙間に供給されるように前記部材が
前記容器内に配置されており、かつ、毛管状隙間の出口
を容器に対して相対的に高さ方向で運動させるための手
段が設けられている。出口の運動性により、被覆開始時
に出口をサブストレートの特別近くまで接近させること
ができ、被覆終了時に再びサブストレートから遠ざける
ことができる。
【0009】特別有利には、毛管状隙間の出口が、高さ
方向で行われる運動により完全に流体内に浸漬可能であ
る。これにより、被覆過程の合間に毛管状隙間の出口を
完全に流体内へ浸すことができる。これにより、被覆
程により場合によって毛管状隙間のところに生じた残留
流体の乾燥並びに外部からの粒子の堆積という、後続の
被覆過程の障害が排除される。
【0010】本発明の最も有利な構成によれば、装置の
非使用時に容器を外部に対して閉鎖するために容器のた
めの閉鎖装置が設けられている。これにより、全流体量
のそのつどの乾燥過程が排除され、そのことのために、
閉鎖装置が有利には気密に形成される。
【0011】極めて有利には、容器内に存在する流体を
循環中に濾過するためにフィルタ装置とポンプとが設け
られている。フィルタを清潔に、かつ被覆の目的に適し
た状態に保つために、精密フィルタを介して流体を濾過
することができる。その場合、有利には被覆過程には
濾過が中断される。
【0012】特に被覆すべきサブストレートの端縁に
ラッカ隆起部が形成されるのを阻止するために、有利に
は、容器内の流体のレベルを、特被覆過程の終了時点
で迅速に低下させる手段が設けられている。このレベル
の降下により、流体は迅速に毛管状隙間内に吸い戻さ
れ、その結果、サブストレートの端縁のところのラッカ
隆起部の形成が軽減もしくは回避される。
【0013】特に有利には、このような吸い戻しを行う
ために、容器内に存在する流体内に、容積可変の部材が
配置されている。この容積が減少させられると、容器内
の液面が降下する。このことにより、毛管状隙間内に負
圧が生じ、この負圧が毛管状隙間内に存在する流体を下
方へ引戻す。
【0014】流体によるサブストレート被覆のための
本発明に基づく方法によれば、流体を保有する容器から
流体を毛管状隙間を介してサブストレートに供給し
覆の終了時に被覆の過程を中断するために、容器内の
流体のレベルを迅速に降下せしめる。流体レベルの迅速
な降下により、毛管状隙間内の流体が吸い戻され、これ
により、サブストレートの端縁のところにラッカ隆起部
を形成することなく被覆を中断することができる。
【0015】さらに、毛管状隙間を介して供給される流
体によりサブストレート被覆するための本発明の他の
方法によれば、a) 被覆過程始時に毛管状隙間の出
口をサブストレートの下側の近くへ接近せしめ、これに
より、出口のところで流体をサブストレートの下側に接
触せしめる。b次いで、この出口とサブストレートの
下側との間隔被覆のために充分な値まで増大せしめ
る。これにより、被覆の開始及び毛管状隙間内での流体
搬送過程の開始が簡単に保証される。
【0016】
【発明の実施の形態】次に図示の実施例につき本発明を
説明するが、本発明はこの実施例に限定されないのは勿
論である。
【0017】まず図1から図3までについて本発明の基
本原理を概略的に説明し、次いで図4から図10までに
基づきこの原理で作動する本発明の実際の実施例を説明
する。
【0018】図1は容器10の断面を示し、容器の中空
室10aは以下に「流体11もしくは111」と呼ぶラ
ッカ又は被覆媒体によりほぼ満杯に充填されている
尺の槽の形状を有するこの容器10内には長尺の部材1
2が配置されており、この部材は被覆過程に必要な毛管
状隙間13を備えている。この毛管状隙間13は一般に
0.1ないし0.8mmの範囲内の幅を有し、かつ部材
内で鉛直に延びているスリットにより形成されており、
このスリットは、毛管状隙間13へ流体11が妨げなく
供給されるように、下向きに拡張した拡張部13aを有
している。
【0019】この部材12の上端では毛管状隙間13が
出口40を有しており、この出口はノズルということも
でき、図7にその詳細が示されている。被覆しようとす
るサブストレート29(図2及び図3)の幅に応じて、
この出口40は例えば50ないし75cmの範囲内の長
さを有しているが、しかし、それより長い又はそれより
短い寸法を有していてもよい。
【0020】部材12はほぼ断面方形の基本形を有して
おり、この基本形は上方では2つの斜めに下がった屋根
状の面41,42により制限されており、その中央には
2つのナイフ状突出部43,44が上向きに突出してお
り、各突出部はノズル即ち出口40の領域内ではほぼ
0.1ないし0.5mmの幅しか有していない。要する
に、これらの突出部43,44は上向きにテーパしてい
て、その上部では極めて薄く形成されている。
【0021】部材12はその下側ではロッド15に結合
されている。このロッド15はたんに略示した装置44
Aを介して矢印16で示す方向で鉛直方向に移動させら
れる。これにより部材12は鉛直方向に運動させられ
る。容器10の中空室10aはロツド15の貫通してい
るその底部のところで図示したようにベロー17により
シールされている。このベロー17はロッド15の右と
左に分割されて示されている。装置44Aとしては例え
ば液圧的又は空気力的な作動シリンダが適している。
【0022】容器10の中空室10a(図1及び図2)
は右上では定置の板18により、左上では移動可能なア
ングルプロフィール材19により閉鎖されている。板1
8は容器10の右側の側壁に直に固定されている。アン
グルプロフィール材19はたんに略示された直線運動装
置46により矢印20で示す方向で側方向に移動可能で
ある(図1)。この移動の案内は例えば図示のように、
容器10の左側の側壁に固定されているガイドピン21
により行われる。
【0023】中空室10aの閉鎖は2つのエラストマプ
ロフィール22,23によりシールされる。エラストマ
プロフィール22は板18の端面に設けた適当な溝内に
