JP2569251B2 - ピリミジンヌクレオシド誘導体 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、優れた抗腫瘍活性を有
する新規なピリミジンヌクレオシド誘導体に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、ピリミジン系の代謝拮抗剤で抗腫
瘍剤として、市販されているものには、５−フルオロウ
ラシル（ Duschinsky,R.,et al.,J.Am.Chem.Soc.,79,45
59(1957)）、 テガフ−ル（ Hiller,SA.,etal. Dokl.Aka
d.Nauk USSR,176,332(1967) ）、ＵＦＴ（ Fujii,S.,et
al.,Gann,69,763(1978)）、カルモフ−ル（ Hoshi,A.,
et al.,Gann,67,725(1976)）、ドキシフルリジン（ Coo
k,A.F.,et al.,J.Med.Chem.,22,1330(1979) ）、シタラ
ビン（ Evance,J.S.,et al.,Proc.Soc.Exp.Bio.Med.,10
6,350(1961) ）、アンシタビン（ Hoshi,A.,et al.,Gan
n,63,353,(1972)）、エノシタビン（ Aoshima,M.,et a
l.,Cancer Res.,36,2726(1976)）などが知られている。

【０００３】リボース部分に３’位にシアノ基を有する
ピリミジンヌクレオシドとしては、３’−シアノチミン
ヌクレオシドおよび３’−シアノウラシルヌクレオシド
誘導体が知られており（日本特許公開公報 平２−８３
３９２号、平２−１０４５８６号、平２−５０３００２
号）、２’位にシアノ基を有するピリミジンヌクレオシ
ドとしては、２’−シアノデオキシチミンヌクレオシド
および２’−シアノデオキシウラシルヌクレオシド及び
２’−シアノデオキシシトシンヌクレオシドが知られて
いる（第１７回核酸シンポジウム講演要旨集、５１頁
（１９９０））。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】本発明者らは前述した
既存の抗腫瘍剤に優る新規な代謝拮抗剤を開発すべく、
長年にわたり、検討を重ねた結果、ピリミジンヌクレオ
シドの４位のアミノ基や３’又は５’位の水酸基をアシ
ル化した誘導体が種々の腫瘍系に対し、強い抗腫瘍活性
を示すことを見出し、本発明を完成した。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明の強い抗腫瘍活性
を有する新規なピリミジンヌクレオシド誘導体は一般式

【０００６】

【化２】

【０００７】を有する化合物及びその薬理上許容される
無毒性塩である。

【０００８】上記式（１）中、Ｒ¹ 、Ｒ² 及びＲ³ は同
一又は異なって、水素原子、炭素数２乃至２４個のアル
キルカルボニル基、炭素数３乃至２４個のアルケニルカ
ルボニル基あるいは下記Ａ群、Ｂ群、Ｃ群、Ｄ群及びＥ
群から選択される置換分を有する炭素数２乃至２４個の
アルキルカルボニル基あるいは下記Ａ群、Ｂ群、Ｃ群、
Ｄ群又はＥ群から選択される置換分を有する炭素数７乃
至１５個のアリールカルボニル基を示し、Ｒ⁴ 及びＲ⁵
は互いに従属してＲ⁴ がシアノ基のときＲ⁵ は水素原
子、Ｒ⁴ が水素原子のときＲ⁵ はシアノ基を示す。

【０００９】但し、Ｒ¹ 、Ｒ² 及びＲ³ が同一でかつ水
素原子である場合を除く。また、Ｒ¹ 、Ｒ² 及びＲ³ の
少なくとも一つは炭素数５乃至２４個のアルキルカルボ
ニル基、炭素数３乃至２４個のアルケニルカルボニル
基、下記Ａ群、Ｂ群、Ｃ群、Ｄ群又はＥ群から選択され
る置換分を有する炭素数２乃至２４個のアルキルカルボ
ニル基あるいは下記Ａ群、Ｂ群、Ｃ群、Ｄ群又はＥ群か
ら選択される置換分を有する炭素数７乃至１５個のアリ
ールカルボニル基である。

【００１０】［Ａ群］ 水酸基、アミノ基、メルカプト基、カルボキシル基、ア
ジド基、シアノ基、アリール基。

【００１１】［Ｂ群］ アルキルオキシ基、アルキルオキシアルキルオキシ基、
アルキルチオアルキルオキシ基、アルキルオキシアルキ
ルオキシアルキルオキシ基、アリールオキシ基、アラル
キルオキシ基、アルキルカルボニルオキシ基、アリール
カルボニルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、
ハロゲン置換アルコキシカルボニルオキシ基、アラルキ
ルオキシカルボニルオキシ基、トリアルキルシリルオキ
シ基、アルキルスルホニルオキシ基。

【００１２】［Ｃ群］ アルキルチオ基、アルキルジチオ基、アリ−ルチオ基、
アリールジチオ基、アラルキルチオ基、アラルキルジチ
オ基、アルキルカルボニルチオ基、アリールカルボニル
チオ基、アルコキシカルボニルチオ基、ハロゲン置換ア
ルコキシカルボニルチオ基、アラルキルオキシカルボニ
ルチオ基、トリアルキルシリルチオ基。 ［Ｄ群］ モノアルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、モノアリ
ールアミノ基、ジアリールアミノ基、モノアラルキルア
ミノ基、ジアラルキルアミノ基、モノアルキルカルボニ
ルアミノ基、ジアルキルカルボニルアミノ基、モノアリ
ールカルボニルアミノ基、ジアリールカルボニルアミノ
基、アルコキシカルボニルアミノ基、ハロゲン置換アル
コキシカルボニルアミノ基、アラルキルオキシカルボニ
ルアミノ基、トリアルキルシリルアミノ基。

【００１３】［Ｅ群］ アルコキシカルボニル基、ハロゲン置換アルコキシカル
ボニル基、アリールオキシカルボニル基、アラルキルオ
キシカルボニル基。前述した化合物（１）のＲ¹ 、Ｒ²
およびＲ³ の炭素数２乃至２４個のアルキルカルボニル
基の炭素数１乃至２３個のアルキル部分としては、メチ
ル、エチル、n-プロピル、イソプロピル、n-ブチル、イ
ソブチル、s-ブチル、t-ブチル、n-ペンチル、イソペン
チル、2-メチルブチル、ネオペンチル、1-エチルプロピ
ル、n-ヘキシル、4-メチルペンチル、3-メチルペンチ
ル、2-メチルペンチル、1-メチルペンチル、3,3-ジメチ
ルブチル、2,2-ジメチルブチル、1,1-ジメチルブチル、
1,2-ジメチルブチル、1,3-ジメチルブチル、2,3-ジメチ
ルブチル、2-エチルブチル、ヘプチル、1-メチルヘキシ
ル、2-メチルヘキシル、3-メチルヘキシル、4-メチルヘ
キシル、5-メチルヘキシル、1-プロピルブチル、4,4-ジ
メチルペンチル、オクチル、1-メチルヘプチル、2-メチ
ルヘプチル、3-メチルヘプチル、4-メチルヘプチル、5-
メチルヘプチル、6-メチルヘプチル、1-プロピルペンチ
ル、2-エチルヘキシル、5,5-ジメチルヘキシル、ノニ
ル、3-メチルオクチル、4-メチルオクチル、5-メチルオ
クチル、6-メチルオクチル、1-プロピルヘキシル、2-エ
チルヘプチル、6,6-ジメチルヘプチル、デシル、1-メチ
ルノニル、3-メチルノニル、8-メチルノニル、3-エチル
オクチル、3,7-ジメチルオクチル、7,7-ジメチルオクチ
ル、ウンデシル、4,8-ジメチルノニル、ドデシル、トリ
デシル、テトラデシル、ペンタデシル、3,7,11- トリメ
チルドデシル、ヘキサデシル、4,8,12- トリメチルトリ
デシル、1-メチルペンタデシル、14- メチルペンタデシ
ル、13,13-ジメチルテトラデシル、ヘプタデシル、15-
メチルヘキサデシル、オクタデシル、1-メチルヘプタデ
シル、ノナデシル、アイコシル、3,7,11,15-テトラメチ
ルヘキサデシル、ヘナイコシル、ドコシル及び、トリコ
シルがあげられ、好適には炭素数４乃至２１個のもので
あり、さらに好適には炭素数１１乃至１７個のものであ
る。前述した化合物（１）のＲ¹ 、Ｒ² およびＲ³ の炭
素数３乃至２４個のアルケニルカルボニル基としては、
アクリロイル、メタクロイル、３−ブテノイル、クロト
ノイル、イソクロトノイル、オレオイル、エライドイ
ル、２−ペンテノイル、３−ペンテノイル、４−ペンテ
ノイル、２−メチル−２ブテノイル、３−メチル−２−
ブテノイル、２、２−ジメチルプロペノイル、１、２−
ジメチルプロペノイル、２−ヘキセノイル、３−ヘキセ
ノイル、４−ヘキセノイル、５−ヘキセノイル、２−ヘ
プテノイル、３−ヘプテノイル、４−ヘプテノイル、５
−ヘプテノイル、６−ヘプテノイル、２−オクテノイ
ル、３−オクテノイル、４−オクテノイル、５−オクテ
ノイル、６−オクテノイル、３−ノネノイル、４−デセ
ノイル、４−ウンデセノイル、５−ドデセノイル、６−
トリデセノイル、７−テトラデセノイル、８−ペンタデ
セノイル、９−ヘキサデセノイル（例えば、パルミトレ
オイル）、１０−ヘプタデセノイル、９−オクタデセノ
イル（例えば、オレオイル）、１２−オクタデセノイ
ル、オクタデカジエノイル（例えば、９、１２−オクタ
デカデセノイル、すなわち、リノレオイル）、オクタデ
カトリエノイル（例えば、９、１２、１５−オクタデカ
トリエノイル、すなわち、リノレノイル）、１５−ノナ
デセノイル、１１−イコセノイル、イコサテトラエノイ
ル（例えば、５、８、１１、１４−イコサテトラエノイ
ル、すなわち、アラキドニル）、１６−ヘニコセルノイ
ル、１８−トリコセノイル、２０−テトラコセノイルが
あげられ、好適には８乃至２２個のものであり、さらに
好適には炭素数１２乃至１８個のものである。

【００１４】前述したＲ¹ 、Ｒ² およびＲ³ の炭素数２
乃至２４個の置換アルキルカルボニル基の炭素数１乃至
２３個のアルキル部分としては、例えばメチル、エチ
ル、n-プロピル、イソプロピル、n-ブチル、イソブチ
ル、s-ブチル、t-ブチル、n-ペンチル、イソペンチル、
2-メチルブチル、ネオペンチル、1-エチルプロピル、n-
ヘキシル、4-メチルペンチル、3-メチルペンチル、2-メ
チルペンチル、1-メチルペンチル、3,3-ジメチルブチ
ル、2,2-ジメチルブチル、1,1-ジメチルブチル、1,2-ジ
メチルブチル、1,3-ジメチルブチル、2,3-ジメチルブチ
ル、2-エチルブチル、ヘプチル、1-メチルヘキシル、2-
メチルヘキシル、3-メチルヘキシル、4-メチルヘキシ
ル、5-メチルヘキシル、1-プロピルブチル、4,4-ジメチ
ルペンチル、オクチル、1-メチルヘプチル、2-メチルヘ
プチル、3-メチルヘプチル、4-メチルヘプチル、5-メチ
ルヘプチル、6-メチルヘプチル、1-プロピルペンチル、
2-エチルヘキシル、5,5-ジメチルヘキシル、ノニル、3-
メチルオクチル、4-メチルオクチル、5-メチルオクチ
ル、6-メチルオクチル、1-プロピルヘキシル、2-エチル
ヘプチル、6,6-ジメチルヘプチル、デシル、1-メチルノ
ニル、3-メチルノニル、8-メチルノニル、3-エチルオク
チル、3,7-ジメチルオクチル、7,7-ジメチルオクチル、
ウンデシル、4,8-ジメチルノニル、ドデシル、トリデシ
ル、テトラデシル、ペンタデシル、3,7,11- トリメチル
ドデシル、ヘキサデシル、4,8,12- トリメチルトリデシ
ル、1-メチルペンタデシル、14- メチルペンタデシル、
13,13-ジメチルテトラデシル、ヘプタデシル、15- メチ
ルヘキサデシル、オクタデシル、1-メチルヘプタデシ
ル、ノナデシル、アイコシル、3,7,11,15-テトラメチル
ヘキサデシル、ヘナイコシル、ドコシル及びトリコシル
があげられ、好適には炭素数２乃至１９個のものであ
り、さらに好適には炭素数１１乃至１５個のものであ
る。

【００１５】前述したＢ群、Ｃ群又はＤ群のアルキルオ
キシ基、アルキルチオ基、アルキルジチオ基、モノアル
キルアミノ基、ジアルキルアミノ基、アルキルスルホニ
ルオキシ基のアルキル部分としては、メチル、エチル、
n-プロピル、イソプロピル、n-ブチル、イソブチル、s-
ブチル、t-ブチル、n-ペンチル、イソペンチル、2-メチ
ルブチル、ネオペンチル、1-エチルプロピル、n-ヘキシ
ル、4-メチルペンチル、3-メチルペンチル、2-メチルペ
ンチル、1-メチルペンチル、3,3-ジメチルブチル、2,2-
ジメチルブチル、1,1-ジメチルブチル、1,2-ジメチルブ
チル、1,3-ジメチルブチル、2,3-ジメチルブチル、2-エ
チルブチル、ヘプチル、1-メチルヘキシル、2-メチルヘ
キシル、3-メチルヘキシル、4-メチルヘキシル、5-メチ
ルヘキシル、1-プロピルブチル、4,4-ジメチルペンチ
ル、オクチル、1-メチルヘプチル、2-メチルヘプチル、
3-メチルヘプチル、4-メチルヘプチル、5-メチルヘプチ
ル、6-メチルヘプチル、1-プロピルペンチル、2-エチル
ヘキシル、5,5-ジメチルヘキシル、ノニル、3-メチルオ
クチル、4-メチルオクチル、5-メチルオクチル、6-メチ
ルオクチル、1-プロピルヘキシル、2-エチルヘプチル、
6,6-ジメチルヘプチル、デシル、1-メチルノニル、3-メ
チルノニル、8-メチルノニル、3-エチルオクチル、3,7-
ジメチルオクチル、7,7-ジメチルオクチルのような炭素
数１乃至１０個のものがあげられ、好適には炭素数１乃
至４個のものであり、さらに好適にはメチル、エチル基
である。

【００１６】前述したＢ群、Ｃ群、Ｄ群のアルキルカル
ボニルオキシ基、アルキルカルボニルチオ基、モノアル
キルカルボニルアミノ基又はジアルキルカルボニルアミ
ノ基のアルキル部分としては、メチル、エチル、n-プロ
ピル、イソプロピル、n-ブチル、イソブチル、s-ブチ
ル、t-ブチル、n-ペンチル、イソペンチル、2-メチルブ
チル、ネオペンチル、1-エチルプロピル、n-ヘキシル、
4-メチルペンチル、3-メチルペンチル、2-メチルペンチ
ル、1-メチルペンチル、3,3-ジメチルブチル、2,2-ジメ
チルブチル、1,1-ジメチルブチル、1,2-ジメチルブチ
ル、1,3-ジメチルブチル、2,3-ジメチルブチル、2-エチ
ルブチル、ヘプチル、1-メチルヘキシル、2-メチルヘキ
シル、3-メチルヘキシル、4-メチルヘキシル、5-メチル
ヘキシル、1-プロピルブチル、4,4-ジメチルペンチル、
オクチル、1-メチルヘプチル、2-メチルヘプチル、3-メ
チルヘプチル、4-メチルヘプチル、5-メチルヘプチル、
6-メチルヘプチル、1-プロピルペンチル、2-エチルヘキ
シル、5,5-ジメチルヘキシル、ノニル、3-メチルオクチ
ル、4-メチルオクチル、5-メチルオクチル、6-メチルオ
クチル、1-プロピルヘキシル、2-エチルヘプチル、6,6-
ジメチルヘプチル、デシル、1-メチルノニル、3-メチル
ノニル、8-メチルノニル、3-エチルオクチル、3,7-ジメ
チルオクチル、7,7-ジメチルオクチル、ウンデシル、4,
8-ジメチルノニル、ドデシル、トリデシル、テトラデシ
ル、ペンタデシル、3,7,11- トリメチルドデシル、ヘキ
サデシル、4,8,12- トリメチルトリデシル、1-メチルペ
ンタデシル、14- メチルペンタデシル、13,13-ジメチル
テトラデシル、ヘプタデシル、15- メチルヘキサデシ
ル、オクタデシル、1-メチルヘプタデシル、ノナデシ
ル、アイコシル、3,7,11,15-テトラメチルヘキサデシル
のような炭素数１乃至２０個のものがあげられ、好適に
は炭素数１乃至１０個のものであり、さらに好適には炭
素数１乃至４個のものであり、最も好適にはメチル、エ
チル基である。

【００１７】炭素数７乃至１５個のアリールカルボニル
基又は前述したＡ群、Ｂ群、Ｃ群、Ｄ群若しくはＥ群の
アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリ
ールジチオ基、モノアリールアミノ基、ジアリールアミ
ノ基、アリールカルボニルオキシ基、アリールカルボニ
ルチオ基、モノアリールカルボニルアミノ基、ジアリー
ルカルボニルアミノ基又はアリールオキシカルボニル基
のアリール部分としては、フェニル、１−ナフチル、２
−ナフチル、１−フェナンスリル、２−フェナンスリ
ル、１−アンスリル、２−アンスリルのような炭素数６
乃至１４個のものがあげられ、好適にはフェニルであ
る。

【００１８】前述したＢ群、Ｃ群、Ｄ群又はＥ群のアラ
ルキルオキシ基、アラルキルチオ基、アラルキルジチオ
基、モノアラルキルアミノ基、ジアラルキルアミノ基、
アラルキルオキシカルボニルオキシ基、アラルキルオキ
シカルボニルチオ基、アラルキルオキシカルボニルアミ
ノ基、アラルキルオキシカルボニル基のアラルキル部分
のアルキル部分としては、メチル、エチル、n-プロピ
ル、イソプロピル、n-ブチル、イソブチル、s-ブチル、
t-ブチル、n-ペンチル、イソペンチル、2-メチルブチ
ル、ネオペンチル、1-エチルプロピル、n-ヘキシル、4-
メチルペンチル、3-メチルペンチル、2-メチルペンチ
ル、1-メチルペンチル、3,3-ジメチルブチル、2,2-ジメ
チルブチル、1,1-ジメチルブチル、1,2-ジメチルブチ
ル、1,3-ジメチルブチル、2,3-ジメチルブチル、2-エチ
ルブチル、ヘプチル、1-メチルヘキシル、2-メチルヘキ
シル、3-メチルヘキシル、4-メチルヘキシル、5-メチル
ヘキシル、1-プロピルブチル、4,4-ジメチルペンチル、
オクチル、1-メチルヘプチル、2-メチルヘプチル、3-メ
チルヘプチル、4-メチルヘプチル、5-メチルヘプチル、
6-メチルヘプチル、1-プロピルペンチル、2-エチルヘキ
シル、5,5-ジメチルヘキシル、ノニル、3-メチルオクチ
ル、4-メチルオクチル、5-メチルオクチル、6-メチルオ
クチル、1-プロピルヘキシル、2-エチルヘプチル、6,6-
ジメチルヘプチル、デシル、1-メチルノニル、3-メチル
ノニル、8-メチルノニル、3-エチルオクチル、3,7-ジメ
チルオクチル、7,7-ジメチルオクチル、ウンデシル、4,
8-ジメチルノニル、ドデシル、トリデシル、テトラデシ
ル、ペンタデシル、3,7,11- トリメチルドデシル、ヘキ
サデシル、4,8,12- トリメチルトリデシル、1-メチルペ
ンタデシル、14- メチルペンタデシル、13,13-ジメチル
テトラデシル、ヘプタデシル、15- メチルヘキサデシル
のような炭素数１乃至１７個のものがあげられ、好適に
は炭素数１乃至１０個のものであり、さらに好適には炭
素数１乃至４個のものであり、最も好適にはメチル及び
エチル基であり、アリ−ル部分としては、フェニル、１
−ナフチル、２−ナフチル、１−フェナンスリル、２−
フェナンスリル、１−アンスリル、２−アンスリルのよ
うな炭素数６乃至１４個のものがあげられ、好適にはフ
ェニル基である。

【００１９】前述したＢ群、Ｃ群、Ｄ群又はＥ群のアル
コキシカルボニルオキシ基、アルコキシカルボニルチオ
基、アルコキシカルボニルアミノ基又はアルコキシカル
ボニル基のアルコキシ部分のアルキル部分としては、メ
チル、エチル、n-プロピル、イソプロピル、n-ブチル、
イソブチル、s-ブチル、t-ブチル、n-ペンチル、イソペ
ンチル、2-メチルブチル、ネオペンチル、1-エチルプロ
ピル、n-ヘキシル、4-メチルペンチル、3-メチルペンチ
ル、2-メチルペンチル、1-メチルペンチル、3,3-ジメチ
ルブチル、2,2-ジメチルブチル、1,1-ジメチルブチル、
1,2-ジメチルブチル、1,3-ジメチルブチル、2,3-ジメチ
ルブチル、2-エチルブチル、ヘプチル、1-メチルヘキシ
ル、2-メチルヘキシル、3-メチルヘキシル、4-メチルヘ
キシル、5-メチルヘキシル、1-プロピルブチル、4,4-ジ
メチルペンチル、オクチル、1-メチルヘプチル、2-メチ
ルヘプチル、3-メチルヘプチル、4-メチルヘプチル、5-
メチルヘプチル、6-メチルヘプチル、1-プロピルペンチ
ル、2-エチルヘキシル、5,5-ジメチルヘキシル、ノニ
ル、3-メチルオクチル、4-メチルオクチル、5-メチルオ
クチル、6-メチルオクチル、1-プロピルヘキシル、2-エ
チルヘプチル、6,6-ジメチルヘプチル、デシル、1-メチ
ルノニル、3-メチルノニル、8-メチルノニル、3-エチル
オクチル、3,7-ジメチルオクチル、7,7-ジメチルオクチ
ル、ウンデシル、4,8-ジメチルノニル、ドデシル、トリ
デシル、テトラデシル、ペンタデシル、3,7,11- トリメ
チルドデシル、ヘキサデシル、4,8,12- トリメチルトリ
デシル、1-メチルペンタデシル、14- メチルペンタデシ
ル、13,13-ジメチルテトラデシル、ヘプタデシル、15-
メチルヘキサデシル、オクタデシル、1-メチルヘプタデ
シル、ノナデシル、アイコシル、3,7,11,15-テトラメチ
ルヘキサデシルのような炭素数１乃至２０個のものがあ
げられ、好適には炭素数１乃至１０個のものであり、さ
らに好適には炭素数１乃至４個のものである前述したＢ
群、Ｃ群、Ｄ群又はＥ群のハロゲン置換アルコキシカル
ボニルオキシ基、ハロゲン置換アルコキシカルボニルチ
オ基、ハロゲン置換アルコキシカルボニルアミノ基又は
ハロゲン置換アルコキシカルボニル基のアルコキシ部分
のアルキル部分としては、エチル、n-プロピル、イソプ
ロピル、n-ブチル、イソブチル、s-ブチル、t-ブチル、
n-ペンチル、イソペンチル、2-メチルブチル、ネオペン
チル、1-エチルプロピル、n-ヘキシル、4-メチルペンチ
ル、3-メチルペンチル、2-メチルペンチル、1-メチルペ
ンチル、3,3-ジメチルブチル、2,2-ジメチルブチル、1,
1-ジメチルブチル、1,2-ジメチルブチル、1,3-ジメチル
ブチル、2,3-ジメチルブチル、2-エチルブチル、ヘプチ
ル、1-メチルヘキシル、2-メチルヘキシル、3-メチルヘ
キシル、4-メチルヘキシル、5-メチルヘキシル、1-プロ
ピルブチル、4,4-ジメチルペンチル、オクチル、1-メチ
ルヘプチル、2-メチルヘプチル、3-メチルヘプチル、4-
メチルヘプチル、5-メチルヘプチル、6-メチルヘプチ
ル、1-プロピルペンチル、2-エチルヘキシル、5,5-ジメ
チルヘキシル、ノニル、3-メチルオクチル、4-メチルオ
クチル、5-メチルオクチル、6-メチルオクチル、1-プロ
ピルヘキシル、2-エチルヘプチル、6,6-ジメチルヘプチ
ル、デシル、1-メチルノニル、3-メチルノニル、8-メチ
ルノニル、3-エチルオクチル、3,7-ジメチルオクチル、
7,7-ジメチルオクチル、ウンデシル、4,8-ジメチルノニ
ル、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシ
ル、3,7,11- トリメチルドデシル、ヘキサデシル、4,8,
12- トリメチルトリデシル、1-メチルペンタデシル、14
- メチルペンタデシル、13,13-ジメチルテトラデシルの
ような炭素数２乃至１６個のものがあげられ、好適には
炭素数２乃至１０個のものである。さらに好適には炭素
数２乃至４個のものである。

【００２０】前述したＢ群、Ｃ群、Ｄ群又はＥ群のハロ
ゲン置換アルコキシカルボニルオキシ基、ハロゲン置換
アルコキシカルボニルチオ基、ハロゲン置換アルコキシ
カルボニルアミノ基又はハロゲン置換アルコキシカルボ
ニル基のハロゲン部分としては、弗素、塩素、臭素又は
沃素があげられ、好適には塩素、臭素である。

【００２１】前述したＢ群、Ｃ群又はＤ群のトリアルキ
ルシリルオキシ基、トリアルキルシリルチオ基又はトリ
アルキルシリルアミノ基のトリアルキルシリル部分アル
キル基としては、メチル、エチル、n-プロピル、イソプ
ロピル、n-ブチル、イソブチル、s-ブチル、t-ブチル、
n-ペンチル、イソペンチル、2-メチルブチル、ネオペン
チル、1-エチルプロピル、n-ヘキシル、4-メチルペンチ
ル、3-メチルペンチル、2-メチルペンチル、1-メチルペ
ンチル、3,3-ジメチルブチル、2,2-ジメチルブチル、1,
1-ジメチルブチル、1,2-ジメチルブチル、1,3-ジメチル
ブチル、2,3-ジメチルブチル、2-エチルブチル、ヘプチ
ル、1-メチルヘキシル、2-メチルヘキシル、3-メチルヘ
キシル、4-メチルヘキシル、5-メチルヘキシル、1-プロ
ピルブチル、4,4-ジメチルペンチル、オクチル、1-メチ
ルヘプチル、2-メチルヘプチル、3-メチルヘプチル、4-
メチルヘプチル、5-メチルヘプチル、6-メチルヘプチ
ル、1-プロピルペンチル、2-エチルヘキシル、5,5-ジメ
チルヘキシルのような炭素数１乃至８個のものがあげら
れ、好適には炭素数１乃至４個のものである。

【００２２】前述したＢ群、Ｃ群、Ｄ群又はＥ群の置換
分がアリール部分を含む場合には、その環上に置換基を
有していてもよい。置換基としては例えば、メチル、エ
チルなどの低級アルキル基、アセチル、プロピオニルな
どの低級脂肪族アシル基、メトキシ、エトキシなどの低
級アルコキシ基、クロロ、ブロモなどのハロゲノ基など
があげられ、好適には、メチル、アセチル、メトキシで
ある。

【００２３】Ａ群における好適なアリール基としては、
フェニル、４−メチルフェニル、３−メトキシフェニ
ル、２−クロロフェニル、３、５−ジメチルフェニル、
１−ナフチル、２−ナフチル基、Ｂ群における好適なア
ルキルオキシ基としては、メトキシ、エトキシ、プロピ
ルオキシ基、Ｂ群における好適なアルキルオキシアルキ
ルオキシ基としては、メトシキメチルオキシ基、Ｂ群に
おける好適なアルキルチオアルキルオキシ基としては、
メチルチオメチル基、Ｂ群における好適なアルキルオキ
シアルキルオキシアルキルオキシ基としては、メトキシ
エトキシメトキシ基、Ｂ群における好適なアリールオキ
シ基としては、フェニルオキシ、４−メチルフェニルオ
キシ、３−メトキシフェニルオキシ、２−クロロフェニ
ルオキシ、３、５−ジメチルフェニルオキシ、１−ナフ
チルオキシ、２−ナフチルオキシ基、Ｂ群における好適
なアラルキルオキシ基としては、ベンジルオキシ、４−
メトキシベンジルオキシ、３−メチルベンジルオキシ、
２−クロロベンジルオキシ基、Ｂ群における好適なアル
キルカルボニルオキシ基としては、アセトキシ、プロピ
オニルオキシ、ブタノイルオキシ、ｔ−ブタノイルオキ
シ基、Ｂ群における好適なアリールカルボニルオキシ基
としては、ベンゾイルオキシ、３−メチルベンゾイルオ
キシ、４−メトキシベンゾイルオキシ、２−クロロベン
ゾイルオキシ基、Ｂ群における好適なアルコキシカルボ
ニルオキシ基としては、メトキシカルボニルオキシ、エ
トキシカルボニルオキシ基、Ｂ群における好適なハロゲ
ン置換アルコキシカルボニルオキシ基としては、２、
２、２−トリクロロエトキシカルボニルオキシ、２、
２、２−トリクロロエトキシカルボニルオキシ基、Ｂ群
における好適なアラルキルオキシカルボニルオキシ基と
しては、ベンジルオキシカルボニルオキシ、ｐ−メトキ
シベンジルオキシカルボニルオキシ基、Ｂ群における好
適なトリアルキルシリルオキシ基としては、トリメチル
シリルオキシ、ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ基、Ｂ
群における好適なアルキルスルホニルオキシ基として
は、メタンスルホニルオキシ、エタンスルホニルオキシ
基、Ｃ群における好適なアルキルチオ基としては、メチ
ルチオ、エチルチオ基、Ｃ群における好適なアルキルジ
チオ基としては、メチルジジオ、エチルジチオ基Ｃ群に
おける好適なアリ−ルチオ基としては、フェニルチオ、
４−メチルフェニルチオ、３−メトキシフェニルチオ、
２−クロロフェニルチオ、３、５−ジメチルフェニルチ
オ、１−ナフチルチオ、２−ナフチルチオ基、Ｃ群にお
ける好適なアリールジチオ基としては、フェニルジチ
オ、４−メチルフェニルジチオ、３−メトキシフェニル
ジチオ、２−クロロフェニルジチオ、３、５−ジメチル
フェニルジチオ、１−ナフチルジチオ、２−ナフチルジ
チオ基、Ｃ群における好適なアラルキルチオ基として
は、ベンジルチオ基、Ｃ群における好適なアラルキルジ
チオ基としては、ベンジルジチオ基、Ｃ群における好適
なアルキルカルボニルチオ基としては、アセチルチオ、
プロピオニルチオ基、Ｃ群における好適なアリールカル
ボニルチオ基としては、ベンゾイルチオ、３−メチルベ
ンゾイルチオ、４−メトキシベンゾイルチオ、２−クロ
ロベンゾイルチオ基、Ｃ群における好適なアルコキシカ
ルボニルチオ基としては、メトキシカルボニルチオ、エ
トキシカルボニルチオ基、Ｃ群における好適なハロゲン
置換アルコキシカルボニルチオ基としては、２、２、２
−トリクロロエトキシカルボニルチオ、２、２、２−ト
リブロモエトキシカルボニルチオ基、Ｃ群における好適
なアラルキルオキシカルボニルチオ基としては、ベンジ
ルオキシカルボニルチオ基、Ｃ群における好適なトリア
ルキルシリルチオ基としては、トリメチルシリルチオ、
ｔ−ブチルジメチルシリルチオ基、Ｄ群における好適な
モノアルキルアミノ基としては、メチルアミノ、エチル
アミノ、プロピルアミノ基、Ｄ群における好適なジアル
キルアミノ基としては、ジメチルアミノ、ジエチルアミ
ノ、エチルメチルアミノ基、Ｄ群における好適なモノア
リールアミノ基としては、フェニルアミノ、４−メチル
フェニルアミノ、３−メトキシフェニルアミノ、２−ク
ロロフェニルアミノ、３、５−ジメチルフェニルアミノ
基、Ｄ群における好適なジアリールアミノ基としては、
ジフェニルアミノ基、Ｄ群における好適なモノアラルキ
ルアミノ基としては、ベンジルアミノ基、Ｄ群における
好適なジアラルキルアミノ基としては、ジベンジルアミ
ノ基、Ｄ群における好適なモノアルキルカルボニルアミ
ノ基としては、アセチルアミノ、プロピオニルアミノ
基、Ｄ群における好適なジアルキルカルボニルアミノ基
としては、ジアセチルアミノ基、Ｄ群における好適なモ
ノアリールカルボニルアミノ基としては、ベンゾイルア
ミノ、３−メチルベンゾイルアミノ、４−メトキシベン
ゾイルアミノ、２−クロロベンゾイルアミノ基、Ｄ群に
おける好適なジアリールカルボニルアミノ基としては、
ジベンゾイルアミノ、Ｄ群における好適なアルコキシカ
ルボニルアミノ基としては、メトキシカルボニルアミ
ノ、エトキシカルボニルアミノ基、Ｄ群における好適な
ハロゲン置換アルコキシカルボニルアミノ基としては、
２、２、２−トリクロロエトキシカルボニルアミノ、
２、２、２−トリブロモエトキシカルボニルアミノ基、
Ｄ群における好適なアラルキルオキシカルボニルアミノ
基としては、ベンジルオキシカルボニルアミノ基、Ｄ群
における好適なトリアルキルシリルアミノ基としては、
トリメチルシリルオキシ、ｔ−ブチルジメチルシリルオ
キシ基、Ｅ群における好適なアルコキシカルボニル基と
しては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル
基、Ｅ群における好適なハロゲン置換アルコキシカルボ
ニル基としては、２、２、２−トリクロロエトキシカル
ボニルアミノ、２、２、２−トリブロモエトキシカルボ
ニルアミノ基、Ｅ群における好適なアリールオキシカル
ボニル基としてはフェニルオキシカルボニル基、Ｅ群に
おける好適なアラルキルオキシカルボニル基としては、
ベンジルオキシカルボニルがあげられる。

【００２４】好適なＲ¹ 、Ｒ² 及びＲ³ としては、デカ
ノイル、ウンデカノイル、ドデカノイル、トリデカノイ
ル、テトラデカノイル、ペンタデカノイル、ヘキサデカ
ノイル、ヘプタデカノイル、オクタデカノイル、ノナデ
カノイル、イコサノイル、１２−ヒドロキシドデカノイ
ル、１４−ヒドロキシテトラデカノイル、１６−ヒドロ
キシヘキサデカノイル、１８−ヒドロキシオクタデカノ
イル、１２−メトキシメチルオキシドデカノイル、１４
−メトキシメチルオキシテトラデカノイル、１６−メト
キシメチルオキシヘキサデカノイル、１８−メトキシメ
チルオキシオクタデカノイル、２０−メトキシメチルオ
キシイコサノイル、１２−メトキシエトキシメチルオキ
シドデカノイル、１４−メトキシエトキシメチルオキシ
テトラデカノイル、１６−メトキシエトキシメチルオキ
シヘキサデカノイル、１１−シアノウンデカノイル、１
３−シアノトリデカノイル、１５−シアノペンタデカノ
イル、１２−アミノドデカノイル、１６−アミノテトラ
デカノイル、１２−ベンジルオキシカルボニルアミノド
デカノイル、１６−アリルオキシカルボニルアミノテト
ラデカノイル、１２−アジドドデカノイル、１６−アジ
ドヘキサデカノイル、９−パルミトレオイル、オレオイ
ル基などがあげられ、さらに好適には、ドデカノイル、
トリデカノイル、テトラデカノイル、ペンタデカノイ
ル、ヘキサデカノイル、ヘプタデカノイル、オクタデカ
ノイル、ノナデカノイル、イコサノイル、１２−メトキ
シメチルオキシドデカノイル、１４−メトキシメチルオ
キシテトラデカノイル、１６−メトキシメチルオキシヘ
キサデカノイル、１８−メトキシメチルオキシオクタデ
カノイル、２０−メトキシメチルオキシイコサノイル、
１２−メトキシエトキシメチルオキシドデカノイル、１
４−メトキシエトキシメチルオキシテトラデカノイル、
１６−メトキシエトキシメチルオキシヘキサデカノイ
ル、１１−シアノウンデカノイル、１３−シアノトリデ
カノイル、１５−シアノペンタデカノイル、１２−アジ
ドドデカノイル、１６−アジドヘキサデカノイル、９−
パルミトレオイル、オレオイル基があげられる。本発明
の前記一般式（１）を有する化合物の薬理上許容される
無毒性塩としては、例えば、塩酸塩、臭化水素酸塩、硫
酸塩のような鉱酸の塩、メタンスルホン酸、ベンゼンス
ルホン酸のような有機スルホン酸塩、酢酸塩、プロピオ
ン酸塩、酪酸塩、カプロン酸塩のような脂肪族カルボン
酸塩又は安息香酸塩のような芳香族カルボン酸塩などが
あげられる。これらの塩のうち、好適には、鉱酸の塩
（特に塩酸）、脂肪族カルボン酸塩（特に酢酸）があげ
られる。

