JP2510082B2 - 半導体チップ組立体の形成方法 - Google Patents
半導体チップ組立体の形成方法Info
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Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体デバイスのキャ
リア・テープ、より詳細に言えば、従来の接合用パッド
よりも高密度で配列された接合用パッドを持つ半導体チ
ップと、より高密度の入/出力用のリード線を有するキ
ャリア・テープを結合することによって半導体チップ組
立体を形成する方法に関する。
リア・テープ、より詳細に言えば、従来の接合用パッド
よりも高密度で配列された接合用パッドを持つ半導体チ
ップと、より高密度の入/出力用のリード線を有するキ
ャリア・テープを結合することによって半導体チップ組
立体を形成する方法に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体産業は、半導体チップと、リード
線とを自動的に接続し組立てる作業の自動化の方向と、
半導体チップを小型に実装する方向とを指向しており、
テープを用いた自動的接合技術(Tape Automated Bondi
ng)、いわゆる、TAB技術を含む製造装置を使用して
いる。この技術において、TABテープは、ポリイミド
・テープなどの材料から形成された絶縁体キャリアの開
口中に突出する複数の薄い金属フィルムを担持してお
り、この金属フィルムは、テープ・リードあるいはフィ
ンガと称されるリード線を形成する。この金属フィルム
は、通常、銅を基材としており、非常に薄く、通常、
0.00127ミリメートル乃至0.0762ミリメー
トルの厚さを持っている。
線とを自動的に接続し組立てる作業の自動化の方向と、
半導体チップを小型に実装する方向とを指向しており、
テープを用いた自動的接合技術(Tape Automated Bondi
ng)、いわゆる、TAB技術を含む製造装置を使用して
いる。この技術において、TABテープは、ポリイミド
・テープなどの材料から形成された絶縁体キャリアの開
口中に突出する複数の薄い金属フィルムを担持してお
り、この金属フィルムは、テープ・リードあるいはフィ
ンガと称されるリード線を形成する。この金属フィルム
は、通常、銅を基材としており、非常に薄く、通常、
0.00127ミリメートル乃至0.0762ミリメー
トルの厚さを持っている。
【0003】従来の多くのTABテープは、絶縁体キャ
リア・フィルムの一方の面上に設けられた単一の金属薄
膜を有するものであった。チップの構造が一層複雑にな
り、接合用パッドが2列になったので、最近のTABテ
ープは、チップ上の2列の接合用パッドに対して結合す
ることができるように、絶縁性キャリアの裏面に第2の
金属薄膜を設けることによって対応している。
リア・フィルムの一方の面上に設けられた単一の金属薄
膜を有するものであった。チップの構造が一層複雑にな
り、接合用パッドが2列になったので、最近のTABテ
ープは、チップ上の2列の接合用パッドに対して結合す
ることができるように、絶縁性キャリアの裏面に第2の
金属薄膜を設けることによって対応している。
【0004】図7は、半導体チップ13の接合用パッド
11及び12に結合された従来の両面式のTABテープ
・アセンブリ10を示す図である。TABテープ・アセ
ンブリ10は、一群の上部金属フィンガ15と、一群の
下部金属フィンガ16とを担持する絶縁性基体14で構
成されている。一般に、これらの金属フィンガ15、1
6は、ポリイミドのような基体14上に被着された金属
層によって形成される。基体上に被着された金属層は、
図8に示された個々のフィンガ15a及び16aを形成
するように、例えばフォトエッチングなどの公知の適当
な切除技術によって形成される。代表的な例として述べ
ると、フィンガの幅は、0.0508ミリメートルで、
エッジ相互間の間隔は、0.0381ミリメートルであ
る。フィンガ群15、16が形成された後、各フィンガ
群15及び16の端部15a及び16aの間にある基板
の部分はエッチングなどの適当な処理で除去される。
11及び12に結合された従来の両面式のTABテープ
・アセンブリ10を示す図である。TABテープ・アセ
ンブリ10は、一群の上部金属フィンガ15と、一群の
下部金属フィンガ16とを担持する絶縁性基体14で構
成されている。一般に、これらの金属フィンガ15、1
6は、ポリイミドのような基体14上に被着された金属
層によって形成される。基体上に被着された金属層は、
図8に示された個々のフィンガ15a及び16aを形成
するように、例えばフォトエッチングなどの公知の適当
な切除技術によって形成される。代表的な例として述べ
ると、フィンガの幅は、0.0508ミリメートルで、
エッジ相互間の間隔は、0.0381ミリメートルであ
る。フィンガ群15、16が形成された後、各フィンガ
群15及び16の端部15a及び16aの間にある基板
の部分はエッチングなどの適当な処理で除去される。
【0005】チップ上の夫々の半導体パッドに個々のフ