挿入されていて、アングルプロフィール材19の端面に
より、図1に示すように圧着される。シールプロフィー
ル、要するにエラストマプロフィール23は容器10の
左側の側壁に設けた適当な溝内に挿入されていてアング
ルプロフィール材19の鉛直方向に延びているフランジ
19′により圧着される。圧着力はアングルプロフィー
ル材19を推動する装置46によりもたらされる。選択
的に、板18及びアングルプロフィール材19は耐溶剤
性の適当なプラスチックにより厚さ0.5mmに被覆さ
れていてもよい。その場合、閉鎖状態でこのプラスチッ
クがシール機能を果す。
【0024】部材12はその毛管状隙間13を含めて図
1では完全に流体11のレベル24の下方に浸漬されて
示されている。この状態は、被覆が行われていない状態
に対応しており、換言すれば部材12の出口40が流体
11のレベル24より低く位置している。
【0025】図2には図1に示す容器全体が被覆過程中
で断面して示されている。板18及びアングルプロフィ
ール材19から成る、中空室10aの閉鎖部材は、アン
グルプロフィール材19が図1の図示に対比して矢印2
0の示す方向で左方へ移動させられることにより開放さ
れる。毛管状隙間13を備えた部材12は矢印28で示
す方向でのロッド15の鉛直方向運動により上方へ運動
させられている。これにより、ナイフ状突出部43,4
4が容器10内の流体11のレベル24の上方へ突出
し、板18とアングルプロフィール材19との間の狭い
開口48を貫通している。この状態は、被覆過程中の状
態に対応する。ナイフ状突出部43,44の形状が薄い
ことにより、この開口48は極めて狭くてよく、このこ
とにより、開口48を介して流体11内に汚れの侵入す
る危険が軽減される。さらに、このことにより、流体1
1の蒸発が減少する。
【0026】図2にはさらに、被覆過程中の被覆すべき
サブストレート29(ディスク状)が示されている。こ
のサブストレート29は矢印30で示す方向に均一速度
で毛管状隙間13の出口40の上方へ極めてわずかな間
隔(例えば0.2ないし0.5mm)をおいて接近させ
られる。その際、毛管作用と付着作用とにより極めて一
様なラッカ層31がサブストレート29の下側50へ塗
布される。この状態でラッカ層31の厚さは典型的に5
ないし50μmである。
【0027】図3には容器10及び部材12の一部が
過程中で縦断面して示されている。部材12は図2の
図示と同様に、矢印28で示す方向で上方へ移動させら
れている。被覆しようとするサブストレート29の下側
50には均一なラッカ層31が塗布されている。このラ
ッカ層31の厚さは著しく誇張されて示されている。
【0028】図3の部分縦断面は容器10及び部材12
の左部分52と、部材12の鉛直方向の駆動に役立つロ
ッド15とを示している。これに対して鏡面対称的に容
器10の右部分にはロッド15に対応する第2のロッド
が設けられているが、このロッドは図3には示されてい
ない。対称平面が記号54で示されている。部材12の
全長はすでに説明したように、例えば50ないし75c
mであり、その場合、図3に示されているような外側の
縁領域は被覆のためには使用されない。ロッド15の平
行な上下運動により、毛管状隙間13の出口(ノズル)
40がいつでも所要の正確な水平位置に止まることがで
きる。
【0029】図3にはさらにオーバフロー管32が断面
して示されている。ポンプ34の接続後、中空室10a
内の流体11のレベルがこのオーバフロー管32の上縁
に達すると直ちに、流体が流出する。流体はオーバフロ
ー管32を介して補償容器即ち貯蔵容器33、例えば貯
蔵びん内に達する。この貯蔵びんは例えば2.51の流
体を保有する。ポンプ34は管34′を介して貯蔵容器
33に接続されていて、この貯蔵容器から流体11を吸
込む。ポンプ34により流体11は精密フイルタ35と
導管35aとを介して中空室10a内に戻される。ポン
プ34及び精密フイルタ35は市販されている部品であ
り、それゆえ概略的にのみ示されている。
【0030】複数被覆過程の合間での流体の循環によ
り、流体11が浄化され、かつ容器10内でのそのレベ
ル24が常時所定の高さに維持される。これら両者
覆過程の質にとって重要である被覆過程中に流体11
は精密フイルタ35を介してポンピングされない。それ
というのは、容器10内の流れ被覆過程にネガテイブ
な影響を与えるおそれがあるからである。1サブストレ
ート29の被覆時に一般には3mlの流体11が消費さ
れ、これにより、レベル24は極めてわずかしか、例え
ば0.1ないし0.4mmしか低下せず、このことは
時の妨げとならない。
【0031】中空室10a内にはさらにベロー25が配
置されている。その上方の閉鎖板56は、容器10の底
部を貫通しているロッド57を介して作動シリンダ60
のピストン58に結合されており、この作動シリンダは
概略的に示した装置62により操作される。
【0032】装置62の操作により(この操作は通常、
図示されていないマイクロプロセッサにより中央制御方
式で行われる)、ピストン58は矢印63で示す方向で
下向きに移動させられ、その結果、ベロー25の上方の
閉鎖板56は下向きに移動し、ベロー25の容積が減少
し、その際、容器10の底部に設けられた開口65を通
して空気が下方へ逃がされる。これにより、容器10内
のレベル24が迅速に低下する。これとは逆に、作動シ
リンダ60により上方の閉鎖板56が上向きに運動させ
られると、レベル24はオーバフロー管32により規定
された最大値まで上昇する。それゆえ、装置62の適当
な制御により、容器10内のレベル24が必要に応じて
迅速に変化させられる。
【0033】次に図1から図3までの実施例の作業形式
を説明する。
【0034】被覆すべきサブストレート29が被覆過程
の開始のために位置決めされると直ちに、アングルプロ
フィール材19を装置46により左方へ移動させること
により、容器10のカバーが開放される。次いで、部材
