JP2022516278A - 真空食品加工システム - Google Patents

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Abstract

食品加工システムと併用するためのアタッチメントは、壁および加工チャンバーを含む密封可能本体と、密封可能本体内に形成されるチャンバー開口部と、チャンバー開口部と流体連通して配置される真空通路とを含む。真空通路は、前述の密封可能本体の前述の壁および前述の加工チャンバーのうちの少なくとも一つと関連付けられる。

Description

本発明の例示的な実施形態は、ブレンダーに関し、より具体的には、その中に一つまたは複数の食品品目を受けるように構成されるブレンダーの容器に関する。
ブレンダーは、液体、固体、半固体、ゲル、および類似のものを含む、複数の異なる食品を加工するために一般的に使用される。ブレンダーは、ホームキッチン用途、プロフェッショナルなレストランまたは食品サービス用途、および大規模な産業用途を含む、幅広い商業環境における食品の混合、切断、およびダイシングのための有用な装置であることが公知である。それらは、手によるチョッピングまたはダイシングの便利な代替手段を提供し、例えば、特定の食品に供されるように、特定のタイプまたは量の食品加工を提供するように適合される、さまざまな動作設定およびモードをしばしば含む。
混合動作の前または後のいずれかで、ブレンダー容器またはアタッチメント内に真空を形成することによって、いくつかの利点を達成することができる。例えば、混合動作の前に真空を形成することによって、加工中の材料の栄養特性の全体的な劣化が低減され得る。従って、ブレンダー容器またはアタッチメントは、ブレンダー容器内に真空を選択的に形成するために移動可能なシールを含んでもよい。しかしながら、ブレンダー容器が、例えば、車両の中などの高振動環境で使用される場合、または容器がバッグの中で運ばれる場合、ブレンダー容器の内部からの液体または他の材料がシールを通して漏れる可能性がある。
実施形態によれば、食品加工システムと併用するためのアタッチメントは、壁および加工チャンバーを含む密封可能本体と、前述の密封可能本体内に形成されるチャンバー開口部と、前述のチャンバー開口部と流体連通して配置される真空通路とを含む。真空通路は、前述の密封可能本体の前述の壁および前述の加工チャンバーのうちの少なくとも一つと関連付けられる。
上述の一つまたは複数の特徴に加えて、または代替として、さらなる実施形態では、前述の真空通路の一部分は、前述の壁によって少なくとも部分的に画定される。
上述の一つまたは複数の特徴に加えて、または代替として、さらなる実施形態では、前述の真空通路の一部分は、前述の密封可能本体の前述の壁と一体的に形成される。
上述の一つまたは複数の特徴に加えて、または代替として、さらなる実施形態では、前述の真空通路は、前述の壁および前述の加工チャンバーの外側の前述の密封可能本体の側面に配置される。
上述の一つまたは複数の特徴に加えて、または代替として、さらなる実施形態では、前述の壁に接続される二次構造を含み、前述の二次構造および前述の壁が協働して、前述の真空通路の少なくとも一部分を画定する。
上述の一つまたは複数の特徴に加えて、または代替として、さらなる実施形態では、前述の二次構造は、前述の側壁にオーバーモールドされる。
上述の一つまたは複数の特徴に加えて、または代替として、さらなる実施形態では、前述の二次構造は、成形チャネルである。
上述の一つまたは複数の特徴に加えて、または代替として、さらなる実施形態では、前述の二次構造は、押出成形チャネルである。
上述の一つまたは複数の特徴に加えて、または代替として、さらなる実施形態では、前述の二次構造は、誘導溶接を介して前述の壁に貼り付けられる。
上述の一つまたは複数の特徴に加えて、または代替として、さらなる実施形態では、前述の二次構造は、前述の壁とのシームレスな境界面を形成する。
上述の一つまたは複数の特徴に加えて、または代替として、さらなる実施形態では、前述の二次構造の少なくとも一部分は、前述の壁の隣接表面と面一である。
上述の一つまたは複数の特徴に加えて、または代替として、さらなる実施形態では、前述の真空通路の一部分が前述の加工チャンバーを通って延在する。