【００２５】化合物（１）において、好適には、 １）Ｒ¹ が、炭素数１２乃至１８個の無置換アルキルカ
ルボニル基；水酸基、シアノ基、メトキシメチルオキシ
基又は（２−メトキシエトキシ）メチルオキシ基で置換
された炭素数１２乃至１８個のアルキルカルボニル基；
炭素数１２乃至１８個の無置換アルケニルカルボニル
基；水酸基、シアノ基、メトキシメチルオキシ基又は
（２−メトキシエトキシ）メチルオキシ基で置換された
炭素数１２乃至１８個のアルケニルカルボニル基のいず
れかであり、Ｒ² が、水素原子であり、Ｒ³ が、水素原
子である化合物。

【００２６】２）Ｒ¹ が、炭素数１２乃至１８個の無置
換アルキルカルボニル基；シアノ基、メトキシメチルオ
キシ基又は（２−メトキシエトキシ）メチルオキシ基で
置換された炭素数１２乃至１８個のアルキルカルボニル
基；炭素数１２乃至１８個の無置換アルケニルカルボニ
ル基；シアノ基、メトキシメチルオキシ基又は（２−メ
トキシエトキシ）メチルオキシ基で置換された炭素数１
２乃至１８個のアルケニルカルボニル基のいずれかであ
り、Ｒ² が、水素原子であり、Ｒ³ が、水素原子である
化合物があげられる。

【００２７】本発明の代表的化合物としては、表１及び
表２に記載する化合物を例示することができるが、本発
明は、これらの化合物に限定されるものではない。表１
及び表２において、Ａｃはアセチル基，Ａｏｃはアリル
オキシカルボニル基，Ｂｏｃはブトキシカルボニル基，
Ｂｏｚはベンゾイル基，Ｂｚはベンジル基，Ｂｚｃはベ
ンジルオキシカルボニル基，Ｅｔはエチル基，Ｍｅはメ
チル基，ｄｉＭｅＰｈはジメチルフェニル基，Ｍｅｃは
メトキシカルボニル基，Ｍｅｍはメトキシエトキシメチ
ル基，Ｍｅｓはメタンスルホニル基，Ｍｏｍはメトキシ
メチル基，Ｍｔｍはメチルチオメチル基，Ｐｈはフェニ
ル基，Ｔｏｓはｐ−トルエンスルホニル基，ＴＭＰｈは
トリメチルフェニル基をそれぞれ示す。

【００２８】

【化３】

【００２９】

【表１】 ──────────────────────────────────── 化合物番号 R¹ R² R³ ──────────────────────────────────── 1-1 CH₃(CH₂)₄CO H H 1-2 CH₃(CH₂)₅CO H H 1-3 CH₃(CH₂)₆CO H H 1-4 CH₃(CH₂)₇CO H H 1-5 CH₃(CH₂)₈CO H H 1-6 CH₃(CH₂)₉CO H H 1-7 CH₃(CH₂)₁₀CO H H 1-8 CH₃(CH₂)₁₁CO H H 1-9 CH₃(CH₂)₁₂CO H H 1-10 CH₃(CH₂)₁₃CO H H 1-11 CH₃(CH₂)₁₄CO H H 1-12 CH₃(CH₂)₁₅CO H H 1-13 CH₃(CH₂)₁₆CO H H 1-14 CH₃(CH₂)₁₇CO H H 1-15 CH₃(CH₂)₁₈CO H H 1-16 CH₃(CH₂)₁₉CO H H 1-17 CH₃(CH₂)₂₀CO H H 1-18 HOCH₂CO H H 1-19 HO(CH₂)₂CO H H 1-20 HO(CH₂)₃CO H H 1-21 HO(CH₂)₅CO H H 1-22 HO(CH₂)₇CO H H 1-23 HO(CH₂)₉CO H H 1-24 HO(CH₂)₁₁CO H H 1-25 HO(CH₂)₁₃CO H H 1-26 HO(CH₂)₁₅CO H H 1-27 HO(CH₂)₁₇CO H H 1-28 HO(CH₂)₁₉CO H H 1-29 MomO(CH₂)₅CO H H 1-30 MomO(CH₂)₇CO H H 1-31 MomO(CH₂)₉CO H H 1-32 MomO(CH₂)₁₁CO H H 1-33 MomO(CH₂)₁₃CO H H 1-34 MomO(CH₂)₁₅CO H H 1-35 MomO(CH₂)₁₇CO H H 1-36 MomO(CH₂)₁₉CO H H 1-37 MemO(CH₂)₅CO H H 1-38 MemO(CH₂)₉CO H H 1-39 MemO(CH₂)₁₁CO H H 1-40 MemO(CH₂)₁₃CO H H 1-41 MemO(CH₂)₁₅CO H H 1-42 MemO(CH₂)₁₉CO H H 1-43 AcO(CH₂)₁₁CO H H 1-44 AcO(CH₂)₁₃CO H H 1-45 AcO(CH₂)₁₅CO H H 1-46 AcO(CH₂)₁₇CO H H 1-47 MtmO(CH₂)₁₅CO H H 1-48 MtmO(CH₂)₁₁CO H H 1-49 MesO(CH₂)₁₅CO H H 1-50 MesO(CH₂)₁₁CO H H 1-51 TosO(CH₂)₁₅CO H H 1-52 TosO(CH₂)₁₇CO H H 1-53 NH₂COO(CH₂)₁₅CO H H 1-54 NH₂COO(CH₂)₁₁CO H H 1-55 Mec(CH₂)₁₀CO H H 1-56 Mec(CH₂)₁₂CO H H 1-57 Mec(CH₂)₁₄CO H H 1-58 Mec(CH₂)₁₅CO H H 1-59 NH₂CO(CH₂)₁₀CO H H 1-60 NH₂CO(CH₂)₁₄CO H H 1-61 NH₂CO(CH₂)₁₅CO H H 1-62 NC(CH₂)₁₀CO H H 1-63 NC(CH₂)₁₄CO H H 1-64 NC(CH₂)₁₅CO H H 1-65 NC(CH₂)₁₈CO H H 1-66 NC(CH₂)₂₀CO H H 1-67 AcS(CH₂)₁₁CO H H 1-68 AcS(CH₂)₁₅CO H H 1-69 AcS(CH₂)₁₇CO H H 1-70 BzSS(CH₂)₂CO H H 1-71 BzSS(CH₂)₁₅CO H H 1-72 NH₂(CH₂)₉CO H H 1-73 NH₂(CH₂)₁₁CO H H 1-74 NH₂(CH₂)₁₃CO H H 1-75 NH₂(CH₂)₁₅CO H H 1-76 NH₂(CH₂)₁₆CO H H 1-77 NH₂(CH₂)₁₇CO H H 1-78 NH₂(CH₂)₁₈CO H H 1-79 NH₂(CH₂)₁₉CO H H 1-80 BzcNH(CH₂)₁₅CO H H 1-81 BocNH(CH₂)₁₁CO H H 1-82 AcNH(CH₂)₁₃CO H H 1-83 AocNH(CH₂)₁₅CO H H 1-84 BzNH(CH₂)₁₁CO H H 1-85 BozNH(CH₂)₁₉CO H H 1-86 N₃(CH₂)₁₅CO H H 1-87 N₃(CH₂)₁₁CO H H 1-88 F(CH₂)₉CO H H 1-89 F(CH₂)₁₅CO H H 1-90 Cl(CH₂)₁₁CO H H 1-91 Cl(CH₂)₁₃CO H H 1-92 Cl(CH₂)₁₅CO H H 1-93 Br(CH₂)₅CO H H 1-94 Br(CH₂)₇CO H H 1-95 9-palmitolenoyl H H 1-96 9,12,15-octadecatrienoyl H H 1-97 linoleyl H H 1-98 linolenyl H H 1-99 oleoyl H H 1-100 arachidonyl H H 1-101 H H CH₃(CH₂)₄CO 1-102 H H CH₃(CH₂)₅CO 1-103 H H CH₃(CH₂)₆CO 1-104 H H CH₃(CH₂)₇CO 1-105 H H CH₃(CH₂)₈CO 1-106 H H CH₃(CH₂)₉CO 1-107 H H CH₃(CH₂)₁₀CO 1-108 H H CH₃(CH₂)₁₁CO 1-109 H H CH₃(CH₂)₁₂CO 1-110 H H CH₃(CH₂)₁₃CO 1-111 H H CH₃(CH₂)₁₄CO 1-112 H H CH₃(CH₂)₁₅CO 1-113 H H CH₃(CH₂)₁₆CO 1-114 H H CH₃(CH₂)₁₇CO 1-115 H H CH₃(CH₂)₁₈CO 1-116 H H CH₃(CH₂)₁₉CO 1-117 H H CH₃(CH₂)₂₀CO 1-118 H H HOCH₂CO 1-119 H H HO(CH₂)₂CO 1-120 H H HO(CH₂)₃CO 1-121 H H HO(CH₂)₅CO 1-122 H H HO(CH₂)₇CO 1-123 H H HO(CH₂)₉CO 1-124 H H HO(CH₂)₁₁CO 1-125 H H HO(CH₂)₁₃CO 1-126 H H HO(CH₂)₁₅CO 1-127 H H HO(CH₂)₁₇CO 1-128 H H HO(CH₂)₁₉CO 1-129 H H MomO(CH₂)₅CO 1-130 H H MomO(CH₂)₇CO 1-131 H H MomO(CH₂)₉CO 1-132 H H MomO(CH₂)₁₁CO 1-133 H H MomO(CH₂)₁₃CO 1-134 H H MomO(CH₂)₁₅CO 1-135 H H MomO(CH₂)₁₇CO 1-136 H H MomO(CH₂)₁₉CO 1-137 H H MemO(CH₂)₅CO 1-138 H H MemO(CH₂)₉CO 1-139 H H MemO(CH₂)₁₁CO 1-140 H H MemO(CH₂)₁₃CO 1-141 H H MemO(CH₂)₁₅CO 1-142 H H MemO(CH₂)₁₉CO 1-143 H H AcO(CH₂)₁₁CO 1-144 H H AcO(CH₂)₁₃CO 1-145 H H AcO(CH₂)₁₅CO 1-146 H H AcO(CH₂)₁₇CO 1-147 H H MtmO(CH₂)₁₅CO 1-148 H H MtmO(CH₂)₁₁CO 1-149 H H MesO(CH₂)₁₄CO 1-150 H H MesO(CH₂)₁₅CO 1-151 H H TosO(CH₂)₁₅CO 1-152 H H TosO(CH₂)₁₇CO 1-153 H H NH₂COO(CH₂)₁₅CO 1-154 H H NH₂COO(CH₂)₁₇CO 1-155 H H Mec(CH₂)₁₀CO 1-156 H H Mec(CH₂)₁₄CO 1-157 H H Mec(CH₂)₁₆CO 1-158 H H Mec(CH₂)₁₈CO 1-159 H H NH₂CO(CH₂)₁₂CO 1-160 H H NH₂CO(CH₂)₁₄CO 1-161 H H NH₂CO(CH₂)₁₀CO 1-162 H H NC(CH₂)₁₂CO 1-163 H H NC(CH₂)₁₄CO 1-164 H H NC(CH₂)₁₆CO 1-165 H H NC(CH₂)₁₈CO 1-166 H H NC(CH₂)₁₀CO 1-167 H H AcS(CH₂)₁₃CO 1-168 H H AcS(CH₂)₁₅CO 1-169 H H AcS(CH₂)₁₁CO 1-170 H H BzSS(CH₂)₉CO 1-171 H H BzSS(CH₂)₁₅CO 1-172 H H NH₂(CH₂)₉CO 1-173 H H NH₂(CH₂)₁₁CO 1-174 H H NH₂(CH₂)₁₃CO 1-175 H H NH₂(CH₂)₁₅CO 1-176 H H NH₂(CH₂)₁₆CO 1-177 H H NH₂(CH₂)₁₇CO 1-178 H H NH₂(CH₂)₁₈CO 1-179 H H NH₂(CH₂)₁₉CO 1-180 H H BzcNM(CH₂)₉CO 1-181 H H BocNH(CH₂)₁₁CO 1-182 H H AcNH(CH₂)₁₃CO 1-183 H H AocNH(CH₂)₁₅CO 1-184 H H BzNH(CH₂)₁₇CO 1-185 H H BozNH(CH₂)₁₉CO 1-186 H H N₃(CH₂)₁₅CO 1-187 H H N₃(CH₂)₁₁CO 1-188 H H F(CH₂)₉CO 1-189 H H F(CH₂)₁₅CO 1-190 H H Cl(CH₂)₁₁CO 1-191 H H Cl(CH₂)₁₃CO 1-192 H H Cl(CH₂)₁₅CO 1-193 H H Br(CH₂)₁₅CO 1-194 H H Br(CH₂)₁₇CO 1-195 H H 9-palmitolenoyl 1-196 H H 9,12,15-octadecatrienoyl 1-197 H H linoeyl 1-198 H H linolenyl 1-199 H H oleoyl 1-200 H H arachidonyl 1-201 CH₃(CH₂)₄CO H CH₃(CH₂)₄CO 1-202 CH₃(CH₂)₅CO H CH₃(CH₂)₅CO 1-203 CH₃(CH₂)₆CO H CH₃(CH₂)₆CO 1-204 CH₃(CH₂)₇CO H CH₃(CH₂)₇CO 1-205 CH₃(CH₂)₈CO H CH₃(CH₂)₈CO 1-206 CH₃(CH₂)₉CO H CH₃(CH₂)₉CO 1-207 CH₃(CH₂)₁₀CO H CH₃(CH₂)₁₀CO 1-208 CH₃(CH₂)₁₂CO H CH₃(CH₂)₁₂CO 1-209 CH₃(CH₂)₁₄CO H CH₃(CH₂)₁₀CO 1-210 CH₃(CH₂)₁₄CO H CH₃(CH₂)₁₂CO 1-211 CH₃(CH₂)₁₄CO H CH₃(CH₂)₁₄CO 1-212 CH₃(CH₂)₁₄CO H CH₃(CH₂)₁₆CO 1-213 CH₃(CH₂)₁₄CO H CH₃(CH₂)₁₈CO 1-214 CH₃(CH₂)₁₆CO H CH₃(CH₂)₁₆CO 1-215 CH₃(CH₂)₁₈CO H CH₃(CH₂)₁₈CO 1-216 CH₃(CH₂)₁₉CO H CH₃(CH₂)₁₉CO 1-217 CH₃(CH₂)₁₄CO H CH₃(CH₂)₁₄CO 1-218 HOCH₂CO H HO(CH₂)₂CO 1-219 HO(CH₂)₇CO H HO(CH₂)₇CO 1-220 HO(CH₂)₉CO H HO(CH₂)₉CO 1-221 HO(CH₂)₁₁CO H HO(CH₂)₁₁CO 1-222 HO(CH₂)₁₅CO H HO(CH₂)₇CO 1-223 HO(CH₂)₁₅CO H HO(CH₂)₉CO 1-224 HO(CH₂)₁₅CO H HO(CH₂)₁₁CO 1-225 HO(CH₂)₁₅CO H CH₃(CH₂)₁₄CO 1-226 HO(CH₂)₁₇CO H CH₃(CH₂)₁₄CO 1-227 HO(CH₂)₁₉CO H CH₃(CH₂)₁₄CO 1-228 HO(CH₂)₁₉CO H CH₃(CH₂)₁₄CO 1-229 MomO(CH₂)₅CO H MomO(CH₂)₅CO 1-230 MomO(CH₂)₇CO H MomO(CH₂)₇CO 1-231 MomO(CH₂)₉CO H MomO(CH₂)₉CO 1-232 MomO(CH₂)₁₁CO H MomO(CH₂)₁₁CO 1-233 MomO(CH₂)₁₃CO H MomO(CH₂)₁₃CO 1-234 MomO(CH₂)₁₅CO H MomO(CH₂)₁₅CO 1-235 MomO(CH₂)₁₇CO H MomO(CH₂)₁₇CO 1-236 MomO(CH₂)₁₉CO H MomO(CH₂)₁₉CO 1-237 MemO(CH₂)₅CO H MemO(CH₂)₅CO 1-238 MemO(CH₂)₉CO H MemO(CH₂)₉CO 1-239 MemO(CH₂)₁₁CO H MemO(CH₂)₁₁CO 1-240 MemO(CH₂)₁₃CO H MemO(CH₂)₁₃CO 1-241 MemO(CH₂)₁₅CO H MemO(CH₂)₁₅CO 1-242 MemO(CH₂)₁₉CO H MemO(CH₂)₁₉CO 1-243 AcO(CH₂)₁₁CO H AcO(CH₂)₁₁CO 1-244 AcO(CH₂)₁₃CO H AcO(CH₂)₁₃CO 1-245 AcO(CH₂)₁₅CO H AcO(CH₂)₁₅CO 1-246 AcO(CH₂)₁₇CO H AcO(CH₂)₁₇CO 1-247 MtmO(CH₂)₁₅CO H MtmO(CH₂)₁₅CO 1-248 MtmO(CH₂)₁₇CO H MtmO(CH₂)₁₇CO 1-249 MesO(CH₂)₁₄CO H MesO(CH₂)₁₄CO 1-250 MesO(CH₂)₁₅CO H MesO(CH₂)₁₅CO 1-251 H CH₃(CH₂)₄CO H 1-252 H CH₃(CH₂)₅CO H 1-253 H CH₃(CH₂)₆CO H 1-254 H CH₃(CH₂)₇CO H 1-255 H CH₃(CH₂)₈CO H 1-256 H CH₃(CH₂)₉CO H 1-257 H CH₃(CH₂)₁₀CO H 1-258 H CH₃(CH₂)₁₁CO H 1-259 H CH₃(CH₂)₁₂CO H 1-260 H CH₃(CH₂)₁₃CO H 1-261 H CH₃(CH₂)₁₄CO H 1-262 H CH₃(CH₂)₁₅CO H 1-263 H CH₃(CH₂)₁₆CO H 1-264 H CH₃(CH₂)₁₇CO H 1-265 H CH₃(CH₂)₁₈CO H 1-266 H CH₃(CH₂)₁₉CO H 1-267 H CH₃(CH₂)₂₀CO H 1-268 H HOCH₂CO H 1-269 H HO(CH₂)₂CO H 1-270 H HO(CH₂)₃CO H 1-271 H HO(CH₂)₅CO H 1-272 H HO(CH₂)₇CO H 1-273 H HO(CH₂)₉CO H 1-274 H HO(CH₂)₁₁CO H 1-275 H HO(CH₂)₁₃CO H 1-276 H HO(CH₂)₁₅CO H 1-277 H HO(CH₂)₁₇CO H 1-278 H HO(CH₂)₁₉CO H 1-279 H MomO(CH₂)₅CO H 1-280 H MomO(CH₂)₇CO H 1-281 H MomO(CH₂)₉CO H 1-282 H MomO(CH₂)₁₁CO H 1-283 H MomO(CH₂)₁₃CO H 1-284 H MomO(CH₂)₁₅CO H 1-285 H MomO(CH₂)₁₇CO H 1-286 H MomO(CH₂)₁₉CO H 1-287 H MemO(CH₂)₅CO H 1-288 H MemO(CH₂)₉CO H 1-289 H MemO(CH₂)₁₁CO H 1-290 H MemO(CH₂)₁₃CO H 1-291 H MemO(CH₂)₁₅CO H 1-292 H MemO(CH₂)₁₉CO H 1-293 H AcO(CH₂)₁₁CO H 1-294 H AcO(CH₂)₁₃CO H 1-295 H AcO(CH₂)₁₅CO H 1-296 H AcO(CH₂)₁₇CO H 1-297 H MtmO(CH₂)₁₅CO H 1-298 H MtmO(CH₂)₁₁CO H 1-299 H MesO(CH₂)₁₁CO H 1-300 H MesO(CH₂)₁₅CO H 1-301 H TosO(CH₂)₁₅CO H 1-302 H TosO(CH₂)₁₇CO H 1-303 H NH₂COO(CH₂)₁₅CO H 1-304 H NH₂COO(CH₂)₁₇CO H 1-305 H Mec(CH₂)₁₂CO H 1-306 H Mec(CH₂)₁₄CO H 1-307 H Mec(CH₂)₁₆CO H 1-308 H Mec(CH₂)₁₀CO H 1-309 H NH₂CO(CH₂)₁₀CO H 1-310 H NH₂CO(CH₂)₁₄CO H 1-311 CH₃(CH₂)₄CO CH₃(CH₂)₄CO H 1-312 CH₃(CH₂)₅CO CH₃(CH₂)₅CO H 1-313 CH₃(CH₂)₆CO CH₃(CH₂)₆CO H 1-314 CH₃(CH₂)₇CO CH₃(CH₂)₇CO H 1-315 CH₃(CH₂)₈CO CH₃(CH₂)₈CO H 1-316 CH₃(CH₂)₉CO CH₃(CH₂)₉CO H 1-317 CH₃(CH₂)₁₀CO CH₃(CH₂)₁₀CO H 1-318 CH₃(CH₂)₁₁CO CH₃(CH₂)₁₁CO H 1-319 CH₃(CH₂)₁₂CO CH₃(CH₂)₁₂CO H 1-320 CH₃(CH₂)₁₃CO CH₃(CH₂)₁₃CO H 1-321 CH₃(CH₂)₁₄CO CH₃(CH₂)₁₀CO H 1-322 CH₃(CH₂)₁₄CO CH₃(CH₂)₁₂CO H 1-323 CH₃(CH₂)₁₄CO CH₃(CH₂)₁₄CO H 1-324 CH₃(CH₂)₁₄CO CH₃(CH₂)₁₆CO H 1-325 CH₃(CH₂)₁₆CO CH₃(CH₂)₁₄CO H 1-326 CH₃(CH₂)₁₈CO CH₃(CH₂)₁₈CO H 1-327 CH₃(CH₂)₂₀CO CH₃(CH₂)₂₀CO H 1-328 HOCH₂CO CH₃(CH₂)₁₄CO H 1-329 HO(CH₂)₂CO CH₃(CH₂)₁₄CO H 1-330 HO(CH₂)₃CO CH₃(CH₂)₁₄CO H 1-331 H CH₃(CH₂)₄CO CH₃(CH₂)₄CO 1-332 H CH₃(CH₂)₅CO CH₃(CH₂)₅CO 1-333 H CH₃(CH₂)₆CO CH₃(CH₂)₆CO 1-334 H CH₃(CH₂)₇CO CH₃(CH₂)₇CO 1-335 H CH₃(CH₂)₈CO CH₃(CH₂)₈CO 1-336 H CH₃(CH₂)₉CO CH₃(CH₂)₉CO 1-337 H CH₃(CH₂)₁₀CO CH₃(CH₂)₁₀CO 1-338 H CH₃(CH₂)₁₁CO CH₃(CH₂)₁₁CO 1-339 H CH₃(CH₂)₁₂CO CH₃(CH₂)₁₂CO 1-340 H CH₃(CH₂)₁₄CO CH₃(CH₂)₁₀CO 1-341 H CH₃(CH₂)₁₄CO CH₃(CH₂)₁₂CO 1-342 H CH₃(CH₂)₁₄CO CH₃(CH₂)₁₄CO 1-343 H CH₃(CH₂)₁₄CO CH₃(CH₂)₁₆CO 1-344 H CH₃(CH₂)₁₆CO CH₃(CH₂)₁₆CO 1-345 H CH₃(CH₂)₁₈CO CH₃(CH₂)₁₈CO 1-346 H CH₃(CH₂)₁₉CO CH₃(CH₂)₁₉CO 1-347 H CH₃(CH₂)₂₀CO CH₃(CH₂)₂₀CO 1-348 H HOCH₂CO CH₃(CH₂)₁₄CO 1-349 H HO(CH₂)₂CO CH₃(CH₂)₁₄CO 1-350 H HO(CH₂)₃CO CH₃(CH₂)₁₄CO 1-351 CH₃(CH₂)₄CO CH₃(CH₂)₄CO CH₃(CH₂)₄CO 1-352 CH₃(CH₂)₅CO CH₃(CH₂)₅CO CH₃(CH₂)₅CO 1-353 CH₃(CH₂)₆CO CH₃(CH₂)₆CO CH₃(CH₂)₆CO 1-354 CH₃(CH₂)₇CO CH₃(CH₂)₇CO CH₃(CH₂)₇CO 1-355 CH₃(CH₂)₈CO CH₃(CH₂)₈CO CH₃(CH₂)₈CO 1-356 CH₃(CH₂)₉CO CH₃(CH₂)₉CO CH₃(CH₂)₉CO 1-357 CH₃(CH₂)₁₀CO CH₃(CH₂)₁₀CO CH₃(CH₂)₁₀CO 1-358 CH₃(CH₂)₁₁CO CH₃(CH₂)₁₁CO CH₃(CH₂)₁₁CO 1-359 CH₃(CH₂)₁₂CO CH₃(CH₂)₁₂CO CH₃(CH₂)₁₂CO 1-360 CH₃(CH₂)₁₃CO CH₃(CH₂)₁₃CO CH₃(CH₂)₁₃CO 1-361 CH₃(CH₂)₁₄CO CH₃(CH₂)₁₄CO CH₃(CH₂)₁₄CO 1-362 CH₃(CH₂)₁₄CO CH₃(CH₂)₁₆CO CH₃(CH₂)₁₄CO 1-363 CH₃(CH₂)₁₄CO CH₃(CH₂)₁₂CO CH₃(CH₂)₁₄CO 1-364 CH₃(CH₂)₁₆CO CH₃(CH₂)₁₂CO CH₃(CH₂)₁₆CO 1-365 HO(CH₂)₄CO HO(CH₂)₄CO HO(CH₂)₄CO 1-366 HO(CH₂)₅CO HO(CH₂)₅CO HO(CH₂)₅CO 1-367 HO(CH₂)₆CO HO(CH₂)₆CO HO(CH₂)₆CO 1-368 HO(CH₂)₇CO HO(CH₂)₇CO HO(CH₂)₇CO 1-369 HO(CH₂)₈CO HO(CH₂)₈CO HO(CH₂)₈CO 1-370 HO(CH₂)₉CO HO(CH₂)₉CO HO(CH₂)₉CO 1-371 HO(CH₂)₁₀CO HO(CH₂)₁₀CO HO(CH₂)₁₀CO 1-372 HO(CH₂)₁₁CO HO(CH₂)₁₁CO HO(CH₂)₁₁CO 1-373 HO(CH₂)₁₂CO HO(CH₂)₁₂CO HO(CH₂)₁₂CO 1-374 HO(CH₂)₁₃CO HO(CH₂)₁₃CO HO(CH₂)₁₃CO 1-375 HO(CH₂)₁₅CO HO(CH₂)₁₃CO HO(CH₂)₁₅CO 1-376 HO(CH₂)₁₅CO HO(CH₂)₁₄CO HO(CH₂)₁₅CO 1-377 HO(CH₂)₁₅CO HO(CH₂)₁₇CO HO(CH₂)₁₅CO 1-378 HO(CH₂)₁₇CO HO(CH₂)₁₇CO HO(CH₂)₁₇CO 1-379 CH₃(CH₂)₈CO HO(CH₂)₈CO CH₃(CH₂)₈CO 1-380 CH₃(CH₂)₉CO CH₃(CH₂)₉CO HO(CH₂)₉CO 1-381 HO(CH₂)₁₀CO CH₃(CH₂)₁₀CO CH₃(CH₂)₁₀CO 1-382 HO(CH₂)₁₁CO CH₃(CH₂)₁₁CO HO(CH₂)₁₁CO 1-383 CH₃(CH₂)₁₂CO HO(CH₂)₁₂CO HO(CH₂)₁₂CO 1-384 HO(CH₂)₁₃CO HO(CH₂)₁₃CO CH₃(CH₂)₁₃CO 1-385 HO(CH₂)₁₅CO CH₃(CH₂)₁₆CO CH₃(CH₂)₁₄CO 1-386 CH₃(CH₂)₁₆CO HO(CH₂)₁₅CO HO(CH₂)₁₅CO 1-387 CH₃(CH₂)₁₆CO CH₃(CH₂)₁₆CO HO(CH₂)₁₅CO 1-388 HO(CH₂)₁₅CO CH₃(CH₂)₁₆CO CH₃(CH₂)₁₆CO 1-389 AcO(CH₂)₈CO AcO(CH₂)₈CO AcO(CH₂)₈CO 1-390 AcO(CH₂)₉CO AcO(CH₂)₉CO CH₃(CH₂)₉CO 1-391 AcO(CH₂)₁₀CO CH₃(CH₂)₁₀CO AcO(CH₂)₁₀CO 1-392 MomO(CH₂)₁₁CO MomO(CH₂)₁₁CO MomO(CH₂)₁₁CO 1-393 MomO(CH₂)₁₂CO CH₃(CH₂)₁₂CO MomO(CH₂)₁₂CO 1-394 CH₃(CH₂)₁₃CO MomO(CH₂)₁₃CO MomO(CH₂)₁₃CO 1-395 MomO(CH₂)₁₅CO MomO(CH₂)₁₅CO CH₃(CH₂)₁₄CO 1-396 CH₃(CH₂)₁₄CO MomO(CH₂)₁₅CO CH₃(CH₂)₁₄CO 1-397 CH₃(CH₂)₁₄CO CH₃(CH₂)₁₄CO MomO(CH₂)₁₄CO 1-398 MomO(CH₂)₁₆CO CH₃(CH₂)₁₆CO CH₃(CH₂)₁₆CO 1-399 MemO(CH₂)₈CO CH₃(CH₂)₈CO CH₃(CH₂)₈CO 1-400 CH₃(CH₂)₉CO MemO(CH₂)₉CO CH₃(CH₂)₉CO 1-401 CH₃CO H CH₃(CH₂)₁₄CO 1-402 CH₃(CH₂)₁₄CO H CH₃CO 1-403 CH₃(CH₂)₁₄CO CH₃CO H 1-404 CH₃CO H CH₃(CH₂)₁₀CO 1-405 CH₃(CH₂)₁₀CO H CH₃CO 1-406 CH₃(CH₂)₁₀CO CH₃CO H 1-407 CH₃CO H HO(CH₂)₁₅CO 1-408 HO(CH₂)₁₅CO H CH₃CO 1-409 HO(CH₂)₁₅CO CH₃CO H 1-410 CH₃CO H HO(CH₂)₁₁CO 1-411 HO(CH₂)₁₁CO H CH₃CO 1-412 HO(CH₂)₁₁CO CH₃CO H 1-413 PhCO H H 1-414 2-MePhCO H H 1-415 3-MePhCO H H 1-416 2-MeOPhCO H H 1-417 4-MeOPhCO H H 1-418 4-EtOPhCO H H 1-419 3-ClPhCO H H 1-420 456-TMPhCO H H 1-421 4-AcOPhCO H H 1-422 35-diMePhCO H H 1-423 4-NO₂PhCO H H ────────────────────────────────────

【００３０】

【化４】

【００３１】

【表２】 ──────────────────────────────── 化合物番号 R¹ R² R³ ──────────────────────────────── 2-1 CH₃(CH₂)₄CO H H 2-2 CH₃(CH₂)₅CO H H 2-3 CH₃(CH₂)₆CO H H 2-4 CH₃(CH₂)₇CO H H 2-5 CH₃(CH₂)₈CO H H 2-6 CH₃(CH₂)₉CO H H 2-7 CH₃(CH₂)₁₀CO H H 2-8 CH₃(CH₂)₁₁CO H H 2-9 CH₃(CH₂)₁₂CO H H 2-10 CH₃(CH₂)₁₃CO H H 2-11 CH₃(CH₂)₁₄CO H H 2-12 CH₃(CH₂)₁₅CO H H 2-13 CH₃(CH₂)₁₆CO H H 2-14 CH₃(CH₂)₁₇CO H H 2-15 CH₃(CH₂)₁₈CO H H 2-16 CH₃(CH₂)₁₉CO H H 2-17 CH₃(CH₂)₂₀CO H H ──────────────────────────────── 上記、例示化合物のうち、好適な化合物としては、 １−５，１−６，１−７，１−８，１−９，１−１０，
１−１１，１−１２，１−１３，１−１４，１−１５，
１−２４，１−２５，１−２６，１−２７，１−３２，
１−３３，１−３４，１−３５，１−３６，１−３９，
１−４０，１−４１，１−６２，１−６３，１−６４，
１−６５，１−７３，１−７５，１−８１，１−８３，
１−８６，１−８７，１−１０６，１−１０７，１−１
０８，１−１０９，１−１１０，１−１１１，１−１１
２，１−１１３，１−１１４，１−１２４，１−１２
５，１−１２６，１−１２７，１−１３２，１−１３
３，１−１３４，１−１３５，１−１３９，１−１４
０，１−１４１，１−１４２，１−１６２，１−１６
３，２−７，２−８，２−９，２−１０，２−１１，２
−１２及び２−１３があげられ、さらに好適な化合物と
しては、 １−７，１−８，１−９，１−１０，１−１１，１−１
２，１−１３，１−２４，１−２５，１−２６，１−３
２，１−３３，１−３４，１−３５，１−３９，１−４
０，１−４１，１−６２，１−６３，１−６４，１−１
０７，１−１０８，１−１０９，１−１１０，１−１１
１，１−１１２，１−１１３，１−１２４，１−１２
５，１−１２６，１−１３２，１−１３３，１−１３
４，１−１３９，１−１４０，１−１４１，１−１６
２，１−１６３，２−７，２−８，２−９，２−１０，
２−１１，２−１２及び２−１３があげられ、最も好適
な化合物としては、 １−７，１−９，１−１０，１−１１，１−１２，１−
３２，１−３３，１−３９，１−４０，１−４１，１−
６２，１−６３，１−６４，１−１１１，２−７，２−
９，２−１０，２−１１及び２−１２があげられる。

【００３２】本発明のピリミジンヌクレオシド誘導体
は、以下に記載する方法によって製造することができ
る。

【００３３】

【化５】

【００３４】

【化６】

【００３５】

【化７】

【００３６】

【化８】

【００３７】

【化９】

【００３８】

【化１０】

【００３９】

【化１１】

【００４０】

【化１２】

【００４１】

【化１３】

【００４２】

【化１４】

【００４３】

【化１５】

【００４４】

【化１６】

【００４５】

【化１７】

【００４６】

【化１８】

【００４７】

【化１９】

【００４８】

【化２０】

【００４９】第１工程乃至第６２工程においてＲ¹ 、Ｒ
² 、Ｒ³ 、Ｒ⁴ 及びＲ⁵ は前述のものと同意義を示し、
Ａ¹ はアミノ基の保護基（例えば、ベンジルオキシカル
ボニル基、トリクロロエトキシカルボニル基等の置換オ
キシカルボニル基）を示し、Ａ² は水酸基の保護基（例
えば、トリメチルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル
基、ｔ−ブチルジフェニルシリル基等のトリ置換シリル
基）を示し、Ａ³ は置換基を有していてもよいトリフェ
ニルメチル基（例えば、トリフェニルメチル基、４−メ
トキシトリフェニルメチル基、４、４’−ジメトキシト
リフェニルメチル基等）を示し、Ａ⁴ はトリ置換シリル
基（例えば、トリメチルシリル基、トリフェニルシリル
基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、ｔ−ブチルジフェニ
ルシリル基等）を示し、Ａ⁵ は、ハロゲノアルキルオキ
シカルボニル基（例えば、トリクロロエトキシカルボニ
ル基、等）を示し、Ｂは、−（Ｒ⁶ )(Ｒ⁷ ）Ｓｉ−Ｏ−
Ｓｉ（Ｒ⁸ )(Ｒ⁹ ）−基を示す。ここで、Ｒ⁶ 、Ｒ⁷ 、
Ｒ⁸ 及びＲ⁹ は同一又は異なって、炭素数１乃至４個の
アルキル基を示し、好適にはイソプロピル基である。

【００５０】（第１工程） 本工程は、不活性溶剤中、公知化合物（３）（Matsuda
et al.,Nucleic acidResearch, Symposium Series No.2
2, page 51(1990) ）にカルボン酸（Ｒ¹ ＯＨ）あるい
は酸ハライド（Ｒ¹ Ｘ）又は酸無水物（Ｒ¹ ＯＲ¹ ）若
しくは混合酸無水物（例えば、Ｒ¹ ＯＣＯＯＭｅ（Ｍｅ
はメチル基）、Ｒ¹ ＯＣＯＯＥｔ（Ｅｔはエチル基））
のようなカルボン酸の反応性誘導体を反応させて、化合
物（１Ａ）を製造する工程である。