12のナイフ状突出部43,44が上向きに、被覆され
るべきサブストレート29の前縁の下方へ例えば0.0
5mmの極めてわずかな間隔をおいた位置まで接近させ
られる。この場合、ポンプ34は遮断されているため、
レベル24はわずかに、例えば0.1ないし0.5mm
だけ低下するが、これは障害とならない。この低下がわ
ずかである原因は、流体11から突出するナイフ状突出
部43,44がわずかな容積しか有していないためであ
り、このことはこの場合極めて有利である。部材12の
運動により、毛管状隙間13の出口40を介して浸漬浴
即ち容器内の流体により留められたわずかな流体量と、
被覆すべきサブストレート29の前側の下縁との間の接
触が生じる。この接触が生じた後、部材12の出口40
被覆すべきサブストレート29との間隔が再び例えば
ほぼ0.2ないし0.5mmまで増大させられる。これ
により、毛管効果が発動し、この毛管効果により流体1
1が重力に逆らって均一な速度で毛管状隙間13を通っ
て上方へ搬送される。その際、サブストレート29が均
一な速度で矢印30で示す方向で水平方向に運動させら
れる。その際、毛管状隙間13を通ってサブストレート
29の下側に薄い流体層31が塗付される。
【0035】被覆すべきサブストレート29の(図示さ
れていない)端縁が到達すると、ベロー25がすでに記
載したように迅速に、例えば1秒以内で縮小される。こ
れにより、中空室10a内のレベル24が迅速に低下す
る(その際、ポンプ34が停止される)。このようにし
て毛管状隙間13内には負圧が生じ、この負圧が毛管状
隙間13内に保有されていた流体を下方へ吸込む。これ
により、サブストレート29の下側での流体塗付が突然
終了し、サブストレート29の図示されていない端縁の
ところの不所望な隆起部形成が確実に阻止される。ナイ
フ状突出部43,44の形状がノズル、要するに出口4
0の領域内で極めて狭いことにより、サブストレート2
9の端縁のところにラッカ隆起部などが形成されない。
【0036】次いで部材12が再び下方へ容器10内に
戻され、板18及びアングルプロフィール材19から成
るカバーが再び閉鎖され、これにより、容器12の内室
が外部に対して気密に閉鎖され、中空室10a内の流体
11の蒸発が妨げられる。
【0037】アングルプロフィール材19を右方へ移動
することによりカバーが開鎖された後、ポンプ34が接
続される。これにより、被覆時に消費された分の流体1
1が再び中空室10aに供給される。流体11の所要の
レベルが得られると、直ちに流体11はオーバフロー管
32を介して補償容器33内に流出する。流体11は循
環回路を通って濾過される。ポンプ34が接続されてい
る時間は一般には数秒に過ぎない。しかし、流体11の
汚れが確認されたならば、フィルタ35を介して流体を
浄化するためにポンプ34を比較的長時間稼働すること
ができる。貯蔵容器33はそれの内部の流体が消費され
た場合に適時交換されなければならない。本発明の大き
な利点は流体の消費が著しく節約されることにあり、そ
の消費量は例えば被覆すべき1サブストレート29につ
きほぼ1ないし3mlである。貯蔵容器33としては、
流体の製造者がその供給のために流体を収容したびんを
使用することができる。
【0038】多くの実施例及び変化実施例が可能である
のは勿論である。例えば、部材12は自軸線回りの回転
運動により図2に示された位置から下方の浸漬された位
置へもたらされることも可能である。しかし、被覆中に
流体内の不所望な非対称的な流れ状態を回避するために
は部材12の鉛直方向の移動が有利である。本発明に基
づく装置は、例えばPCT/ドイツ連邦共和国第93/
00777号明細書に開示されているような大型の被覆
装置の一部を形成することができる。このPCT出願明
細書の内容については長大であるのでここに引用しな
い。
【0039】図4から図10までは本発明装置100の
有利な1実施例を示す。図1から図3までと同じ部分は
同じ数字に100を加えた符号で、例えば13の代わり
に113で示されている。
【0040】図4は装置100の断面を示す斜視図であ
る。この装置100は長尺の槽状の容器110を有して
おり、その底部は符号110′で示されている。その中
空室110aは図8に示されているように、オーバフロ
ー管132の高さの所まで流体111により充填されて
いる。レベルが図8では符号124で示されている。容
器110内には長尺の部材112が配置されており、こ
の部材112は図5から判るように、1つの毛管状隙間
113によって互いに分離された2つの対称的な半部1
12a,112bから構成されている。この毛管状隙間
113は図7によれば、使用される流体111に応じ
て、ほぼ0.1ないし0.8mmのギャップ幅d1を有
している。毛管状隙間113はその下方の領域で拡張さ
れて横断面漏斗状の拡張部113aを形成しており、こ
の拡張部が図4.図5及び図6に示されている。この拡
張部は毛管状隙間113への流体111の供給を容易に
する。
【0041】図4、図5、図6及び図8から特に判るよ
うに、対称的な半部112a,112bはその中央領域
内で鉛直方向で幅広く形成されており、これにより、た
わみが回避されている。半部はその両方の端部で若干上
げ底にされており、かつその箇所で適当に、例えば(図
示されていない)ねじにより取付け板170若しくは1
71に固定されており、これらの取付け板は円筒状のロ
ッド115もしくは115′に固定されている。これら
のロッドは容器110の底部110′を貫通していて、
その下端で結合ビーム172により互いに結合されてい
る。これらのロッドは装置144Aにより鉛直方向に移
動可能であり、これにより、すでに図1及び図2で説明
したように、部材112が昇降させられる。装置144
Aは任意の直線駆動装置、例えば空気力シリンダ又は電
動式の直線駆動装置から成ることができる。
【0042】ロッド115,115′はベロー117,
117′により、図1から図3までにベロー17につい