ィンガの先端部15a及び16aを結合するために最も
広く用いられている方法は、フィンガ及びチップのパッ
ドに金メッキを施すことである。各フィンガ群のメッキ
されたフィンガ先端部は、接合用パッドの関連する列に
整列され、そして、すべてのフィンガの先端部と、その
下側にある接合用パッドとを同時に加熱/加圧(代表例
では、500℃乃至550℃の温度で、毎平方センチメ
ートル当り約2.1乃至3.5キログラムの圧力)する
一括結合処理装置によって結合される。図7及び図8に
示されているように、フィンガ群16の先端部16a
は、パッド11に結合され、フィンガ群15の先端部1
5aは、パッド12に結合される。このため、フィンガ
群15及び16の間の絶縁体14の部分を除去すること
が必要であり、また、各群の個々のフィンガの先端部は
下側のパッドに対して加圧されなければならないので、
各群の個々のフィンガは、他のフィンガから夫々独立し
且つ異なった長手方向軸に位置付けられねばならない。
従って、フィンガ群15の各フィンガは、長手方向軸L
15上に位置付けられ、フィンガ群16の各フィンガ
は、長手方向軸L16上に位置付けられねばならない。
このようにして、同じ群中の隣接する2つのフィンガの
長手方向軸は、異なる群のフィンガ間の間隔Sの2倍の
値に、フィンガの幅Wを加えた間隔で分離される。
ィンガの先端部15a及び16aを結合するために最も
広く用いられている方法は、フィンガ及びチップのパッ
ドに金メッキを施すことである。各フィンガ群のメッキ
されたフィンガ先端部は、接合用パッドの関連する列に
整列され、そして、すべてのフィンガの先端部と、その
下側にある接合用パッドとを同時に加熱/加圧(代表例
では、500℃乃至550℃の温度で、毎平方センチメ
ートル当り約2.1乃至3.5キログラムの圧力)する
一括結合処理装置によって結合される。図7及び図8に
示されているように、フィンガ群16の先端部16a
は、パッド11に結合され、フィンガ群15の先端部1
5aは、パッド12に結合される。このため、フィンガ
群15及び16の間の絶縁体14の部分を除去すること
が必要であり、また、各群の個々のフィンガの先端部は
下側のパッドに対して加圧されなければならないので、
各群の個々のフィンガは、他のフィンガから夫々独立し
且つ異なった長手方向軸に位置付けられねばならない。
従って、フィンガ群15の各フィンガは、長手方向軸L
15上に位置付けられ、フィンガ群16の各フィンガ
は、長手方向軸L16上に位置付けられねばならない。
このようにして、同じ群中の隣接する2つのフィンガの
長手方向軸は、異なる群のフィンガ間の間隔Sの2倍の
値に、フィンガの幅Wを加えた間隔で分離される。
【0006】結合処理工程が終了すると、リード線の他
の端部は、自由端となり、第2のレベルのキャリア(図
示せず)(通常は、リード・フレーム、印刷回路カー
ド、またはキャリア基板など)に対して装着するために
利用される。第2のレベルのキャリアにTABテープ・
アセンブリの自由端を結合するのは、通常、はんだ付け
による低温度の結合で行われる。
の端部は、自由端となり、第2のレベルのキャリア(図
示せず)(通常は、リード・フレーム、印刷回路カー
ド、またはキャリア基板など)に対して装着するために
利用される。第2のレベルのキャリアにTABテープ・
アセンブリの自由端を結合するのは、通常、はんだ付け
による低温度の結合で行われる。
【0007】半導体チップ上の高密度パッドに対して
は、コストを低下させるために、半導体チップのサイズ
を小さくして、非常に小さなフィンガを狭い間隔に配列
することが望ましい。例えば、チップが440個のI/
Oパッドを必要とし且つI/Oパッドが、従来の両面式
のテープで使用されているように、四角形のダイの外側
を取り囲んでスタガ配列にされている場合、即ち互い違
いに2列に配列されている場合、ダイのサイズは、接合
用パッドのピッチによって、即ちチップ上のパッド列中
で隣接するパッドの中心点間の距離によって決められ
る。0.1524ミリメートル(6ミル)のピッチに対
して、チップのサイズは、約9.3ミリメートル四方の
大きさであり、0.1016ミリメートル(4ミル)の
ピッチにおいては、チップのサイズは6.2ミリメート
ル四方の大きさである。チップの接合用パッドの直径
は、通常、0.0508ミリメートル乃至0.0762
ミリメートル(2乃至3ミル)であり、加熱/加圧結合
処理によって上面がわずかに潰される。更に、このパッ
ド・ピッチは、個々のフィンガ15及び16の幅(W)
と、異なる群のフィンガ間の間隔(S)によって影響さ
れる。
は、コストを低下させるために、半導体チップのサイズ
を小さくして、非常に小さなフィンガを狭い間隔に配列
することが望ましい。例えば、チップが440個のI/
Oパッドを必要とし且つI/Oパッドが、従来の両面式
のテープで使用されているように、四角形のダイの外側
を取り囲んでスタガ配列にされている場合、即ち互い違
いに2列に配列されている場合、ダイのサイズは、接合
用パッドのピッチによって、即ちチップ上のパッド列中