【００５１】使用される溶剤としては、反応を阻害せ
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレンのよ
うな芳香族炭化水素類；メチレンクロリド、クロロホル
ム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジ
クロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類；蟻酸エ
チル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジ
エチルのようなエステル類；ジオキサン、ジメトキシエ
タン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのような
エ−テル類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイ
ソブチルケトン、イソホロン、シクロヘキサノンのよう
なケトン類；ニトロエタン、ニトロベンゼンのようなニ
トロ化合物類；アセトニトリル、イソブチロニトリルの
ようなニトリル類；ホルムアミド、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホロトリ
アミドのようなアミド類；ジメチルスルホキシド、スル
ホランのようなスルホキシド類があげられ、好適には、
芳香族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類、ニトリル
類、アミド類であり、さらに好適には、ハロゲン化炭化
水素類（特にメチレンクロリド）、アミド類（特にジメ
チルホルムアミド）である。

【００５２】カルボン酸を用いる場合には、通常、縮合
剤を同時に使用する。

【００５３】使用される縮合剤としては例えば、N-ヒド
ロキシサクシイミド、1-ヒドロキシベンゾトリアゾー
ル、N-ヒドロキシ-5- ノルボルネン-2,3- ジカルボキシ
イミドのようなN-ヒドロキシ化合物類；1,1'- オキザリ
ルジイミダゾ−ル、N,N'- カルボニルジイミダゾ−ルの
ようなジイミダゾ−ル化合物類；2,2'- ジピリジルジサ
ルファイドのようなジサルファイド化合物類；N,N'- ジ
サクシンイミジルカ−ボネ−トのようなコハク酸化合物
類；N,N'- ビス（2-オキソ-3- オキサゾリジニル）ホス
フィニッククロライドのようなホスフィニッククロライ
ド化合物類；N,N'- ジサクシンイミジルオキザレ−ト(D
SO) 、N,N'- ジフタ−ルイミジルオキザレ−ト(DPO) 、
N,N'- ビス（ノルボルネニルサクシンイミジル）オキザ
レ−ト(BNO) 、1,1'- ビス（ベンゾトリアゾリル）オキ
ザレ−ト(BBTO)、1,1'- ビス(6- クロロベンゾトリアゾ
リル）オキザレ−ト(BCTO)、1,1'- ビス(6- トリフルオ
ロメチルベンゾトリアゾリル）オキザレ−ト(BTBO)のよ
うなオキザレ−ト化合物類、ジシクロヘキシルカーボジ
イミド(DCC) などのカーボジイミド類があげられ、好適
にはジイミダゾ−ル化合物類、カーボジイミド類（特
に、ＤＣＣ）である。

【００５４】酸ハライドまたは酸無水物を用いる場合に
は、塩基を同時に使用することで反応効率をあげること
ができる。

【００５５】酸ハライドのハロゲン部分としては、好適
には、塩素、臭素および沃素である。

【００５６】使用される塩基としては、通常の反応にお
いて塩基として使用されるものであれば、特に限定はな
いが、好適には、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸
リチウムのようなアルカリ金属炭酸塩類；炭酸水素ナト
リウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素リチウムのような
アルカリ金属炭酸水素塩類；水素化リチウム、水素化ナ
トリウム、水素化カリウムのようなアルカリ金属水素化
物類；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化バリ
ウム、水酸化リチウムのようなアルカリ金属水酸化物類
等の無機塩基類；ナトリウムメトキシド、ナトリウムエ
トキシド、カリウムｔ−ブトキシド、リチウムメトキシ
ドのようなアルカリ金属アルコキシド類；メチルメルカ
プタンナトリウム、エチルメルカプタンナトリウムのよ
うなメルカプタンアルカリ金属類；トリエチルアミン、
トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、N-メ
チルモルホリン、ピリジン、4-(N,N- ジメチルアミノ)
ピリジン、N,N-ジメチルアニリン、N,N-ジエチルアニリ
ン、1,5-ジアザビシクロ[4.3.0] ノナ-5- エン、1,4-ジ
アザビシクロ[2.2.2] オクタン(DABCO) 、1,8-ジアザビ
シクロ[5.4.0] ウンデク- 7-エン(DBU) のような有機塩
基類又はブチルリチウム、リチウムジイソプロピルアミ
ドのような有機金属塩基類があげられ、好適には、有機
塩基類（特にピリジン、Ｎ−メチルモルホリン、ＤＢ
Ｕ）である。

【００５７】反応温度は通常−２０乃至１００℃であ
り、好適には−１０乃至５０℃である。

【００５８】反応時間は使用される原料、溶剤、反応温
度などにより異なるが、通常１乃至１００時間であり、
好適には、１乃至２４時間である。

【００５９】反応終了後、たとえば、不溶物を濾去し、
溶剤を留去し、反応液を水に注ぎ、塩酸、硫酸などの無
機酸で酸性とし、水と混和しない溶剤、たとえばベンゼ
ン、エ−テル、酢酸エチルなどで抽出し、抽出液より溶
剤を留去することによって得られるものを、通常、その
まま次の工程に用いる。所望により、各種クロマトある
いは再結晶法により、単離精製することもできる。

【００６０】（第２工程） 本工程は、不活性溶剤中、塩基の非存在下、化合物
（３）に酸ハライド（Ｒ¹Ｘ）又は酸無水物（Ｒ¹ ＯＲ¹
）若しくは混合酸無水物（例えば、Ｒ¹ ＯＣＯＯＭｅ
（Ｍｅはメチル基）、Ｒ¹ ＯＣＯＯＥｔ（Ｅｔはエチル
基））のようなカルボン酸の反応性誘導体を反応させ
て、化合物（１Ｂ）を製造する工程である。

【００６１】使用される溶剤としては、反応を阻害せ
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、好適には、ベンゼン、トルエン、キシレンの
ような芳香族炭化水素類；メチレンクロリド、クロロホ
ルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、
ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類；蟻酸
エチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸
ジエチルのようなエステル類；アセトン、メチルエチル
ケトン、メチルイソブチルケトン、イソホロン、シクロ
ヘキサノンのようなケトン類；ニトロエタン、ニトロベ
ンゼンのようなニトロ化合物類；アセトニトリル、イソ
ブチロニトリルのようなニトリル類；ホルムアミド、ジ
メチルホルムアミド(DMF) 、ジメチルアセトアミド、ヘ
キサメチルホスホロトリアミドのようなアミド類；ジメ
チルスルホキシド、スルホランのようなスルホキシド類
があげられ、好適にはハロゲン化炭化水素類（特にメチ
レンクロリド）、アミド類（特にジメチルホルムアミ
ド）である。

【００６２】反応温度は通常−２０乃至１５０℃であ
り、好適には０乃至１００℃である。反応時間は使用さ
れる原料、溶剤、反応温度などにより異なるが、通常１
乃至１００時間であり、好適には、１乃至２４時間であ
る。

【００６３】反応終了後、たとえば溶剤を留去し、反応
液を水に注ぎ、塩酸、硫酸などの無機酸で酸性とし、水
と混和しない溶剤、たとえばベンゼン、エ−テル、酢酸
エチルなどで抽出し、抽出液より溶剤を留去することに
よって得られるものを、通常、そのまま次の工程に用い
る。所望により、各種クロマトあるいは再結晶法によ
り、単離精製することもできる。

【００６４】（第３工程） 本工程は、不活性溶剤中、化合物（１Ｂ）にカルボン酸
（Ｒ² ＯＨ）あるいは酸ハライド（Ｒ² Ｘ）又は酸無水
物（Ｒ² ＯＲ² ）若しくは混合酸無水物（例えば、Ｒ²
ＯＣＯＯＭｅ（Ｍｅはメチル基）、Ｒ² ＯＣＯＯＥｔ
（Ｅｔはエチル基））のようなカルボン酸の反応性誘導
体を反応させて、化合物（１Ｃ）を製造する工程であ
り、第１工程と同様にして行なうことができる。

【００６５】（第４工程） 本工程は、不活性溶剤中、化合物（３）にアミノ基の保
護化試薬を反応させて、化合物（４）を製造する工程で
ある。

【００６６】使用される溶剤としては、好適には、ベン
ゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；
メチレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロ
ロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンのような
ハロゲン化炭化水素類；蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸
プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル
類；ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエ
チレングリコールジメチルエーテルのようなエ−テル
類；メタノ−ル、エタノ−ル、n-プロパノ−ル、イソプ
ロパノ−ル、n-ブタノ−ル、イソブタノ−ル、t-ブタノ
−ル、イソアミルアルコ−ル、ジエチレングリコール、
グリセリン、オクタノール、シクロヘキサノール、メチ
ルセロソルブ、のようなアルコ−ル類；アセトン、メチ
ルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、イソホロ
ン、シクロヘキサノンのようなケトン類；ニトロエタ
ン、ニトロベンゼンのようなニトロ化合物類；アセトニ
トリル、イソブチロニトリルのようなニトリル類；ホル
ムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミ
ド、ヘキサメチルホスホロトリアミドのようなアミド
類；ジメチルスルホキシド、スルホランのようなスルホ
キシド類があげられ、好適には、ハロゲン化炭化水素類
（特に塩化メチレン）、芳香族炭化水素類（特にトルエ
ン）、アミド類（特にジメチルホルムアミド）である。

【００６７】使用される保護化試薬としては、その保護
基が酸性又は中性の条件下、除去できるものであれば、
特に制限はないが、好適には、トリクロロエトキシカル
ボニルクロリドのようなハロアルコキシカルボニルハラ
イド類や、ベンジルオキシカルボニルクロリドのような
アラルキルオキシカルボニルハライド類などがあげられ
る。

【００６８】保護化試薬として、ハロアルコキシカルボ
ニルハライド類やアラルキルオキシカルボニルハライド
類を用いる場合には、通常、塩基を用いる。

【００６９】使用される塩基としては、好適には有機塩
基類（特にトリエチルアミン、ピリジン、Ｎ−メチルモ
ルホリン、ＤＢＵなど）である。

【００７０】反応温度は使用される原料、試薬、溶剤に
より異なるが、通常−１０℃乃至１００℃であり、好適
には−１０乃至５０℃である。

【００７１】反応時間は使用される原料、溶剤、反応温
度などにより異なるが、通常１乃至５０時間であり、好
適には、１乃至２４時間である。

【００７２】反応終了後、たとえば溶剤を留去し、反応
液を水に注ぎ、塩酸、硫酸などの無機酸で酸性とし、水
と混和しない溶剤、たとえばベンゼン、エ−テル、酢酸
エチルなどで抽出し、抽出液より溶剤を留去することに
よって得られるものを、通常、そのまま次の工程に用い
る。所望により、各種クロマトあるいは再結晶法によ
り、単離精製することもできる。

【００７３】（第５工程） 本工程は、不活性溶剤中、化合物（３）に水酸基の保護
化試薬を反応させて、選択的に５’位の水酸基のみを保
護した化合物（５）を製造する工程である。

【００７４】使用される溶剤としては、好適には、ベン
ゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；
メチレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロ
ロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンのような
ハロゲン化炭化水素類；蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸
プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル
類；ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエ
チレングリコールジメチルエーテルのようなエ−テル
類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチル
ケトン、イソホロン、シクロヘキサノンのようなケトン
類；ニトロエタン、ニトロベンゼンのようなニトロ化合
物類；アセトニトリル、イソブチロニトリルのようなニ
トリル類；ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメ
チルアセトアミド、ヘキサメチルホスホロトリアミドの
ようなアミド類；ジメチルスルホキシド、スルホランの
ようなスルホキシド類があげられ、好適には、ハロゲン
化炭化水素類（特にメチレンクロリド）、アミド類（特
にＤＭＦ）である。

【００７５】使用される保護化試薬としては、５’位の
みを選択的に保護でき、酸性、中性の条件下、除去でき
るものであれば、特に制限はないが、好適には、トリチ
ルクロリド、モノメトキシトリチルクロリド、ジメトキ
シトリチルクロリドのようなトリアリールメチルハライ
ド類である。

【００７６】保護化試薬として、トリアリールメチルハ
ライド類を用いる場合には、通常、塩基を用いる。

【００７７】使用される塩基としては、好適には有機塩
基類（特にトリエチルアミン、ピリジン、Ｎ−メチルモ
ルホリン、ＤＢＵなど）である。 反応温度は使用され
る原料、試薬、溶剤などにより通常０乃至１５０℃であ
り、好適には２０乃至１００℃である。

【００７８】反応時間は使用される原料、溶剤、反応温
度などにより異なるが、通常１乃至１００時間であり、
好適には、２乃至２４時間である。

【００７９】反応終了後、たとえば溶剤を留去し、反応
液を水に注ぎ、塩酸、硫酸などの無機酸で酸性とし、水
と混和しない溶剤、たとえばベンゼン、エ−テル、酢酸
エチルなどで抽出し、抽出液より溶剤を留去することに
よって得られるものを、通常、そのまま次の工程に用い
る。所望により、各種クロマトあるいは再結晶法によ
り、単離精製することもできる。

【００８０】（第６工程） 本工程は、不活性溶剤中、化合物（１Ｂ）に水酸基の保
護化試薬を反応させて、選択的に５’位の水酸基のみを
保護した化合物（６）を製造する工程であり、第５工程
と同様にして行なうことができる。

【００８１】（第７工程） 本工程は、不活性溶剤中、化合物（６）にカルボン酸
（Ｒ² ＯＨ）あるいは酸ハライド（Ｒ² Ｘ）又は酸無水
物（Ｒ² ＯＲ² ）若しくは混合酸無水物（例えば、Ｒ²
ＯＣＯＯＭｅ（Ｍｅはメチル基）、Ｒ² ＯＣＯＯＥｔ
（Ｅｔはエチル基））のようなカルボン酸の反応性誘導
体を反応させて、化合物（７）を製造する工程であり、
第１工程と同様にして行なうことができる。

【００８２】（第８工程） 本工程は、不活性溶剤中、化合物（６）に水酸基の保護
化試薬を反応させて、化合物（８）を製造する工程であ
る。

【００８３】使用される溶剤としては、好適には、ベン
ゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；
メチレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロ
ロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンのような
ハロゲン化炭化水素類；蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸
プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル
類；ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエ
チレングリコールジメチルエーテルのようなエ−テル
類；メタノ−ル、エタノ−ル、n-プロパノ−ル、イソプ
ロパノ−ル、n-ブタノ−ル、イソブタノ−ル、t-ブタノ
−ル、イソアミルアルコ−ル、ジエチレングリコール、
グリセリン、オクタノール、シクロヘキサノール、メチ
ルセロソルブ、のようなアルコ−ル類；アセトン、メチ
ルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、イソホロ
ン、シクロヘキサノンのようなケトン類；ニトロエタ
ン、ニトロベンゼンのようなニトロ化合物類；アセトニ
トリル、イソブチロニトリルのようなニトリル類；ホル
ムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミ
ド、ヘキサメチルホスホロトリアミドのようなアミド
類；ジメチルスルホキシド、スルホランのようなスルホ
キシド類があげられ、さらに好適には塩化メチレン、ト
ルエン、DMF があげられる。

【００８４】使用される保護化試薬としては、通常、
５’位と区別して脱保護できるものであれば、特に制限
はないが、好適には、ｔ−ブチルジメチルシリルクロリ
ドのようなシリルハライド類、トリクロロエトキシカル
ボニルクロリドのようなハロアルコキシカルボニルハラ
イド類や、ベンジルオキシカルボニルクロリドのような
アラルキルオキシカルボニルハライド類があげられる。

【００８５】保護化試薬として、シリルハライド類、ハ
ロアルコキシカルボニルハライド類やアラルキルオキシ
カルボニルハライド類を用いる場合には、通常、塩基を
用いる。

【００８６】使用される塩基としては、好適には、有機
塩基類（特にトリエチルアミン、ピリジン、Ｎ−メチル
モルホリン、ＤＢＵなど）である。

【００８７】反応温度は使用される試薬、原料、溶剤な
どにより通常−２０乃至１５０℃であり、好適には−１
０乃至５０℃である。

【００８８】反応時間は使用される原料、溶剤、反応温
度などにより異なるが、通常１乃至１００時間であり、
好適には、１乃至２４時間である。

【００８９】反応終了後、たとえば溶剤を留去し、反応
液を水に注ぎ、塩酸、硫酸などの無機酸で酸性とし、水
と混和しない溶剤、たとえばベンゼン、エ−テル、酢酸
エチルなどで抽出し、抽出液より溶剤を留去することに
よって得られるものを、通常、そのまま次の工程に用い
る。所望により、各種クロマトあるいは再結晶法によ
り、単離精製することもできる。

【００９０】（第９工程） 本工程は、不活性溶剤中、化合物（５）にカルボン酸
（Ｒ¹ ＯＨ）あるいは酸ハライド（Ｒ¹ Ｘ）又は酸無水
物（Ｒ¹ ＯＲ¹ ）若しくは混合酸無水物（例えば、Ｒ¹
ＯＣＯＯＭｅ（Ｍｅはメチル基）、Ｒ¹ ＯＣＯＯＥｔ
（Ｅｔはエチル基））のようなカルボン酸の反応性誘導
体を反応させて、保護されたＮ⁴ ，３’−ジアシル化合
物を製造する工程であり、第１工程と同様にして行なう
ことができる。

【００９１】（第10工程） 本工程は、不活性溶剤中、第９工程で得られる化合物に
水酸基の保護基の脱保護化試薬を反応させて、化合物
（１Ｄ）を製造する工程である。

【００９２】保護基がトリアリールメチルハライド類で
ある場合には、使用される溶剤としては、ベンゼン、ト
ルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；メチレン
クロリド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタ
ン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハロゲ
ン化炭化水素類；蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プロピ
ル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル類；メ
タノ−ル、エタノ−ル、n-プロパノ−ル、イソプロパノ
−ル、n-ブタノ−ル、イソブタノ−ル、t-ブタノ−ル、
イソアミルアルコ−ル、ジエチレングリコール、グリセ
リン、オクタノール、シクロヘキサノール、メチルセロ
ソルブ、のようなアルコ−ル類；アセトン、メチルエチ
ルケトン、メチルイソブチルケトン、イソホロン、シク
ロヘキサノンのようなケトン類；アセトニトリル、イソ
ブチロニトリルのようなニトリル類；ホルムアミド、ジ
メチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメ
チルホスホロトリアミドのようなアミド類；ジメチルス
ルホキシド、スルホランのようなスルホキシド類；水が
あげられ、好適には、水、アルコール類である。使用さ
れる脱保護化試薬としては、通常用いられるものであれ
ば、特に制限はないが、例えば保護基がトリアリールメ
チルハライド類である場合には、ギ酸、酢酸のような有
機酸であり、好適には酢酸である。

【００９３】反応温度は使用される試薬、原料、溶剤な
どにより、通常０乃至１００℃であり、好適には５乃至
５０℃である。

【００９４】反応時間は使用される原料、溶剤、反応温
度などにより異なるが、通常１乃至５０時間であり、好
適には、１乃至２４時間である。

【００９５】反応終了後、たとえば溶剤を留去し、反応
液を水に注ぎ、塩酸、硫酸などの無機酸で酸性とし、水
と混和しない溶剤、たとえばベンゼン、エ−テル、酢酸
エチルなどで抽出し、抽出液より溶剤を留去することに
よって得られるものを、通常、そのまま次の工程に用い
る。所望により、各種クロマトあるいは再結晶法によ
り、単離精製することもできる。

【００９６】（第11工程） 本工程は、不活性溶剤中、化合物（１Ｄ）にカルボン酸
（Ｒ³ ＯＨ）あるいは酸ハライド（Ｒ³ Ｘ）又は酸無水
物（Ｒ³ ＯＲ³ ）若しくは混合酸無水物（例えば、Ｒ³
ＯＣＯＯＭｅ（Ｍｅはメチル基）、Ｒ³ ＯＣＯＯＥｔ
（Ｅｔはエチル基））のようなカルボン酸の反応性誘導
体を反応させて、化合物（１Ｅ）を製造する工程であ
り、第１工程と同様にして行なうことができる。

【００９７】（第12工程） 本工程は、不活性溶剤中、化合物（４）にカルボン酸
（Ｒ² ＯＨ）あるいは酸ハライド（Ｒ² Ｘ）又は酸無水
物（Ｒ² ＯＲ² ）若しくは混合酸無水物（例えば、Ｒ²
ＯＣＯＯＭｅ（Ｍｅはメチル基）、Ｒ² ＯＣＯＯＥｔ
（Ｅｔはエチル基））のようなカルボン酸の反応性誘導
体を反応させて、化合物を製造する工程であり、第１工
程と同様にして行なうことができる。

【００９８】（第13工程） 本工程は、不活性溶剤中、第１２工程で得られる化合物
にアミノ基の保護基の脱保護化試薬を反応させて、化合
物（１Ｆ）を製造する工程である。

【００９９】使用される溶剤としては、好適には、ベン
ゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；
メチレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロ
ロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンのような
ハロゲン化炭化水素類；蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸
プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル
類；ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエ
チレングリコールジメチルエーテルのようなエ−テル
類；メタノ−ル、エタノ−ル、n-プロパノ−ル、イソプ
ロパノ−ル、n-ブタノ−ル、イソブタノ−ル、t-ブタノ
−ル、イソアミルアルコ−ル、ジエチレングリコール、
グリセリン、オクタノール、シクロヘキサノール、メチ
ルセロソルブ、のようなアルコ−ル類；アセトン、メチ
ルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、イソホロ
ン、シクロヘキサノンのようなケトン類；ニトロエタ
ン、ニトロベンゼンのようなニトロ化合物類；アセトニ
トリル、イソブチロニトリルのようなニトリル類；ホル
ムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミ
ド、ヘキサメチルホスホロトリアミドのようなアミド
類；ジメチルスルホキシド、スルホランのようなスルホ
キシド類及びギ酸、酢酸、プロピオン酸のような有機酸
と水との混合液があげられ、さらに好適にはメタノー
ル、エタノール、８０％酢酸水があげられる。

【０１００】使用される脱保護化試薬としては、通常用
いられるものであれば、特に制限はないが、例えば接触
還元（ベンジルオキシカルボニル基のようなアラルキル
オキシカルボニル基の場合）あるいは８０％酢酸中でＺ
ｎと接触させること（２、２、２−トリクロロエトキシ
カルボニル基のようなハロ置換アルコキシカルボニル基
の場合）により達成される。

【０１０１】反応温度は使用される試薬、原料、溶剤、
通常−１０乃至１００℃であり、好適には０乃至５０℃
である。

【０１０２】反応時間は使用される原料、溶剤、反応温
度などにより異なるが、通常１乃至１００時間であり、
好適には、１乃至２４時間である。

【０１０３】反応終了後、たとえば溶剤を留去し、反応
液を水に注ぎ、塩酸、硫酸などの無機酸で酸性とし、水
と混和しない溶剤、たとえばベンゼン、エ−テル、酢酸
エチルなどで抽出し、抽出液より溶剤を留去することに
よって得られるものを、通常、そのまま次の工程に用い
る。所望により、各種クロマトあるいは再結晶法によ
り、単離精製することもできる。

【０１０４】（第14工程） 本工程は、不活性溶剤中、化合物（１Ｆ）にカルボン酸
（Ｒ¹ ＯＨ）あるいは酸ハライド（Ｒ¹ Ｘ）又は酸無水
物（Ｒ¹ ＯＲ¹ ）若しくは混合酸無水物（例えば、Ｒ¹
ＯＣＯＯＭｅ（Ｍｅはメチル基）、Ｒ¹ ＯＣＯＯＥｔ
（Ｅｔはエチル基））のようなカルボン酸の反応性誘導
体を反応させて、化合物（１Ｇ）を製造する工程であ
り、第１工程と同様にして行なうことができる。

【０１０５】行なうことができる。

【０１０６】（第15工程） 本工程は、不活性溶剤中、化合物（４）に水酸基の保護
化試薬を反応させて、選択的に５’位の水酸基のみを保
護した化合物（９）を製造する工程であり、第５工程と
同様にして行なうことができる。

【０１０７】（第16工程） 本工程は、不活性溶剤中、化合物（９）に水酸基の保護
化試薬を反応させて、化合物（１０）を製造する工程で
あり、第８工程と同様にして行なうことができる。

【０１０８】（第17工程） 本工程は、不活性溶剤中、化合物（７）に脱保護化試薬
を反応させて、５’位の水酸基の保護基を選択的に除去
して、化合物（１Ｈ）を製造する工程である。使用され
る溶剤としては、好適には、ベンゼン、トルエン、キシ
レンのような芳香族炭化水素類；メチレンクロリド、ク
ロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベン
ゼン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素
類；蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチ
ル、炭酸ジエチルのようなエステル類；ジエチルエ−テ
ル、ジイソプロピルエ−テル、テトラヒドロフラン、ジ
オキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジ
メチルエーテルのようなエ−テル類；メタノ−ル、エタ
ノ−ル、n-プロパノ−ル、イソプロパノ−ル、n-ブタノ
−ル、イソブタノ−ル、t-ブタノ−ル、イソアミルアル
コ−ル、ジエチレングリコール、グリセリン、オクタノ
ール、シクロヘキサノール、メチルセロソルブ、のよう
なアルコ−ル類；アセトン、メチルエチルケトン、メチ
ルイソブチルケトン、イソホロン、シクロヘキサノンの
ようなケトン類；ニトロエタン、ニトロベンゼンのよう
なニトロ化合物類；アセトニトリル、イソブチロニトリ
ルのようなニトリル類；ホルムアミド、ジメチルホルム
アミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホロ
トリアミドのようなアミド類；ジメチルスルホキシド、
スルホランのようなスルホキシド類があげられ、好適に
はメタノール、エタノールがあげられる。

【０１０９】使用される脱保護化試薬としては、通常用
いられるものであれば、特に制限はないが、例えば酢
酸、トリフルオロ酢酸、塩酸メタノールがあげられ、好
適には酢酸、トリフルオロ酢酸である。

【０１１０】反応温度は使用される試薬、原料、溶剤な
どにより異なるが、通常−１０乃至１００℃であり、好
適には０乃至５０℃である。

【０１１１】反応時間は使用される原料、溶剤、反応温
度などにより異なるが、通常１乃至５０時間であり、好
適には、１乃至２４時間である。

【０１１２】反応終了後、たとえば溶剤を留去し、反応
液を水に注ぎ、塩酸、硫酸などの無機酸で酸性とし、水
と混和しない溶剤、たとえばベンゼン、エ−テル、酢酸
エチルなどで抽出し、抽出液より溶剤を留去することに
よって得られるものを、通常、そのまま次の工程に用い
る。所望により、各種クロマトあるいは再結晶法によ
り、単離精製することもできる。

【０１１３】（第18工程） 本工程は、不活性溶剤中、化合物（１Ｈ）にカルボン酸
（Ｒ³ ＯＨ）あるいは酸ハライド（Ｒ³ Ｘ）又は酸無水
物（Ｒ³ ＯＲ³ ）若しくは混合酸無水物（例えば、Ｒ³
ＯＣＯＯＭｅ（Ｍｅはメチル基）、Ｒ³ ＯＣＯＯＥｔ
（Ｅｔはエチル基））のようなカルボン酸の反応性誘導
体を反応させて、化合物（１Ｉ）を製造する工程であ
り、第１工程と同様にして行なうことができる。

【０１１４】（第19工程） 本工程は、不活性溶剤中、化合物（８）に脱保護化試薬
を反応させて、５’位の水酸基の保護基を選択的に除去
して、化合物（９）を製造する工程であり、第１７工程
と同様にして行なうことができる。

【０１１５】（第20工程） 本工程は、不活性溶剤中、化合物（９）にカルボン酸
（Ｒ³ ＯＨ）あるいは酸ハライド（Ｒ³ Ｘ）又は酸無水
物（Ｒ³ ＯＲ³ ）若しくは混合酸無水物（例えば、Ｒ³
ＯＣＯＯＭｅ（Ｍｅはメチル基）、Ｒ³ ＯＣＯＯＥｔ
（Ｅｔはエチル基））のようなカルボン酸の反応性誘導
体を反応させて、化合物を製造する工程であり、第１工
程と同様にして行なうことができる。

【０１１６】（第21工程） 本工程は、不活性溶剤中、第２０工程で得られる化合物
に脱保護化試薬を反応させて、３’位の水酸基の保護基
を選択的に除去して、化合物（１Ｊ）を製造する工程で
あり、用いる試薬としては、テトラブチルアンモニウム
フロリドやＫＦとテトラエチルアンモニウムブロジドが
あげられる。

【０１１７】使用される溶剤としては、反応を阻害せ
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香
族炭化水素類、メチレンクロリド、クロロホルムのよう
なハロゲン化炭化水素類、エ−テル、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン、ジメトキシエタンのようなエ−テル
類、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘ
キサメチルホスホロトリアミドのようなアミド類、ジメ
チルスルホキシドのようなスルホキシド類、アセトン、
メチルエチルケトンのようなケトン類またはアセトニト
リルのようなニトリル類があげられるが、好適には、メ
チレンクロリド、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水
素である。反応温度は使用される試薬、原料、溶剤、な
どにより異なるが、通常−１０乃至５０℃であり、好適
には−５乃至３０℃である。

【０１１８】反応時間は使用される原料、溶剤、反応温
度などにより異なるが、通常１乃至１００時間であり、
好適には１乃至２４時間である。

【０１１９】反応終了後、たとえば、不溶物を濾去し、
溶剤を留去し、反応液を水に注ぎ、塩酸、硫酸などの無
機酸で酸性とし、水と混和しない溶剤、たとえばベンゼ
ン、エ−テル、酢酸エチルなどで抽出し、抽出液より溶
剤を留去することによって得られるものを、通常、その
まま次の工程に用いる。所望により、各種クロマトある
いは再結晶法により、単離精製することもできる。

【０１２０】（第22工程） 本工程は、不活性溶剤中、化合物（１Ｊ）にカルボン酸
（Ｒ² ＯＨ）あるいは酸ハライド（Ｒ² Ｘ）又は酸無水
物（Ｒ² ＯＲ² ）若しくは混合酸無水物（例えば、Ｒ²
ＯＣＯＯＭｅ（Ｍｅはメチル基）、Ｒ² ＯＣＯＯＥｔ
（Ｅｔはエチル基））のようなカルボン酸の反応性誘導
体を反応させて、化合物（１Ｋ）を製造する工程であ
り、第１工程と同様にして行なうことができる。

【０１２１】（第23工程） 本工程は、不活性溶剤中、化合物（９）にカルボン酸
（Ｒ² ＯＨ）あるいは酸ハライド（Ｒ² Ｘ）又は酸無水
物（Ｒ² ＯＲ² ）若しくは混合酸無水物（例えば、Ｒ²
ＯＣＯＯＭｅ（Ｍｅはメチル基）、Ｒ² ＯＣＯＯＥｔ
（Ｅｔはエチル基））のようなカルボン酸の反応性誘導
体を反応させて、化合物を製造する工程であり、第１工
程と同様にして行なうことができる。

【０１２２】（第24工程） 本工程は、不活性溶剤中、第２３工程で得られる化合物
に脱保護化試薬を反応させて、５’位の水酸基の保護基
を選択的に除去して、化合物（１１）を製造する工程で
あり、第１７工程と同様にして行なうことができる。

【０１２３】（第25工程） 本工程は、不活性溶剤中、化合物（１１）にカルボン酸
（Ｒ³ ＯＨ）あるいは酸ハライド（Ｒ³ Ｘ）又は酸無水
物（Ｒ³ ＯＲ³ ）若しくは混合酸無水物（例えば、Ｒ³
ＯＣＯＯＭｅ（Ｍｅはメチル基）、Ｒ³ ＯＣＯＯＥｔ
（Ｅｔはエチル基））のようなカルボン酸の反応性誘導
体を反応させて、化合物を製造する工程であり、第１工
程と同様にして行なうことができる。

【０１２４】（第26工程） 本工程は、不活性溶剤中、第２５工程で得られる化合物
にアミノ基の保護基の脱保護化試薬を反応させて、化合
物（１Ｌ）を製造する工程であり、第１３工程と同様に
して行なうことができる。

【０１２５】（第27工程） 本工程は、不活性溶剤中、化合物（１Ｌ）にカルボン酸
（Ｒ¹ ＯＨ）あるいは酸ハライド（Ｒ¹ Ｘ）又は酸無水
物（Ｒ¹ ＯＲ¹ ）若しくは混合酸無水物（例えば、Ｒ¹
ＯＣＯＯＭｅ（Ｍｅはメチル基）、Ｒ¹ ＯＣＯＯＥｔ
（Ｅｔはエチル基））のようなカルボン酸の反応性誘導
体を反応させて、化合物（１Ｍ）を製造する工程であ
り、第１工程と同様にして行なうことができる。

【０１２６】（第28工程） 本工程は、不活性溶剤中、化合物（１１）にアミノ基の
脱保護化試薬を反応させて、化合物（１Ｎ）を製造する
工程であり、第１３工程と同様にして行なうことができ
る。

【０１２７】（第29工程） 本工程は、不活性溶剤中、化合物（１Ｎ）にカルボン酸
（Ｒ¹ ＯＨ）あるいは酸ハライド（Ｒ¹ Ｘ）又は酸無水
物（Ｒ¹ ＯＲ¹ ）若しくは混合酸無水物（例えば、Ｒ¹
ＯＣＯＯＭｅ（Ｍｅはメチル基）、Ｒ¹ ＯＣＯＯＥｔ
（Ｅｔはエチル基））のようなカルボン酸の反応性誘導
体を反応させて、化合物を（１Ｐ）を製造する工程であ
り、第１工程と同様にして行なうことができる。

【０１２８】（第30工程） 本工程は、不活性溶剤中、化合物（１０）に脱保護化試
薬を反応させて、５’位の水酸基の保護基を選択的に除
去して、化合物（１２）を製造する工程であり、第１７
工程と同様にして行なうことができる。 （第31工程） 本工程は、不活性溶剤中、化合物（１２）にカルボン酸
（Ｒ³ ＯＨ）あるいは酸ハライド（Ｒ³ Ｘ）又は酸無水
物（Ｒ³ ＯＲ³ ）若しくは混合酸無水物（例えば、Ｒ³
ＯＣＯＯＭｅ（Ｍｅはメチル基）、Ｒ³ ＯＣＯＯＥｔ
（Ｅｔはエチル基））のようなカルボン酸の反応性誘導
体を反応させて、化合物を製造する工程であり、第１工
程と同様にして行なうことができる。

【０１２９】（第32工程） 本工程は、不活性溶剤中、第３１工程で得られる化合物
にアミノ基の保護基の脱保護化試薬を反応させて、化合
物を製造する工程であり、第１３工程と同様にして行な
うことができる。

【０１３０】（第33工程） 本工程は、不活性溶剤中、第３２工程で得られる化合物
に脱保護化試薬を反応させて、３’位の水酸基の保護基
を選択的に除去して、化合物（１Ｑ）を製造する工程で
あり、第２１工程と同様にして行なうことができる。な
お、第３２工程と第３３工程は順序を逆にすることもで
きる。

【０１３１】（第34工程） 本工程は、不活性溶剤中、化合物（１Ｑ）にカルボン酸
（Ｒ¹ ＯＨ）あるいは酸ハライド（Ｒ¹ Ｘ）又は酸無水
物（Ｒ¹ ＯＲ¹ ）若しくは混合酸無水物（例えば、Ｒ¹
ＯＣＯＯＭｅ（Ｍｅはメチル基）、Ｒ¹ ＯＣＯＯＥｔ
（Ｅｔはエチル基））のようなカルボン酸の反応性誘導
体を反応させて、化合物（１Ｒ）を製造する工程であ
り、第１工程と同様にして行なうことができる。

【０１３２】（第35工程） 本工程は、不活性溶剤中、化合物（１０）にアミノ基の
脱保護化試薬を反応させて、遊離アミノ基を有する化合
物を製造する工程であり、第１３工程と同様にして行な
うことができる。

【０１３３】（第36工程） 本工程は、不活性溶剤中、第３５工程で得られる化合物
に脱保護化試薬を反応させて、５’位の水酸基の保護基
を選択的に除去して、化合物（１３）を製造する工程で
あり、第１７工程と同様にして行なうことができる。な
お、第３５工程と第３６工程は順序を逆にすることもで
きる。

【０１３４】（第37工程） 本工程は、不活性溶剤中、化合物（１３）にカルボン酸
（Ｒ¹ ＯＨ）あるいは酸ハライド（Ｒ¹ Ｘ）又は酸無水
物（Ｒ¹ ＯＲ¹ ）若しくは混合酸無水物（例えば、Ｒ¹
ＯＣＯＯＭｅ（Ｍｅはメチル基）、Ｒ¹ ＯＣＯＯＥｔ
（Ｅｔはエチル基））のようなカルボン酸の反応性誘導
体を反応させて、化合物を製造する工程であり、第１工
程と同様にして行なうことができる。

【０１３５】（第38工程） 本工程は、不活性溶剤中、第３７工程で得られる化合物
に脱保護化試薬を反応させて、化合物（１Ｓ）を製造す
る工程であり、第２１工程と同様にして行なうことがで
きる。