てすでに説明したようにシールされている。
【0043】図5及び図6に特に良好に示されているよ
うに、長尺の部材112の半部112a,112bはそ
の上端にそれぞれナイフ状突出部143,144を備え
ており、これらの突出部はほぼ鉛直方向で上向きに突出
している。各ナイフ状突出部143,144は上部に狭
い水平な面177もしくは178(図7)を備えてお
り、この面内で毛管状隙間113の出口140が開口し
ている。この出口140及びこれを囲む面177,17
8はノズルともいうことができる。
【0044】面177は、図7によれば幅dを有して
おり、この幅は0.1ないし0.5mmの間にあり、か
つ有利には0.3mmである。面178は同じく0.1
ないし0.5mmの間、有利には0.3mmの幅d
有している。この狭い面の有する利点とするところは、
被覆すべきサブストレート129の後縁のところに流体
隆起部が形成されることが著しく回避されることにあ
る。この種のサブストレート129が図8に示されてい
る。その幅Wは部材112の長さに比して短い。換言す
れば、均一な被覆のために部材112の中央の長さ部分
だけが利用される。端部領域内では流体層(図2で符号
31)の非連続性を生じるおそれがある。
【0045】図9から判るように、容器110の上側の
大部分は閉鎖シール板118により覆われている。この
閉鎖シール板118は方形の切欠118′を備えてお
り、かつこの切欠内には移動可能なアングル板119が
適合されており、このアングル板は矢印120で示す方
向で水平方向に移動可能である。アングル板が図9内で
前方へ移動させられると、開口119′が開き、この開
口を通ってナイフ状突出部143,144が被覆過程の
ために上方へ移動させられる。アングル板119が後方
へ移動させられると、開口119′が完全にシール下で
閉鎖される。このことのために、両方の板、要するに閉
鎖シール板118及びアングル板119が耐溶剤性のプ
ラスチック(図示されていない)により被覆されること
ができ、この被覆の厚さは例えば0.5mmであり、縁
のところに所望のシールを生ぜしめる。
【0046】アングル板119の水平方向の移動のため
に、2つの直線駆動部材146,146′(図10)が
役立てられており、これらの直線駆動部材は、アングル
板119の均一な移動を得るために、互いに同期的に操
作される。
【0047】容器110の中空室110a内にはベロー
125も配置されており、その容積は操作部材160に
より変化可能である。ベロー125の操作ロッドを下向
きに運動させることによりベローの容積が減少すると、
容器110内でのレベルが迅速に低下し、これにより、
毛管状隙間113内の流体は下方へ吸込まれ、被覆過程
が終了する。ロッド157が上方へ運動させられると、
レベル124が迅速に上昇する。
【0048】オーバフロー管132には下向きに案内さ
れた管180が接続されており、この管はカバー13
3′を貫通して流体111のための貯蔵容器133の内
部へ通じている。この貯蔵容器133からは、同様にカ
バー133′を貫通して吸込み管182がポンプ134
へ通じている。このポンプは被覆過程が行われていない
場合にのみ操作される。このポンプ134は流体を矢印
183(図8)で示す方向で精密フィルタ135へ搬送
し、かつこの精密フィルタから導管135aを介して容
器110の中空室110a内へ戻す。
【0049】アングル板119の閉じた状態で(図示せ
ず)容器110の上側を気密に閉鎖すると、ポンプ13
4が作動させられる。ポンプ134は流体111を貯蔵
容器133から精密フィルタ135を介して容器110
の中空室110a内へ吐出して中空室をオーバフロー管
132の高さのところまで充填する(図8)。(被覆
程では流体の消費量が少ないためレベル124はわずか
にしか低下しない。)次に図4から図10までに示した
実施例の作業形式を説明する。
【0050】被覆すべきサブストレート129が被覆
程の開始のために位置決めされると直ちに、アングルプ
ロフィール材119を両方の装置146,146′によ
り開放方向に移動させることにより、容器110のカバ
ーが開放される。次いで、部材112のナイフ状突出部
143,144が駆動装置144Aにより上向きに、
されるべきサブストレート129の前縁の下方へ例え
ば0.05mmの極めてわずかな間隔をおいた位置まで
もたらされる。これにより、毛管状隙間113の出口1
40を介して容器110内の流体111により留められ
ているわずかな流体量と、被覆すべきサブストレート1
29の前側の下縁との間に接触が生じる。この接触が生
じた後、部材112の出口140被覆すべきサブスト
レート129との間隔が再び例えばほぼ0.2ないし
0.5mmまで増大させられる。これにより、毛管効果
が発動し、この毛管効果により流体111が重力に逆ら
って均一な速度で毛管状隙間113を通って上方へ搬送
される。その際、サブストレート129が図2で説明し
たように均一な速度で水平方向に運動させられる。その
際、毛管状隙間113を通ってサブストレート129の
下側に薄い流体層が塗付される。この層はウエットな状
態で通常5ないし50μmである。
【0051】被覆すべきサブストレート129の(図示
されていない)端縁が到達すると、ペロー125がすで
に記載したように迅速に、例えば1秒以内で縮小され
る。これにより、中空室110a内のレベル124が迅
速に低下する(その際、ポンプ134が停止される)。
このようにして毛管状隙間113内には負圧が生じ、こ
の負圧が毛管状隙間113内に保有されていた流体を下
方へ吸込む。これにより、サブストレート129の下側
での流体塗付が突然終了し、サブストレート129の図
示されていない端縁のところの不所望な隆起部形成が確
実に阻止される。ナイフ状突出部143,144の形状
が出口140の領域内で極めて狭いことにより、サブス
トレート129の端縁のところにラッカ隆起部などが形
成されない。