で隣接するパッドの中心点間の距離によって決められ
る。0.1524ミリメートル(6ミル)のピッチに対
して、チップのサイズは、約9.3ミリメートル四方の
大きさであり、0.1016ミリメートル(4ミル)の
ピッチにおいては、チップのサイズは6.2ミリメート
ル四方の大きさである。チップの接合用パッドの直径
は、通常、0.0508ミリメートル乃至0.0762
ミリメートル(2乃至3ミル)であり、加熱/加圧結合
処理によって上面がわずかに潰される。更に、このパッ
ド・ピッチは、個々のフィンガ15及び16の幅(W)
と、異なる群のフィンガ間の間隔(S)によって影響さ
れる。
【0008】従って、従来の両面式テープの利点を最大
限に発揮させ、小さなダイ・サイズと高い密度とを得る
ために、従来の技術は、パッドの列11及び12の両方
のピッチが、符号P11及びP12で表わされている図
8に示されているように、ダブル・スタガ配列を使用し
ている。このダブル・スタガ配列の接合用パッドを使用
したチップにおいて、各列、即ちP11、P12のピッ
チは、間隔Sの2倍と、両方の群のフィンガの幅(W)
との和よりも小さくし得ないことに注意する必要があ
る。換言すれば、各列のピッチは、P11=W16+2S
+W15、そして、P12=W15+2S+W16である。
限に発揮させ、小さなダイ・サイズと高い密度とを得る
ために、従来の技術は、パッドの列11及び12の両方
のピッチが、符号P11及びP12で表わされている図
8に示されているように、ダブル・スタガ配列を使用し
ている。このダブル・スタガ配列の接合用パッドを使用
したチップにおいて、各列、即ちP11、P12のピッ
チは、間隔Sの2倍と、両方の群のフィンガの幅(W)
との和よりも小さくし得ないことに注意する必要があ
る。換言すれば、各列のピッチは、P11=W16+2S
+W15、そして、P12=W15+2S+W16である。
【0009】テープの両面にリード線を設けた従来のT
ABテープ方式は、密度及び性能に或る程度の利益を与
え、半導体チップのサイズを小さくすることができるけ
れども、十分ではなく、チップの接合用パッドが3列以
上に設けられた場合には適用できない。また、チップ上
のI/Oパッドの数が増加すると、チップのすべてのパ
ッドに対して、すべてのフィンガを同時に結合するのに
必要な圧力が直線的に増加するので、ダイの破損が生じ
る可能性が大きくなる。また、従来の方式は、チップの
接合用パッドが3列以上に設けられた場合は適用できな
い。更に、両面式テープでは、両面のリード線をエッチ
ングによって形成する際に両面のリード線位置を互いに
正確に画定しなけなければならず、製造が面倒であり、
製造コストが高くなる。。
ABテープ方式は、密度及び性能に或る程度の利益を与
え、半導体チップのサイズを小さくすることができるけ
れども、十分ではなく、チップの接合用パッドが3列以
上に設けられた場合には適用できない。また、チップ上
のI/Oパッドの数が増加すると、チップのすべてのパ
ッドに対して、すべてのフィンガを同時に結合するのに
必要な圧力が直線的に増加するので、ダイの破損が生じ
る可能性が大きくなる。また、従来の方式は、チップの
接合用パッドが3列以上に設けられた場合は適用できな
い。更に、両面式テープでは、両面のリード線をエッチ
ングによって形成する際に両面のリード線位置を互いに
正確に画定しなけなければならず、製造が面倒であり、
製造コストが高くなる。。
【0010】C.発明が解決しようとする課題 本発明の目的は、従来のTABテープによる自動結合シ
ステムにおける上述のような問題を解決し、高い密度の
接合用パッドを持つ半導体チップに適用することのでき
る半導体チップ組立体の形成方法を提供することであ
る。
ステムにおける上述のような問題を解決し、高い密度の
接合用パッドを持つ半導体チップに適用することのでき
る半導体チップ組立体の形成方法を提供することであ
る。
【0011】D.課題を解決するための手段 本発明の半導体チップ組立体の形成方法は、次のステッ
プ、即ち、(a) 表面に複数列の接合用パッドを有し、各
列のパッドが、隣接する列の夫々のパッドと同じ長手方
向軸上に整列して設けられている半導体チップを準備
し、(b) 複数の第1の導電性リード線を担持した第1の
絶縁層よりなり、各第1のリード線の端部が上記第1の
絶縁層から突出している第1のリード線担持テープを準
備し、(c) 複数の第2の導電性リード線を担持した第2
の絶縁層よりなり、各第2のリード線の端部が上記第2
の絶縁層から突出している第2のリード線担持テープを
準備し、(d) 上記第1のリード線の端部を上記半導体チ
ップの上記複数列のパッドのうちの外側の列のパッドに
整列させるように上記第1のリード線担持テープを位置
合わせし、(e) 上記第1のリード線の端部を上記外側の
列のパッドに結合し、(f) 上記第2のリード線の端部を
上記半導体チップの上記複数列のパッドのうちの内側の
列のパッドに整列させるように上記第2のリード線担持
テープを上記第1のリード線担持テープの上に配置して
位置合わせし、(g) 上記第2のリード線の端部を上記内