上述の一つまたは複数の特徴に加えて、または代替として、さらなる実施形態では、前述の真空通路の前述の一部分は、前述の壁の内部表面に取り付けられる。
上述の一つまたは複数の特徴に加えて、または代替として、さらなる実施形態では、前述の真空通路は、剛直な管によって少なくとも部分的に画定される。
上述の一つまたは複数の特徴に加えて、または代替として、さらなる実施形態では、前述の真空通路および前述のチャンバー開口部に接続される真空チャンバーを含む。
上述の一つまたは複数の特徴に加えて、または代替として、さらなる実施形態では、前述の密封可能本体に取り付けられたカバーを含み、前述のカバーおよび前述の密封可能本体が協働して、前述の真空チャンバーを画定する。
上述の一つまたは複数の特徴に加えて、または代替として、蓋を含むさらなる実施形態では、前述の真空チャンバーが前述の蓋内に画定される。
上述の一つまたは複数の特徴に加えて、または代替として、さらなる実施形態では、前述のチャンバー開口部内に配置された真空封止アセンブリーを含む。
上述の一つまたは複数の特徴に加えて、または代替として、さらなる実施形態では、前述の加工チャンバーに関連付けられた解放機構を含み、前述の解放機構は、前述の加工チャンバーを、前述の密封可能本体の外部の周囲雰囲気に流体連結するように移動可能である。
上述の一つまたは複数の特徴に加えて、または代替として、さらなる実施形態では、前述の密封可能本体は、前述の食品加工ベースから分離されるときに第一の配向を有し、前述の食品加工ベースに接続されるときに第二の配向を有する。
上述の一つまたは複数の特徴に加えて、または代替として、さらなる実施形態では、前述の密封可能本体は、前述の食品加工ベースから分離されるとき、および前述の食品加工ベースに接続されるときに第一の配向を有する。
さらに別の実施形態によると、食品加工システムは、真空システムを含む食品プロセッサーベースと食品プロセッサーベースとの取り外し可能な関連付けのために構成されるアタッチメントとを含む。アタッチメントは、壁および加工チャンバーを含む密封可能本体を含む。チャンバー開口部は、密封可能本体内に形成され、真空通路はチャンバー開口部と流体連通して配置される。真空通路は、密封可能本体の前述の壁および前述の加工チャンバーのうちの少なくとも一つと関連付けられる。アタッチメントが前述の食品プロセッサーベースの周りに設置されると、真空通路は前述の真空システムに流体接続される。
上述の一つまたは複数の特徴に加えて、または代替として、さらなる実施形態では、前述の真空システムは、前述の食品加工ベースの第一の側面に隣接して配置され、前述の真空通路は、前述の食品加工ベースに取り付けられた時に、前述の食品加工ベースの前述の第一の側面と整列する。
上述の一つまたは複数の特徴に加えて、または代替として、さらなる実施形態では、前述の真空通路の一部分は、前述の壁によって少なくとも部分的に画定される。
上述の一つまたは複数の特徴に加えて、または代替として、さらなる実施形態では、前述の真空通路の一部分は、前述の密封可能本体の前述の壁と一体的に形成される。
上述の一つまたは複数の特徴に加えて、または代替として、さらなる実施形態では、前述の真空通路は、前述の壁および前述の加工チャンバーの外側の前述の密封可能本体の側面に配置される。
上述の一つまたは複数の特徴に加えて、または代替として、さらなる実施形態では、前述の密封可能本体は、前述の壁に接続される二次構造を含み、前述の二次構造および前述の壁は協働して、前述の真空通路の少なくとも一部分を画定する。
上述の一つまたは複数の特徴に加えて、または代替として、さらなる実施形態では、前述の二次構造は、前述の側壁にオーバーモールドされる。
上述の一つまたは複数の特徴に加えて、または代替として、さらなる実施形態では、前述の二次構造は、成形チャネルである。
上述の一つまたは複数の特徴に加えて、または代替として、さらなる実施形態では、前述の二次構造は、押出成形チャネルである。
上述の一つまたは複数の特徴に加えて、または代替として、さらなる実施形態では、前述の二次構造は、誘導溶接を介して前述の壁に貼り付けられる。
上述の一つまたは複数の特徴に加えて、または代替として、さらなる実施形態では、前述の二次構造は、前述の壁とのシームレスな境界面を形成する。