【０１３６】（第39工程） 本工程は、不活性溶剤中、化合物（１Ｓ）にカルボン酸
（Ｒ² ＯＨ）あるいは酸ハライド（Ｒ² Ｘ）又は酸無水
物（Ｒ² ＯＲ² ）若しくは混合酸無水物（例えば、Ｒ²
ＯＣＯＯＭｅ（Ｍｅはメチル基）、Ｒ² ＯＣＯＯＥｔ
（Ｅｔはエチル基））のようなカルボン酸の反応性誘導
体を反応させて、化合物（１Ｔ）を製造する工程であ
り、第１工程と同様にして行なうことができる。

【０１３７】（第40工程） 本工程は、不活性溶剤中、塩基の非存在下、化合物（１
４）に酸ハライド（Ｒ¹ Ｘ）又は酸無水物（Ｒ¹ ＯＲ
¹ ）若しくは混合酸無水物（例えば、Ｒ¹ ＯＣＯＯＭｅ
（Ｍｅはメチル基）、Ｒ¹ ＯＣＯＯＥｔ（Ｅｔはエチル
基））のようなカルボン酸の反応性誘導体を反応させ
て、化合物（１５）を製造する工程であり、第２工程と
同様にして行なうことができる。

【０１３８】（第41工程） 本工程は化合物（１５）の３’位及び５’位水酸基を
Ｘ−Ｒ⁶ Ｒ⁷ Ｓｉ−Ｏ−ＳｉＲ⁸ Ｒ⁹ −Ｘ（Ｒ⁶ 、Ｒ
⁷ 、Ｒ⁸ 及びＲ⁹ は前述と同意義を示し、Ｘはハロゲン
原子を示し、好適には塩素、臭素である。）を作用させ
て、同時に保護して、化合物（１６）を得る工程であ
り、既知の方法によって行なうことができる［Ｍ．Ｊ．
ロビンス、Ｊ．Ｓ．ウィルソン、Ｌ．ソ−ヤ、Ｍ．Ｎ．
Ｇ．ジェ−ムス、カナディアン・ジャ−ナル・オブ・ケ
ミストリ−、第６１巻、１９１１頁、１９８３年（M.J.
Robins,J.S.Wilson,L.Sawyer,and M.N.G.James,Can.J.C
hem.,61,1911,(1983）) ］。

【０１３９】使用される溶剤としては、好適にはピリジ
ンのような塩基性溶媒である。反応温度は−１０℃乃至
１００℃であり、好適には、０℃乃至５０℃である。反
応時間は化合物、反応温度により変化するが、通常１時
間乃至３０時間であり、好適には１時間乃至５時間であ
る。反応終了後、たとえば溶剤を留去し、反応液を水に
注ぎ、水と混和しない溶剤、たとえばベンゼン、エ−テ
ル、酢酸エチルなどで抽出し、抽出液より溶剤を留去す
ることによって得られるものを、通常、そのまま次の工
程に用いる。所望により、各種クロマトあるいは再結晶
法により、単離精製することもできる。 （第42工程） 本工程は、化合物（１６）の２' 位の水酸基を酸化し
て、化合物（１７）を得る工程であり、既知の方法によ
り行なうことができる［Ｆ．ハンスケ等、テトラヘドロ
ン、第４０巻、１２５頁、１９８４年（F.Hansske et a
l, Tetrahedron 40,125,1984）］。使用される溶剤とし
ては、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するも
のであれば特に限定はないが、ベンゼン、トルエン、キ
シレンのような芳香族炭化水素類、メチレンクロリド、
クロロホルムのようなハロゲン化炭化水素類、エ−テ
ル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタ
ンのようなエ−テル類、ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルアセトアミド、ヘキサメチルホスホロトリアミドのよ
うなアミド類、ジメチルスルホキシドのようなスルホキ
シド類、アセトン、メチルエチルケトンのようなケトン
類またはアセトニトリルのようなニトリル類があげられ
るが、好適には、メチレンクロリド、クロロホルムなど
のハロゲン化炭化水素である。反応温度は、０℃乃至１
００℃であり、好適には１０℃乃至４０℃である。反応
時間は、化合物、反応温度などにより変化するが、１０
分乃至１２時間であり、好適には３０分乃至１０時間で
ある。尚、上記酸化反応においては、トリエチルベンジ
ルアンモニウム クロライド、トリブチルベンジルアン
モニウム ブロミドのような層間移動触媒を加えること
によって反応が加速される。反応温度は、０℃乃至１０
０℃であり、好適には１０℃乃至４０℃である。反応時
間は、化合物、反応温度などにより変化するが、１０分
乃至１２時間であり、好適には３０分乃至６時間であ
る。本工程で得られた化合物（１７）は種々の方法を適
宜組み合わせることによって採取、分離、精製すること
ができる。例えば反応液を水に注ぎ、水と混和しない溶
剤、たとえばベンゼン、エ−テル、酢酸エチルなどで抽
出し、抽出液より溶剤を留去することによって得られ
る。このようにして得られた化合物は、必要ならば更
に、例えば活性炭、シリカゲルなどの各種担体を用いる
吸着またはイオン交換クロマトグラフィー、あるいはセ
ファデックスカラムによるゲル濾過、エ−テル、酢酸エ
チル、クロロホルムなどの有機溶剤を用いての再結晶な
どにより行なわれる。 （第43工程） 本工程は、化合物（１７）に不活性溶剤中、シアン化物
を作用させて、化合物（１８）を得る工程である。使用
される溶剤としては、反応を阻害しないものであれば、
特に限定はないが、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、
石油エーテルのような脂肪族炭化水素類と水との混合溶
媒、ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化
水素類と水との混合溶媒、ジエチルエ−テル、ジイソプ
ロピルエ−テル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジ
メトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテ
ルのようなエ−テル類、酢酸エチル、プロピオン酸エチ
ルのようなエステル類と水との混合溶媒があげられる
が、好適には、エ−テル類あるいはエステル類と水の混
合溶媒があげられる。 反応を促進させる物としては、
有機塩基、無機塩基など特に限定はないが、水酸化ナト
リウム、水酸化カリウムなどのアルカリ金属水酸化物、
炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなどのアルカリ金属炭酸
塩、ＮａＨ₂ ＰＯ₄ 、Ｎａ₂ ＨＰＯ₄ などのアルカリ金
属リン酸塩があげられる。

【０１４０】使用されるシアン化物としては、水に溶解
して、シアノイオンを生成するものであれば、特に限定
はないが、好適には、シアン化ナトリウム、シアン化カ
リウムのようなアルカリ金属のシアン化物があげられ
る。

【０１４１】反応温度は、−１０℃乃至１００℃であ
り、好適には０℃乃至４０℃である。反応時間は、化合
物、反応温度などにより変化するが、３０分乃至９６時
間であり、約５時間乃至２４時間である。本工程で得ら
れた化合物（１８）は種々の方法を適宜組み合わせるこ
とによって採取、分離、精製することができる。例えば
反応液を水に注ぎ、水と混和しない溶剤、たとえばベン
ゼン、エ−テル、酢酸エチルなどで抽出し、抽出液より
溶剤を留去することによって得られる。このようにして
得られた化合物は、必要ならば更に、例えば活性炭、シ
リカゲルなどの各種担体を用いる吸着またはイオン交換
クロマトグラフィー、あるいはセファデックスカラムに
よるゲル濾過、エ−テル、酢酸エチル、クロロホルムな
どの有機溶剤を用いての再結晶などにより行なわれる。
本工程において反応直後に得られる化合物（１８）は通
常、ニトリル基の配位がα配位およびβ配位の化合物の
混合物であるが、通常、そのまま次の工程に用いる。

【０１４２】（第44工程） 本工程は化合物（１８）を不活性溶剤中、チオカルボニ
ル化試薬で処理することにより、化合物（１８）の２'
位の水酸基を置換チオカルボニル化して、中間化合物を
得る工程である。

【０１４３】使用される溶剤としては、反応を阻害しな
いものであれば特に限定はないが、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルアセトアミドなどのアミド類、ジメチルス
ルフォキシドなどのスルフォキシド類、アセトニトリル
などのニトリル類があげられるが、好適には、アセトニ
トリルである。使用される試薬としては水酸基のチオカ
ルボニル化試薬であれば、特に限定はないが、メトキシ
チオカルボニルクロリド、エトキシチオカルボニルクロ
リドなどの低級アルコキシチオカルボニルハライド類、
フェノキシチオカルボニルクロリド、ナフトキシチオカ
ルボニルクロリドなどのアリ−ルチオカルボニルハライ
ド類があげられる。反応温度は−２０℃乃至５０℃であ
り、好適には−１０℃乃至３０℃である。反応時間は化
合物、反応温度などにより変化するが、通常１時間乃至
３０時間であり、好適には、２時間乃至５時間である。
また、反応を効率よく行なうため、４、４−ジメチルア
ミノピリジン、トリエチルアミンなどの有機アミンを使
用することができる。反応終了後、目的化合物は、常
法、例えば反応液を水に注ぎ、水と混和しない溶剤、た
とえばベンゼン、エ−テル、酢酸エチルなどで抽出し、
抽出液より溶剤を留去することによって得られる。通
常、これをそのまま次の工程に用いる。また、所望によ
り、各種クロマトグラフィーまた再結晶法により、精製
することもできる。 （第45工程） 本工程は、第４４工程で得られる化合物の２' 位のチオ
カルボニルオキシ基を還元的に除去して、化合物（１
９）を得る工程である。

【０１４４】使用される溶剤としては、反応を阻害しな
いものであれば特に限定はないが、ヘキサン、ヘプタ
ン、リグロイン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素
類、ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化
水素類、ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、
テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、
ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエ−テ
ル類などがあげられる。使用される試薬としては、好適
には、トリブチル錫ヒドリドのようなトリアルキル錫ヒ
ドリドがあげられる。

【０１４５】反応温度は、通常、５０℃乃至２５０℃で
あり、好適には、用いられる溶媒の沸点である。

【０１４６】反応時間は、通常、３０分乃至１０時間で
あり、好適には、３０分乃至３時間である。

【０１４７】また、反応を効率よく行なうために、触媒
として、アゾイソブチロニトリルのようなラジカル開始
剤を使用することができる。

【０１４８】このようにして得られた目的化合物は種々
の方法を適宜組み合わせることによって採取、分離、精
製することができる。例えば反応液を水に注ぎ、水と混
和しない溶剤、たとえばベンゼン、エ−テル、酢酸エチ
ルなどで抽出し、抽出液より溶剤を留去することによっ
て得られる。このようにして得られた化合物は、必要な
らば更に、例えば活性炭、シリカゲルなどの各種担体を
用いる吸着またはイオン交換クロマト、あるいはセファ
デックスカラムによるゲル濾過、エ−テル、酢酸エチ
ル、クロロホルムなどの有機溶剤を用いての再結晶など
により行なわれる。

【０１４９】（第46工程） 本工程は、化合物（１９）に、不活性溶剤中、水酸基の
脱保護剤を作用させて、化合物（１Ｕ）を得る工程であ
る。保護部分の除去は、その保護部分により異なるが、
一般にこの分野の技術において周知の方法によって、実
施されるが、好適な保護基であるまたトリアリールメチ
ル、テトラアルキルシロキサンの場合には、第２１工程
と同様にして行う。使用される溶剤としては、特に限定
はないが、本反応に関与しないものであれば特に限定は
ないが、好適には、メタノ−ル、エタノ−ルのようなア
ルコ−ル類、テトラヒドロフラン、ジオキサンのような
エ−テル類又はこれらの有機溶媒と水との混合溶媒があ
げられる。使用される試薬としては、一般に酸である。
酸としては、通常ブレンステッド酸として使用されるも
のであれば特に限定はなく、好適には、塩酸、硫酸のよ
うな無機酸又は酢酸、p-トルエンスルホン酸のような有
機酸であるが、ダウエックス50W のような強酸性の陽イ
オン交換樹脂も使用することができる。反応温度は、通
常０℃乃至５０℃であり、好適には、室温である。反応
時間は、出発物質、酸の種類、等により異なるが、１０
分乃至１８時間であり、好適には、３０分乃至５時間で
ある。このようにして得られた目的化合物は種々の方法
を適宜組み合わせることによって採取、分離、精製する
ことができる。例えば反応液を水に注ぎ、水と混和しな
い溶剤、たとえばベンゼン、エ−テル、酢酸エチルなど
で抽出し、抽出液より溶剤を留去することによって得ら
れる。このようにして得られた化合物は、必要ならば更
に、例えば活性炭、シリカゲルなどの各種担体を用いる
吸着またはイオン交換クロマト、あるいはセファデック
スカラムによるゲル濾過、エ−テル、酢酸エチル、クロ
ロホルムなどの有機溶剤を用いての再結晶などにより行
なわれる。

【０１５０】（第47工程） 本工程は、不活性溶剤中、塩基の存在下、化合物（３）
にトリ置換シリルハライドを反応させて、化合物（２
０）を製造する工程である。

【０１５１】使用される溶剤としては、反応を阻害せ
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、好適には、ヘキサン、ヘプタン、リグロイ
ン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼ
ン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；メ
チレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロ
エタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハ
ロゲン化炭化水素類；蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プ
ロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル
類；ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエ
チレングリコールジメチルエーテルのようなエ−テル
類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチル
ケトン、イソホロン、シクロヘキサノンのようなケトン
類；ニトロエタン、ニトロベンゼンのようなニトロ化合
物類；アセトニトリル、イソブチロニトリルのようなニ
トリル類；ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメ
チルアセトアミド、ヘキサメチルホスホロトリアミドの
ようなアミド類；ジメチルスルホキシド、スルホランの
ようなスルホキシドがあげられ、好適には、芳香族炭化
水素類、ハロゲン化炭化水素類である。

【０１５２】使用される塩基としては、通常の反応にお
いて塩基として使用されるものであれば、特に限定はな
いが、好適には、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸
リチウムのようなアルカリ金属炭酸塩類；炭酸水素ナト
リウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素リチウムのような
アルカリ金属炭酸水素塩類；水素化リチウム、水素化ナ
トリウム、水素化カリウムのようなアルカリ金属水素化
物類；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化バリ
ウム、水酸化リチウムのようなアルカリ金属水酸化物類
等の無機塩基類；ナトリウムメトキシド、ナトリウムエ
トキシド、カリウムｔ−ブトキシド、リチウムメトキシ
ドのようなアルカリ金属アルコキシド類；メチルメルカ
プタンナトリウム、エチルメルカプタンナトリウムのよ
うなメルカプタンアルカリ金属類；トリエチルアミン、
トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、N-メ
チルモルホリン、ピリジン、4-(N,N- ジメチルアミノ)
ピリジン、N,N-ジメチルアニリン、N,N-ジエチルアニリ
ン、1,5-ジアザビシクロ[4.3.0] ノナ-5- エン、1,4-ジ
アザビシクロ[2.2.2] オクタン(DABCO) 、1,8-ジアザビ
シクロ[5.4.0] ウンデク- 7-エン(DBU) のような有機塩
基類又はブチルリチウム、リチウムジイソプロピルアミ
ドのような有機金属塩基類があげられ、好適には、トリ
エチルアミン、ピリジンである。

【０１５３】使用されるトリ置換シリルハライド試薬と
しては、トリメチルシリルクロライド、トリフェニルシ
リルブロマイド、ｔ−ブチルジメチルシリルクロライ
ド、ｔ−ブチルジフェニルシリルブロマイド等があげら
れ、好適には、トリメチルシリルクロライドである。

【０１５４】反応温度は使用される原料、試薬、溶剤に
より異なるが、通常−２０℃乃至１００℃であり、好適
には−１０℃乃至５０℃である。

【０１５５】反応時間は使用される原料、溶剤、反応温
度などにより異なるが、通常１乃至１００時間であり、
好適には、５乃至２４時間である。

【０１５６】反応終了後、たとえば溶剤を留去し、反応
液を水に注ぎ、塩酸、硫酸などの無機酸で酸性とし、水
と混和しない溶剤、たとえばベンゼン、エ−テル、酢酸
エチルなどで抽出し、抽出液より溶剤を留去することに
よって得られるものを、通常、そのまま次の工程に用い
る。所望により、各種クロマトあるいは再結晶法によ
り、単離精製することもできる。

【０１５７】（第48工程） 本工程は、不活性溶剤中、化合物（２０）に酸ハライド
（Ｒ¹ Ｘ）を反応させて、アミノ基の保護基を除去する
とともに、化合物（２１）を製造する方法である。

【０１５８】使用される溶剤としては、反応を阻害せ
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、好適には、ヘキサン、ヘプタン、リグロイ
ン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼ
ン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；メ
チレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロ
エタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハ
ロゲン化炭化水素類；蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プ
ロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル
類；ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエ
チレングリコールジメチルエーテルのようなエ−テル
類；メタノ−ル、エタノ−ル、n-プロパノ−ル、イソプ
ロパノ−ル、n-ブタノ−ル、イソブタノ−ル、t-ブタノ
−ル、イソアミルアルコ−ル、ジエチレングリコール、
グリセリン、オクタノール、シクロヘキサノール、メチ
ルセロソルブ、のようなアルコ−ル類；アセトン、メチ
ルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、イソホロ
ン、シクロヘキサノンのようなケトン類；ニトロエタ
ン、ニトロベンゼンのようなニトロ化合物類；アセトニ
トリル、イソブチロニトリルのようなニトリル類；ホル
ムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミ
ド、ヘキサメチルホスホロトリアミドのようなアミド
類；ジメチルスルホキシド、スルホランのようなスルホ
キシド類があげられ、好適には、芳香族炭化水素類、ハ
ロゲン化炭化水素類である。

【０１５９】使用される酸ハライド剤のハライド部分と
しては、好適には塩素、臭素、ヨウ素である。

【０１６０】反応温度は使用される原料、試薬、溶剤に
より異なるが、通常−２０℃乃至１００℃であり、好適
には−１０℃乃至５０℃である。

【０１６１】反応時間は使用される原料、溶剤、反応温
度などにより異なるが、通常１乃至１００時間であり、
好適には、２乃至２４時間である。

【０１６２】反応終了後、たとえば溶剤を留去し、反応
液を水に注ぎ、塩酸、硫酸などの無機酸で酸性とし、水
と混和しない溶剤、たとえばベンゼン、エ−テル、酢酸
エチルなどで抽出し、抽出液より溶剤を留去することに
よって得られるものを、通常、そのまま次の工程に用い
る。所望により、各種クロマトあるいは再結晶法によ
り、単離精製することもできる。

【０１６３】（第49工程） 本工程は、不活性溶剤中、化合物（２１）に脱保護剤を
反応させて、化合物（１Ｖ）を製造する工程である。

【０１６４】使用される溶剤としては、反応を阻害せ
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、好適には、ヘキサン、ヘプタン、リグロイ
ン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼ
ン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；メ
チレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロ
エタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハ
ロゲン化炭化水素類；蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プ
ロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル
類；ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエ
チレングリコールジメチルエーテルのようなエ−テル
類；メタノ−ル、エタノ−ル、n-プロパノ−ル、イソプ
ロパノ−ル、n-ブタノ−ル、イソブタノ−ル、t-ブタノ
−ル、イソアミルアルコ−ル、ジエチレングリコール、
グリセリン、オクタノール、シクロヘキサノール、メチ
ルセロソルブ、のようなアルコ−ル類；アセトン、メチ
ルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、イソホロ
ン、シクロヘキサノンのようなケトン類；ニトロエタ
ン、ニトロベンゼンのようなニトロ化合物類；アセトニ
トリル、イソブチロニトリルのようなニトリル類；ホル
ムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミ
ド、ヘキサメチルホスホロトリアミドのようなアミド
類；ジメチルスルホキシド、スルホランのようなスルホ
キシド類があげられ、好適には、芳香族炭化水素類、ハ
ロゲン化炭化水素類である。

【０１６５】使用される脱保護剤としては、通常、水を
加えて撹拌するか又は弗化テトラブチルアンモニウムの
ような弗素アニオンを生成する化合物で処理することに
より除去される。好適には、水を加えて撹拌する方法で
ある。

【０１６６】反応温度は使用される原料、試薬、溶剤に
より異なるが、通常−１０℃乃至１００℃であり、好適
には−５℃乃至５０℃である。

【０１６７】反応時間は使用される原料、溶剤、反応温
度などにより異なるが、通常１乃至１００時間であり、
好適には、２乃至２０時間である。

【０１６８】反応終了後、たとえば溶剤を留去し、反応
液を水に注ぎ、塩酸、硫酸などの無機酸で酸性とし、水
と混和しない溶剤、たとえばベンゼン、エ−テル、酢酸
エチルなどで抽出し、抽出液より溶剤を留去することに
よって得られるものを、通常、そのまま次の工程に用い
る。所望により、各種クロマトあるいは再結晶法によ
り、単離精製することもできる。

【０１６９】（第50工程） 本工程は化合物（３）の３’位及び５’位水酸基を Ｘ
−Ｒ⁶ Ｒ⁷ Ｓｉ−Ｏ−ＳｉＲ⁸ Ｒ⁹ −Ｘ（Ｒ⁶ 、Ｒ⁷ 、
Ｒ⁸ 、Ｒ⁹ 及びＸは前述と同意義を示す。）を作用させ
て、同時に保護して、化合物（２２）を得る工程であ
り、第41工程と同様にして行なうことができる。

【０１７０】（第51工程） 本工程は、不活性溶剤中、化合物（２２）にカルボン酸
（Ｒ¹ ＯＨ）あるいは酸ハライド（Ｒ¹ Ｘ）又は酸無水
物（Ｒ¹ ＯＲ¹ ）若しくは混合酸無水物（例えば、Ｒ¹
ＯＣＯＯＭｅ（Ｍｅはメチル基）、Ｒ¹ ＯＣＯＯＥｔ
（Ｅｔはエチル基））のようなカルボン酸の反応性誘導
体を反応させて、化合物（２３）を製造する工程であ
り、第１工程と同様にして行なうことができる。

【０１７１】（第52工程） 本工程は、不活性溶剤中、化合物（２３）に水酸基の脱
保護剤を作用させて、本発明の目的化合物（１Ｗ）を得
る工程であり、第４６工程と同様にして行なうことがで
きる。

【０１７２】（第53工程） 本工程は、不活性溶剤中、化合物（３）に、４位のアミ
ノ基および５’位の水酸基を選択的に保護できる試薬を
反応させて、化合物（２４）を製造する工程である。

【０１７３】使用される溶剤としては、反応を阻害せ
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、好適には、ヘキサン、ヘプタン、リグロイ
ン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼ
ン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；メ
チレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロ
エタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハ
ロゲン化炭化水素類；蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プ
ロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル
類；ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエ
チレングリコールジメチルエーテルのようなエ−テル
類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチル
ケトン、イソホロン、シクロヘキサノンのようなケトン
類；ニトロエタン、ニトロベンゼンのようなニトロ化合
物類；アセトニトリル、イソブチロニトリルのようなニ
トリル類；ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメ
チルアセトアミド、ヘキサメチルホスホロトリアミドの
ようなアミド類；ジメチルスルホキシド、スルホランの
ようなスルホキシド類があげられ、好適には、芳香族炭
化水素類、ハロゲン化炭化水素類である。

【０１７４】使用される保護化試薬としては、トリフェ
ニルメチルクロライド、４−メトキシトリフェニルメチ
ルクロライド、４、４’−ジメトキシトリフェニルメチ
ルクロライドがあげられ、好適には、４、４’−ジメト
キシトリフェニルメチルクロライドである。

【０１７５】反応温度は通常１０乃至１００℃であり、
好適には２０乃至８０℃である。

【０１７６】反応時間は使用される原料、溶剤、反応温
度などにより異なるが、通常１乃至１００時間であり、
好適には、１乃至２０時間である。

【０１７７】反応終了後、たとえば溶剤を留去し、反応
液を水に注ぎ、塩酸、硫酸などの無機酸で酸性とし、水
と混和しない溶剤、たとえばベンゼン、エ−テル、酢酸
エチルなどで抽出し、抽出液より溶剤を留去することに
よって得られるものを、通常、そのまま次の工程に用い
る。所望により、各種クロマトあるいは再結晶法によ
り、単離精製することもできる。

【０１７８】（第54工程） 本工程は、不活性溶剤中、化合物（２４）にカルボン酸
（Ｒ² ＯＨ）あるいは酸ハライド（Ｒ² Ｘ）又は酸無水
物（Ｒ² ＯＲ² ）若しくは混合酸無水物（例えば、Ｒ²
ＯＣＯＯＭｅ（Ｍｅはメチル基）、Ｒ² ＯＣＯＯＥｔ
（Ｅｔはエチル基））のようなカルボン酸の反応性誘導
体を反応させて、化合物（２５）を製造する工程であ
り、第１工程と同様にして行なうことができる。

【０１７９】（第55工程） 本工程は、不活性溶剤中、化合物（２５）に脱保護化試
薬を反応させて、５’位の水酸基の保護基を選択的に除
去して、化合物（１Ｘ）を製造する工程であり、第１７
工程と同様にして行なうことができる。

【０１８０】（第56工程） 本工程は、不活性溶剤中、化合物（２０）にアミノ基の
保護化試薬を反応させて、４位のアミノ基の保護基を交
換し、化合物（２６）を製造する工程である。使用され
る溶剤としては、反応を阻害せず、出発物質をある程度
溶解するものであれば特に限定はないが、好適には、ヘ
キサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルのような
脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレンのよ
うな芳香族炭化水素類；メチレンクロリド、クロロホル
ム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジ
クロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類；蟻酸エ
チル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジ
エチルのようなエステル類；ジエチルエ−テル、ジイソ
プロピルエ−テル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、
ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエー
テルのようなエ−テル類；アセトン、メチルエチルケト
ン、メチルイソブチルケトン、イソホロン、シクロヘキ
サノンのようなケトン類；ニトロエタン、ニトロベンゼ
ンのようなニトロ化合物類；アセトニトリル、イソブチ
ロニトリルのようなニトリル類；ホルムアミド、ジメチ
ルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチル
ホスホロトリアミドのようなアミド類；ジメチルスルホ
キシド、スルホランのようなスルホキシド類があげら
れ、好適には、芳香族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素
類である。

【０１８１】使用される保護化試薬としては、トリクロ
ロエトキシカルボニルクロリド、トリブロモエトキシカ
ルボニルクロリドがあげられ、好適にはトリクロロエト
キシカルボニルクロリドである。

【０１８２】反応温度は通常−１０乃至１００℃であ
り、好適には５乃至５０℃である。

【０１８３】反応時間は使用される原料、溶剤、反応温
度などにより異なるが、通常１乃至１００時間であり、
好適には、２乃至２４時間である。

【０１８４】反応終了後、たとえば溶剤を留去し、反応
液を水に注ぎ、塩酸、硫酸などの無機酸で酸性とし、水
と混和しない溶剤、たとえばベンゼン、エ−テル、酢酸
エチルなどで抽出し、抽出液より溶剤を留去することに
よって得られるものを、通常、そのまま次の工程に用い
る。所望により、各種クロマトあるいは再結晶法によ
り、単離精製することもできる。

【０１８５】（第57工程） 本工程は、不活性溶剤中、化合物（２６）に脱保護剤を
反応させて、化合物（４）を製造する工程であり、第４
９工程と同様にして行なうことができる。

【０１８６】（第58工程） 本工程は、不活性溶剤中、化合物（１６）にスルホニル
ハライドを反応させて、化合物（２７）を製造する工程
である。

【０１８７】使用される溶剤としては、反応を阻害せ
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、好適には、ヘキサン、ヘプタン、リグロイ
ン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼ
ン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；メ
チレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロ
エタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハ
ロゲン化炭化水素類；蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プ
ロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル
類；ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエ
チレングリコールジメチルエーテルのようなエ−テル
類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチル
ケトン、イソホロン、シクロヘキサノンのようなケトン
類；ニトロエタン、ニトロベンゼンのようなニトロ化合
物類；アセトニトリル、イソブチロニトリルのようなニ
トリル類；ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメ
チルアセトアミド、ヘキサメチルホスホロトリアミドの
ようなアミド類；ジメチルスルホキシド、スルホランの
ようなスルホキシド類があげられ、好適には、芳香族炭
化水素類、ハロゲン化炭化水素類である。

【０１８８】使用されるスルホニルハライドとしては、
トリフルオロメタンスルホニルクロリド、トリフルオロ
メタンスルホニルブロミド、ｐ−トルエンスルホニルク
ロリドがあげられ、好適には、トリフルオロメタンスル
ホニルクロリドである。

【０１８９】反応温度は通常−２０乃至１００℃であ
り、好適には−１０乃至５０℃である。

【０１９０】反応時間は使用される原料、溶剤、反応温
度などにより異なるが、通常１乃至５０時間であり、好
適には、５乃至２４時間である。

【０１９１】反応終了後、たとえば溶剤を留去し、反応
液を水に注ぎ、塩酸、硫酸などの無機酸で酸性とし、水
と混和しない溶剤、たとえばベンゼン、エ−テル、酢酸
エチルなどで抽出し、抽出液より溶剤を留去することに
よって得られるものを、通常、そのまま次の工程に用い
る。所望により、各種クロマトあるいは再結晶法によ
り、単離精製することもできる。

【０１９２】（第59工程） 本工程は、不活性溶剤中、化合物（２７）にシアノ化剤
を反応させて、化合物（２９）を製造する工程である。

【０１９３】使用される溶剤としては、反応を阻害せ
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、好適には、ヘキサン、ヘプタン、リグロイ
ン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼ
ン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；メ
チレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロ
エタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハ
ロゲン化炭化水素類；蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プ
ロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル
類；ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエ
チレングリコールジメチルエーテルのようなエ−テル
類；メタノ−ル、エタノ−ル、n-プロパノ−ル、イソプ
ロパノ−ル、n-ブタノ−ル、イソブタノ−ル、t-ブタノ
−ル、イソアミルアルコ−ル、ジエチレングリコール、
グリセリン、オクタノール、シクロヘキサノール、メチ
ルセロソルブ、のようなアルコ−ル類；アセトン、メチ
ルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、イソホロ
ン、シクロヘキサノンのようなケトン類；ニトロエタ
ン、ニトロベンゼンのようなニトロ化合物類；アセトニ
トリル、イソブチロニトリルのようなニトリル類；ホル
ムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミ
ド、ヘキサメチルホスホロトリアミドのようなアミド
類；ジメチルスルホキシド、スルホランのようなスルホ
キシド類があげられ、好適には、アミド類である。

【０１９４】使用されるシアノ化剤としては、シアン化
ナトリウム、シアン化カリウム、シアン化トリエチルア
ミンなどがあげられ、好適には、シアン化カリウムであ
る。反応温度は通常５至１００℃であり、好適には１０
乃至５０℃である。

【０１９５】反応時間は使用される原料、溶剤、反応温
度などにより異なるが、通常１乃至１００時間であり、
好適には、５乃至２４時間である。

【０１９６】反応終了後、たとえば溶剤を留去し、反応
液を水に注ぎ、塩酸、硫酸などの無機酸で酸性とし、水
と混和しない溶剤、たとえばベンゼン、エ−テル、酢酸
エチルなどで抽出し、抽出液より溶剤を留去することに
よって得られるものを、通常、そのまま次の工程に用い
る。所望により、各種クロマトあるいは再結晶法によ
り、単離精製することもできる。

【０１９７】（第60工程） 本工程は、不活性溶剤中、化合物（１６）にハロゲン化
剤を反応させて、化合物（２８）を製造する工程であ
る。

【０１９８】使用される溶剤としては、反応を阻害せ
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、好適には、ヘキサン、ヘプタン、リグロイ
ン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼ
ン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；メ
チレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロ
エタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハ
ロゲン化炭化水素類；蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プ
ロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル
類；ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエ
チレングリコールジメチルエーテルのようなエ−テル
類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチル
ケトン、イソホロン、シクロヘキサノンのようなケトン
類；ニトロエタン、ニトロベンゼンのようなニトロ化合
物類；アセトニトリル、イソブチロニトリルのようなニ
トリル類；ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメ
チルアセトアミド、ヘキサメチルホスホロトリアミドの
ようなアミド類；ジメチルスルホキシド、スルホランの
ようなスルホキシド類があげられる。

【０１９９】使用されるハロゲン化剤としては、オキシ
塩化リン、オキシ臭化リンのようなオキシハロ化リン、
臭化チオニル、塩化チオニル、よう化チオニルのような
チオニルハライドがあげられ、好適には、よう化チオニ
ルである。

【０２００】反応温度は通常−２０乃至１００℃であ
り、好適には１０乃至５０℃である。反応時間は使用さ
れる原料、溶剤、反応温度などにより異なるが、通常１
乃至５０時間であり、好適には、５乃至２４時間であ
る。

【０２０１】反応終了後、たとえば溶剤を留去し、反応
液を水に注ぎ、塩酸、硫酸などの無機酸で酸性とし、水
と混和しない溶剤、たとえばベンゼン、エ−テル、酢酸
エチルなどで抽出し、抽出液より溶剤を留去することに
よって得られるものを、通常、そのまま次の工程に用い
る。所望により、各種クロマトあるいは再結晶法によ
り、単離精製することもできる。

【０２０２】（第61工程） 本工程は、不活性溶剤中、化合物（２８）にシアノ化剤
を反応させて、化合物（２９）を製造する工程である。

【０２０３】使用される溶剤としては、反応を阻害せ
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、好適には、ヘキサン、ヘプタン、リグロイ
ン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼ
ン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；メ
チレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロ
エタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハ
ロゲン化炭化水素類；蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プ
ロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル
類；ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエ
チレングリコールジメチルエーテルのようなエ−テル
類；メタノ−ル、エタノ−ル、n-プロパノ−ル、イソプ
ロパノ−ル、n-ブタノ−ル、イソブタノ−ル、t-ブタノ
−ル、イソアミルアルコ−ル、ジエチレングリコール、
グリセリン、オクタノール、シクロヘキサノール、メチ
ルセロソルブ、のようなアルコ−ル類；アセトン、メチ
ルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、イソホロ
ン、シクロヘキサノンのようなケトン類；ニトロエタ
ン、ニトロベンゼンのようなニトロ化合物類；アセトニ
トリル、イソブチロニトリルのようなニトリル類；ホル
ムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミ
ド、ヘキサメチルホスホロトリアミドのようなアミド
類；ヘキサメチルホスホロトリアミドのようなヘキサア
ルキルメチルホスホロトリアミド類；ジメチルスルホキ
シド、スルホランのようなスルホキシド類があげられ、
好適には、アミド類、ヘキサアルキルメチルホスホロト
リアミド類である。

【０２０４】使用されるシアノ化剤としては、があげら
れ、好適には、シアン化ナトリウム、シアン化カリウ
ム、シアン化トリエチルアミンなどがあげられ、好適に
は、シアン化カリウムである。

【０２０５】反応温度は通常−１０乃至２００℃であ
り、好適には１０乃至１００℃である。

【０２０６】反応時間は使用される原料、溶剤、反応温
度などにより異なるが、通常１乃至１００時間であり、
好適には、５乃至２４時間である。

【０２０７】反応終了後、たとえば溶剤を留去し、反応
液を水に注ぎ、塩酸、硫酸などの無機酸で酸性とし、水
と混和しない溶剤、たとえばベンゼン、エ−テル、酢酸
エチルなどで抽出し、抽出液より溶剤を留去することに
よって得られるものを、通常、そのまま次の工程に用い
る。所望により、各種クロマトあるいは再結晶法によ
り、単離精製することもできる。

【０２０８】（第62工程） 本工程は、不活性溶剤中、化合物（２９）に水酸基の脱
保護剤を作用させて、本発明の目的化合物（１Ｙ）を得
る工程であり、第４６工程と同様にして行なうことがで
きる。

【０２０９】なお、第１工程、第３工程、第６工程、第
１１工程、第１４工程、第１８工程、第２２工程、第２
７工程、第２９工程、第３４工程、第３９工程、第４６
工程、第５２工程、第５５工程及び第６２工程によって
得られる化合物が水酸基、アミノ基、メルカプト基及び
カルボキシル基の保護基を含む場合はその工程も含むも
のである。

【０２１０】保護基の除去はその種類によって異なる
が、一般にこの分野の技術において周知の方法によって
以下の様に実施される。

【０２１１】水酸基の保護基として、シリル基を使用し
た場合には、通常、弗化テトラブチルアンモニウムのよ
うな弗素アニオンを生成する化合物で処理することによ
り除去される。反応溶媒は、反応を阻害しないものであ
れば特に限定はないが、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ンのようなエ−テル類が好適である。反応温度及び反応
時間は、特に限定はないが、通常、室温で１０乃至１８
時間実施される。

【０２１２】水酸基の保護基が、アラルキル基又はアラ
ルキルオキシカルボニル基である場合には、通常、溶媒
中、還元剤と接触させることにより（好適には、触媒下
に常温にて接触還元）除去する方法又は酸化剤を用いて
除去する方法が好適である。接触還元による除去におい
て使用される溶媒としては、本反応に関与しないもので
あれば特に限定はないが、メタノ−ル、エタノ−ル、イ
ソプロパノ−ルのようなアルコ−ル類、ジエチルエ−テ
ル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエ−テル
類、トルエン、ベンゼン、キシレンのような芳香族炭化
水素類、ヘキサン、シクロヘキサンのような脂肪族炭化
水素類、酢酸エチル、酢酸プロピルのようなエステル
類、酢酸のような脂肪酸類又はこれらの有機溶媒と水と
の混合溶媒が好適である。