【0052】次いで部材112が駆動装置144により
再び下方へ容器110内に引戻されて、流体111内に
完全に没入され、開口119′がアングル板119によ
り再び気密に閉鎖され、これにより、容器112の内室
が外部に対して気密に閉鎖され、従って中空室110a
内の流体111の蒸発が妨げられる。
【0053】開口119′が閉鎖された後、ポンプ13
4が接続され、これにより、被覆過程時に消費された分
の流体111が再び中空室110aに供給される。流体
111の所要のレベルが得られると、直ちに流体111
はオーバフロー管132を介して補償容器即ち貯蔵容器
133内に流出する。流体111は循環回路を通って精
密フィルタ135により濾過される。ポンプはこの目的
のために通常数秒間だけ接続されるが、しかし、流体1
11の浄化の目的でそれより長い時間接続されてもよ
い。貯蔵容器133はその内部の流体11が消費された
場合に適時新しいびんと交換される。このことのため
に、新しいびん、要するに貯蔵容器133は定置のカバ
ー133′に下方からねじ固定される。本発明の大きな
利点は流体111の消費が著しく節約されること、さら
に残留流体を排出する必要がないことにある。
【0054】本発明の枠内において多数の実施例及び変
化実施例が可能であるのは勿論である。例えば、容器1
10の閉鎖は種々の形式で、例えばカバーを上方から載
着することにより行われる。さらに、出口140を下方
からサブストレート129の下側へもたらす代わりに、
選択的にサブストレート129を上方から部材112の
出口140へもたらすこともできる。
【0055】同様に、ベロー125の代わりに、容器1
10から迅速に流体111を吸込み、レベル124を迅
速に低下させるポンプを設けることもできる。その場
合、このポンプは極めて簡単には作動シリンダの中空室
として形成することができる。この措置は、注射前に注
射すべき液体を注射器内に吸込む過程に類似している。
いずれにしろ(ポンプであれシリンダであれ)、液体は
次いで、例えばこのポンプ(図示せず)の吐出方向の逆
転により、再び容器110内へポンピングにより戻され
る。
【0056】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の特に利点
とするところは、高さ方向で行われる運動により毛管状
隙間の出口が完全に流体内に浸漬可能であり、これによ
り、被覆過程により場合によって毛管状隙間のところに
生じた残留流体の乾燥並びに外部からの粒子の堆積とい
う、後続の被覆過程の障害が排除されるとともに、被覆
すべきサブストレートの端縁のところの付着作用による
不都合な被覆材の隆起部の形成が高さ方向の運動により
回避できることにある。
【図面の簡単な説明】
【図1】毛管状隙間を形成する部材を完全に流体中に浸
漬させた状態で本発明装置を横断面した図である。
【図2】毛管状隙間部材が被覆過程中に容器内の流体か
ら突出するように毛管状隙間を備えた部材を浸漬させた
状態で図1に示す装置を図3のII−II線に沿って断
面した図である。
【図3】被覆過程中に流体のレベルから突出した毛管状
隙間部材を備えた本発明装置の部分を縦断面した図であ
る。
【図4】本発明装置の有利な実施例の部分断面斜視図で
ある。
【図5】図4の詳細部分図である。
【図6】図8のVI−VI線に沿った拡大部分図であ
る。
【図7】図6のVIIで示す一点鎖線で囲った部分の詳
細斜視図である。
【図8】図4に示した装置の縦断面図である。
【図9】図4に示した装置の斜視図であって、毛管状隙
間が作業位置を占めている状態を上方から見た斜視図で
ある。
【図10】図4に示す装置を下方からみた斜視図であ
る。
【符号の説明】
10 容器、 10a 中空室、 11 ラッカ又は被
覆媒体(流体)、 12 毛管状隙間を備えた部材、
13 毛管状隙間、 13a 拡張部、 15ロッド、
16 矢印、 17 ベロー、 18 板、 19
アングルプロフィール材、 19′ フランジ、 20
矢印、 21 ガイドピン、 22,23 エラスト
マプロフィール、 24 レベル、 25 ベロー、
28矢印、 29 サブストレート、 30 矢印、
31 ラッカ層、 32 オーバフロー管、 33 貯
蔵容器、 34 ポンプ、 35 精密フィルタ、35
a 導管、 40 出口(ノズル)、 41,42
面、 43,44突出部、 44A 装置、 46 駆
動装置、 48 開口、 50 下側、52 左部分、
54 対称平面、 56 閉鎖板、 57 ロッド、
58ピストン、 60 作動シリンダ、 62 装
置、 63 矢印、 65 開口、 100 装置、
110 容器、 110′ 底部、 110a 中空
室、111 流体、 112 毛管状隙間を備えた部
材、 112a,112b半部、 113 毛管状隙
間、 113a 拡張部、 115,115′ ロッ
ド、 117,117′ ベロー、 118 シール閉
鎖板、 118′ 切欠、 119 アングル板、 1
19′ 開口、 120 矢印、 124 レベル、
132 オーバフロー管、 133 貯蔵容器、 13
3′ カバー、134 ポンプ、 135 フィルタ、
135a 導管、 140 出口、143,144
突出部、 146,146′ 直線駆動部材、 157
ロッド、 160 操作部材、 171 取付け板、
172 結合ビーム、 177,178 水平な面、
180 導管、 183 矢印
フロントページの続き (56)参考文献 特開 平6−142904(JP,A) 特開 平6−190324(JP,A) 米国特許5203922(US,A) 欧州特許出願公開581331(EP,A 1) 西独国特許出願公開4130432(DE, A1) 西独国特許出願公開4121792(DE, A1) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) B05C 11/00 - 11/115 B05B 1/00 - 1/36 B05D 1/26 WPI(DIALOG)

