JP2674462B2 - 半導体装置 - Google Patents

半導体装置

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JP2674462B2 JP5085823A JP8582393A JP2674462B2 JP 2674462 B2 JP2674462 B2 JP 2674462B2 JP 5085823 A JP5085823 A JP 5085823A JP 8582393 A JP8582393 A JP 8582393A JP 2674462 B2 JP2674462 B2 JP 2674462B2
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は半導体装置に関し、特に
LSIチップ内に形成された信号線の配線レイアウトに
関する。
【0002】
【従来の技術】従来、半導体LSIにおいて、LSIチ
ップ内の内部配線の寄生CR(C:容量、R:抵抗)に
よる信号伝搬遅延は、常に動作高速化の妨げとなってい
る。このような寄生CRが問題となる配線の一例とし
て、LSIチップの信号入力パッドから入力バッファ回
路までの配線レイアウトを図4に示す。
【0003】図4では、信号線A0〜A5が、それぞれ
の信号入力パッドP0〜P5からそれらに対応する入力
バッファ回路IN0〜IN5まで配線されている様子
が、各部のディメンションとともに示されている。以
下、本明細書では、A0〜A5がメモリLSIのアドレ
ス信号線であるとして説明して行くが、もちろんこのよ
うな問題はメモリLSIのアドレス信号線に限らず、L
SI一般に適用される。
【0004】信号入力パッドP0〜P5の位置は、LS
Iチップが搭載されるパッケージの信号入力ピンの位置
によって決まるため、図4のように間隔があき、入力バ
ッファ回路に至る各信号線の配線長に差ができる。図4
では一例として信号入力パッド間隔が1mmの場合を示
している。その結果、各信号線の寄生CRがそれぞれ異
なってくる。
【0005】LSIチップ内の配線の寄生容量値は、L
SIのデバイス構造によって変ってくるが、概ね図5に
示すような傾向を持つ。図5は、配線間隔に対する単位
長さあたりの配線容量値の依存性を示すグラフである。
図5において、ある幅を持つ配線についてみると、線間
隔が広いほど対隣接配線の容量成分が少なくなり、対基
板成分のみとなるため配線容量は小さくなる。また、配
線幅が太くなるほど対基板成分が大きくなるため、配線
容量値は大きくなる。さらに、図5の値に配線抵抗値を
掛け、時定数CRの配線間隔依存性に書き直して、配線
信号遅延と配線間隔および配線長との関連を表したグラ
フが図6である。
【0006】再び図4に戻り、上述の信号線毎の配線長
の違いによる信号遅延について説明する。図4の信号線
A0〜A5の配線幅と配線間隔(以下、配線/間隔と記
す)は、合計の配線領域幅の制限(LSIチップサイズ
から生ずる制限)から、線幅/間隔=1.6μm/1.
6μmと決めている。この時、信号入力パッドP0〜P
5に入力信号が印加されると、信号線A0〜A5の入力
バッファ入口B0〜B5における波形は、図7の波形図
に示すように各信号線のCR差を反映して遅延する。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】上述したような信号の
遅延差は、その信号がメモリLSIのアドレス信号など
である時に特に問題となる。メモリLSIでは、アドレ
ス信号を受けた時、そのアドレスに対応するメモリセル
にデータを読み書きする。メモリLSIのアクセススピ
ードは、最も遅いアドレス信号(図4では信号線A0)
でリミットされるため、アドレス信号の遅延差は、その
ままメモリLSIのアクセススピードに反映して高速化
を妨げる要因となる。また、図6からもわかるように、
配線間隔をさらに広げればCRは小さくなり、アクセス
スピードはさらに速くできるが、配線領域幅も広くな
り、チップサイズが大きくなるという問題がある。
【0008】本発明の目的は、チップサイズを大きくす
ることなく、上記のような複数の信号線間の信号遅延差
を小さくすることにより上記問題を解決することにあ
る。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明は、LSIチップ
内に配線長の異なる複数の信号線が長さ順に互いに並行
して形成された半導体装置において、前記各信号線どう
しの線間隔をそれぞれ同一としかつ信号線の長いものか
ら短いものに向って線幅を順次細くするか、または各信
号線の線幅をそれぞれ同一としかつ信号線の長いものか
ら短いものに向って信号線どうしの線間隔を順次狭める
か、または信号線の長いものから短いものに向って線幅
を順次細くすると同時に信号線どうしの線間隔を順次狭
めて配線している。
【0010】また、前記長い信号線の線幅または線間隔
を広げたことによって増加した面積を、短い信号線の線
幅または線間隔を狭めたことによって減少した面積で補
い、LSIチップサイズを一定としている。
【0011】また、前記LSIチップ内の信号線は信号
入力パッドから入力バッファ回路まで配線されている。
【0012】
【作用】本発明は、LSIチップ内を長さの異なる複数
の信号線が並行している時に、配線長の長い信号線は線