上述の一つまたは複数の特徴に加えて、または代替として、さらなる実施形態では、前述の二次構造の少なくとも一部分は、前述の壁の隣接表面と面一である。
上述の一つまたは複数の特徴に加えて、または代替として、さらなる実施形態では、前述の真空通路の一部分が前述の加工チャンバーを通って延在する。
上述の一つまたは複数の特徴に加えて、または代替として、さらなる実施形態では、前述の真空通路の前述の一部分は、前述の壁の内部表面に取り付けられる。
上述の一つまたは複数の特徴に加えて、または代替として、さらなる実施形態では、前述の真空通路は、剛直な管によって少なくとも部分的に画定される。
上述の一つまたは複数の特徴に加えて、または代替として、さらなる実施形態では、前述の真空通路および前述のチャンバー開口部に接続される真空チャンバーを含む。
上述の一つまたは複数の特徴に加えて、または代替として、さらなる実施形態では、前述の密封可能本体に取り付けられたカバーを含み、前述のカバーおよび前述の密封可能本体が協働して、前述の真空チャンバーを画定する。
上述の一つまたは複数の特徴に加えて、または代替として、蓋を含むさらなる実施形態では、前述の真空チャンバーが前述の蓋内に画定される。
上述の一つまたは複数の特徴に加えて、または代替として、さらなる実施形態では、前述のチャンバー開口部内に配置された真空封止アセンブリーを含む。
上述の一つまたは複数の特徴に加えて、または代替として、さらなる実施形態では、前述の加工チャンバーに関連付けられた解放機構を含み、前述の解放機構は、前述の加工チャンバーを、前述の密封可能本体の外部の周囲雰囲気に流体連結するように移動可能である。
上述の一つまたは複数の特徴に加えて、または代替として、さらなる実施形態では、前述の密封可能本体は、前述の食品加工ベースから分離されるときに第一の配向を有し、前述の食品加工ベースに接続されるときに第二の配向を有する。
さらに別の実施形態では、食品加工システムと併用するためのアタッチメントは、加工チャンバーを含む密封可能本体と、前述の密封可能本体の少なくとも一部分を通して加工チャンバーから延在する真空経路と、加工チャンバーから前述の密封可能本体の外部へ延在する解放経路とを含む。真空経路は、解放経路から分離している。
上述の一つまたは複数の特徴に加えて、または代替として、さらなる実施形態では、前述の真空経路は、真空チャンバーと、真空通路とをさらに含み、前述の真空通路は、前述の密封可能本体と一体的である。
上述の一つまたは複数の特徴に加えて、または代替として、さらなる実施形態では、前述の密封可能本体に取り付けられたカバーを含み、前述のカバーおよび前述の密封可能本体が協働して、前述の真空チャンバーを画定する。
上述の一つまたは複数の特徴に加えて、または代替として、さらなる実施形態では、前述の密封可能本体の開放端部に接続可能で、前述の加工チャンバーを封止する、蓋を含み、前述の真空チャンバーが前述の蓋内に画定される。
上述の一つまたは複数の特徴に加えて、または代替として、さらなる実施形態では、前述の加工チャンバーを前述の真空チャンバーに接続するチャンバー開口部と、前述のチャンバー開口部内に配置された真空封止アセンブリーとを含む。
上述の一つまたは複数の特徴に加えて、または代替として、さらなる実施形態では、前述の解放経路は、前述の加工チャンバーの端部を画定する壁に形成される解放開口部を含む。
上述の一つまたは複数の特徴に加えて、または代替として、さらなる実施形態では、前述の解放開口部に関連付けられた解放機構を含み、前述の解放開口部は、前述の加工チャンバーを前述の密封可能本体の外部の周囲雰囲気に連結するように移動可能である。
上述の一つまたは複数の特徴に加えて、または代替として、さらなる実施形態では、前述の真空封止アセンブリーおよび前述の解放機構は独立して動作可能である。
別の実施形態によると、食品加工システムは、真空システムを含む食品プロセッサーベースと、前述の食品プロセッサーベースとの取り外し可能な関連付けのために構成されるアタッチメントとを含む。アタッチメントは、加工チャンバーと、前述の加工チャンバーから前述の密封可能本体の少なくとも一部分を通って延在する真空経路とを含む、密封可能本体を含む。前述のアタッチメントの真空経路は、前述のアタッチメントが前述の食品加工ベースに接続されるときに、前述の真空システムと流体連通して配置される。解放経路は、前述の加工チャンバーから前述の密封可能本体の外部へ延在する。真空経路は、解放経路から分離している。