Claims (23)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 毛管状隙間(13;113)を備えた部
    材(12;112)により流体(11;111)でサブ
    ストレートを被覆するための装置であって、毛管状隙間
    を通って流体(11;111)が毛管効果によってサブ
    ストレート(29;129)に供給可能であり流体
    (11;111)により充填された容器(10;11
    0)が設けられており、かつ、毛管状隙間(13;11
    3)が容器内の流体(11;111)に接続されて流体
    が毛管状隙間(13;113)に供給されるように前記
    部材(12;112)が前記容器内に配置されており、
    かつ、毛管状隙間(13;113)の出口(40;14
    0)を容器(10;110)に対して相対的に高さ方向
    (16,28)で運動させるための手段が設けられてい
    ることを特徴とするサブストレートを被覆するための装
    置。
  2. 【請求項2】 毛管状隙間(13;113)の出口(4
    0;140)が、高さ方向で行われる運動により完全に
    流体(11;111)内に浸漬可能である請求項1記載
    の装置。
  3. 【請求項3】 高さ方向で行われる運動により、毛管状
    隙間(13;113)の出口(40;140)がサブス
    トレート(29;129)の下側(50)に接近可能で
    あり、又はサブストレートの下側が出口に接近可能であ
    る請求項1又は2記載の装置。
  4. 【請求項4】 部材(12;112)の運動がその鉛直
    方向の運動(16)として構成されている請求項1から
    3までのいずれか1項記載の装置。
  5. 【請求項5】 容器(10;110)が槽の形態で形成
    されている請求項1から4までのいずれか1項記載の装
    置。
  6. 【請求項6】 装置(100)の非使用時に容器(1
    0;110)を外部に対して閉鎖するために容器(1
    0;110)のための閉鎖装置(19;119)が設け
    られている請求項1から5までのいずれか1項記載の装
    置。
  7. 【請求項7】 閉鎖装置が、容器(10;110)のた
    めの側方向に移動可能な上方の閉鎖部材(19;11
    9)を備えている請求項6記載の装置。
  8. 【請求項8】 容器(10;110)内の流体(11;
    111)のレベル(24;124)をコンスタントに保
    つために、容器(10;110)にオーバフロー管(3
    2;132)が対応して配置されている請求項1から7
    までのいずれか1項記載の装置。
  9. 【請求項9】 被覆により消費された流体(11;11
    1)を貯蔵容器(33;133)から容器(10;11
    0)の中空室(10a;110a)に供給するためにポ
    ンプ(34;134)が設けられている請求項1から8
    までのいずれか1項記載の装置。
  10. 【請求項10】 容器(10;110)内に存在する流
    体(11;111)を循環中に濾過するためにフィルタ
    装置(35;135)とポンプ(34;134)とが設
    けられている請求項1から9までのいずれか1項記載の
    装置。
  11. 【請求項11】 被覆過程中に濾過が中断される請求項
    10記載の装置。
  12. 【請求項12】 容器内の流体のレベル(24;12
    4)を、特に被覆過程の終了時点で迅速に低下させる手
    段(25,125)が設けられている請求項1から11
    までのいずれか1項記載の装置。
  13. 【請求項13】 容器(10;110)内に存在する流
    体(11;111)内に、容積可変の部材(25;12
    5)が配置されている請求項12記載の装置。
  14. 【請求項14】 容積可変の部材がベロー(25;12
    5)として形成されている請求項13記載の装置。
  15. 【請求項15】 ベロー(25;125)の容積が直線
    駆動装置(60;160)により可変である請求項14
    記載の装置。
  16. 【請求項16】 部材(12;112)の毛管状隙間
    (13;113)の出口(40;140)の領域が2つ
    のナイフ状部分(43,44;143,144)により
    形成されており、これら両方のナイフ状部分の間に毛管
    状隙間(13;113)が延びている請求項1から15
    までのいずれか1項記載の装置。
  17. 【請求項17】 容器(10;110)の上側に設けら
    れた開口(119′)の寸法が、ナイフ状部分(14
    3;144)をわずかな間隔で囲むようにナイフ状部分
    の寸法に適合している請求項16記載の装置。
  18. 【請求項18】 ナイフ状部分(43,44;143,
    144)がそれぞれ出口(40;140)の領域内に水
    平な面(177もしくは178)を備えており、その幅
    (dもしくはd)がそれぞれ0.1から0.5mm
    の範囲内、有利にはほぼ0.2mmである請求項16又
    は17記載の装置。
  19. 【請求項19】 毛管状隙間(113)を有する部材
    (112)により流体(111)でサブストレート(1
    29)を被覆するための装置において、毛管状隙間を通
    って流体(111)が毛管効果によってサブストレート
    (129)に供給可能であり、流体(111)により充
    填された容器(110)が設けられており、毛管状隙間
    (113)が容器内の流体(111)に接続されてこの
    流体が毛管状隙間(113)に供給されるように容器
    (110)内に部材(112)が配置されており、か
    つ、この部材(112)にナイフ状部分(143,14
    4)が設けられており、これらのナイフ状部分がそれら
    の間に、出口(140)の領域内で毛管状隙間(11
    3)を形成していて、出口(140)の領域内に水平な
    面(177もしくは178)を備えており、その幅(d
    もしくはd )がそれぞれ0.1から0.5mmの範
    囲内であることを特徴とするサブストレートを被覆する
    ための装置。
  20. 【請求項20】 前記水平な面(177もしくは17
    8)の幅(d もしくはd )がほぼ0.2mmの範囲
    内である請求項19記載の装置。
  21. 【請求項21】 流体によりサブストレートを被覆する
    ための方法において、 流体を保有する容器から流体を毛管状隙間を介してサブ
    ストレートに供給し、被覆の終了時に、被覆の過程を中
    断するために、容器内の流体のレベルを迅速に降下せし
    めることを特徴とするサブストレートを被覆するための
    方法。
  22. 【請求項22】 毛管状隙間を介して供給される流体に
    よりサブストレートを被覆するための方法において、 a) 被覆過程の開始時に毛管状隙間の出口をサブスト
    レートの下側へ接近せしめ、これにより、出口のところ
    で流体をサブストレートの下側に接触せしめ、 b) 次いで、この出口とサブストレートの下側との間
    を被覆のために充分な値まで増大せしめることを特徴
    とするサブストレートを被覆するための方法。
  23. 【請求項23】 サブストレートを毛管状隙間の出口の
    上方へ案内するか又は出口をサブストレートの下方に案
    内する請求項22記載の方法。
JP7335316A 1994-12-22 1995-12-22 サブストレートを被覆するための方法と装置 Expired - Lifetime JP2878171B2 (ja)