【０２１３】使用される触媒としては、通常、接触還元
反応に使用されるものであれば、特に限定はないが、好
適には、パラジウム炭素、ラネ−ニッケル、酸化白金、
白金黒、ロジウム−酸化アルミニウム、トリフェニルホ
スフィン−塩化ロジウム、パラジウム−硫酸バリウムが
用いられる。圧力は、特に限定はないが、通常１乃至１
０気圧で行なわれる。反応温度及び反応時間は、出発物
質、溶媒及び触媒の種類等により異なるが、通常、０乃
至１００℃で、５分乃至２４時間実施される。酸化によ
る除去において使用される溶媒としては、本反応に関与
しないものであれば特に限定はないが、好適には、含水
有機溶媒である。このような有機溶媒として好適には、
アセトンのようなケトン類、メチレンクロリド、クロロ
ホルム、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素類、ア
セトニトリルのようなニトリル類、ジエチルエ−テル、
テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエ−テル類、
ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサ
メチルホスホロトリアミドのようなアミド類及びジメチ
ルスルホキシドのようなスルホキシド類を挙げることが
できる。使用される酸化剤としては、酸化に使用される
化合物であれば特に限定はないが、好適には、過硫酸カ
リウム、過硫酸ナトリウム、アンモニウムセリウムナイ
トレイト(CAN) 、2,3-ジクロロ-5,6- ジシアノ-p- ベン
ゾキノン(DDQ) が用いられる。反応温度及び反応時間
は、出発物質、溶媒等により異なるが、通常、０乃至１
５０℃で、１０分乃至２４時間実施される。

【０２１４】又、液体アンモニア中若しくはメタノ−
ル、エタノ−ルのようなアルコ−ル中において、−７８
乃至−２０℃で、金属リチウム、金属ナトリウムのよう
なアルカリ金属類を作用させることによっても除去でき
る。

【０２１５】更に、溶媒中、塩化アルミニウム−沃化ナ
トリウム、又はトリメチルシリルイオダイドのようなア
ルキルシリルハライド類を用いても除去することができ
る。使用される溶媒としては、本反応に関与しないもの
であれば特に限定はないが、好適には、アセトニトリル
のようなニトリル類、メチレンクロリド、クロロホルム
のようなハロゲン化炭化水素類又はこれらの混合溶媒が
使用される。反応温度及び反応時間は、出発物質、溶媒
等により異なるが、通常は０乃至５０℃で、５分乃至３
日間実施される。

【０２１６】尚、反応基質が硫黄原子を有する場合は、
好適には、塩化アルミニウム−沃化ナトリウムが用いら
れる。

【０２１７】水酸基の保護基が、アルコキシメチル基、
テトラヒドロピラニル基、テトラヒドロチオピラニル
基、テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロチオフラニ
ル基又は置換されたエチル基である場合には、通常、溶
媒中、酸で処理することにより除去される。使用される
酸としては、通常、ブレンステッド酸として使用される
ものであれば特に限定はなく、好適には、塩酸、硫酸の
ような無機酸又は酢酸、パラトルエンスルホン酸のよう
な有機酸であるが、ダウエックス５０Ｗのような強酸性
の陽イオン交換樹脂も使用することができる。使用され
る溶媒としては、本反応に関与しないものであれば特に
限定はないが、メタノ−ル、エタノ−ルのようなアルコ
−ル類；テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエ−
テル類又はこれらの有機溶媒と水との混合溶媒が好適で
ある。反応温度及び反応時間は、出発物質、溶媒及び使
用される酸の種類等により異なるが、通常は０乃至５０
℃で、１０分乃至１８時間である。

【０２１８】アリルオキシカルボニル基の場合は、特に
パラジウム、及びトリフェニルホスフィン若しくはニッ
ケルテトラカルボニルを使用して除去する方法が簡便
で、副反応が少なく実施することができる。

【０２１９】メルカプト基の保護基として、シリル基を
使用した場合には、通常、弗化テトラブチルアンモニウ
ムのような弗素アニオンを生成する化合物で処理するこ
とにより除去される。反応溶媒は、反応を阻害しないも
のであれば特に限定はないが、テトラヒドロフラン、ジ
オキサンのようなエ−テル類が好適である。反応温度及
び反応時間は、特に限定はないが、通常、室温で１０乃
至１８時間実施される。

【０２２０】メルカプト基の保護基が、アラルキル基又
はアラルキルオキシカルボニル基である場合には、通
常、溶媒中、還元剤と接触させることにより（好適に
は、触媒下に常温にて接触還元）除去する方法又は酸化
剤を用いて除去する方法が好適である。接触還元による
除去において使用される溶媒としては、本反応に関与し
ないものであれば特に限定はないが、メタノ−ル、エタ
ノ−ル、イソプロパノ−ルのようなアルコ−ル類、ジエ
チルエ−テル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのよう
なエ−テル類、トルエン、ベンゼン、キシレンのような
芳香族炭化水素類、ヘキサン、シクロヘキサンのような
脂肪族炭化水素類、酢酸エチル、酢酸プロピルのような
エステル類、酢酸のような脂肪酸類又はこれらの有機溶
媒と水との混合溶媒が好適である。

【０２２１】使用される触媒としては、通常、接触還元
反応に使用されるものであれば、特に限定はないが、好
適には、パラジウム炭素、ラネ−ニッケル、酸化白金、
白金黒、ロジウム−酸化アルミニウム、トリフェニルホ
スフィン−塩化ロジウム、パラジウム−硫酸バリウムが
用いられる。圧力は、特に限定はないが、通常１乃至１
０気圧で行なわれる。反応温度及び反応時間は、出発物
質、溶媒及び触媒の種類等により異なるが、通常、０乃
至１００℃で、５分乃至２４時間実施される。酸化によ
る除去において使用される溶媒としては、本反応に関与
しないものであれば特に限定はないが、好適には、含水
有機溶媒である。このような有機溶媒として好適には、
アセトンのようなケトン類、メチレンクロリド、クロロ
ホルム、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素類、ア
セトニトリルのようなニトリル類、ジエチルエ−テル、
テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエ−テル類、
ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサ
メチルホスホロトリアミドのようなアミド類及びジメチ
ルスルホキシドのようなスルホキシド類を挙げることが
できる。使用される酸化剤としては、酸化に使用される
化合物であれば特に限定はないが、好適には、過硫酸カ
リウム、過硫酸ナトリウム、アンモニウムセリウムナイ
トレイト(CAN) 、2,3-ジクロロ-5,6- ジシアノ-p- ベン
ゾキノン(DDQ) が用いられる。反応温度及び反応時間
は、出発物質、溶媒及び触媒の種類等により異なるが、
通常、０乃至１５０℃で、１０分乃至２４時間実施され
る。

【０２２２】又、液体アンモニア中若しくはメタノ−
ル、エタノ−ルのようなアルコ−ル中において、−７８
乃至−２０℃で、金属リチウム、金属ナトリウムのよう
なアルカリ金属類を作用させることによっても除去でき
る。

【０２２３】更に、溶媒中、塩化アルミニウム−沃化ナ
トリウム、又はトリメチルシリルイオダイドのようなア
ルキルシリルハライド類を用いても除去することができ
る。使用される溶媒としては、本反応に関与しないもの
であれば特に限定はないが、好適には、アセトニトリル
のようなニトリル類、メチレンクロリド、クロロホルム
のようなハロゲン化炭化水素類又はこれらの混合溶媒が
使用される。反応温度及び反応時間は、出発物質、溶媒
等により異なるが、通常は０乃至５０℃で、５分乃至３
日間実施される。

【０２２４】尚、反応基質が硫黄原子を有する場合は、
好適には、塩化アルミニウム−沃化ナトリウムが用いら
れる。

【０２２５】メルカプト基の保護基が、アルコキシメチ
ル基、テトラヒドロピラニル基、テトラヒドロチオピラ
ニル基、テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロチオフ
ラニル基又は置換されたエチル基である場合には、通
常、溶媒中、酸で処理することにより除去される。使用
される酸としては、通常、ブレンステッド酸として使用
されるものであれば特に限定はなく、好適には、塩酸、
硫酸のような無機酸又は酢酸、パラトルエンスルホン酸
のような有機酸であるが、ダウエックス５０Ｗのような
強酸性の陽イオン交換樹脂も使用することができる。使
用される溶媒としては、本反応に関与しないものであれ
ば特に限定はないが、メタノ−ル、エタノ−ルのような
アルコ−ル類；テトラヒドロフラン、ジオキサンのよう
なエ−テル類又はこれらの有機溶媒と水との混合溶媒が
好適である。反応温度及び反応時間は、出発物質、溶媒
及び使用される酸の種類等により異なるが、通常は０乃
至５０℃で、１０分乃至１８時間である。

【０２２６】メルカプト基の保護基が、アルケニルオキ
シカルボニル基である場合は、通常、水酸基の保護基が
前記の脂肪族アシル基、芳香族アシル基又はアルコキシ
カルボニル基である場合の除去反応の条件と同様にし
て、塩基と処理することにより達成される。

【０２２７】尚、アリルオキシカルボニルの場合は、特
にパラジウム、及びトリフェニルホスフィン若しくはニ
ッケルテトラカルボニルを使用して除去する方法が簡便
で、副反応が少なく実施することができる。

【０２２８】アミノ基の保護基として、シリル基を使用
した場合には、通常、弗化テトラブチルアンモニウムの
ような弗素アニオンを生成する化合物で処理することに
より除去される。反応溶媒は、反応を阻害しないもので
あれば特に限定はないが、テトラヒドロフラン、ジオキ
サンのようなエ−テル類が好適である。反応温度及び反
応時間は、特に限定はないが、通常、室温で１０乃至１
８時間反応させる。

【０２２９】アミノ基の保護基が、アラルキル基又はア
ラルキルオキシカルボニル基である場合には、通常、溶
媒中で、還元剤と接触させることにより（好適には、触
媒下に常温にて接触還元）除去する方法又は酸化剤を用
いて除去する方法が好適である。接触還元による除去に
おいて使用される溶媒としては、本反応に関与しないも
のであれば特に限定はないが、メタノ−ル、エタノ−
ル、イソプロパノ−ルのようなアルコ−ル類、ジエチル
エ−テル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエ
−テル類、トルエン、ベンゼン、キシレンのような芳香
族炭化水素類、ヘキサン、シクロヘキサンのような脂肪
族炭化水素類、酢酸エチル、酢酸プロピルのようなエス
テル類、酢酸のような脂肪酸類又はこれらの有機溶媒と
水との混合溶媒が好適である。使用される触媒として
は、通常、接触還元反応に使用されるものであれば、特
に限定はないが、好適には、パラジウム炭素、ラネ−ニ
ッケル、酸化白金、白金黒、ロジウム−酸化アルミニウ
ム、トリフェニルホスフィン−塩化ロジウム、パラジウ
ム−硫酸バリウムが用いられる。圧力は、特に限定はな
いが、通常１乃至１０気圧で行なわれる。反応温度及び
反応時間は、出発物質、溶媒及び触媒の種類等により異
なるが、通常、０乃至１００℃で、５分乃至２４時間実
施される。

【０２３０】酸化による除去において使用される溶媒と
しては、本反応に関与しないものであれば特に限定はな
いが、好適には、含水有機溶媒である。このような有機
溶媒として好適には、アセトンのようなケトン類、メチ
レンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素のようなハロ
ゲン化炭化水素類、アセトニトリルのようなニトリル
類、ジエチルエ−テル、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ンのようなエ−テル類、ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルアセトアミド、ヘキサメチルホスホロトリアミドのよ
うなアミド類及びジメチルスルホキシドのようなスルホ
キシド類を挙げることができる。使用される酸化剤とし
ては、酸化に使用される化合物であれば特に限定はない
が、好適には、過硫酸カリウム、過硫酸ナトリウム、ア
ンモニウムセリウムナイトレイト(CAN) 、2,3-ジクロロ
-5,6- ジシアノ-p- ベンゾキノン(DDQ) が用いられる。
反応温度及び反応時間は、出発物質、溶媒及び触媒の種
類等により異なるが、通常、０乃至１５０℃で、１０分
乃至２４時間実施される。

【０２３１】アミノ基の保護基がアリルオキシカルボニ
ルの場合は、特に、パラジウム、及びトリフェニルホス
フィン若しくはニッケルテトラカルボニルを使用して除
去する方法が簡便で、副反応が少なく実施することがで
きる。

【０２３２】カルボキシ基の保護基として、低級アルキ
ル基又はアリ−ル基を使用した場合には、酸又は塩基で
処理することにより除去することができる。酸として
は、塩酸、硫酸、燐酸、臭化水素酸が用いられ、塩基と
しては、化合物の他の部分に影響を与えないものであれ
ば特に限定はないが、好適には炭酸ナトリウム、炭酸カ
リウムのようなアルカリ金属炭酸塩、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸化物又は
濃アンモニア−メタノ−ル溶液が用いられる。尚、塩基
による加水分解では異性化が起こることがある。使用さ
れる溶媒としては、通常の加水分解反応に使用されるも
ので、反応を阻害しないものであれば特に限定はなく、
水又はメタノ−ル、エタノ−ル、n-プロパノ−ルのよう
なアルコ−ル類若しくはテトラヒドロフラン、ジオキサ
ンのようなエ−テル類のような有機溶媒と水との混合溶
媒が好適である。反応温度及び反応時間は、出発物質、
溶媒及び用いる試薬等により異なり、特に限定はない
が、副反応を抑制するために、通常は０℃乃至１５０℃
で、1 乃至１０時間実施される。

【０２３３】カルボキシ基の保護基がジフェニルメチル
のようなジアリ−ル置換メチル基である場合には、通
常、溶媒中、酸で処理することにより除去される。使用
される溶媒としては、アニソ−ルのような芳香族炭化水
素類が好ましく、使用される酸としては、トリフルオロ
酢酸のような弗化有機酸が用いられる。反応温度及び反
応時間は、出発物質、溶媒、使用される酸等により異な
るが、通常は室温で３０分乃至１０時間実施される。

【０２３４】カルボキシ基の保護基がアラルキル基又は
ハロゲノ低級アルキル基である場合には、通常、溶媒
中、還元により除去される。還元方法としては、カルボ
キシ基の保護基がハロゲノ低級アルキル基である場合に
は、亜鉛−酢酸のような化学的還元による方法が好適で
あり、アラルキル基である場合には、パラジウム炭素、
白金のような触媒を用い接触還元による方法を行なう
か、又は硫化カリウム、硫化ナトリウムのようなアルカ
リ金属硫化物を用いて、化学的還元による方法により実
施される。使用される溶媒としては、本反応に関与しな
いものであれば特に限定はないが、メタノ−ル、エタノ
−ルのようなアルコ−ル類；テトラヒドロフラン、ジオ
キサンのようなエ−テル類；酢酸のような脂肪酸又はこ
れらの有機溶媒と水との混合溶媒が好適である。反応温
度及び反応時間は、出発物質、溶媒及び還元方法等によ
り異なるが、通常は０℃乃至室温付近で、５分乃至１２
時間実施される。

【０２３５】カルボキシ基の保護基がアルコキシメチル
基である場合には、通常、溶媒中、酸で処理することに
より除去される。使用される酸としては、通常ブレンス
テッド酸として使用されるものであれば特に限定はない
が、好適には塩酸、硫酸のような無機酸又は酢酸、パラ
トルエンスルホン酸のような有機酸である。使用される
溶媒としては、本反応に関与しないものであれば特に限
定はないが、メタノ−ル、エタノ−ルのようなアルコ−
ル類；テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエ−テ
ル類又はこれらの有機溶媒と水との混合溶媒が好適であ
る。反応温度及び反応時間は、出発物質、溶媒及び使用
される酸の種類等により異なるが、通常は０℃乃至５０
℃で、 １０分乃至１８時間実施される。

【０２３６】尚、カルボキシ基の保護基の除去を常法に
従い、アンモニア処理により行なうと、アミド化するこ
ともできる。

【０２３７】又、所望により、常法に従って、上記生成
したカルボン酸を、水と酢酸エチルのような水と混和し
ない有機溶媒との混合溶媒に溶かし、炭酸水素ナトリウ
ム水溶液、炭酸カリウム水溶液のようなアルカリ金属炭
酸塩若しくは重炭酸塩水溶液を、0 ℃乃至室温下に加
え、次いで、pH７付近とし析出した沈殿を瀘取すること
によりアルキル金属塩を製造することができる。

【０２３８】更に、このようにして製造した塩、又は上
記カルボン酸を、溶媒（好適には、テトラヒドロフラン
のようなエ−テル類又はN,N-ジメチルホルムアミド、ジ
メチルスルホキシド、ヘキサメチルホスホロトリアミ
ド、トリエチルホスフェ−トのような極性溶媒類）中、
２当量の塩基（好適には、トリエチルアミン、ジシクロ
ヘキシルアミンのような有機塩基、ナトリウムヒドリド
のような水素化アルカリ金属塩類又は炭酸水素ナトリウ
ム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのようなアルカリ金
属炭酸塩若しくは重炭酸塩）と反応させ、これにアセト
キシメチルクロリド、プロピオニルオキシメチルブロミ
ドのような脂肪族アシルオキシメチルハライド類、1-メ
トキシカルボニルオキシエチルクロリド、1-エトキシカ
ルボニルオキシエチルイオダイドのような1-低級アルコ
キシカルボニルオキシエチルハライド類、フタリジルハ
ライド類又は（2-オキソ-5- メチル-1,3- ジオキソレン
-4-イル）メチルハライド類を反応させることにより、
生体内で加水分解されやすいカルボキシ基の保護基で再
び保護されたエステル体を製造することができる。反応
温度及び反応時間は、出発物質、溶媒及び反応試薬の種
類により異なるが、通常、０℃乃至１００℃で、０．５
乃至１０時間実施される。

【０２３９】本発明の化合物を製造するのに使用される
カルボン酸は、市販のものを使用するほか、第６３工程
乃至第８６工程に示す方法により製造することができ
る。

【０２４０】

【化２１】

【０２４１】

【化２２】

【０２４２】

【化２３】

【０２４３】第６３工程乃至第８６工程において、Ｒ^A
は、炭素数１乃至４個のアルキル基を示し、Ｒ^B 及びＲ
^C は、アルキル基、アリ−ル基、アラルキル基を示し、
Ｒ^D は、アルキル基、アリール基、アラルキル基を示
し、Ｒ^D'は、アルキル基、アリール基、アラルキル基、
ハロゲン置換アルキルを示し、Ｒ^E は、アルキル基、ア
リール基、アラルキル基を示し、Ｒ^F は、トリアルキル
シリル基を示す。

【０２４４】Ｘはハロゲン原子を示し、Ｚは水素又はＲ
^D ＣＯ（Ｒ^D は前述のものと同意義を示す。）を示す。

【０２４５】（第６３工程） 本工程は、不活性溶剤中、化合物（３０）に塩基の存在
下、置換オキシカルボニルハライドを反応させて、化合
物（３１）を製造する工程である。

【０２４６】使用される溶剤としては、好適にはジエチ
ルエ−テル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのような
エ−テル類と水との混合溶剤である。

【０２４７】使用される塩基としては、通常の反応にお
いて塩基として使用されるものであれば、特に限定はな
いが、好適には、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸
リチウムのようなアルカリ金属炭酸塩類；水酸化ナトリ
ウム、水酸化カリウム、水酸化バリウム、水酸化リチウ
ムのようなアルカリ金属水酸化物類等の無機塩基類；ト
リエチルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエ
チルアミン、N-メチルモルホリン、ピリジン、4-(N,N-
ジメチルアミノ) ピリジン、N,N-ジメチルアニリン、N,
N-ジエチルアニリン、1,5-ジアザビシクロ[4.3.0] ノナ
-5- エン、1,4-ジアザビシクロ[2.2.2] オクタン(DABC
O) 、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0] ウンデク- 7-エン(DB
U) のような有機塩基類があげられ、好適には、アルカ
リ金属水酸化物、有機塩基類（特にピリジン、Ｎ−メチ
ルモルホリン、ＤＢＵ）である。

【０２４８】反応終了後、たとえば、不溶物を濾去し、
溶剤を留去し、反応液を水に注ぎ、塩酸、硫酸などの無
機酸で酸性とし、水と混和しない溶剤、たとえばベンゼ
ン、エ−テル、酢酸エチルなどで抽出し、抽出液より溶
剤を留去することによって得られるものを、通常、その
まま次の工程に用いる。所望により、各種クロマトある
いは再結晶法により、単離精製することもできる。

【０２４９】（第６４工程） 本工程は、不活性溶剤中、化合物（３０）に酸の存在
下、アルコールを反応させて、化合物（３２）を製造す
る工程である。

【０２５０】使用される溶剤としては、好適にはメタノ
ール、エタノール等アルコール類である。使用される酸
としては、通常の反応において酸触媒として使用される
ものであれば特に限定はないが、好適には塩酸、臭化水
素酸、硫酸、過塩素酸、燐酸のような無機酸又は酢酸、
蟻酸、蓚酸、メタンスルホン酸、パラトルエンスルホン
酸、トリフルオロ酢酸、トリフルオロメタンスルホン酸
のような有機酸等のブレンステッド酸或いは塩化亜鉛、
四塩化スズ、ボロントリクロリド、ボロントリフルオリ
ド、ボロントリブロミドのようなルイス酸をあげること
ができ、好適には無機酸（特に硫酸）である。

【０２５１】反応終了後、たとえば、不溶物を濾去し、
溶剤を留去し、反応液を水に注ぎ、塩酸、硫酸などの無
機酸で酸性とし、水と混和しない溶剤、たとえばベンゼ
ン、エ−テル、酢酸エチルなどで抽出し、抽出液より溶
剤を留去することによって得られるものを、通常、その
まま次の工程に用いる。所望により、各種クロマトある
いは再結晶法により、単離精製することもできる。

【０２５２】（第６５工程） 本工程は、不活性溶剤中、化合物（３０）に塩基の存在
下、アシルハライドを反応させて、化合物（３３）を製
造する工程である。

【０２５３】使用される溶剤としては、好適には、ジエ
チルエ−テル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのよう
なエ−テル類と水との混合溶剤である。

【０２５４】使用される塩基としては、好適には、通常
の反応において塩基として使用されるものであれば、特
に限定はないが、好適には、炭酸ナトリウム、炭酸カリ
ウム、炭酸リチウムのようなアルカリ金属炭酸塩類；水
酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化バリウム、水
酸化リチウムのようなアルカリ金属水酸化物類等の無機
塩基類；トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジイソ
プロピルエチルアミン、N-メチルモルホリン、ピリジ
ン、4-(N,N- ジメチルアミノ) ピリジン、N,N-ジメチル
アニリン、N,N-ジエチルアニリン、1,5-ジアザビシクロ
[4.3.0] ノナ-5-エン、1,4-ジアザビシクロ[2.2.2] オ
クタン(DABCO) 、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0] ウンデク
- 7-エン(DBU) のような有機塩基類があげられ、好適に
は、アルカリ金属水酸化物、有機塩基類（特にピリジ
ン、Ｎ−メチルモルホリン、ＤＢＵ）である。

【０２５５】反応終了後、たとえば、不溶物を濾去し、
溶剤を留去し、反応液を水に注ぎ、塩酸、硫酸などの無
機酸で酸性とし、水と混和しない溶剤、たとえばベンゼ
ン、エ−テル、酢酸エチルなどで抽出し、抽出液より溶
剤を留去することによって得られるものを、通常、その
まま次の工程に用いる。所望により、各種クロマトある
いは再結晶法により、単離精製することもできる。

【０２５６】（第６６工程） 本工程は、不活性溶剤中、化合物（３２）に、酸化剤を
反応させて、化合物（３４）を製造する工程である。

【０２５７】使用される溶剤としては、好適にはアセト
ン、メチルエチルケトンのようなケトン類及びそれらと
水との混合溶剤である。

【０２５８】使用される酸化剤としては、通常、酸化反
応に使用されるものであれば特に限定はないが、好適に
は、過マンガン酸カリウム、二酸化マンガンのような酸
化マンガン類；四酸化ルテニウムのような酸化ルテニウ
ム類；二酸化ゼレンのようなゼレン化合物；塩化鉄のよ
うな鉄化合物；四酸化オスミウムのようなオスミウム化
合物；酸化銀のような銀化合物；酢酸水銀のような水銀
化合物；酸化鉛、四酢酸鉛のような酸化鉛化合物；クロ
ム酸カリウム、クロム酸−硫酸錯体、クロム酸−ピリジ
ン錯体のようなクロム酸化合物、アンモニウムセリウム
ナイトレイト(CAN) のようなセリウム化合物等の無機金
属酸化剤；塩素分子、臭素分子、沃素分子のようなハロ
ゲン分子；過沃素酸ナトリウムのような過沃素酸類；オ
ゾン；過酸化水素水；亜硝酸のような亜硝酸化合物；亜
塩素酸カリウム、亜塩素酸ナトリウムのような亜塩素酸
化合物；過硫酸カリウム、過硫酸ナトリウムのような過
硫酸化合物等の無機酸化剤；ＤＭＳＯ酸化に使用される
試薬類（ジメチルスルホキシドとジシクロヘキシルカル
ボジイミド、オキザリルクロリド、無水酢酸若しくは五
酸化燐との錯体又はピリジン−無水硫酸の錯体）；t-ブ
チルヒドロパーオキシドのようなパーオキシド類；トリ
フェニルメチルカチオンのような安定なカチオン類；N-
ブロモコハク酸イミドのようなコハク酸イミド類；次亜
塩素酸t-ブチルのような次亜塩素酸化合物；アゾジカル
ボン酸ジエチルエステルのようなアゾジカルボン酸化合
物；ジメチルジスルフィド、ジフェニルジスルフィド、
ジピリジルジスルフィドのようなジスルフィド類とトリ
フェニルホスフィン；亜硝酸メチルのような亜硝酸エス
テル類；四臭化メタンのようなテトラハロゲン化炭素、
2,3-ジクロロ-5,6- ジシアノ-p- ベンゾキノン(DDQ) の
ようなキノン化合物等の有機酸化剤があげられる。

【０２５９】反応終了後、たとえば、不溶物を濾去し、
溶剤を留去し、反応液を水に注ぎ、塩酸、硫酸などの無
機酸で酸性とし、水と混和しない溶剤、たとえばベンゼ
ン、エ−テル、酢酸エチルなどで抽出し、抽出液より溶
剤を留去することによって得られるものを、通常、その
まま次の工程に用いる。所望により、各種クロマトある
いは再結晶法により、単離精製することもできる。

【０２６０】（第６７工程） 本工程は、不活性溶剤中、化合物（３２）に、塩基の存
在下、アルキルハライドを反応させて、化合物（３５）
を製造する工程である。

【０２６１】使用される溶剤としては、好適には、ヘキ
サン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルのような脂
肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレンのよう
な芳香族炭化水素類；ジエチルエ−テル、ジイソプロピ
ルエ−テル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメト
キシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルの
ようなエ−テル類；アセトン、メチルエチルケトン、メ
チルイソブチルケトン、イソホロン、シクロヘキサノン
のようなケトン類；ニトロエタン、ニトロベンゼンのよ
うなニトロ化合物類；アセトニトリル、イソブチロニト
リルのようなニトリル類である。

【０２６２】使用される塩基としては、炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウム、炭酸リチウムのようなアルカリ金属
炭酸塩類；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化
バリウム、水酸化リチウムのようなアルカリ金属水酸化
物類等の無機塩基類；トリエチルアミン、トリブチルア
ミン、ジイソプロピルエチルアミン、N-メチルモルホリ
ン、ピリジン、4-(N,N- ジメチルアミノ) ピリジン、N,
N-ジメチルアニリン、N,N-ジエチルアニリン、1,5-ジア
ザビシクロ[4.3.0] ノナ-5- エン、1,4-ジアザビシクロ
[2.2.2] オクタン(DABCO) 、1,8-ジアザビシクロ[5.4.
0] ウンデク- 7-エン(DBU) のような有機塩基類があげ
られ、好適には、アルカリ金属水酸化物、有機塩基類
（特にピリジン、Ｎ−メチルモルホリン、ＤＢＵ）であ
る。

【０２６３】反応終了後、たとえば、不溶物を濾去し、
溶剤を留去し、反応液を水に注ぎ、塩酸、硫酸などの無
機酸で酸性とし、水と混和しない溶剤、たとえばベンゼ
ン、エ−テル、酢酸エチルなどで抽出し、抽出液より溶
剤を留去することによって得られるものを、通常、その
まま次の工程に用いる。所望により、各種クロマトある
いは再結晶法により、単離精製することもできる。

【０２６４】（第６８工程） 本工程は、不活性溶剤中、化合物（３２）に塩基の存在
下、ハロゲン化剤叉はスルホニルハライドを反応させ
て、化合物（３７）を製造する工程である。

【０２６５】使用される溶剤としては、好適には、ヘキ
サン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルのような脂
肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレンのよう
な芳香族炭化水素類；ジエチルエ−テル、ジイソプロピ
ルエ−テル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメト
キシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルの
ようなエ−テル類；アセトン、メチルエチルケトン、メ
チルイソブチルケトン、イソホロン、シクロヘキサノン
のようなケトン類；ニトロエタン、ニトロベンゼンのよ
うなニトロ化合物類；アセトニトリル、イソブチロニト
リルのようなニトリル類である。

【０２６６】使用されるハロゲン化剤としては、好適に
はチオニルクロリド、オキザリルクロリドである。

【０２６７】使用されるスルホニルハライドとしては、
好適にはメタンスルフォニルクロリド、ｐ−トルエンス
ルフォニルクロリド、トリフルオロメタンスルフォニル
クロリドである。

【０２６８】反応終了後、たとえば、不溶物を濾去し、
溶剤を留去し、反応液を水に注ぎ、塩酸、硫酸などの無
機酸で酸性とし、水と混和しない溶剤、たとえばベンゼ
ン、エ−テル、酢酸エチルなどで抽出し、抽出液より溶
剤を留去することによって得られるものを、通常、その
まま次の工程に用いる。所望により、各種クロマトある
いは再結晶法により、単離精製することもできる。

【０２６９】（第６９工程） 本工程は、不活性溶剤中、化合物（３５）に塩基の存在
下、加水分解して、化合物（３６）を製造する工程であ
る。

【０２７０】使用される溶剤としては、好適には、ヘキ
サン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルのような脂
肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレンのよう
な芳香族炭化水素類；ジエチルエ−テル、ジイソプロピ
ルエ−テル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメト
キシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルの
ようなエ−テル類と水との混合溶剤である。

【０２７１】使用される塩基としては、好適には、炭酸
ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウムのようなアル
カリ金属炭酸塩類；水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム、水酸化バリウム、水酸化リチウムのようなアルカリ
金属水酸化物類等の無機塩基類；トリエチルアミン、ト
リブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、N-メチ
ルモルホリン、ピリジン、4-(N,N- ジメチルアミノ) ピ
リジン、N,N-ジメチルアニリン、N,N-ジエチルアニリ
ン、1,5-ジアザビシクロ[4.3.0] ノナ-5- エン、1,4-ジ
アザビシクロ[2.2.2] オクタン(DABCO) 、1,8-ジアザビ
シクロ[5.4.0] ウンデク- 7-エン(DBU) のような有機塩
基類があげられ、好適には、アルカリ金属水酸化物、有
機塩基類（特にピリジン、Ｎ−メチルモルホリン、ＤＢ
Ｕ）である。反応終了後、たとえば、不溶物を濾去し、
溶剤を留去し、反応液を水に注ぎ、塩酸、硫酸などの無
機酸で酸性とし、水と混和しない溶剤、たとえばベンゼ
ン、エ−テル、酢酸エチルなどで抽出し、抽出液より溶
剤を留去することによって得られるものを、通常、その
まま次の工程に用いる。所望により、各種クロマトある
いは再結晶法により、単離精製することもできる。

【０２７２】（第７０工程） 本工程は、不活性溶剤中、化合物（３７）に、アジド化
剤を反応させて、化合物（３８）を製造する工程であ
る。

【０２７３】使用される溶剤としては、好適には、ジメ
チルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなどのアミド
類である。

【０２７４】使用されるアジド化剤としては、好適に
は、リチウムアジド、ナトリウムアジドなどのアルカリ
金属アジド類である。

【０２７５】反応終了後、たとえば、不溶物を濾去し、
溶剤を留去し、反応液を水に注ぎ、塩酸、硫酸などの無
機酸で酸性とし、水と混和しない溶剤、たとえばベンゼ
ン、エ−テル、酢酸エチルなどで抽出し、抽出液より溶
剤を留去することによって得られるものを、通常、その
まま次の工程に用いる。所望により、各種クロマトある
いは再結晶法により、単離精製することもできる。

【０２７６】（第７１工程） 本工程は、不活性溶剤中、化合物（３８）に塩基の存在
下、加水分解して、化合物（４３）を製造する工程であ
り、第６９工程と同様にして行うことができる。

【０２７７】（第７２工程） 本工程は、不活性溶剤中、化合物（３８）、還元剤を作
用させて、化合物（３９）を製造する工程である。

【０２７８】使用される溶剤としては好適には、使用さ
れる溶媒としては、反応を阻害せず、出発物質をある程
度溶解するものであれば特に限定はないが、好適には、
ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルのよう
な脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレンの
ような芳香族炭化水素類；メチレンクロリド、クロロホ
ルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、
ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類；蟻酸
エチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸
ジエチルのようなエステル類；ジエチルエ−テル、ジイ
ソプロピルエ−テル、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチル
エーテルのようなエ−テル類；メタノ−ル、エタノ−
ル、n-プロパノ−ル、イソプロパノ−ル、n-ブタノ−
ル、イソブタノ−ル、t-ブタノ−ル、イソアミルアルコ
−ル、ジエチレングリコール、グリセリン、オクタノー
ル、シクロヘキサノール、メチルセロソルブ、のような
アルコ−ル類；アセトン、メチルエチルケトン、メチル
イソブチルケトン、イソホロン、シクロヘキサノンのよ
うなケトン類；ニトロエタン、ニトロベンゼンのような
ニトロ化合物類；アセトニトリル、イソブチロニトリル
のようなニトリル類；ホルムアミド、ジメチルホルムア
ミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホロト
リアミドのようなアミド類；ジメチルスルホキシド、ス
ルホランのようなスルホキシド類を挙げることができ
る。

【０２７９】また、本工程に使用される還元剤として
は、好適には、亜鉛を使用し、塩化アンモニウム／水
−メタノール中、又は、水−塩酸−アセトン中で行う反
応 水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素リチウムのよ
うな水素化ホウ素アルカリ金属、水素化アルミニウムリ
チウム、水素化リチウムトリエトキシアルミニウムのよ
うな水素化アルミニウム化合物、水素化テルルナトリウ
ムのようなヒドリド試薬を使用し、メタノール、エタノ
ールのようなアルコール類、エーテル、テトラヒドロフ
ランのようなエーテル類又は上記の混合溶媒中で行う反
応 パラジウム炭素、白金、ラネ−ニッケルのような触媒
を用い、メタノ−ル、エタノ−ルのようなアルコ−ル
類、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエ−テル
類、酢酸のような脂肪酸又はこれらの有機溶媒と水との
混合溶媒中、常温にて接触還元を行なう反応 塩化アルミニウム、四塩化錫、四塩化チタンのような
ルイス酸とトリエチルシラン、トリフェニルシランのよ
うな水素化ケイ素化合物を用いて行う反応 例えば、アゾビスイソブチロニトリル、トリフェニル
ホウ素のようなラジカル開始剤を触媒として用い、水素
化トリブチル錫、水素化トリフェニル錫、水素化ジブチ
ル錫のようなラジカル還元剤をあげることができるその
還元反応は、常法に従って達成される。

【０２８０】反応終了後、たとえば、不溶物を濾去し、
溶剤を留去し、反応液を水に注ぎ、塩酸、硫酸などの無
機酸で酸性とし、水と混和しない溶剤、たとえばベンゼ
ン、エ−テル、酢酸エチルなどで抽出し、抽出液より溶
剤を留去することによって得られるものを、通常、その
まま次の工程に用いる。所望により、各種クロマトある
いは再結晶法により、単離精製することもできる。

【０２８１】（第７３工程） 本工程は、不活性溶剤中、化合物（３９）に塩基の存在
下、加水分解して、化合物（４０）を製造する工程であ
り、第６９工程と同様にして行うことができる。

【０２８２】（第７４工程） 本工程は、不活性溶剤中、化合物（４０）に塩基の存在
下、アシル化剤を反応させて、化合物（４１）を製造す
る工程であり、第６５工程と同様にして行うことができ
る。

【０２８３】（第７５工程） 本工程は、不活性溶剤中、化合物（４０）に塩基の存在
下、置換オキシカルボニルハライドを反応させて、化合
物（４２）を製造する工程であり、第６３工程と同様に
して行うことができる。