幅あるいは線間隔を広くしてCRを下げ、そこで広くな
った分の配線領域を配線長の短い信号線の線幅あるいは
線間隔を狭くして補うことにより、LSIチップの合計
配線領域を広げずに信号線間の遅延差をなくすようにし
ている。
【0013】
【実施例】本発明の第1の実施例を図面を参照しながら
説明する。図1は、図4で示した従来と同様に構成され
た配線に対して本発明を適用したレイアウト図である。
図1の各構成要素は、図4と同様であるので説明を省略
する。
【0014】ここで、最も配線長の長い信号線A0につ
いて、線幅/間隔を1.6μm/2.8μmとしてCR
値を下げる。この線幅/間隔は、図6のグラフにおい
て、配線長10mmで配線幅1.6μmの配線CRが飽
和するところ、つまりこれ以上線幅/間隔を広げてもC
Rが小さくならないところから選んでいる。正確には入
力バッファ回路群の長さ(図では〜1mm)を考慮すべ
きであるが、ここではそれを無視して説明している。
【0015】これにより、図4の従来例における線幅/
間隔1.6μm/1.6μmの時に比べてCR値で10
%程度良くなることがわかる。また、寄生CRの線幅/
間隔への依存性はデバイス構造によって異なる。従っ
て、線幅/間隔の決定は、図6に示したデータを用いて
上述のような手順で行うことになる。
【0016】本実施例で、A0〜A5がメモリLSIの
アドレス信号線であるとすれば、このLSIのアドレス
アクセス時間はこの最も配線長の長い信号線A0で決ま
り、図4の場合より約10%のアクセス高速化となる。
以下、順次図1に記載のように線幅/間隔を狭めて行
く。こうして合計の配線領域幅を広げずに済ますことが
できる。つまり、チップサイズは大きくならない。
【0017】図1の場合の信号線A0〜A5からの入力
に対する入力バッファ入口B0〜B5における信号波形
を、図7の従来の波形と比較して図2に示す。図2から
わかるように、本実施例によればB0〜B5における各
信号線間の遅延差は小さくなり、かつ、B0における遅
延のセンター値が矢印で示す分だけ短くなる。このよう
にして、配線長の長い(すなわち遅延時間の長い)信号
線A0の遅延が短くなり、かつ、配線長の短い(すなわ
ち遅延時間の短い)信号線A5の遅延が長くなって、信
号線間の遅延差が縮まる。その結果、遅延時間をリミッ
トしている信号線の遅延が短くなるため、全体としての
動作高速化が達成される。
【0018】ここまでは、信号入力パッドと入力バッフ
ァ回路との間の信号配線について述べてきた。しかし、
図1と同様に、長さの異なる信号線が並行して走るよう
な構成となっていれば、図3に第2の実施例として示す
ように、LSIチップ内に形成された信号駆動回路DR
V0〜DRV5から信号受信回路RCV0〜RCV5に
至る配線についても同様に本発明が適用できる。
【0019】
【発明の効果】以上述べたように本発明は、半導体LS
Iチップ内の配線の寄生CRが線幅/間隔に依存するこ
とから、配線長の長い信号線は短い信号線よりも線幅/
間隔を広げてCRを小さくし、その広げた分の占める面
積を配線長の短い信号線の線幅/間隔を狭めることで補
うようにしたので、LSIチップサイズは大きくなるこ
とがなく、また、信号線間の遅延差が小さくなりLSI
の動作を高速化することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施例を示すLSIチップ上の
信号線の配線レイアウト図である。
【図2】本発明の第1の実施例と従来例とを比較する図
で、信号入力点から配線遅延を経過した後の波形図であ
る。
【図3】本発明の第2の実施例を示すLSIチップ上の
信号線の配線レイアウト図である。
【図4】従来の半導体装置の信号線の配線レイアウト図
である。
【図5】単位長さあたりの配線寄生容量の配線間依存性
を示すグラフである。
【図6】配線寄生CRの配線間依存性を示すグラフであ
る。
【図7】従来の配線において信号入力点から配線遅延を
経過した後の波形図である。
【符号の説明】
A0〜A5 信号線 P0〜P5 信号入力パッド B0〜B5 入力バッファ入口 IN0〜IN5 入力バッファ回路 DRV0〜DRV5 信号駆動回路 RCV0〜RCV5 信号受信回路

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 LSIチップ内に配線長の異なる複数の
    信号線が長さ順に互いに並行して形成された半導体装置
    において、前記各信号線どうしの線間隔をそれぞれ同一
    としかつ信号線の長いものから短いものに向って線幅を
    順次細くするか、または各信号線の線幅をそれぞれ同一
    としかつ信号線の長いものから短いものに向って信号線
    どうしの線間隔を順次狭めるか、または信号線の長いも
    のから短いものに向って線幅を順次細くすると同時に信
    号線どうしの線間隔を順次狭めて配線したことを特徴と
    する半導体装置。
  2. 【請求項2】 前記長い信号線の線幅または線間隔を広
    げたことによって増加した面積を、短い信号線の線幅ま
    たは線間隔を狭めたことによって減少した面積で補い、
    LSIチップサイズを一定とした請求項1記載の半導体
    装置。
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