Applications Claiming Priority (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE4445985A DE4445985A1 (de) 1994-12-22 1994-12-22 Verfahren und Vorrichtung zur Belackung oder Beschichtung eines Substrats
DE95/00905 1995-03-11
DE4445985.8 1995-03-11
PCT/EP1995/000905 WO1996019295A1 (de) 1994-12-22 1995-03-11 Verfahren und vorrichtung zur belackung oder beschichtung eines substrats
US08/547,779 US5654041A (en) 1994-12-22 1995-10-25 Method and device for lacquering or coating of a substrate by a capillary slot

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH08224528A JPH08224528A (ja) 1996-09-03
JP2878171B2 true JP2878171B2 (ja) 1999-04-05

Family

ID=25943169

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP7335316A Expired - Lifetime JP2878171B2 (ja) 1994-12-22 1995-12-22 サブストレートを被覆するための方法と装置

Country Status (7)

Country Link
US (1) US5654041A (ja)
JP (1) JP2878171B2 (ja)
CA (1) CA2148654C (ja)
DE (1) DE4445985A1 (ja)
FI (1) FI110581B (ja)
NO (1) NO972676D0 (ja)
WO (1) WO1996019295A1 (ja)

Families Citing this family (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6529362B2 (en) 1997-03-06 2003-03-04 Applied Materials Inc. Monocrystalline ceramic electrostatic chuck
US5737178A (en) * 1997-03-06 1998-04-07 Applied Materials, Inc. Monocrystalline ceramic coating having integral bonding interconnects for electrostatic chucks
EP1010473B1 (de) * 1998-12-17 2006-07-12 Guardian Industries Corp. Vorrichtung und Verfahren zum Beschichten eines ebenen Substrates
JP2001113214A (ja) * 1999-10-19 2001-04-24 Casio Comput Co Ltd 薄膜の形成方法、及び形成装置
JP2003173015A (ja) * 2001-09-28 2003-06-20 Hoya Corp グレートーンマスクの製造方法
JP4481688B2 (ja) * 2003-04-10 2010-06-16 Hoya株式会社 基板処理装置,塗布装置、塗布方法、及び、フォトマスクの製造方法
JP2005051220A (ja) * 2003-07-17 2005-02-24 Hoya Corp レジスト膜付基板の製造方法
US20050204334A1 (en) * 2004-03-15 2005-09-15 Ramco Systems Limited Component based software system
JP4169719B2 (ja) * 2004-03-30 2008-10-22 Hoya株式会社 レジスト膜付基板の製造方法
US7905194B2 (en) * 2006-06-23 2011-03-15 The Procter & Gamble Company Apparatus for gluing the tail of a convolutely wound web material thereto
JP2008168254A (ja) * 2007-01-15 2008-07-24 Hoya Corp 塗布方法及び塗布装置、並びにフォトマスクブランクの製造方法
JP5073375B2 (ja) * 2007-06-13 2012-11-14 Hoya株式会社 マスクブランクの製造方法及びフォトマスクの製造方法
JP2009010247A (ja) * 2007-06-29 2009-01-15 Hoya Corp マスクブランクの製造方法及び塗布装置
JP5086708B2 (ja) * 2007-06-29 2012-11-28 Hoya株式会社 マスクブランクの製造方法及び塗布装置
TWI471682B (zh) * 2007-06-29 2015-02-01 Hoya Corp 遮罩基底之製造方法及塗布裝置
US8039052B2 (en) * 2007-09-06 2011-10-18 Intermolecular, Inc. Multi-region processing system and heads
JP5322245B2 (ja) * 2009-02-16 2013-10-23 国立大学法人大阪大学 粒子膜の製造装置、及び粒子膜の製造方法
DE102011081980B4 (de) * 2011-09-01 2023-07-06 Gebr. Schmid Gmbh & Co. Vorrichtung zum Benetzen von flachen Substraten und Anlage mit einer solchen Vorrichtung
KR20140069677A (ko) * 2012-11-29 2014-06-10 삼성디스플레이 주식회사 기판 프린팅 장치 및 기판 프린팅 방법
JP5401621B2 (ja) * 2013-03-15 2014-01-29 Hoya株式会社 塗布方法及び塗布装置、並びにフォトマスクブランクの製造方法
DE102014106404A1 (de) * 2014-05-07 2015-11-12 Khs Gmbh Füllvorrichtung
JP6272138B2 (ja) * 2014-05-22 2018-01-31 東京エレクトロン株式会社 塗布処理装置
US9827587B2 (en) * 2014-08-28 2017-11-28 The Boeing Company Apparatuses and methods for applying viscous material to a fastener
US10201823B2 (en) * 2016-12-19 2019-02-12 Stephen Gliksman Paint sprayer attachment
CN109746157B (zh) * 2019-03-15 2023-09-15 杭州柏医健康科技有限公司 垂直方向自动涂膜机
CN112934610B (zh) * 2021-01-29 2022-10-25 重庆市九龙橡胶制品制造有限公司 轮胎用钢丝上胶结构
CN113893997B (zh) * 2021-09-26 2023-02-10 浙江航威专用设备有限公司 一种狭缝涂布头
CN114713433A (zh) * 2022-04-14 2022-07-08 胡云龙 一种聚氨酯漆包线生产系统