側の列のパッドに結合することを含む。
プ、即ち、(a) 表面に複数列の接合用パッドを有し、各
列のパッドが、隣接する列の夫々のパッドと同じ長手方
向軸上に整列して設けられている半導体チップを準備
し、(b) 複数の第1の導電性リード線を担持した第1の
絶縁層よりなり、各第1のリード線の端部が上記第1の
絶縁層から突出している第1のリード線担持テープを準
備し、(c) 複数の第2の導電性リード線を担持した第2
の絶縁層よりなり、各第2のリード線の端部が上記第2
の絶縁層から突出している第2のリード線担持テープを
準備し、(d) 上記第1のリード線の端部を上記半導体チ
ップの上記複数列のパッドのうちの外側の列のパッドに
整列させるように上記第1のリード線担持テープを位置
合わせし、(e) 上記第1のリード線の端部を上記外側の
列のパッドに結合し、(f) 上記第2のリード線の端部を
上記半導体チップの上記複数列のパッドのうちの内側の
列のパッドに整列させるように上記第2のリード線担持
テープを上記第1のリード線担持テープの上に配置して
位置合わせし、(g) 上記第2のリード線の端部を上記内
側の列のパッドに結合することを含む。
【0012】本発明によれば、チップ上の接合用パッド
の従来のジグザグ的な配列を必要とせず、接合用パッド
の間の間隔を極めて狭くすることができ、しかもコスト
を低減させることができる。
の従来のジグザグ的な配列を必要とせず、接合用パッド
の間の間隔を極めて狭くすることができ、しかもコスト
を低減させることができる。
【0013】E.実施例 本発明は、半導体チップに対して、個々の且つ順次に結
合される複数の単一層テープを使用することに基づくも
のである。
合される複数の単一層テープを使用することに基づくも
のである。
【0014】図1及び図2は、コストを低下させ、パッ
ド密度を従来のダブル・スタガ配列(図7及び図8)の
ピッチのほぼ2倍に増加し、上述の問題点を解決した本
発明によるテープ組立体の実施例を示す図である。図1
及び図2に示した本発明の実施例は、チップ30の接合
用パッドに結合される2つの単一層テープ20及び21
を使用することを含んでいる。テープ20は、一群の独
立した導電性フィンガ20a及び絶縁層24を含み、そ
して、テープ20とは分離したテープ21は、一群の独
立した導電性フィンガ21a及び絶縁層23を含んでい
る。当業者には明らかなように、このようなテープは、
例えば絶縁層の表面に金属層を被着した後、絶縁層上に
フィンガの端部を形成するように、金属層をエッチング
することによって作られる。
ド密度を従来のダブル・スタガ配列(図7及び図8)の
ピッチのほぼ2倍に増加し、上述の問題点を解決した本
発明によるテープ組立体の実施例を示す図である。図1
及び図2に示した本発明の実施例は、チップ30の接合
用パッドに結合される2つの単一層テープ20及び21
を使用することを含んでいる。テープ20は、一群の独
立した導電性フィンガ20a及び絶縁層24を含み、そ
して、テープ20とは分離したテープ21は、一群の独
立した導電性フィンガ21a及び絶縁層23を含んでい
る。当業者には明らかなように、このようなテープは、
例えば絶縁層の表面に金属層を被着した後、絶縁層上に
フィンガの端部を形成するように、金属層をエッチング
することによって作られる。
【0015】本発明に従って、第1の単一層テープ20
は、フィンガ20aの先端部が、チップ30上の外側列
として配列されている関連入/出力(I/O)パッド2
6と整合するように作られている。第2のテープ21
は、フィンガ21aの先端部が、チップ30上に第2の
内側列として配列された関連するI/Oパッド27と整
合するように形成される。下側のテープ20のフィンガ
20aは、第1の結合処理によって、外側列のパッド2
6と整列するように位置合わせされ、結合される。上側
のテープ21は下側のテープの上に重ねて配置され、そ
して、フィンガ21aの先端部は、第2の結合処理にお
いて、I/Oパッドの内側列のパッド27と整列するよ
うに位置合わせされ、結合される。結合している時か、
または結合後に、第2群のフィンガ21の下側のポリイ
ミド層23が、適当なエポキシ樹脂の接着剤23aによ
って、テープ21の下側のテープ20の第1群のフィン
ガ20aに固着される。層23及び24が、例えばカプ
トンの商標名で販売されているポリイミドで作られてい
る場合、接着剤は、例えば商標名、ロジャース(Roger
s)8970で販売されているフエノール・ブチルの加
熱式接着剤でよい。他の案として、この層23aは、厚
さが約0.127ミリメートル(5ミル)までの重合性
の材料でもよく、この材料は、加熱/加圧式結合装置で
加熱された時、フィンガ20aの囲りに流れて、フィン
ガ20aと下側の絶縁層24に接着する。必要に応じ
て、上側のテープ21のリード線は、重合性の密封材料
で被履することができる。密封材料としては、シリコ
ン、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、ポリイミド及びシリ
コン・ポリイミドなどがある。
は、フィンガ20aの先端部が、チップ30上の外側列