上述の一つまたは複数の特徴に加えて、または代替として、さらなる実施形態では、前述の真空経路は、真空チャンバーと、真空通路とをさらに含み、前述の真空通路は、前述の密封可能本体と一体的である。
上述の一つまたは複数の特徴に加えて、または代替として、さらなる実施形態では、前述の密封可能本体に取り付けられたカバーを含み、前述のカバーおよび前述の密封可能本体が協働して、前述の真空チャンバーを画定する。
上述の一つまたは複数の特徴に加えて、または代替として、さらなる実施形態では、前述の密封可能本体の開放端部に接続可能で、前述の加工チャンバーを封止する、蓋を含み、前述の真空チャンバーが前述の蓋内に画定される。
上述の一つまたは複数の特徴に加えて、または代替として、さらなる実施形態では、前述の真空経路は、前述の加工チャンバーを前述の真空チャンバーに接続するチャンバー開口部をさらに含む。
上述の一つまたは複数の特徴に加えて、または代替として、さらなる実施形態では、前述のチャンバー開口部内に配置された真空封止アセンブリーを含む。
上述の一つまたは複数の特徴に加えて、または代替として、さらなる実施形態では、前述の解放経路は、前述の加工チャンバーの端部を画定する壁に形成される解放開口部をさらに含む。
上述の一つまたは複数の特徴に加えて、または代替として、さらなる実施形態では、前述の解放開口部に関連付けられた解放機構を含み、前述の解放開口部は、前述の加工チャンバーを前述の密封可能本体の外部の周囲雰囲気に連結するように移動可能である。
上述の一つまたは複数の特徴に加えて、または代替として、さらなる実施形態では、前述の真空経路は、移動可能な真空封止アセンブリーを含み、前述の解放経路は、移動可能な解放機構を含み、前述の真空封止アセンブリーおよび前述の解放機構は独立して動作可能である。
さらに別の実施形態によれば、食品加工システムと併用するためのアタッチメントアセンブリーは、開放端部を含む加工チャンバーを有する容器と、前述の容器の開放端部に接続可能で、前述の加工チャンバーを封止するアクセサリーと、入口および出口を有する真空通路とを含む。入口は、加工チャンバーと流体連通して配置され、出口は、前述のアクセサリーから分離している前述の容器の領域に位置する。
上述の一つまたは複数の特徴に加えて、または代替として、さらなる実施形態では、前述の出口は、前述の容器の前述の開放端部から鉛直にオフセットされる。
上述の一つまたは複数の特徴に加えて、または代替として、さらなる実施形態では、前述の真空通路は、前述の容器および前述の加工チャンバーの壁の少なくとも一つと関連付けられる。
上述の一つまたは複数の特徴に加えて、または代替として、さらなる実施形態では、前述の真空通路の一部分は、前述の壁と一体的に形成される。
上述の一つまたは複数の特徴に加えて、または代替として、さらなる実施形態では、前述の真空通路は、前述の壁および前述の加工チャンバーの外側の前述の容器の側面に配置される。
上述の一つまたは複数の特徴に加えて、または代替として、さらなる実施形態では、前述の壁に接続される二次構造を含み、前述の二次構造および前述の壁が協働して、前述の真空通路の少なくとも一部分を画定する。
上述の一つまたは複数の特徴に加えて、または代替として、さらなる実施形態では、前述の二次構造は、前述の壁とのシームレスな境界面を形成する。
上述の一つまたは複数の特徴に加えて、または代替として、さらなる実施形態では、前述の二次構造の少なくとも一部分は、前述の壁の隣接表面と面一である。
上述の一つまたは複数の特徴に加えて、または代替として、さらなる実施形態では、前述の真空通路は、剛直な管によって少なくとも部分的に画定される。
上述の一つまたは複数の特徴に加えて、または代替として、さらなる実施形態では、前述の密封可能本体は、前述の食品加工ベースから分離されるとき、および前述の食品加工ベースに接続されるときに第一の配向を有する。
上述の一つまたは複数の特徴に加えて、または代替として、さらなる実施形態では、前述のセンサーはアクセサリーである。
上述の一つまたは複数の特徴に加えて、または代替として、さらなる実施形態では、前述の容器は、前述の食品加工ベースから分離されるときに第一の配向を有し、前述の食品加工ベースに接続されるときに第二の配向を有する。