【０２８４】反応終了後、たとえば、不溶物を濾去し、
溶剤を留去し、反応液を水に注ぎ、塩酸、硫酸などの無
機酸で酸性とし、水と混和しない溶剤、たとえばベンゼ
ン、エ−テル、酢酸エチルなどで抽出し、抽出液より溶
剤を留去することによって得られるものを、通常、その
まま次の工程に用いる。所望により、各種クロマトある
いは再結晶法により、単離精製することもできる。

【０２８５】（第７６工程） 本工程は、不活性溶剤中、化合物（３７）に塩基の存在
下、チオカルボン酸（ＲＣＯＳＨ）を反応させて、化合
物（４４）を製造する工程である。

【０２８６】使用される溶剤としては、反応を阻害せ
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、好適には、ヘキサン、ヘプタン、リグロイ
ン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼ
ン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；メ
チレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロ
エタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハ
ロゲン化炭化水素類；蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プ
ロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル
類；ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエ
チレングリコールジメチルエーテルのようなエ−テル
類；メタノ−ル、エタノ−ル、n-プロパノ−ル、イソプ
ロパノ−ル、n-ブタノ−ル、イソブタノ−ル、t-ブタノ
−ル、イソアミルアルコ−ル、ジエチレングリコール、
グリセリン、オクタノール、シクロヘキサノール、メチ
ルセロソルブ、のようなアルコ−ル類；アセトン、メチ
ルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、イソホロ
ン、シクロヘキサノンのようなケトン類；ニトロエタ
ン、ニトロベンゼンのようなニトロ化合物類；アセトニ
トリル、イソブチロニトリルのようなニトリル類；ホル
ムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミ
ド、ヘキサメチルホスホロトリアミドのようなアミド
類；ジメチルスルホキシド、スルホランのようなスルホ
キシド類を挙げることができる。

【０２８７】使用される塩基としては、好適には、炭酸
ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウムのようなアル
カリ金属炭酸塩類；水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム、水酸化バリウム、水酸化リチウムのようなアルカリ
金属水酸化物類等の無機塩基類；トリエチルアミン、ト
リブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、N-メチ
ルモルホリン、ピリジン、4-(N,N- ジメチルアミノ) ピ
リジン、N,N-ジメチルアニリン、N,N-ジエチルアニリ
ン、1,5-ジアザビシクロ[4.3.0] ノナ-5- エン、1,4-ジ
アザビシクロ[2.2.2] オクタン(DABCO) 、1,8-ジアザビ
シクロ[5.4.0] ウンデク- 7-エン(DBU) のような有機塩
基類があげられ、好適には、アルカリ金属水酸化物、有
機塩基類（特にピリジン、Ｎ−メチルモルホリン、ＤＢ
Ｕ）である。反応終了後、たとえば、不溶物を濾去し、
溶剤を留去し、反応液を水に注ぎ、塩酸、硫酸などの無
機酸で酸性とし、水と混和しない溶剤、たとえばベンゼ
ン、エ−テル、酢酸エチルなどで抽出し、抽出液より溶
剤を留去することによって得られるものを、通常、その
まま次の工程に用いる。所望により、各種クロマトある
いは再結晶法により、単離精製することもできる。

【０２８８】（第７７工程） 本工程は、不活性溶剤中、化合物（４４）に酸の存在
下、アルコールを反応させて、化合物（４５）を製造す
る工程である。

【０２８９】使用される溶剤としては、反応を阻害せ
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、好適には、ヘキサン、ヘプタン、リグロイ
ン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼ
ン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；メ
チレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロ
エタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハ
ロゲン化炭化水素類；蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プ
ロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル
類；ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエ
チレングリコールジメチルエーテルのようなエ−テル
類；メタノ−ル、エタノ−ル、n-プロパノ−ル、イソプ
ロパノ−ル、n-ブタノ−ル、イソブタノ−ル、t-ブタノ
−ル、イソアミルアルコ−ル、ジエチレングリコール、
グリセリン、オクタノール、シクロヘキサノール、メチ
ルセロソルブ、のようなアルコ−ル類；アセトン、メチ
ルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、イソホロ
ン、シクロヘキサノンのようなケトン類；ニトロエタ
ン、ニトロベンゼンのようなニトロ化合物類；アセトニ
トリル、イソブチロニトリルのようなニトリル類；ホル
ムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミ
ド、ヘキサメチルホスホロトリアミドのようなアミド
類；ジメチルスルホキシド、スルホランのようなスルホ
キシド類を挙げることができる。

【０２９０】使用される酸としては、好適には、通常の
反応において酸触媒として使用されるものであれば特に
限定はないが、好適には塩酸、臭化水素酸、硫酸、過塩
素酸、燐酸のような無機酸又は酢酸、蟻酸、蓚酸、メタ
ンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸、トリフルオロ
酢酸、トリフルオロメタンスルホン酸のような有機酸等
のブレンステッド酸或いは塩化亜鉛、四塩化スズ、ボロ
ントリクロリド、ボロントリフルオリド、ボロントリブ
ロミドのようなルイス酸をあげることができ、好適には
無機酸（特に塩酸）である。

【０２９１】使用されるアルコールとしては、好適には
メタノールである。

【０２９２】反応終了後、たとえば、不溶物を濾去し、
溶剤を留去し、反応液を水に注ぎ、塩酸、硫酸などの無
機酸で酸性とし、水と混和しない溶剤、たとえばベンゼ
ン、エ−テル、酢酸エチルなどで抽出し、抽出液より溶
剤を留去することによって得られるものを、通常、その
まま次の工程に用いる。所望により、各種クロマトある
いは再結晶法により、単離精製することもできる。

【０２９３】（第７８工程） 本工程は、不活性溶剤中、化合物（４５）に銀塩を反応
させて、化合物（４６）を製造する工程である。

【０２９４】使用される溶剤としては、反応を阻害せ
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エー
テルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、
キシレンのような芳香族炭化水素類；蟻酸エチル、酢酸
エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのよ
うなエステル類；ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ
−テル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシ
エタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのよう
なエ−テル類；メタノ−ル、エタノ−ル、n-プロパノ−
ル、イソプロパノ−ル、n-ブタノ−ル、イソブタノ−
ル、t-ブタノ−ル、イソアミルアルコ−ル、ジエチレン
グリコール、グリセリン、オクタノール、シクロヘキサ
ノール、メチルセロソルブ、のようなアルコ−ル類；ア
セトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケト
ン、イソホロン、シクロヘキサノンのようなケトン類；
ニトロエタン、ニトロベンゼンのようなニトロ化合物
類；アセトニトリル、イソブチロニトリルのようなニト
リル類；ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルアセトアミド、ヘキサメチルホスホロトリアミドのよ
うなアミド類；ジメチルスルホキシド、スルホランのよ
うなスルホキシド類を挙げることができる。

【０２９５】使用される銀塩としては、好適には、酢酸
銀である。

【０２９６】反応終了後、たとえば、不溶物を濾去し、
溶剤を留去し、反応液を水に注ぎ、塩酸、硫酸などの無
機酸で酸性とし、水と混和しない溶剤、たとえばベンゼ
ン、エ−テル、酢酸エチルなどで抽出し、抽出液より溶
剤を留去することによって得られるものを、通常、その
まま次の工程に用いる。所望により、各種クロマトある
いは再結晶法により、単離精製することもできる。

【０２９７】（第７９工程） 本工程は、不活性溶剤中、化合物（４６）に、ジスルフ
ィド化剤を反応させて、化合物（４７）を製造する工程
である。

【０２９８】使用される溶剤としては、好適には、使用
される溶媒としては、反応を阻害せず、出発物質をある
程度溶解するものであれば特に限定はないが、好適に
は、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルの
ような脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレ
ンのような芳香族炭化水素類；メチレンクロリド、クロ
ロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼ
ン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類；
蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、
炭酸ジエチルのようなエステル類；ジエチルエ−テル、
ジイソプロピルエ−テル、テトラヒドロフラン、ジオキ
サン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチ
ルエーテルのようなエ−テル類；メタノ−ル、エタノ−
ル、n-プロパノ−ル、イソプロパノ−ル、n-ブタノ−
ル、イソブタノ−ル、t-ブタノ−ル、イソアミルアルコ
−ル、ジエチレングリコール、グリセリン、オクタノー
ル、シクロヘキサノール、メチルセロソルブ、のような
アルコ−ル類；アセトン、メチルエチルケトン、メチル
イソブチルケトン、イソホロン、シクロヘキサノンのよ
うなケトン類；ニトロエタン、ニトロベンゼンのような
ニトロ化合物類；アセトニトリル、イソブチロニトリル
のようなニトリル類；ホルムアミド、ジメチルホルムア
ミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホロト
リアミドのようなアミド類；ジメチルスルホキシド、ス
ルホランのようなスルホキシド類を挙げることができ
る。

【０２９９】使用されるジスルフィド化剤としては、好
適には所望するアルキルメルカプタンと２、４−ジニト
ロスルフェニルハライド（特に２、４−ジニトロスルフ
ェニルクロリド）である。

【０３００】反応終了後、たとえば、不溶物を濾去し、
溶剤を留去し、反応液を水に注ぎ、塩酸、硫酸などの無
機酸で酸性とし、水と混和しない溶剤、たとえばベンゼ
ン、エ−テル、酢酸エチルなどで抽出し、抽出液より溶
剤を留去することによって得られるものを、通常、その
まま次の工程に用いる。所望により、各種クロマトある
いは再結晶法により、単離精製することもできる。

【０３０１】（第８０工程） 本工程は、不活性溶剤中、化合物（４７）に塩基の存在
下、加水分解して、化合物（４８）を製造する工程であ
り、第６９工程と同様にして行うことができる。

【０３０２】使用される溶剤としては、反応を阻害せ
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、好適には、ヘキサン、ヘプタン、リグロイ
ン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼ
ン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；メ
チレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロ
エタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハ
ロゲン化炭化水素類；蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プ
ロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル
類；ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエ
チレングリコールジメチルエーテルのようなエ−テル
類； メタノ−ル、エタノ−ル、n-プロパノ−ル、イソプロパ
ノ−ル、n-ブタノ−ル、イソブタノ−ル、t-ブタノ−
ル、イソアミルアルコ−ル、ジエチレングリコール、グ
リセリン、オクタノール、シクロヘキサノール、メチル
セロソルブ、のようなアルコ−ル類；アセトン、メチル
エチルケトン、メチルイソブチルケトン、イソホロン、
シクロヘキサノンのようなケトン類；ニトロエタン、ニ
トロベンゼンのようなニトロ化合物類；アセトニトリ
ル、イソブチロニトリルのようなニトリル類；ホルムア
ミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、
ヘキサメチルホスホロトリアミドのようなアミド類；ジ
メチルスルホキシド、スルホランのようなスルホキシド
類を挙げることができる。

【０３０３】使用される塩基としては、好適には、炭酸
ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウムのようなアル
カリ金属炭酸塩類；水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム、水酸化バリウム、水酸化リチウムのようなアルカリ
金属水酸化物類等の無機塩基類；トリエチルアミン、ト
リブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、N-メチ
ルモルホリン、ピリジン、4-(N,N- ジメチルアミノ) ピ
リジン、N,N-ジメチルアニリン、N,N-ジエチルアニリ
ン、1,5-ジアザビシクロ[4.3.0] ノナ-5- エン、1,4-ジ
アザビシクロ[2.2.2] オクタン(DABCO) 、1,8-ジアザビ
シクロ[5.4.0] ウンデク- 7-エン(DBU) のような有機塩
基類があげられ、好適には、アルカリ金属水酸化物、有
機塩基類（特にピリジン、Ｎ−メチルモルホリン、ＤＢ
Ｕ）である。反応終了後、たとえば、不溶物を濾去し、
溶剤を留去し、反応液を水に注ぎ、塩酸、硫酸などの無
機酸で酸性とし、水と混和しない溶剤、たとえばベンゼ
ン、エ−テル、酢酸エチルなどで抽出し、抽出液より溶
剤を留去することによって得られるものを、通常、その
まま次の工程に用いる。所望により、各種クロマトある
いは再結晶法により、単離精製することもできる。

【０３０４】（第８１工程） 本工程は、不活性溶剤中、化合物（３７）に塩基の存在
下、チオールを反応させて、化合物（４９）を製造する
工程である。

【０３０５】使用される溶剤としては、反応を阻害せ
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、好適には、ヘキサン、ヘプタン、リグロイ
ン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼ
ン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；メ
チレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロ
エタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハ
ロゲン化炭化水素類；蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プ
ロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル
類；ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエ
チレングリコールジメチルエーテルのようなエ−テル
類；メタノ−ル、エタノ−ル、n-プロパノ−ル、イソプ
ロパノ−ル、n-ブタノ−ル、イソブタノ−ル、t-ブタノ
−ル、イソアミルアルコ−ル、ジエチレングリコール、
グリセリン、オクタノール、シクロヘキサノール、メチ
ルセロソルブ、のようなアルコ−ル類；アセトン、メチ
ルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、イソホロ
ン、シクロヘキサノンのようなケトン類；ニトロエタ
ン、ニトロベンゼンのようなニトロ化合物類；アセトニ
トリル、イソブチロニトリルのようなニトリル類；ホル
ムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミ
ド、ヘキサメチルホスホロトリアミドのようなアミド
類；ジメチルスルホキシド、スルホランのようなスルホ
キシド類を挙げることができる。

【０３０６】使用される塩基としては、好適には炭酸ナ
トリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウムのようなアルカ
リ金属炭酸塩類；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、
水酸化バリウム、水酸化リチウムのようなアルカリ金属
水酸化物類等の無機塩基類；トリエチルアミン、トリブ
チルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、N-メチルモ
ルホリン、ピリジン、4-(N,N- ジメチルアミノ) ピリジ
ン、N,N-ジメチルアニリン、N,N-ジエチルアニリン、1,
5-ジアザビシクロ[4.3.0] ノナ-5- エン、1,4-ジアザビ
シクロ[2.2.2] オクタン(DABCO) 、1,8-ジアザビシクロ
[5.4.0] ウンデク- 7-エン(DBU) のような有機塩基類が
あげられ、好適には、アルカリ金属水酸化物、有機塩基
類（特にピリジン、Ｎ−メチルモルホリン、ＤＢＵ）で
ある。である。

【０３０７】反応終了後、たとえば、不溶物を濾去し、
溶剤を留去し、反応液を水に注ぎ、塩酸、硫酸などの無
機酸で酸性とし、水と混和しない溶剤、たとえばベンゼ
ン、エ−テル、酢酸エチルなどで抽出し、抽出液より溶
剤を留去することによって得られるものを、通常、その
まま次の工程に用いる。所望により、各種クロマトある
いは再結晶法により、単離精製することもできる。

【０３０８】（第８２工程） 本工程は、不活性溶剤中、化合物（４９）に塩基の存在
下、加水分解して、化合物（５０）を製造する工程であ
り、第６９工程と同様にして行うことができる。

【０３０９】（第８３工程） 本工程は、不活性溶剤中、化合物（４５）に塩基の存在
下、加水分解して、化合物（５１）を製造する工程であ
り、第６９工程と同様にして行うことができる。

【０３１０】（第８４工程） 本工程は、不活性溶剤中、塩基の存在下、化合物（３
０）にトリ置換シリルハライドを反応させて、化合物
（５２）を製造する工程であり、第４７工程と同様にし
て行うことができる。

【０３１１】なお、化合物（５１）を用い、第６３工程
乃至第６７工程及び６９工程を同様にして、対応するチ
オ化合物を製造することができる。

【０３１２】本発明の化合物を製造するのに使用される
カルボン酸ハライドは、市販のものを使用するほか、通
常、用いられるハロゲン化剤（チオニルクロリド、オキ
ザリルクロリド等）を使用して製造することができる。

【０３１３】（第８５工程） 本工程は、化合物（３７）に不活性溶剤中、シアン化物
を作用させて、本発明の目的化合物（５３）を得る工程
である。

【０３１４】使用される溶剤としては、反応を阻害しな
いものであれば、特に限定はないが、ヘキサン、ヘプタ
ン、リグロイン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素
類と水との混合溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレンの
ような芳香族炭化水素類と水との混合溶媒、ジエチルエ
−テル、ジイソプロピルエ−テル、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコ
ールジメチルエーテルのようなエ−テル類、酢酸エチ
ル、プロピオン酸エチルのようなエステル類と水との混
合溶媒があげられるが、好適には、エ−テル類あるいは
エステル類と水の混合溶媒があげられる。 反応を促進
させる物としては、有機塩基、無機塩基など特に限定は
ないが、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどのアル
カリ金属水酸化物、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなど
のアルカリ金属炭酸塩、ＮａＨ₂ ＰＯ₄ 、Ｎａ₂ ＨＰＯ
₄ などのアルカリ金属リン酸塩があげられる。

【０３１５】使用されるシアン化物としては、水に溶解
して、シアノイオンを生成するものであれば、特に限定
はないが、好適には、シアン化ナトリウム、シアン化カ
リウムのようなアルカリ金属のシアン化物があげられ
る。

【０３１６】反応温度は、−１０℃乃至１００℃であ
り、好適には０℃乃至４０℃である。反応時間は、化合
物、反応温度などにより変化するが、３０分乃至９６時
間であり、約５時間乃至２４時間である。本工程で得ら
れた化合物（５３）は種々の方法を適宜組み合わせるこ
とによって採取、分離、精製することができる。例えば
反応液を水に注ぎ、水と混和しない溶剤、たとえばベン
ゼン、エ−テル、酢酸エチルなどで抽出し、抽出液より
溶剤を留去することによって得られる。このようにして
得られた化合物は、必要ならば更に、例えば活性炭、シ
リカゲルなどの各種担体を用いる吸着またはイオン交換
クロマトグラフィー、あるいはセファデックスカラムに
よるゲル濾過、エ−テル、酢酸エチル、クロロホルムな
どの有機溶剤を用いての再結晶などにより行なわれる。

【０３１７】（第８６工程） 本工程は、不活性溶剤中、化合物（５３）に塩基の存在
下、加水分解して、化合物（５４）を製造する工程であ
り、第６９工程と同様にして行なうことができる。

【０３１８】

【化２４】

【０３１９】２’位のＣＮ基は、第８７や８８工程の方
法で互いに異性化することができる。

【０３２０】（第８７工程） 本工程は、不活性溶剤中、化合物（３α）に塩基の存在
下、加水分解して、化合物（３β）を製造する工程であ
る。

【０３２１】使用される溶剤としては、好適には、ヘキ
サン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルのような脂
肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレンのよう
な芳香族炭化水素類；ジエチルエ−テル、ジイソプロピ
ルエ−テル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメト
キシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルの
ようなエ−テル類と水との混合溶剤である。

【０３２２】使用される塩基としては、好適には、炭酸
ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウムのようなアル
カリ金属炭酸塩類；水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム、水酸化バリウム、水酸化リチウムのようなアルカリ
金属水酸化物類等の無機塩基類；トリエチルアミン、ト
リブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、N-メチ
ルモルホリン、ピリジン、4-(N,N- ジメチルアミノ) ピ
リジン、N,N-ジメチルアニリン、N,N-ジエチルアニリ
ン、1,5-ジアザビシクロ[4.3.0] ノナ-5- エン、1,4-ジ
アザビシクロ[2.2.2] オクタン(DABCO) 、1,8-ジアザビ
シクロ[5.4.0] ウンデク- 7-エン(DBU) のような有機塩
基類があげられ、好適には、アルカリ金属水酸化物、有
機塩基類（特にピリジン、Ｎ−メチルモルホリン、ＤＢ
Ｕ）である。反応終了後、たとえば、不溶物を濾去し、
溶剤を留去し、反応液を水に注ぎ、塩酸、硫酸などの無
機酸で酸性とし、水と混和しない溶剤、たとえばベンゼ
ン、エ−テル、酢酸エチルなどで抽出し、抽出液より溶
剤を留去することによって得られるものを、通常、その
まま次の工程に用いる。所望により、各種クロマトある
いは再結晶法により、単離精製することもできる。

【０３２３】（第８８工程） 本工程は、不活性溶剤中、化合物（１α）に塩基を作用
させて、異性化することにより、化合物（１β）を製造
する工程であり、第８７工程と同様にして行なうことが
できる。

【０３２４】

【発明の効果】本発明の化合物（１）はマウスに移植し
たＰ３８８細胞および種々の人癌に対して、強い抗腫瘍
活性を示す。また、経口吸収性もよく、低毒性であり、
副作用も緩和である。従って、新しいピリミジンヌクレ
オシド系の抗腫瘍剤として、腫瘍性疾患の治療または予
防に大変有用である。また、本発明の化合物（１）は優
れた抗腫瘍剤を製造するための中間体としても大変有用
である。本発明のピリミジンヌクレオシド誘導体は、人
を含む温血動物に対して使用される。その投与形態とし
ては、静脈内注射、皮下注射、筋肉内注射、座剤などに
よる非経口投与法、あるいは錠剤、カプセル剤、散剤、
顆粒剤、などによる経口投与法があげられる。

【０３２５】その成人に対する投与量は対象疾患、投与
経路および投与回数、期間などによって異なるが、通常
は１日0.01乃至５ｇを１回または数回に分けて投与す
る。

【０３２６】また、他の抗腫瘍剤、例えば５Ｆｕ、Ａｒ
ａＣ、ＡＣＮＵ、ＢＣＮＵなどのニトロソウレア系の薬
剤、シスプラチン、ダウノマイシン、アドリアマイシ
ン、マイトマイシンＣまたはエトポシドなどと併用して
もよい。更に、ピリミジンヌクレオシド誘導体は任意慣
用の方法で投与用に調製することができる。従って、本
発明は医薬として好適なピリミジンヌクレオシド誘導体
を含有する製剤、組成物をも包含するものである。

【０３２７】注射用組成物は単位投与量アンプルまたは
多投与量容器中で提供される。組成物は懸濁化剤、安定
化剤、分散剤のような添加剤を含んでいてもよく、通常
は使用する前に適当な溶媒、例えば発熱物質を含まない
滅菌水性媒体で再溶解せしめる粉末であってもよい。こ
のような製剤は例えばピリミジンヌクレオシド誘導体を
アセトンに溶解して、バイアルに分注し、水を加えて凍
結乾燥することによって調製される。更に経口用組成物
は投与に適当な量のピリミジンヌクレオシド誘導体を含
有する錠剤、カプセル剤、散剤、顆粒剤、シロップ剤な
どによって提供される。

【０３２８】以下に、実施例をあげて本発明を更に具体
的に説明する。なお、実施例中、１，１，３，３−テト
ライソプロピルジシロキサン−１，３−ジイルを、TIPD
S と略記する。

【０３２９】（実施例１）２’−シアノ−２’−デオキシ−Ｎ ⁴ −パルミトイル−
１−β−Ｄ−アラビノフラノシルシトシン （１ａ）２’−シアノ−２’−デオキシ−１−β−Ｄ−
アラビノフラノシルシトシン（ＣＮＤＡＣ） ＣＮＤＡＣ・１塩酸塩（8.66ｇ、３０mmol）を水５０ml
に溶かし、Dowex １×２（ＣＨ₃ ＣＯＯ^- 型）樹脂９０
mlをつめたカラムを通し、水３００mlで洗って、流出液
と洗液を合せて凍結乾燥し、白色粉末として目的物7.23
ｇ（95.5％）を得た。

【０３３０】¹H-NMR（270MHz in d₆-DMSO)δppm ：7.28
(1H,bs), 7.23(1H,bs), 7.83(1H,d,J=7.8Hz), 6.17(1H,
d,J=7.3Hz), 5.77(1H,d,J=7.3), 4.36-4.44(1H,m), 3.5
6-3.80(4H,m), 6.17(1H,d,J=5.9Hz), 5.12-5.16(1H,m) （１ｂ）２’−シアノ−２’−デオキシ−３’，５’−
Ｏ−TIPDS −１−β−Ｄ−アラビノフラノシルシトシン 化合物１ａ（5.045 ｇ、 ２０mmol）をピリジンで３回共
沸して乾燥したのちに、２００mlのピリジンに懸濁し
た。ここに、１，１，３，３−ジクロロテトライソプロ
ピルジシロキサンジクロリド（6.7 ml, ２１mmol）を加
え、Ｎ₂ 気流下、室温で１７時間撹拌した。減圧下に溶
媒を約半分留去して濃縮したのちに２００mlの酢酸エチ
ルで希釈した。２００mlづつの飽和炭酸水素ナトリウム
水で２回洗浄したのちに有機層を無水硫酸マグネシウム
で乾燥し、減圧下に溶媒を留去した。トルエン及びメタ
ノールを用いて共沸したのちに11.21 ｇの残渣を得た。
これを３００ｇ（２３０−４００mesh）のシリカゲルを
つめたカラムにアプライし、５％メタノール−塩化メチ
レンで溶出することにより目的物を8.67ｇ（８７％）得
た。

【０３３１】¹H-NMR（270MHz,CDCl₃) δppm ：7.69(1H,
d,J=7.26Hz), 6.31(1H,d,J=7.26Hz), 5.74(1H,d,J=7.26
Hz), 4.64(1H,dd,J=7.26Hz), 4.15-4.04(2H,m), 3.84(1
H,dt,J=7.26,3.30Hz), 3.67(1H,dd,J=7.26Hz), 1.15-0.
93(28H,m) （１ｃ）２’−シアノ−２’−デオキシ−Ｎ ⁴ −パルミ
トイル−３’，５’−Ｏ−TIPDS −１−β−Ｄ−アラビ
ノフラノシルシトシン 化合物１ｂ(1.48 ｇ, ３mmol）とパルミチン酸(3.07
ｇ, １２mmol）をベンゼン５０mlを用いて共沸乾燥し
た。テトラヒドロフラン３０mlに溶かした後、2.47ｇ
（１２mmol）のＤＣＣと１２０mg（0.9mmol ）のジメチ
ルアミノピリジンを加え、Ｎ₂ 雰囲気下、５０℃で2.5
時間加熱撹拌した。不溶物を濾去後、溶媒を留去し、残
査を酢酸エチル（１００ml）と５％炭酸水素ナトリウム
水（５０ml）に溶かし、分液後、飽和食塩水５０mlで洗
浄後、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧
下に溶媒を留去して得た残査をシリカゲルカラムと１％
のメタノールを含む塩化メチレンを用いて精製し、1.85
ｇの目的化合物（１ｃ）をカラメル状物質として得た。

【０３３２】¹H-NMR（270MHz in d₆-DMSO)δppm ：8.02
(1H,d,J=7.82Hz) 7.30(1H,d,J=7.32Hz), 6.21(1H,d,J=
7.83Hz), 3.42(1H,d,J=3.92Hz), 4.69(1H,s), 3.98(1H,
d,J=2.45Hz), 4.22(2H,m), 10.94(1H,s), 2.4(2H,t,J=
7.32Hz), 1.53(2H,s), 0.82-1.23(55H) （１ｄ）２’−シアノ−２’−デオキシ−Ｎ ⁴ −パルミ
トイル−１−β−Ｄ−アラビノフラノシルシトシン 化合物（１ｃ）4.0 ｇ（5.45mmol）をモレキュラーシー
ブ３Ａで乾燥したテトラヒドロフラン６０mlに溶かし、
氷冷下に撹拌しながら酢酸0.31ml（5.45mmol）、テトラ
−ｎ−ブチルアンモニウムフロリド2.84ｇ（10.9mmol）
を加えた。Ｎ₂雰囲気下に４０分間撹拌した。反応液を
濃縮乾固し、残査を塩化メチレン１００mlと飽和食塩水
５０mlに溶かし、分液し、有機層をさらに５０mlの飽和
食塩水で洗い、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を
減圧下に留去してカラメル状残査を得た。この残査をシ
リカゲルカラムにアプライし、４％のメタノールを含む
塩化メチレンで溶出し、主ピークを集めて濃縮乾固し、
メタノールから結晶化して、2.25ｇの白色粉末状物質と
して化合物（１ｄ）を得た。

【０３３３】¹H-NMR（270MHz in d₆-DMSO)δppm ：10.9
1(1H,s), 8.36(1H,d,J=7.8Hz), 7.29(1H,d,J=7.8Hz),
6.21(1H,d,J=7.3Hz), 4.43(1H,m), 3.61-3.93(4H,m),
6.25(1H,d,J=5.4Hz), 5.22(1H,bs), 2.40(2H,t,J=7.3H
z), 1.54(2H,t,J=6.8Hz), 1.24(24H,s), 0.83-0.88(3H,
m) （実施例２）２’−シアノ−２’−デオキシ−Ｎ ⁴ −パルミトイル−
１−β−Ｄ−アラビノフラノシルシトシン 化合物（１ａ）を12.9ｇ（51.1mmol）とパルミチン酸無
水物38.1ｇ（76.7mmol）を1000ml用ナス型フラスコにと
り、ＤＭＦ５１mlを加えて湿気を断って１００℃の油浴
上で２０分間加熱撹拌した。ＴＬＣ（５％MeOH-CH₂Cl
₂ ）で出発物質が消失した事を確かめてから、ジイソプ
ロピルエーテル５１３mlを撹拌しながら加えて、氷冷下
に１時間放置後、不溶物を濾取した。この不溶物をｎ−
プロパノール５１３mlに加熱撹拌下に完全に溶解し、冷
蔵庫に一夜放置して白色粉末状結晶として目的物18.0ｇ
を得た。

【０３３４】（実施例３）２’−シアノ−２’−デオキシ−Ｎ ⁴ −パルミトイル−
１−β−Ｄ−アラビノフラノシルシトシン ＣＮＤＡＣ・１塩酸塩２９０mg（１mmol）をピリジンに
溶かし、ピリジン共沸を３回行い、再びピリジンに溶か
した後、氷冷下トリメチルシリルクロライド0.65ml（５
mmol）を加えた。氷冷下３０分間撹拌後、パルミトイル
クロライド1.53ml（５mmol）を加えた。室温にて５時間
撹拌後、氷冷下水２mlを加え、室温にて２時間撹拌し
た。溶媒を留去し、残査に水、ピリジン、塩化メチレン
を１：２：２の比で加え、有機層を分離し、水洗を行っ
た。硫酸マグネシウムにて乾燥した後、溶媒を留去し
た。残査を塩化メチレン：メタノール＝９６：４の混液
に溶かし、シリカゲルカラムにアプライし、クロマト精
製した。同混液で溶出し、目的物を0.44ｇ得た。

【０３３５】（実施例４）２’−シアノ−２’−デオキシ−Ｎ ⁴ −パルミトイル−
β−Ｄ−アラビノフラノシルシトシン （４ａ）Ｎ ⁴ −パルミトイルシチジン シチジン24.3ｇ（１００mmol）と、パルミチン酸無水物
54.34 ｇ（１１０mmol）をナス型フラスコにとり、Ｎ，
Ｎ−ジメチルホルムアミド６０mlを加え油浴上で１００
℃、４時間撹拌した後、室温にて撹拌下にｎ−プロピル
エーテル５００mlを加えて、生じた結晶を濾取した。

【０３３６】この結晶をｎ−プロパノール５００mlより
再結晶を行い、生じた結晶を濾取しデシケーターにて乾
燥後、目的物を白色結晶として44.85 ｇ得た。

【０３３７】¹H-NMR（270MHz in d₆-DMSO)δppm ：8.40
(1H,d,J=7.32Hz), 7.20(1H,d,J=7.33Hz), 5.76(1H,d,J=
2.44Hz), 3.56-3.76(2H,m), 3.90(1H,s), 3.95(2H,t,J=
4.88Hz), 5.45(1H,s), 5.08(2H,d,J=29.78Hz), 10.81(1
H,s) （４ｂ）３’５’−Ｏ−TIPDS −Ｎ ⁴ −パルミトイル−
１−β−Ｄ−リボフラノシルシトシン 化合物（４ａ）10.11 ｇ（２１mmol）をピリジン１０５
mlに溶かし１，１，３，３−テトライソプロピルジシロ
キサンジクロリド6.71ml（２１mmol）を加え、室温で２
１時間撹拌した。炭酸ナトリウム2.225 ｇ（２１mmol)
、炭酸水素ナトリウム1.76ｇ（２１mmol）を加え、メ
タノール１０mlを加え、反応液を濃縮乾固した。さらに
エタノールで２回、トルエンを加え３回濃縮乾固を行っ
た。酢酸エチル１００mlを加え、超音波洗浄器上に放置
し、冷蔵庫に一夜放置した。この不溶物を濾去し、濾液
を濃縮乾固し、１７ｇの粗製物を得た。これをシリカゲ
ルカラムクロマトにアプライし、展開溶媒として、塩化
メチレン及び１％メタノールを含む塩化メチレンを用い
て精製した。主ピークを集めて濃縮乾固し、目的物を無
色のカラメル状物質として14.5ｇ得た。

【０３３８】¹H-NMR（270MHz in d₆-DMSO)δppm ：8.12
(1H,d,J=7.33Hz), 7.22(1H,d,J=7.33Hz), 5.59(1H,s),
4.24(1H,s), 4.19(1H,s), 3.95(1H,s), 4.05(2H,q,J=6.
35,7.32Hz), 10.84(1H,m), 2.37(2H,t,J=7.3Hz), 1.52
(2H,s), 0.82-1.23(55H) （４ｃ）１−（３，５−Ｏ−TIPDS −β−Ｄ−エリスロ
ペントフラン−２−ウロシル）−Ｎ ⁴ −パルミトイルシ
トシン 無水塩化メチレン５０mlにピリジニウムジクロメート7.
41ｇ（19.71 mmol）とモレキュラーシーブ（３Ａ）６
ｇ、と無水酢酸1.86ml（19.71mmol)を加え３０分撹拌し
た後、塩化メチレン３０mlに溶かした4.76ｇ（6.57mmo
l）の化合物（４ｂ）を加えた。室温７時間撹拌後、酢
酸エチル１００mlを加え不溶物濾去し、濾液を0.5 規定
塩酸、飽和食塩水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽
和食塩水各５０mlで洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾
燥し、濃縮乾固して、目的化合物を粗製物として4.19ｇ
得た。

【０３３９】¹H-NMR（270MHz in d₆-DMSO)δppm ：8.14
(1H,d,J=7.32Hz), 7.26(1H,d,J=7.33Hz), 6.09(1H,d,J=
7.32Hz), 5.06(1H,d,J=8.3Hz), 3.93-4.03(3H,m ), 3.9
3-4.03(3H,m), 10.9(1H,d,J=18.07Hz), 2.39(2H,q,J=1
3.18,13.19Hz), 1.51(2H,d,J=5.86Hz), 0.82-1.23(55H) （４ｄ）２’−シアノ−３’，５’−Ｏ−TIPDS −Ｎ ⁴
−パルミトイル−１−β−Ｄ−リボフラノシルシトシン 化合物（４ｃ）33.83 ｇ（46.84mmol ）を酢酸エチル２
４３mlに溶かし、撹拌下、リン酸二水素ナトリウム二水
和物１モル水溶液１２１ml及び青酸ナトリウム4.47ｇを
加えた。４時間３０分室温ではげしく撹拌した。有機層
を分離後、飽和食塩水１００mlで３回洗浄して、無水硫
酸マグネシウムで乾燥した。乾燥剤を濾去し、濾液を濃
縮乾固し、化合物（４ｄ）を粗製物として35.57 ｇ得
た。

【０３４０】¹H-NMR（270MHz in d₆-DMSO)δppm ：7.82
(1H,d,J=7.32Hz), 7.23-7.32(1H,m), 6.33(1H,s), 4.24
(1H,t,J=7.32Hz), 7.68(1H,s), 3.92-4.13(3H,m), 10.9
7(1H,d,J=9.76Hz), 2.37-2.42(2H,m), 1.53(2H,t,J=5.6
1Hz), 0.82-1.23(55H,m) （４ｅ）２’−シアノ−３’，５’−Ｏ−TIPDS −Ｎ ⁴
−パルミトイル−２’−フェノキシチオカルボニルオキ
シ−β−Ｄ−リボフラノシルシトシン 化合物（４ｄ）31.57 ｇ（4mmol ）を塩化メチレン２５
０mlに溶かし、氷冷下にＮ₂ ガスを通じながらジメチル
アミノピリジン１２３mg（1.01mmol）、フェノキシチオ
カルボニルクロリド8.74ml（63.21mmol ）、トリエチル
アミン8.81ml(63.21mmol) を加え、撹拌した。６時間
後、反応液を飽和食塩水１００mlで３回洗浄し、無水硫
酸マグネシウムで乾燥した。乾燥剤を濾去し、濾液を濃
縮乾固して目的化合物を粗製物として39.37 ｇ得た。