として配列されている関連入/出力(I/O)パッド2
6と整合するように作られている。第2のテープ21
は、フィンガ21aの先端部が、チップ30上に第2の
内側列として配列された関連するI/Oパッド27と整
合するように形成される。下側のテープ20のフィンガ
20aは、第1の結合処理によって、外側列のパッド2
6と整列するように位置合わせされ、結合される。上側
のテープ21は下側のテープの上に重ねて配置され、そ
して、フィンガ21aの先端部は、第2の結合処理にお
いて、I/Oパッドの内側列のパッド27と整列するよ
うに位置合わせされ、結合される。結合している時か、
または結合後に、第2群のフィンガ21の下側のポリイ
ミド層23が、適当なエポキシ樹脂の接着剤23aによ
って、テープ21の下側のテープ20の第1群のフィン
ガ20aに固着される。層23及び24が、例えばカプ
トンの商標名で販売されているポリイミドで作られてい
る場合、接着剤は、例えば商標名、ロジャース(Roger
s)8970で販売されているフエノール・ブチルの加
熱式接着剤でよい。他の案として、この層23aは、厚
さが約0.127ミリメートル(5ミル)までの重合性
の材料でもよく、この材料は、加熱/加圧式結合装置で
加熱された時、フィンガ20aの囲りに流れて、フィン
ガ20aと下側の絶縁層24に接着する。必要に応じ
て、上側のテープ21のリード線は、重合性の密封材料
で被履することができる。密封材料としては、シリコ
ン、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、ポリイミド及びシリ
コン・ポリイミドなどがある。
【0016】層23aとして重合性の材料を使用し、フ
ィンガ20aの周囲にこの材料を流動させ、絶縁層24
と接着させることによって、リード線20aの間のバイ
アスで誘起される銅のマイグレーションが減少され、機
械的な強度が増加し、そしてテープの巻き癖が軽減され
る。
ィンガ20aの周囲にこの材料を流動させ、絶縁層24
と接着させることによって、リード線20aの間のバイ
アスで誘起される銅のマイグレーションが減少され、機
械的な強度が増加し、そしてテープの巻き癖が軽減され
る。
【0017】2つの分離したフィンガ群を使用し、それ
らのフィンガ群を別々に結合することによって、下側の
パッド26及び27の密度を増加することができる。図
2に示されたように、各群のリード線の長手方向の軸が
同じ位置にあるので、各群のフィンガの間のピッチは同
じである。
らのフィンガ群を別々に結合することによって、下側の
パッド26及び27の密度を増加することができる。図
2に示されたように、各群のリード線の長手方向の軸が
同じ位置にあるので、各群のフィンガの間のピッチは同
じである。
【0018】本発明においては、下側の第1のテープ2
0がパッドの外側の列に独立して結合され、次に上側の
テープ21が、内側の列のパッドに独立して結合される
ので、ピッチの減少が可能となった。このようにして、
各テープの関連するフィンガは、同じ長手方向の軸と重
複する。
0がパッドの外側の列に独立して結合され、次に上側の
テープ21が、内側の列のパッドに独立して結合される
ので、ピッチの減少が可能となった。このようにして、
各テープの関連するフィンガは、同じ長手方向の軸と重
複する。
【0019】本発明において、フィンガの幅は、従来の
テープのフィンガの幅と同じであるけれども、従来の両
面式のテープにより必要とするピッチの半分のピッチに
することができる。
テープのフィンガの幅と同じであるけれども、従来の両
面式のテープにより必要とするピッチの半分のピッチに
することができる。
【0020】本発明は、第3のテープを付加することに
よって更に拡張することができる。第3のテープは、前
の2つのパッドの列に対して内側の第3のパッドの列に
結合することによって、チップのサイズに著しい影響を
与えることなく、チップ上で利用可能なパッドの数を増
加することができる。
よって更に拡張することができる。第3のテープは、前
の2つのパッドの列に対して内側の第3のパッドの列に
結合することによって、チップのサイズに著しい影響を
与えることなく、チップ上で利用可能なパッドの数を増
加することができる。
【0021】3層構造の実施例は図3及び図4に示され
ている。図3は、本発明の3層式の実施例が一連のパッ
ド列32、33及び34を介して半導体チップ31に結
合されていることを示す断面図であり、図4は、この3
層式組立体の平面図である。
ている。図3は、本発明の3層式の実施例が一連のパッ
ド列32、33及び34を介して半導体チップ31に結
合されていることを示す断面図であり、図4は、この3
層式組立体の平面図である。
【0022】図3において、3枚の独立した単一面テー
プ36、37及び38が使用され、各テープは絶縁層上
に形成された一群の独立したフィンガを持っている。即
ち、テープ36は、独立したフィンガ36a及び絶縁層
40を持っており、テープ37は、独立したフィンガ3
7a及び絶縁層41を持っており、そしてテープ38