上述の一つまたは複数の特徴に加えて、または代替として、さらなる実施形態では、前述のアクセサリーは回転可能なブレードアセンブリーである。
さらに別の実施形態によれば、食品加工システムのアタッチメントの加工チャンバー内に真空を形成する方法は、アタッチメント内に形成される真空チャンバーと流体連通して配置される真空機構を動作させることと、前述の真空チャンバーの圧力を感知することと、前述の真空チャンバー内の前述の圧力が目標圧力と等しいことを検出することと、前述の真空機構を前述の真空チャンバー内の前述の圧力が前述の目標圧力と等しい後に動作させることとを含む。
上述の一つまたは複数の特徴に加えて、または代替として、さらなる実施形態では、前述の真空機構を前述の真空チャンバー内の前述の圧力が前述の目標圧力と等しい後に動作させることは、前述の真空機構を連続的に動作させることを含む。
上述の一つまたは複数の特徴に加えて、または代替として、さらなる実施形態では、前述の真空機構を前述の真空チャンバー内の前述の圧力が前述の目標圧力と等しい後に動作させることは、前述の真空機構を断続的に動作させることを含む。
上述の一つまたは複数の特徴に加えて、または代替として、さらなる実施形態では、前述の真空機構を、前述の真空チャンバー内の前述の圧力が前述の目標圧力と等しい後に、動作させることは、前述の真空機構を、前述の真空チャンバー内の前述の圧力が前述の目標圧力と等しい後に、固定時間の間動作させることを含む。
上述の一つまたは複数の特徴に加えて、または代替として、さらなる実施形態では、前述の真空機構を前述の真空チャンバー内の前述の圧力が前述の目標圧力と等しい後に動作させることは、前述の真空機構を前述の真空チャンバー内の前述の圧力が前述の目標圧力とは異なる別の目標圧力と等しくなるまで動作させることを含む。
上述の一つまたは複数の特徴に加えて、または代替として、さらなる実施形態では、前述の別の目標圧力は、前述の目標圧力よりも大きな陰圧である。
本明細書に組み込まれ、かつ本明細書の一部を形成する添付図面は、本発明のいくつかの態様を具現化し、また記述とともに本発明の原理を説明する役割を果たす。
図１は、食品加工システムの実施例の斜視図である。 図２は、食品加工システムのベースの斜視図である。 図３は、第一のアタッチメントを有する食品加工システムの斜視図である。 図４は、食品加工システムと併用するために適したアタッチメントの実施例の斜視図である。 図５は、一実施形態による食品加工システムの断面図である。 図６は、一実施形態による食品加工システムと併用するために適した真空アタッチメントの斜視図である。 図７は、一実施形態による図６の真空アタッチメントの断面図である。 図８は、一実施形態による真空アタッチメントの蓋の斜視断面図である。 図９は、一実施形態による真空アタッチメントの蓋の断面図である。 図１０は、一実施形態による真空アタッチメントの蓋の断面図である。 図１１は、一実施形態による食品加工システムと併用するために適した真空アタッチメントの斜視図である。 図１２は、一実施形態による図１１の真空アタッチメントの断面図である。 図１３は、一実施形態による食品加工システムと併用するために適した別の真空アタッチメントの断面図である。 図１４Ａは、一実施形態による食品加工システムと併用するために適した別の真空アタッチメントの斜視図である。 図１４Ｂは、一実施形態による図１４Ａの真空アタッチメントの斜視概略図である。 図１５は、一実施形態による食品加工システムと併用するために適した別の真空アタッチメントの斜視図である。 図１６は、一実施形態による真空アタッチメントの端部の断面図である。 図１７は、一実施形態による真空アタッチメントの端部の断面図である。 図１８は、一実施形態による食品加工システムと併用するために適した別の真空アタッチメントの断面図である。
発明を実施するための形態は、例示として図面を参照しながら、本発明の実施形態について、利点および特徴とともに説明する。