【０３４１】¹H-NMR（270MHz in d₆-DMSO)δppm ：7.98
(1H,d,J=7.32Hz), 6.97(1H,d,J=7.32Hz), 6.81(1H,s),
4.03-4.21(4H,m), 11.08(1H,s), 7.29(5H,m), 2.41-2.
48(2H,m), 1.54(2H,d,J=6.35Hz), 0.82-1.22(55H) （４ｆ）２’−シアノ−２’−デオキシ−Ｎ ⁴ −パルミ
トイル−３’，５’−TIPDS −β−Ｄ−アラビノフラノ
シルシトシン 化合物（４ｅ）３７ｇ（41.79mmol ）をトルエン２１０
mlに溶かしＮ₂ ガスを通じながら、アゾビスイソブチロ
ニトリル1.029 ｇ（6.268mmol)、トリブチル錫ヒドリド
16.88ml(62.68mmol)を加え、１００℃のオイルバス上で
３時間３０分加熱還流した。反応液を減圧下に濃縮乾固
し塩化メチレンに溶かしてシリカゲルクロマトにアプラ
イした。塩化メチレンから２％メタノール・塩化メチレ
ンで展開して、目的化合物をカラメル状物質として16.3
3 ｇ得た。

【０３４２】（４ｇ）２’−シアノ−２’−デオキシ−
Ｎ ⁴ −パルミトイル−β−Ｄ−アラビ ノフラノシルシト
シン 実施例１の１ｄと同様にして目的物を得た。

【０３４３】（実施例５）２’−シアノ−２’−デオキシ−５’−Ｏ−パルミトイ
ル−１−β−Ｄ−アラビノフラノシルシトシン （５ａ）Ｎ ⁴ −ベンジルオキシカルボニル−２’−シア
ノ−２’−デオキシ−１−β−Ｄ−アラビノフラノシル
シトシン ＣＮＤＡＣ2.89ｇ（１０mmol）をピリジンに溶かし、ピ
リジン共沸を行い、再びピリジン５０mlに溶かした。氷
冷下、トリメチルシリルクロライド6.32ml（５０mmol）
を少量ずつ加え、室温にて１時間撹拌した。３０〜３５
％カルボベンゾキシクロライド−トルエン溶液24.4ml
（５０mmol）を氷冷下滴下し、室温にて撹拌後、一夜放
置した。氷冷下、水２０mlを加え、室温にて２時間撹拌
後塩化メチレンを加え、有機層を飽和食塩水にて３回洗
浄を行った。無水硫酸マグネシウムにて乾燥後、溶媒を
留去した。残査をシリカゲルクロマトにより精製した。
塩化メチレン：メタノール＝９６：４の混液で溶出し、
目的物1.72ｇを得た。

【０３４４】¹H-NMR（270MHz in d₆-DMSO)δppm ：10.9
2(1H,s), 8.36(1H,d,J=7.3Hz), 7.11(1H,d,J=7.3Hz),
6.21(1H,d,J=6.8Hz), 4.40-4.47(1H,m), 3.63-3.93(4H,
m), 6.25(1H,d,J=5.4Hz), 5.24(1H,d,J=5.4Hz), 7.34-
7.44(5H,m), 5.20(2H,s) （５ｂ）Ｎ ⁴ −ベンジルオキシカルボニル−２’−シア
ノ−２’−デオキシ−５’−Ｏ−ジメトキシトリチル−
１−β−Ｄ−アラビノフラノシルシトシン 化合物（５ａ）1.70ｇ（4.40mmol) をピリジンに溶か
し、共沸を行った後、再びピリジン５０mlに溶かした。
ジメトキシトリチルクロライド2.16ｇ（6.60mmol) を加
え、室温にて窒素気流中下、６時間撹拌し、一夜放置し
た。ジメトキシトリチルクロライド0.72ｇ（2.20mmol)
を追加し、１時間撹拌した。溶媒を留去し、酢酸エチル
に溶かし、飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥し、溶媒を留去した。残査をシリカゲルクロマ
トにより精製した。塩化メチレン：メタノール＝９８：
２の混液で溶出し、目的物2.37ｇを得た。

【０３４５】¹H-NMR（270MHz in d₆-DMSO)δppm ：10.9
5(1H,s), 8.24(1H,d,J=7.3Hz), 6.27(1H,d,J=7.3Hz),
4.57-4.62(1H,m), 3.94-3.98(2H,m), 3.42(2H,dd,J=4.
4,11.0Hz), 6.38(1H,d,J=5.9Hz), 7.25-7.43(9H,m), 6.
90-6.96(5H,m), 5.20(2H,s,),3.75(6H,s) （５ｃ）Ｎ ⁴ −ベンジルオキシカルボニル−３’−Ｏ−
ｔ−ブチルジメチルシリル−２’−シアノ−２’−デオ
キシ−１−β−Ｄ−アラビノフラノシルシトシン 化合物（５ｂ）3.27ｇ（4.75mmol) をＤＭＦ１５０mlに
溶かし、ｔ−ブチルジメチルシリルクロライド6.41ｇ
（42.52mmol)及びイミダゾール3.29ｇ（48.3mmol）を加
え、窒素気流中下、室温にて４時間撹拌し、一夜放置し
た。溶媒を留去し、酢酸エチルに溶かし、飽和食塩水で
洗い、無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。溶媒を留去
し、残査に塩化メチレン５０mlを加え、不溶物を濾去
後、濾液に氷冷下４％トリフルオロ酢酸−塩化メチレン
溶液５０mlを滴下した。氷冷下２時間撹拌後、飽和炭酸
水素ナトリウム水溶液１５０mlを加え、１５分間撹拌し
た。有機層を分離し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、
飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し
た。溶媒を留去し、残査をシリカゲルクロマトにより精
製した。塩化メチレン：メタノール＝９８：２の混液で
溶出し、目的物1.77ｇを得た。

【０３４６】¹H-NMR（270MHz in d₆-DMSO)δppm ：10.9
4(1H,s), 8.33(1H,d,J=7.8Hz), 7.13(1H,d,J=7.8Hz),
6.23(1H,d,J=7.3Hz), 4.61(1H,t,J=7.3Hz), 3.99-4.04
(1H,m), 3.56-3.89(3H,m), 0.88(9H,s), 0.14-0.15(6H,
m) （５ｄ）Ｎ ⁴ −ベンジルオキシカルボニル−３’−Ｏ−
ｔ−ブチルジメチルシリル−２’−シアノ−２’−デオ
キシ−５’−Ｏ−パルミトイル−１−β−Ｄ−アラビノ
フラノシルシトシン 化合物（５ｃ）1.75ｇ（3.58mmol）をピリジン共沸を行
った後、ピリジン５０mlに溶かし、パルミトイルクロラ
イド0.96ml、ジメチルアミノピリジン８７mg（0.72mmo
l) を加え、室温にて６時間撹拌し、パルミトイルクロ
ライド0.96mlを追加し室温にて一夜放置した。溶媒を留
去し、酢酸エチルに溶かし、0.1 規定塩酸、飽和炭酸水
素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マ
グネシウムにて乾燥した。溶媒を留去し、残査をシリカ
ゲルクロマトにより精製した。塩化メチレン：メタノー
ル＝98.4：1.6 の混液で溶出し、目的物1.71ｇを得た。

【０３４７】¹H-NMR（270MHz in d₆-DMSO)δppm ：10.9
8(1H,s), 8.07(1H,d,J=7.8Hz), 7.15(1H,d,J=7.8Hz),
6.27(1H,d,J=7.8Hz), 4.68(1H,t,J=7.3Hz), 4.02-4.38
(4H,m), 7.34-7.43(5H,m), 5.20(2H,s), 2.35-2.40(2H,
m), 1.51-1.56(2H,m), 1.22(24H,s), 0.82-0.88(12H,
m), 0.13-0.16(6H,m) （５ｅ）Ｎ ⁴ −ベンジルオキシカルボニル−２’−シア
ノ−２’−デオキシ−５’−Ｏ−パルミトイル−１−β
−Ｄ−アラビノフラノシルシトシン 化合物（５ｄ）1.69ｇ（2.29mmol）をＴＨＦ３５mlに溶
かし、窒素気流中下、氷冷下、酢酸0.13ml（2.29mmo
l）、テトラブチルアンモニウムフルオライド1.22ｇ
（4.65mmol) を加え、氷冷下２時間撹拌した。溶媒を留
去し、残査をシリカゲルクロマトにより精製した。塩化
メチレン：メタノール＝９７：３の混液で溶出し、目的
物1.06ｇを得た。

【０３４８】¹H-NMR（270MHz in d₆-DMSO)δppm ：10.9
7(1H,s), 8.07(1H,d,J=7.8Hz), 7.14(1H,d,J=7.3Hz),
6.22(1H,d,J=7.3Hz), 3.92-4.48(1H,m), 3.92-4.48(5H,
m), 7.32-7.43(5H,m), 6.39(1H,d,J=4.9Hz), 5.20(2H,
s), 2.35(2H,t,J=7.3Hz), 1.50-1.55(2H,m), 1.22(24H,
bs), 0.82-0.87(3H,m) （５ｆ）２’−シアノ−２’−デオキシ−５’−Ｏ−パ
ルミトイル−１−β−Ｄ−アラビノフラノシルシトシン 化合物（５ｅ）1.00ｇ（1.60mmol）を酢酸５０mlに溶か
し、５％パラジウムカーボン１００mgを加え、水素ガス
存在下、室温にて３時間撹拌した。触媒を濾去し、濾液
の溶媒を留去し、エタノール共沸を行った。残査を塩化
メチレン−エタノール混液に溶かし、メンブランフィル
ターにて濾過を行い濾液を留去後、ベンゼンより凍結乾
燥を行って目的化合物５６３mgを白色粉末として得た。

【０３４９】（実施例６）Ｎ ⁴ −アセチル−２’−シアノ−２’−デオキシ−５’
−Ｏ−パルミトイル−１−β−Ｄ−アラビノフラノシル
シトシン （６ａ）Ｎ ⁴ −アセチル−２’−シアノ−２’−デオキ
シ−５’−Ｏ−ジメトキシトリチル−１−β−Ｄ−アラ
ビノフラノシルシトシン Ｎ⁴ −アセチル−ＣＮＤＡＣ1.0 ｇ（3.398mmol)をピリ
ジン２５mlにできるだけ溶かし、ジメトキシトリチルク
ロライド1.73ｇ（5.097mmol)を加え、室温にて撹拌後、
一夜放置した。溶媒を留去し、酢酸エチル、水を加え、
有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムに
て乾燥した。溶媒を留去し、残査をシリカゲルクロマト
により精製した。塩化メチレン：メタノール＝９５：５
の混液で溶出し、目的物を主に含むフラクション1.90ｇ
を得た。

【０３５０】¹H-NMR（270MHz in d₆-DMSO)δppm ：10.9
6(1H,s), 8.23(1H,d,J=7.8Hz), 6.28(1H,d,J=7.3Hz),
7.11(1H,d,J=7.8Hz), 4.57-4.62(1H,m), 3.93-3.99(1H,
m),3.31-3.41(2H,m), 6.37(1H,d,J=5.9Hz), 7.24-7.41
(10H,m), 6.88-6.92(5H,m), 3.75(6H,s), 2.11(3H,s) （６ｂ）Ｎ ⁴ −アセチル−３’−Ｏ−ｔ−ブチルジメチ
ルシリル−２’−シアノ−２’−デオキシ−１−β−Ｄ
−アラビノフラノシルシトシン 化合物（６ａ）1.90ｇ（3.18mmol）をＤＭＦ１５０mlに
溶かし、ｔ−ブチルジメチルシリルクロライド4.22ｇ
（２８mmol）及びイミダゾール2.17ｇ（31.84mmol)を加
え、室温にて７時間撹拌後、一夜放置した。溶媒を留去
し、残査に８０％酢酸／水混液を加え、１５分間加熱還
留した。溶媒を留去し酢酸エチルに溶かし、飽和炭酸水
素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗った。無水硫酸マ
グネシウムで乾燥後、溶媒を留去した。残査をシリカゲ
ルクロマトにより精製した。塩化メチレン：メタノール
＝９９：１の混液で溶出し、目的物0.89ｇを得た。

【０３５１】¹H-NMR（270MHz in d₆-DMSO)δppm ：10.9
6(1H,s), 8.33(1H,d,J=7.8Hz), 7.27(1H,d,J=7.8Hz),
6.24(1H,d,J=7.3Hz), 4.61(1H,t,J=7.3Hz),4.01(1H,t,J
=7.3Hz), 3.56-3.89(3H,m), 5.26-5.30(1H,m), 2.11(3
H,s), 0.89(9H,s), 0.12-0.15(6H,m) （６ｃ）Ｎ ⁴ −アセチル−３’−Ｏ−ｔ−ブチルジメチ
ルシリル−２’−シアノ−２’−デオキシ−５’−Ｏ−
パルミトイル−１−β−Ｄ−アラビノフラノシルシトシ
ン 化合物（６ｂ）0.60ｇ（1.47mmol）をピリジン３０mlに
溶かし、氷冷下パルミトイルクロライド0.90ml（2.94mm
ol）を加え、室温にて3.5 時間撹拌した。溶媒を留去
し、酢酸エチル、水を加え有機層を分離し、0.1 規定塩
酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗
い、無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。溶媒を留去
し、残査をシリカゲルクロマトにより精製した。塩化メ
チレン：メタノール＝９７：３の混液で溶出し、目的物
0.35ｇを得た。

【０３５２】¹H-NMR（270MHz in d₆-DMSO)δppm ：10.9
9(1H,s), 8.08(1H,d,J=7.8Hz), 7.30(1H,d,J=7.8Hz),
6.27(1H,d,J=7.8Hz), 4.02-4.09(1H,m), 4.69(1H,t,J=
7.3Hz), 4.02-4.09(1H,m), 4.22-4.38(2H,m), 2.37(2H,
t,J=7.3Hz), 2.12(3H,s), 1.51-1.56(2H,m), 1.23(24H,
s), 0.83-0.88(12H,m), 0.14(6H,d,J=8.3Hz) （６ｄ）Ｎ ⁴ −アセチル−２’−シアノ−２’−デオキ
シ−５’−Ｏ−パルミトイル−１−β−Ｄ−アラビノフ
ラノシルシトシン 化合物（６ｃ）の0.23ｇ（0.356mmol ）をＴＨＦ５mlに
溶かし、窒素気流中、氷冷下、酢酸0.02ml（0.356mmol
）、テトラブチルアンモニウムフルオライド１８６mg
（0.711mmol ）を加え、氷冷下２時間撹拌した。溶媒を
留去し、残査をシリカゲルクロマトにより精製した。塩
化メチレン：メタノール＝９７：３で溶出し、ベンゼン
より結晶化を行い、目的物１７６mgを得た。

【０３５３】¹H-NMR（270MHz in d₆-DMSO)δppm ：10.9
8(1H,s), 8.07(1H,d,J=7.8Hz), 7.29(1H,d,J=7.3Hz),
6.23(1H,d,J=7.3Hz), 3.92-4.51(4H,m), 6.38(1H,d,J=
5.9Hz), 2.35(2H,t,J=7.3Hz), 2.11(3H,s), 1.50-1.55
(2H,m), 1.22(24H,s), 0.83-0.88(3H,m) （実施例７）２’−シアノ−２’−デオキシ−３’−Ｏ−パルミトイ
ル−１−β−Ｄ−アラビノフラノシルシトシン （７ａ）２’−シアノ−２’−デオキシ−Ｎ ⁴ ，５’−
Ｏ−ジ−ジメトキシトリチル−１−β−Ｄ−アラビノフ
ラノシルシトシン ＣＮＤＡＣ・１塩酸塩2.0 ｇ（6.93mmol）をピリジン共
沸を行い、ピリジン５０mlに溶かし、ジメトキシトリチ
ルクロライド3.52ｇ（10.4mmol）を加えた。窒素気流中
下、室温にて２時間撹拌後、溶媒を留去した。残査を酢
酸エチルに溶かし、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグ
ネシウムにて乾燥した。溶媒を留去し、残査をシリカゲ
ルクロマトにより精製した。塩化メチレン：メタノール
＝９５：５の混液で溶出し目的物2.5 ｇを得た。

【０３５４】¹H-NMR（270MHz in d₆-DMSO)δppm ：8.50
(1H,bs), 7.65(1H,d,J=7.3Hz), 7.10-7.37(1H,m), 6.15
(1H,d,J=7.3Hz), 4.47-4.49(1H,m), 3.81-3.84(2H,m),
3.28(2H,bs), 6.23(1H,d,J=6.8Hz), 7.10-7.37(16H,m),
6.81-6.91(10H,m), 3.72-3.74(12H,m) （７ｂ）２’−シアノ−２’−デオキシ−３’−Ｏ−パ
ルミトイル−１−β−Ｄ−アラビノフラノシルシトシン 化合物（７ａ）の2.12ｇ（2.47mmol）をピリジン１００
mlに溶かし、パルミトイルクロライド1.90ml（6.18mmo
l）、ジメチルアミノピリジン６０mg（0.49mmol）を加
え、室温にて４時間撹拌した後パルミトイルクロライド
0.38ml（1.24mmol）、ジメチルアミノピリジン２０mg
（0.07mmol) を追加した。室温にて2.5 時間撹拌後、溶
媒を留去した。残査を酢酸エチルに溶かし、飽和食塩水
で洗浄し、無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。溶媒を
留去し、残査に９０％酢酸−水１４０mlを加え６０℃で
１時間加熱した。溶媒を留去し、残査をシリカゲルクロ
マトにより精製した。塩化メチレン：メタノール＝９
０：１０の混液で溶出し、目的物を含むフラクションを
集め、溶媒を留去し、残査0.85ｇを６ｍｌのメタノール
から再結晶し、目的物の結晶２７０mgを得た。

【０３５５】¹H-NMR（270MHz in d₆-DMSO)δppm ：7.32
(1H,bs), 7.27(1H,bs), 7.82(1H,d,J=7.3Hz), 6.12(1H,
d,J=6.8Hz), 5.79(1H,d,J=7.3Hz), 5.40-5.44(1H,m),
4.03-4.12(1H,m), 4.03-4.12(1H,m), 3.57-3.75(2H,m),
5.18-5.22(1H,m), 2.34-2.39(2H,t,J=7.3Hz), 1.51-1.
56(2H,t,J=6.8Hz), 1.24(24H,s), 0.83-0.89(3H,m) （実施例８）２’−シアノ−２’−デオキシ−３’，５’−ジ−Ｏ−
パルミトイル−１−β−Ｄ−アラビノフラノシルシトシ
ン （８ａ）２’−シアノ−２’−デオキシ−Ｎ ⁴ −（２，
２，２−トリクロロエチルオキシカルボニル）−１−β
−Ｄ−アラビノフラノシルシトシン ＣＮＤＡＣ・１塩酸塩（2.00ｇ）をピリジン（３５ml）
に溶かし、窒素雰囲気下、０℃でトリメチルクロロシラ
ン（4.42ml）を加え２時間撹拌後、クロロギ酸２，２，
２−トリクロロエチル（4.65ml）を加え、室温で一夜撹
拌した。反応混合物に水（１５ml）を加え、２時間撹拌
した後、塩化メチレンで抽出した。有機層を無水硫酸マ
グネシウムで乾燥後、減圧下に溶媒を留去した。残査を
シリカゲルカラムクロマトグラフィーにかけ、塩化メチ
レン−メタノール（９５：５）で流出したフラクション
から目的物2.35ｇを得た。

【０３５６】¹H-NMR（270MHz in CD₃OD-CDCl₃)δppm ：
8.48(1H,d,J=8Hz), 7.37(1H,d,J=8Hz), 6.27(1H,d,J=7H
z), 4.61(1H,t,J=7Hz), 3.7-4.1(4H,m),3.7-4.1(4H,m),
3.7-4.1(4H,m), 4.92(2H,s) （８ｂ）２’−シアノ−２’−デオキシ−３’，５’−
ジ−Ｏ−パルミトイル−Ｎ ⁴ −（２，２，２−トリクロ
ロエトキシカルボニル）−１−β−Ｄ−アラビノフラノ
シルシトシン 化合物（８ａ）５４２mgをテトラヒドロフラン１６mlに
溶かし、４−ジメチルアミノピリジン７mg、ジシクロヘ
キシルカルボジイミド５７５mg、パルミチン酸７１６mg
を加え、窒素雰囲気下、室温で7.5 時間撹拌した。さら
にパルミチン酸３６６mg、ジシクロヘキシルカルボジイ
ミド２６３mgを加え、室温で一夜撹拌した後、さらにパ
ルミチン酸１６３mg、ジシクロヘキシルカルボジイミド
１３２mgを加え、４時間撹拌した。生じた沈殿を濾過し
て除き、減圧下に溶媒を留去した残渣をテトラヒドロフ
ランに溶かし、生じた沈殿を濾過して除いた。減圧下に
溶媒を留去した残渣を酢酸エチルに溶かし、生じた沈殿
をろ過して除いた後、ろ液を0.1N-HCl、飽和食塩水で洗
い、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下に溶媒を留
去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに
かけ、シクロヘキサン−酢酸エチル（３：１）で溶出し
たフラクションを集め、溶媒を留去して、目的化合物７
００mgを得た。

【０３５７】¹H-NMR（270MHz in CDCl₃)δppm ：8.03(1
H,d,J=7Hz), 7.35(1H,d,J=7Hz), 6.15(1H,d,J=5Hz), 5.
43(1H,d,J=2Hz), 4.03(1H,d,J=5Hz), 4.33(1H,m), 4.60
(1H,dd,J=13.3Hz), 4.42(1H,dd,J=13.3Hz), 4.85(2H,
s), 2.43(2H,t,J=7Hz), 2.38(2H,t,J=7Hz), 1.5-1.6(4
H,m), 1.1-1.4(48H,m), 0.88(6H,t,J=7Hz) （８ｃ）２’−シアノ−２’−デオキシ−３’，５’−
ジ−Ｏ−パルミトイル−１−β−Ｄ−アラビノフラノシ
ルシトシン 化合物（８ｂ）３５５mgをテトラヒドロフラン16.5mlに
溶かし、１Ｍリン酸−ナトリウム水溶液16.3mlおよび亜
鉛末３５８mgを加え、室温で２時間撹拌後、冷凍庫中に
一夜放置した。減圧下にテトラヒドロフランを留去した
後、塩化メチレン−メタノール（２：１）の混液を加
え、加熱抽出した後、沈殿を濾過して除いた。減圧下に
塩化メチレン−メタノールを留去した後、塩化メチレン
を加え、飽和食塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥後、減圧下に溶媒を留去して得た白色結
晶を、エタノールから再結晶して目的化合物１７０mgを
得た。母液をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにか
け、塩化メチレン−メタノール（９５：５）で溶出され
たフラクションから、同化合物５１mgを得た。

【０３５８】¹H-NMR（270MHz in CDCl₃)δppm ：7.70(1
H,d,J=7Hz), 5.78(1H,d,J=7Hz), 6.17(1H,d,J=5Hz), 5.
40(1H,d,J=3Hz), 3.93(1H,d,J=5Hz), 4.26(1H,m), 4.59
(1H,dd,J=12.3Hz), 4.40(1H,dd,J=12.4Hz), 2.43(2H,t,
J=7Hz), 2.37(2H,t,J=7Hz),1.5-1.7(4H,m), 1.1-1.4(48
H,m), 0.88(6H,t,J=7Hz) （実施例９）２’−シアノ−２’−デオキシ−Ｎ ⁴ −ヘキサノイル−
１−β−Ｄ−アラビノフラノシルシトシン ＣＮＤＡＣ1.00ｇ（４mmol）及び、無水ヘキサン酸1.29
ｇ（６mmol）にジメチルホルムアミド４mlを加え、１０
０℃のオイルバス上で３０分間加熱撹拌した。溶媒を留
去し、イソプロピルエーテル１００mlを加え、超音波に
かけ細かく砕き、不溶物を濾取した。不溶物を減圧乾燥
し、塩化メチレン−メタノール混液に溶かし、シリカゲ
ルクロマト精製を行った。塩化メチレン：メタノール＝
９９：１の混液で溶出し、目的物0.88ｇを得た。

【０３５９】¹H-NMR（270MHz in d₆-DMSO)δppm ：10.9
2(1H,s), 8.36(1H,d,J=7.8Hz), 7.29(1H,d,J=7.3Hz),
6.21(1H,d,J=6.8Hz), 4.43(1H,q,J=7.3,13.2Hz), 3.59-
3.93(4H,m), 6.26(1H,d,J=5.4Hz), 5.23(1H,t,J=5.4H
z), 2.40(2H,t,J=7.3Hz), 1.50-1.61(2H,m), 1.23-1.33
(4H,m), 0.87(3H,t,J=6.8Hz) （実施例１０）２’−シアノ−Ｎ ⁴ −デカノイル−２’−デオキシ−１
−β−Ｄ−アラビノフラノシルシトシン ＣＮＤＡＣ1.00ｇ（４mmol）及び、無水デカン酸1.96ｇ
（６mmol）にジメチルホルムアミド４mlを加え、１００
℃のオイルバスにて３０分間加熱撹拌した。溶媒を留去
し、イソプロピルエーテル１００mlを加え、超音波にか
け細かく砕き、不溶物を濾取した。不溶物は減圧乾燥
し、塩化メチレン−メタノール混液に溶かし、シリカゲ
ルクロマトで精製を行った。塩化メチレン：メタノール
＝９９：１で溶出し、目的物1.06ｇを得た。

【０３６０】¹H-NMR（270MHz in d₆-DMSO)δppm ：10.9
1(1H,s), 8.36(1H,d,J=7.3Hz), 7.29(1H,d,J=7.8Hz),
6.21(1H,d,J=7.3Hz), 4.43(1H,q,J=7.3,12.7Hz), 3.60-
3.93(4H,m), 6.26(1H,d,J=5.4Hz), 5.24(1H,t,J=5.4H
z), 2.40(2H,t,J=7.3Hz), 1.54(2H,t,J=6.8Hz), 1.25(1
2H,bs), 0.83-0.88(3H,m) （実施例１１）２’−シアノ−２’−デオキシ−Ｎ ⁴ −ラウロイル−１
−β−Ｄ−アラビノフラノシルシトシン ＣＮＤＡＣ1.00ｇ（４mmol）及び、無水ラウリン酸2.30
ｇ（６mmol）にジメチルホルムアミド４mlを加え、１０
０℃のオイルバス上で３０分間撹拌した。溶媒を留去
し、イソプロピルエーテル１００mlを加え、超音波にか
け細かく砕き、不溶物を濾取した。不溶物を減圧乾燥
し、メタノール１００mlを加え、加熱還留した。メンブ
ランフィルター濾過をし、冷蔵庫に一夜放置後、結晶７
２mgを濾取した。母液の溶媒を留去し、残査1.85ｇを
得、これに、メタノール２０mlを加え、加熱溶解後、冷
蔵庫に放置し、結晶６６３mgを得た。この母液の残査1.
10ｇは、シリカゲルクロマト精製（塩化メチレン：メタ
ノール＝９８：２で溶出）し、目的物0.47ｇを得た。

【０３６１】¹H-NMR（270MHz in d₆-DMSO)δppm ：10.9
2(1H,s), 8.36(1H,d,J=7.8Hz), 7.29(1H,d,J=7.3Hz),
6.21(1H,d,J=7.3Hz), 4.44(1H,t,J=6.8Hz), 3.61-3.94
(4H,m), 6.28(1H,bs), 5.25(1H,bs), 2.40(2H,t,J=7.3H
z), 1.52-1.57(2H,m), 1.24(16H,s), 0.85(3H,t,J=6.8H
z) （実施例１２）２’−シアノ−２’−デオキシ−Ｎ ⁴ −ステアロイル−
１−β−Ｄ−アラビノフラノシルシトシン ＣＮＤＡＣ0.63ｇ（2.5mmol ）及び、無水ステアリン酸
1.44ｇ（2.61mmol）にジメチルホルムアミド2.5ml を加
え、１００℃のオイルバス上で３０分間加熱撹拌した。
溶媒を留去し、イソプロピルエーテル１００mlを加え、
超音波にかけ細かく砕き、不溶物を濾取した。不溶物を
減圧乾燥し、メタノール１１０mlを加え、加熱還留し
た。冷蔵庫に一夜放置後、結晶を濾取し、減圧乾燥し、
目的物８８６mgを得た。

【０３６２】¹H-NMR（270MHz in d₆-DMSO)δppm ：10.9
1(1H,s), 8.36(1H,d,J=7.8Hz), 7.29(1H,d,J=7.3Hz),
6.21(1H,d,J=7.3Hz), 4.40-4.47(1H,m), 3.60-3.93(4H,
m), 6.25-6.27(1H,m), 5.22-5.25(1H,m), 2.40(2H,t,J=
7.3Hz), 1.54(2H,bs), 1.23(28H,bs), 0.83-0.88(3H,m) （実施例１３）２’−シアノ−２’−デオキシ−Ｎ ⁴ −ドコサノイル−
１−β−Ｄ−アラビノフラノシルシトシン ＣＮＤＡＣ1.00ｇ（４mmol）及び、無水ドコサン酸3.98
ｇ（６mmol）にジメチルホルムアミド４mlを加え、１０
０℃のオイルバスにて３０分間加熱撹拌した。溶媒を留
去し、イソプロピルエーテル１００mlを加え、超音波に
かけ細かく砕き、不溶物を濾取した。不溶物を減圧乾燥
し、再び、イソプロピルエーテル１００mlを用い、同様
な操作を行った。不溶物を４０mlの酢酸エチルに加熱溶
解し、室温にて一夜放置後、結晶を濾取した。この結晶
を再び酢酸エチル８０mlを用い、同様な操作により、結
晶化し、目的物1.575 ｇを得た。

【０３６３】¹H-NMR（270MHz in d₆-DMSO)δppm ：10.9
1(1H,s), 8.36(1H,d,J=8.3Hz), 7.29(1H,d,J=7.8Hz),
6.21(1H,d,J=6.8Hz), 4.41-4.46(1H,m), 3.62-3.93(4H,
m), 6.26-6.28(1H,m), 5.23(1H,bs), 2.40(2H,t,J=6.8H
z), 1.41-1.53(2H,m), 1.12-1.23(36H,m), 0.83-0.85(3
H,m) （実施例１４）Ｎ ⁴ −（１２−アミノドデカノイル）−２’−シアノ−
２’−デオキシ−１−β−Ｄ−アラビノフラノシルシト
シン・１塩酸塩 （１４ａ）Ｎ ⁴ −ｔ−ブトキシカルボニルアミノドデカ
ノイル−２’−シアノ−２’−デオキシ−３’，５’−
Ｏ−TIPDS −１−β−Ｄ−アラビノフラノシルシトシン 化合物（１ｂ）148.4mg （0.3mmol)とＮ−（ｔ−ブトキ
シカルボニル）アミノドデカン酸378.5mg （1.2mmol)を
合わせてベンゼンで共沸乾燥した。３mlのテトラヒドロ
フランに溶かしたのちに247.6mg （1.2mmol)のＤＣＣと
１２mg（0.09mmol）のジメチルアミノピリジンを加え、
Ｎ₂ 雰囲気下５０℃で２時間２０分撹拌した。不溶物を
ろ過により除き、溶媒を減圧下留去したのちに５０mlの
５％炭酸水素ナトリウム水を加えて室温で３０分間撹拌
した。５０mlの酢酸エチルで抽出したのちに、有機層を
５０mlの５％炭酸水素ナトリウム水で１回、５０mlづつ
の0.01Ｎ塩酸で２回洗浄してから無水硫酸マグネシウム
で乾燥した。減圧下溶媒を留去して0.69ｇの残渣を得、
これを３０ｇ（２３０−４００mesh）のシリカゲルカラ
ムにアプライして１〜３％メタノールを含む塩化メチレ
ン溶液で溶出することにより目的物193.2mg （８１％）
を得た。

【０３６４】¹H-NMR（270MHz CDCl₃) δppm ：9.97(1H,
bs); 8.03(1H,d,J=7.92Hz); 7.55(1H,d,J=7.92Hz); 6.3
7(1H,d,J=6.60Hz); 4.64(1H,dd,J=8.58Hz); 4.55(1H,b
s); 4.21-4.04(2H,m); 3.90(1H,dt,J=8.58,2.85Hz); 3.
77(1H,dd,J=6.60,8.58Hz); 3.10(2H,m); 2.64-2.42(2H,
m); 1.72-1.62(2H,m); 1.45(9H,s); 1.26(16H,bs); 1.1
5-0.95(28H,m) （１４ｂ）Ｎ ⁴ −ｔ−ブトキシカルボニルアミノドデカ
ノイル−２’−シアノ−２’−デオキシ−１−β−Ｄ−
アラビノフラノシルシトシン 化合物（１４ａ）186.5mg （0.235mmol)を0.47mlのテト
ラヒドロフランに溶解し、１３μｌ（0.235mmol)の酢酸
と、0.47ml（0.47mmol）のBu₄NF を含むテトラヒドロフ
ラン溶液を加え、アルゴン雰囲気下に氷浴中で３０分間
撹拌した。減圧下溶媒を留去したのちに、２０mlの酢酸
エチルに溶解し、２０mlの飽和NaHCO₃水で洗浄してから
無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去したのち
に、１０ｇ（２３０−４００mesh）のシリカゲルカラム
にアプライし、３−４％メタノールを含む塩化メチレン
で溶出することにより目的物122.4mg （９５％）を得
た。¹H-NMR（270MHz CDCl₃+D₂O,TMS) δppm ：8.26(1H,
d,J=7.91Hz); 7.55(1H,d,J=7.91Hz); 6.24(1H,d,J=6.60
Hz); 4.72(1H,dd,J=6.50Hz); 4.10-3.83(4H,m); 3.12-
3.03(2H,m); 2.48-2.38(2H,m); 1.70-1.55(2H,m); 1.44
(9H,s); 1.24(16H,bs) （１４ｃ）Ｎ ⁴ −（１２−アミノドデカノイル）−２’
−シアノ−２’−デオキシ−１−β−Ｄ−アラビノフラ
ノシルシトシン・１塩酸塩 化合物（１４ｂ）63.8mg（0.116mmol)を10.5mlのジオキ
サンに溶解し、1.5mlの4N-HCl−ジオキサンを加え、室
温で１時間撹拌した。さらに1.5ml の4N-HCl−ジオキサ
ンを追加し、さらに２時間撹拌したのちに、溶媒を留去
した。残渣をRP-8のローバーカラム（Gro βe B)を用
い、２０％CH₃CN −水により溶出して、目的化合物15.7
mg（２８％）を得た。

【０３６５】（実施例１５）２’−シアノ−２’−デオキシ−Ｎ ⁴ −ヘプタデカノイ
ル−１−β−Ｄ−アラ ビノフラノシルシトシン ＣＮＤＡＣ１１６mgをピリジンに溶かし、窒素雰囲気
下、０℃でトリメチルクロロシラン２９０μｌを加え２
時間撹拌した後、ヘプタデカノイルクロリド（７５５μ
ｌ）を加え、室温で一夜撹拌した。反応混合物に水を加
え２時間撹拌した後、塩化メチレンで抽出した。有機層
を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去し
た。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにか
け、シクロヘキサン−酢酸エチル（１：４）で流出した
フラクションを集め、酢酸エチルから結晶化して目的物
９４mgを得た。

【０３６６】¹H-NMR（270MHz in CD₃OD-CDCl₃)δppm ：
8.42(1H,d,J=8Hz), 7.56(1H,d,J=8Hz), 6.27(1H,d,J=7H
z), 4.61(1H,t,J=6Hz), 3.7-4.1(4H,m), 3.7-4.1(4H,
m), 3.7-4.1(4H,m), 2.45(2H,t,J=7Hz), 1.70(2H,quin
t,J=7Hz), 1.2-1.5(26H,m), 0.89(3H,t,J=7Hz) （実施例１６）２’−シアノ−２’−デオキシ−Ｎ ⁴ −（９，１２，１
５−オクタデカトリエノイル）−１−β−Ｄ−アラビノ
フラノシルシトシン ＴＨＦ4ml に、氷冷下、窒素気流下、９，１２，１５−
オクタデカトリエン酸0.22ml(0.735mmol) を加えた後、
クロロ炭酸エチル0.105ml(1.103mmol)及びトリエチルア
ミン0.153ml(1.103mmol)を加えた。０℃で２時間、室温
で３．５時間撹拌し、白色不溶物をろ去後、ろ液の溶媒
を留去した。残渣をＤＭＦ0.5ml に溶かし、実施例１の
化合物80mg(0.317mmol) を加え、１００℃で１時間加熱
後、溶媒を留去した。残渣をシリカゲルクロマトにより
精製した。（メタノール：塩化メチレン＝９５：５の混
液で溶出）溶出液の溶媒を留去し、ベンゼンより凍結乾
燥を行い、目的物を77mg得た。 ¹H-NMR(270MHz in d₆-D
MSO)δppm:10.91(1H,s),8.36(1H,d,J=7.8Hz),7.29(1H,
d,J=7.3Hz),6.25(1H,d,J=5.9Hz),6.21(1H,d,J=7.3Hz),
5.22-5.41(6H,m),4.40-4.47(1H,m),3.57-3.93(4H,m),2.
75-2.79(4H,m),2.40(2H,t,J=7.3Hz),1.98-2.09(4H,m),
1.51-1.56(2H,m),1.27(8H,s),0.89-0.95(3H,m)。