は、独立したフィンガ38a及び絶縁層42を持ってい
る。これらのフィンガ群の各独立したフィンガは、同じ
長手方向軸L32、L33、L34上に重なる。
プ36、37及び38が使用され、各テープは絶縁層上
に形成された一群の独立したフィンガを持っている。即
ち、テープ36は、独立したフィンガ36a及び絶縁層
40を持っており、テープ37は、独立したフィンガ3
7a及び絶縁層41を持っており、そしてテープ38
は、独立したフィンガ38a及び絶縁層42を持ってい
る。これらのフィンガ群の各独立したフィンガは、同じ
長手方向軸L32、L33、L34上に重なる。
【0023】この3層構造は、第1の結合処理により、
テープ36のフィンガ36aの先端部をパッド32に載
置して結合し、次に、テープ36の上にテープ37を載
せて、パッド33に対してフィンガ37aの先端部を結
合し且つテープ36に絶縁層41を固着し、最後に、テ
ープ37の上にテープ38を載せて、パッド34に対し
てフィンガ38aを結合し、テープ37にテープ38を
固着する。この複数層のテープ構造は、各テープが同じ
長手方向の軸L32、L33、L34上に位置する各テ
ープのフィンガを持っているので、図1及び図2のもの
よりも高い密度を持っていることが理解されよう。
テープ36のフィンガ36aの先端部をパッド32に載
置して結合し、次に、テープ36の上にテープ37を載
せて、パッド33に対してフィンガ37aの先端部を結
合し且つテープ36に絶縁層41を固着し、最後に、テ
ープ37の上にテープ38を載せて、パッド34に対し
てフィンガ38aを結合し、テープ37にテープ38を
固着する。この複数層のテープ構造は、各テープが同じ
長手方向の軸L32、L33、L34上に位置する各テ
ープのフィンガを持っているので、図1及び図2のもの
よりも高い密度を持っていることが理解されよう。
【0024】各テープ37及び38は、図1に関して説
明したような接着剤の層か、または重合性材料の層を持
つことができ、これにより、下側のフィンガ36a及び
37aが効果的に密封できる。同様に、フィンガ38a
も、図1で説明したような密閉材料で被履することがで
きる。
明したような接着剤の層か、または重合性材料の層を持
つことができ、これにより、下側のフィンガ36a及び
37aが効果的に密封できる。同様に、フィンガ38a
も、図1で説明したような密閉材料で被履することがで
きる。
【0025】もし必要ならば、中間のテープ37は、そ
のフィンガを信号用のパッドに接続することができ、他
方、テープ36及び38は、接地用パッドに接続するこ
とができる。他の案として、各テープの選択されたフィ
ンガを信号用パッド、電圧供給用パッド、または接地用
パッドの何れかに接続することができる。実際問題とし
て、3つの層のフィンガを同軸ケーブル的な配列とする
ために、各信号伝達用フィンガを取り巻くようにアース
用フィンガを組み合わせることができ、これにより、組
立体の信号伝達特性を向上することが可能である。
のフィンガを信号用のパッドに接続することができ、他
方、テープ36及び38は、接地用パッドに接続するこ
とができる。他の案として、各テープの選択されたフィ
ンガを信号用パッド、電圧供給用パッド、または接地用
パッドの何れかに接続することができる。実際問題とし
て、3つの層のフィンガを同軸ケーブル的な配列とする
ために、各信号伝達用フィンガを取り巻くようにアース
用フィンガを組み合わせることができ、これにより、組
立体の信号伝達特性を向上することが可能である。
【0026】図5及び図6は半導体チップ組立体の変形
例を示している。図5には、一連の接合用パッド51を
持つ半導体チップ50が示されており、この半導体チッ
プ50には、絶縁層53と複数個の金属フィンガ即ちリ
ード54とを含む単一層のテープ52が結合されてい
る。上述したように、テープ52のフィンガの先端部が
パッド51に結合された後、平坦な導電性カバー・シー
ト即ち金属薄膜56が、テープ52の表面と、チップ5
0の動作面、即ちパッド51を担持するチップ表面の上
に延びるように設けられて固着される。導電性カバー・
シート56は絶縁層55によってチップ50及びフィン
ガ54から分離されている。このようなカバー・シート
56は、この実施例では、平坦な面、即ち連続面である
と同時に、厚さが均一にされているが、これは必ずしも
必要なことではない。
例を示している。図5には、一連の接合用パッド51を
持つ半導体チップ50が示されており、この半導体チッ
プ50には、絶縁層53と複数個の金属フィンガ即ちリ
ード54とを含む単一層のテープ52が結合されてい
る。上述したように、テープ52のフィンガの先端部が
パッド51に結合された後、平坦な導電性カバー・シー
ト即ち金属薄膜56が、テープ52の表面と、チップ5
0の動作面、即ちパッド51を担持するチップ表面の上
に延びるように設けられて固着される。導電性カバー・
シート56は絶縁層55によってチップ50及びフィン
ガ54から分離されている。このようなカバー・シート
56は、この実施例では、平坦な面、即ち連続面である
と同時に、厚さが均一にされているが、これは必ずしも