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2046596A (en) * 1932-01-13 1936-07-07 Patent Button Co Apparatus for uniformly coating flat surfaces
DE2204625A1 (de) * 1972-02-01 1973-08-09 Schildkroet Spielwaren Benetzungsvorrichtung
US4840821A (en) * 1985-05-27 1989-06-20 Canon Kabushiki Kaisha Method of and apparatus for forming film
US5203922A (en) * 1988-08-15 1993-04-20 Fuji Photo Film Co., Ltd. Application device
IT1241807B (it) * 1990-10-17 1994-02-01 Perini Navi Spa Apparecchiatura per incollare il lembo finale di rotoli di materiale nastriforme
DE4121792A1 (de) * 1991-07-02 1993-01-07 Kolbus Gmbh & Co Kg Duesenauftragssystem
DE4130432C2 (de) * 1991-09-13 1995-04-06 Kuesters Eduard Maschf Auftragselement für flüssiges, schaumförmiges oder pastenförmiges Auftragsmedium
US5455062A (en) * 1992-05-28 1995-10-03 Steag Microtech Gmbh Sternenfels Capillary device for lacquering or coating plates or disks
JP3220265B2 (ja) * 1992-12-28 2001-10-22 株式会社康井精機 塗工装置
ATE173657T1 (de) * 1993-05-05 1998-12-15 Steag Micro Tech Gmbh Vorrichtung zur belackung oder beschichtung von platten oder scheiben
WO1994027737A1 (fr) * 1993-05-27 1994-12-08 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Procede et appareil pour l'application d'un liquide

Also Published As

Publication number Publication date
NO972676L (no) 1997-06-11
FI972639A0 (fi) 1997-06-19
WO1996019295A1 (de) 1996-06-27
FI972639A (fi) 1997-06-19
JPH08224528A (ja) 1996-09-03
CA2148654C (en) 2000-08-15
US5654041A (en) 1997-08-05
FI110581B (fi) 2003-02-28
CA2148654A1 (en) 1996-06-23
NO972676D0 (no) 1997-06-11
DE4445985A1 (de) 1996-06-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2878171B2 (ja) サブストレートを被覆するための方法と装置
US5136972A (en) Coating apparatus
KR100209117B1 (ko) 기판 래커링 또는 코팅방법 및 장치
JP4142800B2 (ja) バンプ形成装置及びバンプ形成方法
US5524656A (en) Arrangement for cleaning dispense valves
JP3048789B2 (ja) 流体塗布装置
JPH09164357A (ja) 液体塗布装置
JPH10216598A (ja) 塗布方法および塗布装置並びにカラーフィルターの製造方法および製造装置
CN103182356A (zh) 帘式涂布方法和帘式涂布装置
KR102323077B1 (ko) 헤드 세정 유닛 및 이를 포함하는 기판 처리 장치
WO2017197025A1 (en) Probe wash station for analytical instrumentation
RU2746704C2 (ru) Прибор и способ для очистки части площади подложки
JP3811740B2 (ja) 塗工装置
JP4927274B2 (ja) 塗工装置及び塗工方法
JP3267822B2 (ja) 基板への塗布液塗布装置
JP2008143071A (ja) 吸引装置、それを備えた液滴吐出装置、および吸引装置の流路洗浄方法
JP3661010B2 (ja) 塗工装置及びその方法
JP2008142653A (ja) 吸引装置、およびそれを備えた液滴吐出装置
EP1047507B1 (en) Process and device for coating disks
JP4163791B2 (ja) 塗布装置
JPH11244766A (ja) 液体吐出装置
JPH1128405A (ja) ディスペンサ装置の脱泡方法およびディスペンサ装置
JPH062251B2 (ja) 塗布調整装置
JPH10156248A (ja) 塗布装置
JPH11309400A (ja) 光触媒膜コーティング装置

Legal Events

Date Code Title Description
R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080122

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090122

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100122

Year of fee payment: 11

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100122

Year of fee payment: 11

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110122

Year of fee payment: 12

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120122

Year of fee payment: 13

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130122

Year of fee payment: 14

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130122

Year of fee payment: 14

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130122

Year of fee payment: 14

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130122

Year of fee payment: 14

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140122

Year of fee payment: 15

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

EXPY Cancellation because of completion of term