【０３６７】（実施例１７）２′−シアノ−２′−デオキシ−Ｎ ⁴ −オクタノイル−
１−β−Ｄ−アラビノフラノシルシトシン ヘキサン酸無水物のかわりにオクタン酸無水物を用いる
以外は実施例９と同様に処理して目的化合物を０．９５
ｇ得た。

【０３６８】¹H-NMR (270MHz in d₆-DMSO)δppm ：10.9
1(1H,bs),8.36(1H,d,J=7.3Hz),7.29(1H,d,J=7.3Hz),6.2
5(1H,d,J=5Hz),6.22(1H,d,J=7Hz),5.23(1H,d,J=5Hz),4.
44(1H,dt,J=5,7Hz),3.91(1H,t,J=7Hz),3.6-3.9(3H,m),
2.40(2H,t,J=7Hz),1.45-1.65(2H,m),1.1-1.4(8H,m),0.8
6(3H,t,J=7Hz)。

【０３６９】（実施例１８）２′シアノ−２′−デオキシ−Ｎ ⁴ −テトラデカノイル
−１−β−Ｄ−アラビノフラノシルシトシン ヘキサン酸無水物のかわりにテトラデカン酸無水物を用
いる以外は実施例９と同様に処理して目的化合物を１．
０５ｇ得た。

【０３７０】¹H-NMR (270MHz in d₆-DMSO)δppm ：10.9
0(1H,bs),8.36(1H,d,J=7.5Hz),7.29(1H,d,J=7.5Hz),6.2
5(1H,d,J=6Hz),6.21(1H,d,J=7Hz),5.22(1H,bt,J=5Hz),
4.43(1H,dt,J=6,7Hz),3.90(1H,t,J=7Hz),3.59-3.86(3H,
m),2.39(2H,t,J=7Hz),1.45-1.65(2H,m),1.1-1.4(20H,
m),0.85(3H,t,J=7Hz)。

【０３７１】（実施例１９）２′シアノ−２′−デオキシ−Ｎ ⁴ −ペンタデカノイル
−１−β−Ｄ−アラビノフラノシルシトシン ヘキサン酸無水物のかわりにペンタデカン酸無水物を用
いる以外は実施例９と同様に処理して目的化合物を０．
９６ｇ得た。

【０３７２】¹H-NMR (270MHz in d₆-DMSO)δppm ：10.9
0(1H,bs),8.36(1H,d,J=7Hz),7.29(1H,d,J=7Hz),6.25(1
H,d,J=6Hz),6.21(1H,d,J=7Hz),5.22(1H,d,J=5Hz),4.43
(1H,dt,J=5,7Hz),3.91(1H,t,J=7Hz),3.81-3.87(1H,m),
3.76 及び3.62 (各1H,ddd,J=12,5,3Hz,J=12,5,4Hz),2.4
0(2H,t,J=7Hz),1.5-1.6(2H,m),1.1-1.4(22H,m),0.85(3
H,t,J=7Hz)。

【０３７３】（実施例２０）２′シアノ−２′−デオキシ−Ｎ ⁴ −エイコサノイル−
１−β−Ｄ−アラビノフラノシルシトシン ヘキサン酸無水物のかわりにエイコサン酸無水物を用い
る以外は実施例９と同様に処理して目的化合物を０．５
６ｇ得た。

【０３７４】¹H-NMR (270MHz in d₆-DMSO)δppm ：10.9
1(1H,bs),8.36(1H,d,J=7.8Hz),7.29(1H,d,J=7.8Hz),6.2
5(1H,d,J=6Hz),6.21(1H,d,J=7Hz),5.22(1H,d,J=5Hz),4.
43(1H,dt,J=6,7Hz),3.91(1H,t,J=7Hz),3.6-3.9(3H,m),
2.39(2H,t,J=7Hz),1.5-1.6(2H,m),1.1-1.4(32H,m),0.85
(3H,t,J=7Hz) 。

【０３７５】（実施例２１）２′シアノ−２′−デオキシ−Ｎ ⁴ −（１０−メトキシ
エトキシメトキシデカノイル）−１−β−Ｄ−アラビノ
フラノシルシトシン ＣＮＤＡＣ８９９ｍｇを乾燥ジメチルホルムアミド１０
ｍｌに溶かし、乾燥テトラヒドロフラン５ｍｌに溶かし
た１０−メトキシエトキシメトキシデカン酸エトキシギ
酸無水物（１．８０ｇ）を加えた。湿気を断って、１０
０℃で１．５時間加熱撹拌した。減圧下に溶媒を留去
し、残渣にイソプロピルエーテルを加えて、一夜、５℃
にて放置した。生じた結晶状物質を濾取し、塩化メチレ
ンに溶かしシリカゲルカラムクロマトグラフィ−（０．
５％のメタノールを含む塩化メチレン）で精製した。溶
剤を留去して得られた残渣を酢酸エチルを含むｎ−ヘキ
サンから再結晶し、目的化合物９６４ｍｇを得た。

【０３７６】¹H-NMR (270MHz in d₆-DMSO)δppm ：10.9
1(1H,bs),8.34(1H,d,J=7.5Hz),7.29(1H,d,J=7.5Hz),6.2
5(1H,d,J=6Hz),6.21(1H,d,J=7Hz),5.22(1H,m),4.59(2H,
s),4.43(1H,dt,J=5,7Hz),3.91(1H,t,J=7Hz),3.59-3.86
(3H,m),3.55(2H,m),3.38-3.48(4H,m),3.24(3H,s),2.40
(2H,t,J=7Hz),1.41-1.62(4H,m),1.12-1.37(10H,m) 。

【０３７７】（実施例２２）２′シアノ−２′−デオキシ−Ｎ ⁴ −（１０−メトキシ
メトキシデカノイル）−１−β−Ｄ−アラビノフラノシ
ルシトシン １０−メトキシエトキシメトキシデカン酸エトキシギ酸
無水物のかわりに１０−メトキシメトキシデカン酸エト
キシギ酸無水物を用いる以外は実施例２１と同様に処理
して目的化合物０．９５６ｇを得た。

【０３７８】¹H-NMR (270MHz in d₆-DMSO)δppm ：10.9
1(1H,bs),8.36(1H,d,J=7.5Hz),7.29(1H,d,J=7.5Hz),6.2
5(1H,d,J=6Hz),6.21(1H,d,J=7Hz),5.22(1H,m),4.43(1H,
dt,J=5,5Hz),4.59(2H,s),3.90(1H,t,J=7Hz),3.58-3.87
(3H,m),3.42(2H,t,J=7Hz),3.23(3H,s),2.40(2H,t,J=7H
z),1.41-1.62(4H,m),1.14-1.38(10H,m) 。

【０３７９】（実施例２３）２′シアノ−２′−デオキシ−Ｎ ⁴ −（１１−メトキシ
カルボニルウンデカノイル）−１−β−Ｄ−アラビノフ
ラノシルシトシン １０−メトキシエトキシメトキシデカン酸エトキシギ酸
無水物のかわりに１１−メトキシカルボニルウンデカン
酸エトキシギ酸無水物を用いる以外は実施例２１と同様
に処理して目的化合物０．８５ｇを得た。

【０３８０】¹H-NMR (270MHz in d₆-DMSO)δppm ：10.9
1(1H,bs),8.36(1H,d,J=7.8Hz),7.29(1H,d,J=7.8Hz),6.2
5(1H,d,J=6Hz),6.21(1H,d,J=7Hz),5.22(1H,d,J=5Hz),4.
43(1H,dt,J=6,7Hz),3.91(1H,t,J=7Hz),3.6-3.9(3H,m),
3.57(3H,s),2.40(2H,t,J=7Hz),2.28(2H,t,J=7Hz),1.45-
1.6(4H,m),1.15-1.4(12H,m)。

【０３８１】（実施例２４）２′シアノ−２′−デオキシ−Ｎ ⁴ −（１１−シアノ−
ウンデカノイル）−１−β−Ｄ−アラビノフラノシルシ
トシン １０−メトキシエトキシメトキシデカン酸エトキシギ酸
無水物のかわりに１１−シアノ−ウンデカン酸エトキシ
ギ酸無水物を用いる以外は実施例２１と同様に処理して
目的化合物０．９５ｇを得た。

【０３８２】¹H-NMR (270MHz in d₆-DMSO)δppm ：10.9
1(1H,bs),8.35(1H,d,J=7.8Hz),7.29(1H,d,J=7.8Hz),6.2
5(1H,d,J=5Hz),6.21(1H,d,J=7Hz),5.23(1H,t,J=5Hz),4.
43(1H,dt,J=5,7Hz),3.91(1H,t,J=7Hz),3.6-3.85(3H,m),
2.46(2H,t,J=7Hz),2.40(2H,t,J=7Hz),1.44-1.66(4H,m),
1.16-1.44(12H,m)。

【０３８３】（実施例２５）２′シアノ−２′−デオキシ−Ｎ ⁴ −（１６−ヒドロキ
シヘキサデカノイル）−１−β−Ｄ−アラビノフラノシ
ルシトシン １０−メトキシエトキシメトキシデカン酸エトキシギ酸
無水物のかわりに１６−ヒドロキシヘキサデカン酸エト
キシギ酸無水物を用いる以外は実施例２１と同様に処理
して目的化合物０．８５ｇを得た。

【０３８４】¹H-NMR (270MHz in d₆-DMSO)δppm ：10.9
0(1H,bs),8.35(1H,d,J=7Hz),7.29(1H,d,J=7Hz),6.25(1
H,d,J=6Hz),6.21(1H,d,J=7Hz),5.22(1H,d,J=5Hz),4.44
(1H,dt,J=6,7Hz),4.29(1H,t,J=5Hz),3.6-3.9(3H,m),3.5
7(2H,dt,J=5,7Hz),2.4(2H,t,J=7Hz),1.1-1.6(26H,m) 。

【０３８５】（実施例２６）２′シアノ−２′−デオキシ−Ｎ ⁴ −（１６−メトキシ
エトキシメトキシヘキサデカノイル）−１−β−Ｄ−ア
ラビノフラノシルシトシン １０−メトキシエトキシメトキシデカン酸エトキシギ酸
無水物のかわりに１６−メトキシエトキシメトキシヘキ
サデカン酸エトキシギ酸無水物を用いる以外は実施例２
１と同様に処理して目的化合物０．９５ｇを得た。

【０３８６】¹H-NMR (270MHz in d₆-DMSO)δppm ：10.9
1(1H,bs),8.36(1H,d,J=7.5Hz),7.29(1H,d,J=7.5Hz),6.2
5(1H,d,J=5Hz),6.21(1H,d,J=7Hz),5.22(1H,d,J=5Hz),4.
59(2H,s),4.43(1H,dt,J=5,7Hz),3.90(1H,t,J=7Hz),3.59
-3.86(3H,m),3.52-3.58(2H,m),3.24(3H,s),3.40(2H,t,J
=7Hz),1.41-1.61(4H,m),1.12-1.37(22H,m)。

【０３８７】（実施例２７）２′シアノ−２′−デオキシ−Ｎ ⁴ −（１６−メトキシ
メトキシヘキサデカノイル）−１−β−Ｄ−アラビノフ
ラノシルシトシン １０−メトキシエトキシメトキシデカン酸エトキシギ酸
無水物のかわりに１６−メトキシメトキシヘキサデカン
酸エトキシギ酸無水物を用いる以外は実施例２１と同様
に処理して目的化合物０．８６ｇを得た。

【０３８８】¹H-NMR (270MHz in d₆-DMSO)δppm ：10.9
0(1H,bs),8.37(1H,d,J=7.3Hz),7.31(1H,d,J=7.3Hz),6.3
0(1H,d,J=5Hz),6.21(1H,d,J=6.6Hz),5.28(1H,t,J=5.3H
z),4.53(2H,s),4.42(1H,dt,J=5.0,7.3Hz),3.90(1H,t,J=
7.3Hz),3.85-3.65(3H,m),3.23(3H,s),2.40(2H,m),1.39-
1.62(4H,m),1.24(22H,bs)。

【０３８９】（実施例２８）２′シアノ−２′−デオキシ−Ｎ ⁴ −（１６−アセトキ
シヘキサデカノイル）−１−β−Ｄ−アラビノフラノシ
ルシトシン １０−メトキシエトキシメトキシデカン酸エトキシギ酸
無水物のかわりに１６−アセトキシヘキサデカン酸エト
キシギ酸無水物を用いる以外は実施例２１と同様に処理
して目的化合物０．９５ｇを得た。

【０３９０】¹H-NMR (270MHz in d₆-DMSO)δppm ：10.9
1(1H,bs),8.35(1H,d,J=7.5Hz),7.29(1H,d,J=7.5Hz),6.2
5(1H,d,J=6Hz),6.21(1H,d,J=7Hz),5.23(1H,d,J=5Hz),4.
43(1H,dt,J=6,7Hz),3.97(2H,t,J=7Hz),3.90(1H,t,J=7H
z),3.59-3.86(3H,m),3.97(2H,t,J=7Hz),2.39(2H,t,J=7H
z),1.98(3H,s),1.43-1.63(4H,m),1.17-1.38(22H,m) 。 （実施例２９）２′シアノ−２′−デオキシ−Ｎ ⁴ −（１６−カルバモ
イルオキシヘキサデカノイル）−１−β−Ｄ−アラビノ
フラノシルシトシン １０−メトキシエトキシメトキシデカン酸エトキシギ酸
無水物のかわりに１６−カルバモイルオキシヘキサデカ
ン酸エトキシギ酸無水物を用いる以外は実施例２１と同
様に処理して目的化合物０．５６ｇを得た。

【０３９１】¹H-NMR (270MHz in d₆-DMSO)δppm ：10.9
1(1H,bs),8.37(1H,d,J=7.5Hz),7.30(1H,d,J=7.5Hz),6.3
9(2H,bs),6.26(1H,d,J=5.3Hz),6.21(1H,d,J=7Hz),5.24
(1H,t,J=5.3Hz),4.44(1H,dt,J=5,7Hz),3.90(1H,t,J=7H
z),3.59-3.97(5H,m),2.40(2H,t,J=7.3Hz),1.40-1.65(4
H,m),1.10-1.39(22H,m)。

【０３９２】（実施例３０）２′シアノ−２′−デオキシ−Ｎ ⁴ −（１６−アセチル
チオヘキサデカノイル）−１−β−Ｄ−アラビノフラノ
シルシトシン １０−メトキシエトキシメトキシデカン酸エトキシギ酸
無水物のかわりに１６−アセチルチオヘキサデカン酸エ
トキシギ酸無水物を用いる以外は実施例２１と同様に処
理して目的化合物０．８６ｇを得た。

【０３９３】¹H-NMR (270MHz in d₆-DMSO)δppm ：10.9
1(1H,bs),8.36(1H,d,J=7Hz),7.29(1H,d,J=7Hz),6.25(1
H,d,J=6Hz),6.21(1H,d,J=7Hz),5.23(1H,m),4.43(1H,dt,
J=6,7Hz),3.91(1H,t,J=7Hz),3.6-3.9(3H,m),2.81(2H,t,
J=7Hz),2.40(2H,t,J=7Hz),2.31(3H,s),1.4-1.7(4H,m),
1.1-1.4(22H,m)。

【０３９４】（実施例３１）２′シアノ−２′−デオキシ−Ｎ ⁴ −（１６−ベンジル
オキシカルボニルアミノヘキサデカノイル）−１−β−
Ｄ−アラビノフラノシルシトシン １０−メトキシエトキシメトキシデカン酸エトキシギ酸
無水物のかわりに１６−ベンジルオキシカルボニルアミ
ノヘキサデカン酸エトキシギ酸無水物を用いる以外は実
施例２１と同様に処理して目的化合物１．１５ｇを得
た。

【０３９５】¹H-NMR (270MHz in d₆-DMSO)δppm ：10.9
1(1H,bs),8.36(1H,d,J=7Hz),7.29(1H,d,J=7Hz),7.25-7.
45(5H,m),7.20(1H,bt,J=6Hz),6.25(1H,d,J=6Hz),6.21(1
H,d,J=7Hz),5.23(1H,d,J=5Hz),5.00(2H,s),4.43(1H,dt,
J=6,7Hz),3.91(1H,t,J=7Hz),3.6-3.9(3H,m),2.97(2H,t,
J=6Hz),2.40(2H,t,J=7Hz),1.1-1.6(26H,m)。

【０３９６】（実施例３２）２′シアノ−２′−デオキシ−Ｎ ⁴ −（１６−アジドヘ
キサデカノイル）−１−β−Ｄ−アラビノフラノシルシ
トシン １０−メトキシエトキシメトキシデカン酸エトキシギ酸
無水物のかわりに１６−アジドヘキサデカン酸エトキシ
ギ酸無水物を用いる以外は実施例２１と同様に処理して
目的化合物０．８８ｇを得た。

【０３９７】¹H-NMR (270MHz in d₆-DMSO)δppm ：10.9
1(1H,bs),8.36(1H,d,J=7.3Hz),7.29(1H,d,J=7.3Hz),6.2
5(1H,d,J=6Hz),6.21(1H,d,J=7Hz),5.23(1H,t,J=5Hz),4.
43(1H,dt,J=6,7Hz),3.91(1H,t,J=7Hz),3.6-3.9(3H,m),
3.30(2H,t,J=7Hz),2.40(2H,t,J=7Hz),1.4-1.7(4H,m),1.
1-1.4(26H,m) 。

【０３９８】（実施例３３）２′シアノ−２′−デオキシ−Ｎ ⁴ −（１６−メチルス
ルホニルオキシヘキサデカノイル）−１−β−Ｄ−アラ
ビノフラノシルシトシン １０−メトキシエトキシメトキシデカン酸エトキシギ酸
無水物のかわりに１６−メチルスルホニルオキシヘキサ
デカン酸エトキシギ酸無水物を用いる以外は実施例２１
と同様に処理して目的化合物０．８７ｇを得た。

【０３９９】¹H-NMR (270MHz in d₆-DMSO)δppm ：10.9
1(1H,bs),8.36(1H,d,J=7.8Hz),7.29(1H,d,J=7.8Hz),6.2
5(1H,d,J=6Hz),6.23(1H,d,J=7Hz),5.0-5.4(1H,m),4.37-
4.48(1H,m),4.17(2H,t,J=6.5Hz),3.90(1H,t,J=7Hz),3.8
-3.9(3H,m),3.14(3H,s),2.40(2H,t,J=7Hz),1.45-1.75(4
H,m),1.15-1.45(22H,m) 。

【０４００】（実施例３４）２′シアノ−２′−デオキシ−Ｎ ⁴ −（１６−メチルチ
オメトキシヘキサデカノイル）−１−β−Ｄ−アラビノ
フラノシルシトシン １０−メトキシエトキシメトキシデカン酸エトキシギ酸
無水物のかわりに１６−メチルチオメトキシヘキサデカ
ン酸エトキシギ酸無水物を用いる以外は実施例２１と同
様に処理して目的化合物０．４５ｇを得た。

【０４０１】¹H-NMR (270MHz in d₆-DMSO)δppm ：10.9
0(1H,bs),8.36(1H,d,J=7.3Hz),7.29(1H,d,J=7.3Hz),6.2
5(1H,d,J=5.9Hz),6.21(1H,d,J=6.8Hz),5.23(1H,t,J=5.4
Hz),4.43(1H,dt,J=5.9,7.3Hz),3.90(1H,dd,J=6.8,7.3H
z),3.83,3.76 及び3.62( 各々,1H,m),3.43(2H,t,J=6.4H
z),2.40(2H,t,J=7.3Hz),2.07(3H,s),1.38-1.61(4H,m),
1.12-1.37(22H,m)。

【０４０２】（実施例３５）２′シアノ−２′−デオキシ−Ｎ ⁴ −（１１−カルバモ
イルウンデカノイル）−１−β−Ｄ−アラビノフラノシ
ルシトシン １０−メトキシエトキシメトキシデカン酸エトキシギ酸
無水物のかわりに１１−カルバモイルウンデカン酸エト
キシギ酸無水物を用いる以外は実施例２１と同様に処理
して目的化合物０．５５ｇを得た。

【０４０３】¹H-NMR (270MHz in d₆-DMSO)δppm ：10.9
1(1H,bs),8.36(1H,d,J=7.8Hz),7.29(1H,d,J=7.8Hz),7.1
9(1H,bs),6.65(1H,bs),6.26(1H,d,J=5Hz),6.21(1H,d,J=
7Hz),5.23(1H,t,J=5Hz),4.44(1H,dt,J=4,7Hz),3.91(1H,
t,J=7Hz),3.6-3.9(3H,m),2.40(2H,t,J=7Hz),2.01(2H,t,
J=7Hz),1.35-1.65(4H,m),1.1-1.35(12H,m)。

【０４０４】（実施例３６）２′シアノ−２′−デオキシ−Ｎ ⁴ −（６−ブロモヘキ
サノイル）−１−β−Ｄ−アラビノフラノシルシトシン １０−メトキシエトキシメトキシデカン酸エトキシギ酸
無水物のかわりに６−ブロモヘキサン酸エトキシギ酸無
水物を用いる以外は実施例２１と同様に処理して目的化
合物０．７８ｇを得た。

【０４０５】¹H-NMR (270MHz in d₆-DMSO)δppm ：10.9
3(1H,bs),8.36(1H,d,J=7.8Hz),7.29(1H,d,J=7.8Hz),6.2
7(1H,d,J=6Hz),6.21(1H,d,J=7Hz),5.22(1H,d,J=5Hz),4.
44(1H,dt,J=6,7Hz),3.91(1H,t,J=7Hz),3.6-3.9(3H,m),
3.53(2H,t,J=7Hz),2.42(2H,t,J=7Hz),1.81(2H,q,J=7H
z),1.58(2H,q,J=7Hz),1.3-1.45(2H,m) 。

【０４０６】（実施例３７）２′シアノ−２′−デオキシ−Ｎ ⁴ −（３−ベンジルジ
チオプロピオニル）−１−β−Ｄ−アラビノフラノシル
シトシン １０−メトキシエトキシメトキシデカン酸エトキシギ酸
無水物のかわりに３−ベンジルジチオプロピオン酸エト
キシギ酸無水物を用いる以外は実施例２１と同様に処理
して目的化合物０．２１ｇを得た。

【０４０７】¹H-NMR (270MHz in d₆-DMSO)δppm ：11.0
5(1H,bs),8.38(1H,d,J=7.5Hz),7.23-7.33(6H,m),6.25(1
H,d,J=5Hz),6.21(1H,d,J=7Hz),5.23(1H,t,J=5Hz),4.44
(1H,dt,J=5,7Hz),3.99(2H,s),3.91(1H,t,J=7Hz),3.59-
3.85(3H,m),2.81(4H,bs)。

【０４０８】（実施例３８）２′−シアノ−Ｎ ⁴ −パルミトイル−２′−デオキシチ
ジン （３８ａ）２′−シアノ−２′−デオキシシチジン ＣＮＤＡＣ １．０ｇをｐＨ９．００の０．２Ｍ−Ｎａ
₂ ＨＰＯ₄ ４０ｍｌに溶かし、室温で１６時間放置後、
反応液のｐＨを１Ｎ−塩酸１５ｍｌを加えｐＨ２．１６
とした。この溶液を分取用ＨＰＬＣカラム（Ｉｎｅｒｔ
ｓｉｌ ＰＲＥＰ−ＯＤＳ ２０．０×２５０ｍｍ ９
ＨＩ７５０２）にて精製（２．５％ＭｅＯＨ／Ｈ₂ Ｏ溶
媒を用いて展開）し，目的物のピークを集め減圧下に濃
縮して凍結乾燥を行い、目的化合物を５００ｍｇ得た。

【０４０９】¹H-NMR (270MHz in d₆-DMSO)δppm ：7.79
(1H,d,J=7.3Hz),7.48-7.67(2H,bd,J=51.7Hz),6.29(1H,
d,J=7.8Hz),6.26(1H,d,J=5.8Hz),5.82(1H,d,J=7.3Hz),
5.13(1H,s),4.34-4.39(1H,dd,J=8.3,8.3Hz),3.90-3.94
(1H,dd,J=6.3,6.3Hz),3.56-3.67(3H,m)。

【０４１０】（３８ｂ）２′−シアノ−Ｎ ⁴ −パルミト
イル−２′−デオキシチジン ２′−シアノ−２′−デオキシシチジン（３８ａ）５０
０ｍｇを１０ｍｌのジメチルホルムアミドに溶解して、
パルミチン酸無水物を加え、９５℃の油浴上にて３０分
間撹拌を行った。反応液を減圧下に濃縮乾固し、残渣を
メタノールにて再結晶を行い、目的化合物を８６０．９
ｍｇ得た。

【０４１１】¹H-NMR (270MHz in d₆-DMSO)δppm ：10.9
2(1H,s),8.25(1H,d,J=7.8Hz),7.25(1H,d,J=7.3Hz),6.28
(2H,t,J=5.8Hz),4.38(1H,s),3.97-4.00(1H,dd,J=6.8,7.
3Hz),3.75(2H,t,J=6.3Hz),3.57-3.65(1H,m),2.39(2H,t,
J=7.3Hz),1.48-1.55(2H,dd,J=13.1,14.6Hz),1.23(24H,
s),0.85(3H,t,J=6.8Hz)。

【０４１２】（実施例３９）２′−シアノ−２′−デオキシ−Ｎ ⁴ −（３，４，５−
トリメトキシフェニル）アセチル−１−β−Ｄ−アラビ
ノフラノシルシトシン パルミトイルクロリドのかわりに３，４，５−トリメト
キシフェニルアセチルクロリドを用いる以外は実施例３
と同様に処理して、目的化合物を３２０ｍｇ得た。

【０４１３】¹H-NMR (270MHz in d₆-DMSO)δppm ：11.1
3(1H,bs),8.38(1H,d,J=7.5Hz),7.26(1H,d,J=7.5Hz),6.6
4(2H,s),6.26(1H,d,J=6Hz),6.22(1H,d,J=7Hz),5.22(1H,
t,J=5Hz),4.43(1H,dt,J=6,7Hz),3.91(1H,t,J=7Hz),3.75
(6H,s),3.64(3H,s),3.6-3.9(3H,m) 。

【０４１４】（実施例４０）２′−シアノ−２′−デオキシ−Ｎ ⁴ −（３，４，５−
トリメトキシベンゾイル）−１−β−Ｄ−アラビノフラ
ノシルシトシン パルミトイルクロリドのかわりに３，４，５−トリメト
キシベンゾイルクロリドを用いる以外は実施例３と同様
に処理して、目的化合物を３９５ｍｇを得た。¹H-NMR
(270MHz in d₆-DMSO)δppm ：11.32(1H,bs),8.45(1H,d,
J=7.3Hz),7.44(1H,d,J=7.3Hz),7.41(2H,s),6.28(1H,d,J
=6Hz),6.25(1H,d,J=7Hz),5.26(1H,d,J=5Hz),4.47(1H,d
t,J=6,7Hz),3.94(1H,t,J=7Hz),3.87(6H,s),3.74(3H,s),
3.6-3.9(3H,s) 。

【０４１５】（実施例４１）２′−シアノ−２′−デオキシ−Ｎ ⁴ −（４−アセトキ
シベンゾイル）−１−β−Ｄ−アラビノフラノシルシト
シン １０−メトキシエトキシメトキシヘキサデカン酸エトキ
シギ酸無水物を用いる以外は実施例２１と同様に処理し
て目的化合物２２５ｍｇを得た。

【０４１６】¹H-NMR (270MHz in d₆-DMSO)δppm ：11.3
7(1H,bs),8.44(1H,d,J=7.8Hz),8.07(2H,d,J=8.8Hz),7.4
0(1H,d,J=7.8Hz),7.27(2H,d,J=8.8Hz),6.27(1H,d,J=8H
z),6.25(1H,d,J=7.3Hz),5.26(1H,t,J=5Hz),4.46(1H,dt,
J=8,7Hz),3.94(1H,t,J=7Hz),3.6-3.9(3H,m),2.31(3H,s)
。

【０４１７】（実施例４２）２′−シアノ−２′−デオキシ−Ｎ ⁴ −（３，５−ジメ
チルベンゾイル）−１−β−Ｄ−アラビノフラノシルシ
トシン 実施の規模を１／５０としパルミチン酸無水物のかわり
に３，５−ジメチル安息香酸無水物を用いる以外は実施
例２と同様に処理して目的化合物２５６ｍｇを得た。

【０４１８】¹H-NMR (270MHz in d₆-DMSO)δppm ：11.3
7(1H,bs),8.43(1H,d,J=7.3Hz),7.65(2H,s),7.41(1H,d,J
=7.3Hz),7.26(1H,s),6.28(1H,d,J=6Hz),6.25(1H,d,J=7H
z),5.25(1H,d,J=5Hz),4.46(1H,dt,J=6,7Hz),3.94(1H,t,
J=7Hz),3.6-3.9(3H,m),2.34(6H,s) 。

【０４１９】（実施例４３）２′−シアノ−２′−デオキシ−Ｎ ⁴ −（４−ニトロベ
ンゾイル）−１−β−Ｄ−アラビノフラノシルシトシン パルミトイルクロリドのかわりに４−ニトロベンゾイル
クロリドを用いる以外は実施例３と同様に処理して目的
化合物２５１ｍｇを得た。

【０４２０】¹H-NMR (270MHz in d₆-DMSO)δppm ：11.6
9(1H,bs),8.48(1H,d,J=7Hz),8.33(2H,d,J=9Hz),8.21(2
H,d,J=9Hz),7.42(1H,d,J=7Hz),6.28(1H,d,J=6Hz),6.25
(1H,d,J=7Hz),5.26(1H,t,J=5Hz),4.46(1H,dt,J=6,7Hz),
3.95(1H,t,J=7Hz),3.8-3.9(1H,m),3.79(1H,ddd,J=12,5,
3Hz),3.66(1H,ddd,J=12,5,4Hz)。

【０４２１】（実施例４４）２’−シアノ−２’−デオキシ−Ｎ ⁴ −（９−パルミト
レイニイル）−１−β−Ｄ−アラビノフラノシルシトシ
ン ８−パルミトレイン酸0.14ml(0.8mmol) をＴＨＦ４mlに
溶かし、クロロ炭酸エチル0.115ml (1.2mmol) 及びトリ
エチルアミン0.167ml(1.2mmol)を氷冷下、窒素気流中下
で加えた。０℃で２時間、室温で５．５時間撹拌した。
白色不溶物をろ去後ろ液の溶媒を留去した。残渣をＤＭ
Ｆ0.5ml に溶かし、実施例１の化合物101mg(0.4mmol)を
加え、１００℃で４０分間加熱後、溶媒を留去した。残
渣にイソプロピルエーテル5ml を加え、超音波洗浄器に
かけて、不純物を溶解した後、遠沈した。沈殿をシリカ
ゲルクロマトにより精製した。（メタノール：塩化メチ
レン＝９６：４の混液で溶出）溶出液の溶媒を留去し、
ベンゼンより凍結乾燥を行い、目的物を108mg 得た。

【０４２２】¹H NMR(270MHz in d₆-DMSO)δppm:10.91
(1H,s),8.36(1H,d,J=7.3Hz),7.29(1H,d,J=7.8Hz),6.25
(1H,d,J=5.9Hz),6.21(1H,d,J=7.3Hz),5.31-5.34(2H,m),
5.23(1H,t,J=5.4Hz),4.40-4.47(1H,m),3.60-3.93(4H,
m),2.40(2H,t,J=7.3Hz),1.95-1.99(4H,m),1.51-1.54(2
H,m),1.26(16H,s),0.82-0.87(3H,m) 。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｄ 239:00 307:00） (72)発明者 小林 知雄 東京都品川区広町１丁目２番58号 三共 株式会社内 (72)発明者 三橋 能弘 東京都品川区広町１丁目２番58号 三共 株式会社内 (72)発明者 松田 彰 北海道札幌市北区北23条西13丁目 南新 川公務員宿舎10の501 (72)発明者 佐々木 琢磨 石川県金沢市平和町３−18−15 平和宿 舎（Ｃ）−57−11 (56)参考文献 特開 平２−73097（ＪＰ，Ａ) 欧州特許出願公開311100（ＥＰ，Ａ) 欧州特許出願公開341704（ＥＰ，Ａ)

Claims (4)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】一般式 【化１】 ［式中、Ｒ¹ 、Ｒ² 及びＲ³ は同一又は異なって、水素
   原子、炭素数２乃至２４個のアルキルカルボニル基、炭
   素数３乃至２４個のアルケニルカルボニル基、下記Ａ
   群、Ｂ群、Ｃ群、Ｄ群又はＥ群から選択される置換分を
   有する炭素数２乃至２４個のアルキルカルボニル基ある
   いは下記Ａ群、Ｂ群、Ｃ群、Ｄ群又はＥ群から選択され
   る置換分を有する炭素数７乃至１５個のアリールカルボ
   ニル基を示し、Ｒ⁴ 及びＲ⁵ は互いに従属してＲ⁴ がシ
   アノ基のときＲ⁵ は水素原子、Ｒ⁴ が水素原子のときＲ
   ⁵ はシアノ基を示す。但し、Ｒ¹ 、Ｒ² 及びＲ³ が同一
   でかつ水素原子である場合を除く。また、Ｒ¹ 、Ｒ² 及
   びＲ³ の少なくとも一つは炭素数５乃至２４個のアルキ
   ルカルボニル基、炭素数３乃至２４個のアルケニルカル
   ボニル基、下記Ａ群、Ｂ群、Ｃ群、Ｄ群又はＥ群から選
   択される置換分を有する炭素数２乃至２４個のアルキル
   カルボニル基あるいは下記Ａ群、Ｂ群、Ｃ群、Ｄ群又は
   Ｅ群から選択される置換分を有する炭素数７乃至１５個
   のアリールカルボニル基である。］を有する化合物及び
   その薬理上許容される塩。 ［Ａ群］ 水酸基、アミノ基、メルカプト基、カルボキシル基、ア
   ジド基、シアノ基、アリール基。 ［Ｂ群］ アルキルオキシ基、アルキルオキシアルキルオキシ基、
   アルキルチオアルキルオキシ基、アルキルオキシアルキ
   ルオキシアルキルオキシ基、アリールオキシ基、アラル
   キルオキシ基、アルキルカルボニルオキシ基、アリール
   カルボニルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、
   ハロゲン置換アルコキシカルボニルオキシ基、アラルキ
   ルオキシカルボニルオキシ基、トリアルキルシリルオキ
   シ基、アルキルスルホニルオキシ基。 ［Ｃ群］ アルキルチオ基、アルキルジチオ基、アリ−ルチオ基、
   アリールジチオ基、アラルキルチオ基、アラルキルジチ
   オ基、アルキルカルボニルチオ基、アリールカルボニル
   チオ基、アルコキシカルボニルチオ基、ハロゲン置換ア
   ルコキシカルボニルチオ基、アラルキルオキシカルボニ
   ルチオ基、トリアルキルシリルチオ基。 ［Ｄ群］ モノアルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、モノアリ
   ールアミノ基、ジアリールアミノ基、モノアラルキルア
   ミノ基、ジアラルキルアミノ基、モノアルキルカルボニ
   ルアミノ基、ジアルキルカルボニルアミノ基、モノアリ
   ールカルボニルアミノ基、ジアリールカルボニルアミノ
   基、アルコキシカルボニルアミノ基、ハロゲン置換アル
   コキシカルボニルアミノ基、アラルキルオキシカルボニ
   ルアミノ基、トリアルキルシリルアミノ基。 ［Ｅ群］ アルコキシカルボニル基、ハロゲン置換アルコキシカル
   ボニル基、アリールオキシカルボニル基、アラルキルオ
   キシカルボニル基。
2. 【請求項２】Ｒ¹ が、炭素数１２乃至１８個の無置換ア
   ルキルカルボニル基；水酸基、シアノ基、メトキシメチ
   ルオキシ基又は（２−メトキシエトキシ）メチルオキシ
   基で置換された炭素数１２乃至１８個のアルキルカルボ
   ニル基；炭素数１２乃至１８個の無置換アルケニルカル
   ボニル基；水酸基、シアノ基、メトキシメチルオキシ基
   又は（２−メトキシエトキシ）メチルオキシ基で置換さ
   れた炭素数１２乃至１８個のアルケニルカルボニル基の
   いずれかであり、Ｒ² 及びＲ³ が、水素原子である請求
   項１に記載の化合物。
3. 【請求項３】Ｒ¹ が炭素数１２乃至１８個の無置換アル
   キルカルボニル基；シアノ基、メトキシメチルオキシ基
   又は（２−メトキシエトキシ）メチルオキシ基で置換さ
   れた炭素数１２乃至１８個のアルキルカルボニル基；炭
   素数１２乃至１８個の無置換アルケニルカルボニル基；
   シアノ基、メトキシメチルオキシ基又は（２−メトキシ
   エトキシ）メチルオキシ基で置換された炭素数１２乃至
   １８個のアルケニルカルボニル基のいずれかであり、Ｒ
   ² 及びＲ³ が水素原子である請求項１に記載の化合物。
4. 【請求項４】Ｒ¹ が炭素数１２乃至１８個の無置換アル
   キルカルボニル基であり、Ｒ² 及びＲ³ が水素原子であ
   る請求項１に記載の化合物。