必要なことではない。
【0027】金属カバー・シート56は、TABテープ
をチップ上のパッドに固着した後、上述した接着剤また
は加熱接着などの適当な固着方法によって、TABテー
プに固着することができる。
をチップ上のパッドに固着した後、上述した接着剤また
は加熱接着などの適当な固着方法によって、TABテー
プに固着することができる。
【0028】このような金属カバー・シート56を接地
面として使用すれば、チップの信号伝送特性が改善され
る。また、金属カバー・シート56は、信号リードのク
ロストークを減少させ、信号リードのインピーダンスを
改善し、チップの電磁特性や、高周波シールド特性を改
善することによって、チップに対して、より良い電気的
性能を与える。更に、機械的な強度を増加させ、熱的性
能を向上させ、平坦面を与えるなどの他の利点をも与え
る。
面として使用すれば、チップの信号伝送特性が改善され
る。また、金属カバー・シート56は、信号リードのク
ロストークを減少させ、信号リードのインピーダンスを
改善し、チップの電磁特性や、高周波シールド特性を改
善することによって、チップに対して、より良い電気的
性能を与える。更に、機械的な強度を増加させ、熱的性
能を向上させ、平坦面を与えるなどの他の利点をも与え
る。
【0029】図6は、絶縁層63によって分離されてい
る金属フィンガ61及び62の2つの群を含む多層テー
プ60を示している。フィンガ61及び62は、チップ
のパッド65及び66に夫々結合される。フィンガ62
の上側には、上述のような適当な絶縁層68によってフ
ィンガ62から絶縁されて固着されている平坦な第1の
金属カバー・シート67が設けられている。また、フィ
ンガ61の下側には、第2の金属面即ち金属カバー・シ
ート69が設けられ、これは、適当な絶縁層70によっ
てフィンガ61から絶縁されて固着されている。
る金属フィンガ61及び62の2つの群を含む多層テー
プ60を示している。フィンガ61及び62は、チップ
のパッド65及び66に夫々結合される。フィンガ62
の上側には、上述のような適当な絶縁層68によってフ
ィンガ62から絶縁されて固着されている平坦な第1の
金属カバー・シート67が設けられている。また、フィ
ンガ61の下側には、第2の金属面即ち金属カバー・シ
ート69が設けられ、これは、適当な絶縁層70によっ
てフィンガ61から絶縁されて固着されている。
【0030】金属カバー・シート67及び69は、TA
Bテープをチップ上のパッドに固着した後、接着剤また
は加熱接着などの適当な固着方法によって、TABテー
プに固着することができる。
Bテープをチップ上のパッドに固着した後、接着剤また
は加熱接着などの適当な固着方法によって、TABテー
プに固着することができる。
【0031】また、金属シート67及び69は、厚さが
均一でも、不均一でもよく、また、チップ本体の上まで
拡張することができる。
均一でも、不均一でもよく、また、チップ本体の上まで
拡張することができる。
【0032】金属シート67及び69を接地面として使
用すれば、フィンガ61及び62が信号用のリード線と
して用られるときは、デバイスの伝送特性が改善され
る。
用すれば、フィンガ61及び62が信号用のリード線と
して用られるときは、デバイスの伝送特性が改善され
る。
【0033】また、金属カバー・シート56は、信号リ
ードのクロストークを減少させ、信号リードのインピー
ダンスを改善し、チップの電磁特性や、高周波シールド
特性を改善することによって、チップに対して、より良
い電気的性能を与える。更に、機械的な強度を増加さ
せ、熱的性能を向上させ、平坦面を与えるなどの他の利
点をも与える。
ードのクロストークを減少させ、信号リードのインピー
ダンスを改善し、チップの電磁特性や、高周波シールド
特性を改善することによって、チップに対して、より良
い電気的性能を与える。更に、機械的な強度を増加さ
せ、熱的性能を向上させ、平坦面を与えるなどの他の利
点をも与える。
【0034】
【発明の効果】本発明によれば、極めて密度の高い接合
用パッドを有する半導体チップの組立体を形成できる。
従来の両面式テープにおける両面のエッチングのアライ
メントの問題を回避し、2つの金属層の間のポリイミド
をエッチングにより除去する必要がなく、チップ上のパ
ッドをスタガ配列にする必要がなく、チップ上で3列以
上のパッドの列にも適用することができ、チップ上の接
合用パッドの密度を90%増加することが可能で、その
結果、チップのサイズを著しく小さくすることができる
る。本発明によれば、両面のリード・パターンのアライ
メントが要求される面倒な両面エッチング及び絶縁層エ
ッチングの必要性がなくなるから、コストを逓減できる
だけでなく、支持されていないフィンガの長さを短くす
ることができる。また、チップ上の接合用パッドの間隔
を極めて狭くすることができ、一層コストを低減させる
ことができる。
用パッドを有する半導体チップの組立体を形成できる。
従来の両面式テープにおける両面のエッチングのアライ
メントの問題を回避し、2つの金属層の間のポリイミド
をエッチングにより除去する必要がなく、チップ上のパ
ッドをスタガ配列にする必要がなく、チップ上で3列以
上のパッドの列にも適用することができ、チップ上の接
合用パッドの密度を90%増加することが可能で、その
結果、チップのサイズを著しく小さくすることができる
る。本発明によれば、両面のリード・パターンのアライ
メントが要求される面倒な両面エッチング及び絶縁層エ
ッチングの必要性がなくなるから、コストを逓減できる
だけでなく、支持されていないフィンガの長さを短くす
ることができる。また、チップ上の接合用パッドの間隔
を極めて狭くすることができ、一層コストを低減させる
ことができる。
【図1】2列の接合用パッドを有する本発明の半導体チ
ップ組立体の実施例の一部の断面図である。
ップ組立体の実施例の一部の断面図である。
【図2】図1のチップ組立体を上から見た平面図であ
る。
る。
【図3】3列の接合用パッドを有する本発明の半導体チ
ップ組立体の第2の実施例の一部の断面図である。
ップ組立体の第2の実施例の一部の断面図である。
【図4】図3のチップ組立体を上から見た平面図であ
る。
る。
【図5】半導体チップの変形例を示す断面図である。
【図6】半導体チップの別の変形例を示す断面図であ
る。
る。
【図7】従来のチップ組立体を説明する図である。
【図8】従来のチップ組立体を説明する図である。
20 下側の単一層のテープ 21 上側の単一層のテープ 20a 下側のフィンガ(リード線) 21a 上側のフィンガ(リード線) 23、24 絶縁層 23a 接着剤層 26 外側の列の接合用チップ・パッド 27 内側の列の接合用チップ・パッド 30、31 半導体チップ 36、37、38 単一層のテープ 36a、37a、38a フィンガ(リード線) 40、41、42 絶縁層 32 外側の列の接合用チップ・パッド 33 中間の列の接合用チップ・パッド 34 内側の列の接合用チップ・パッド 50 半導体チップ 51、65、66 接合用チップ・パッド 52 単一層のテープ 60 多層テープ 53、55、63、68、70 絶縁層 54、61、62 フィンガ(リード線) 56、67、69 導電性カバー・シート
フロントページの続き (72)発明者 エドワード・ジョン・ドンブロスキイ アメリカ合衆国ヴァーモント州ジェリ コ、ボックス4071、アール・アール2番 地 (72)発明者 ウイリアム・ヒューレット・ガースリイ アメリカ合衆国ヴァーモント州エセック ス・ジャンクション、キローラン・ドラ イブ5番地 (72)発明者 リチャード・ウイリアム・ノース アメリカ合衆国ヴァーモント州フェアフ ァックス、3052シイー、アール・アール 2、パイネミュードー9番地 (56)参考文献 特開 昭60−46040(JP,A) 特開 昭63−164229(JP,A) 特開 昭63−302531(JP,A) 実開 昭54−124472(JP,U) 実開 昭61−156244(JP,U)
Claims (1)
- 【請求項1】(a) 表面に複数列の接合用パッドを有し、
各列のパッドが、隣接する列の夫々のパッドと同じ長手
方向軸上に整列して設けられている半導体チップを準備
し、(b) 複数の第1の導電性リード線を担持した第1の
絶縁層よりなり、各第1のリード線の端部が上記第1の
絶縁層から突出している第1のリード線担持テープを準
備し、(c) 複数の第2の導電性リード線を担持した第2
の絶縁層よりなり、各第2のリード線の端部が上記第2
の絶縁層から突出している第2のリード線担持テープを
準備し、(d) 上記第1のリード線の端部を上記半導体チ
ップの上記複数列のパッドのうちの外側の列のパッドに
整列させるように上記第1のリード線担持テープを位置
合わせし、(e) 上記第1のリード線の端部を上記外側の
列のパッドに結合し、(f) 上記第2のリード線の端部を
上記半導体チップの上記複数列のパッドのうちの内側の
列のパッドに整列させるように上記第2のリード線担持
テープを上記第1のリード線担持テープの上に配置して
位置合わせし、(g) 上記第2のリード線の端部を上記内
側の列のパッドに結合することを含む半導体チップ組立
体の形成方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US07/303,207 US4912547A (en) | 1989-01-30 | 1989-01-30 | Tape bonded semiconductor device |
US303207 | 1989-01-30 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018123A Division JPH07111984B2 (ja) | 1989-01-30 | 1990-01-30 | 半導体チップの組立体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH07245326A JPH07245326A (ja) | 1995-09-19 |
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