ここで図１および図２を参照すると、多機能食品加工システム２０の実施例が図示される。一般に、食品加工システム２０は、非限定的な実施例として、ダイシング、チョッピング、切断、スライシング、混合、ブレンド、攪拌、粉砕、または類似のものなど、任意の食品加工または混合動作を実施するように適合され得る。本明細書に図示および説明される食品加工システムはパーソナルブレンダーシステムであるが、他の食品加工システムは本開示の範囲内である。
食品加工システム２０は、その中に電動ユニット（図示せず）および少なくとも一つのコントローラー（図示せず）が位置する本体またはハウジング２４を有するベース２２を含む。ベース２２は、例えば、ハウジング２４内に位置する電動ユニットによって駆動される駆動連結器２６（図２を参照）などの少なくとも一つの回転構成要素を含む。ベース２２は、さらに、電動ユニットのオン／オフを切り替え、かつパルシング、ブレンド、または連続的な食品加工などのさまざまな動作モードを選択するための一つまたは複数の入力部２９を有する、制御パネルまたはユーザーインターフェイス２８を含む。少なくとも一つの駆動連結器２６は、ベース２２に連結されるアタッチメント３０の一部分と係合して、アタッチメント３０の内部内に位置する食品の加工を行うように構成される。これは、後の図および考察でより明らかになるであろう。
サイズおよび／または機能性が異なる一つまたは複数のアタッチメント３０は、ベース２２と併用するため構成され得る。図３に示す第一のアタッチメント３０は、回転可能なブレードアセンブリー３４を有する瓶または容器３２を含む。いくつかの実施形態では、容器３２は、およそ７２オンスの流体を保持するようにサイズ決めされ得る。しかし、容器３２がより大きなまたはより小さい容量を有する実施形態も、本開示の範囲内である。示されるように、容器３２は、典型的には、第一の開放端部３６と、第二の閉端部３８と、第一の端部３６と第二の端部３８との間に延在する一つまたは複数の側壁４０とを含み、容器３２の中空加工チャンバー４２を画定する。回転可能なブレードアセンブリー３４は、容器３２の第二の端部３８と一体的に形成されてもよく、または代替的に、取り外し可能に連結され得る。アタッチメント３０は、さらに、容器３２の第一の開放端部３６に連結して容器３２を封止するように構成される蓋４３などのアクセサリーを含んでもよい。図３のアタッチメントの第二のシール端３８は、食品加工動作を実施するためにベース２２に据え付けられるように構成される。従って、アタッチメント３０がベース２２に接続され、およびベース２２から分離されるとき、容器３２の配向は一般に一定である。
食品加工システムと併用するために適したアタッチメント３０の別の実施例を図４にしめす。図示した非限定的実施形態では、第二のアタッチメント３０′は、それに連結される回転可能なブレードアセンブリー３４を有する反転瓶または容器３２である。図３のアタッチメントと同様に、容器３２は、典型的には、第一の開放端部３６と、第二の閉端部３８と、第一の端部３６と第二の端部４０との間に延在する一つまたは複数の側壁４０とを含む。容器３２の端部３６、３８のうちの一つまたは複数と組み合わせた側壁４０は、容器３２の中空内部加工チャンバー４２を画定する。アタッチメント３０が、ベース２２から分離されるときに第一の構成を有し、ベース２２に連結されるときに第二の反転構成を有するパーソナルブレンド容器である実施形態では、例えば、回転可能なブレードアセンブリー３４などのアクセサリーは、容器３２の第一の開放端部３６に取り外し可能に連結されて加工チャンバー４２を封止するように構成される。容器３２およびブレードアセンブリー３４は、一緒にねじ込み可能に連結され得るが、容器３２およびブレードアセンブリー３４を取り外し可能に接続する他の機構も本明細書で意図されることが理解されるべきである。
さまざまなアタッチメント構成の各々において、回転可能なブレードアセンブリー３４は、食品加工システム２０のベース２２に連結するように構成される。少なくとも一つのブレード３７に関連付けられた駆動連結器（図示せず）は、加工チャンバー４２内に受けられていない回転可能なブレードアセンブリー３４の表面に配置される。少なくとも一つの駆動連結器２６は、少なくとも一つのブレード３７を軸Ｘの周りで回転させるように駆動連結器と係合して、アタッチメント３０の加工チャンバー４２内に位置する食品を加工するように構成される。容器３２および本明細書に図示および説明される回転可能なブレードアセンブリー３４を含むアタッチメント物３０は、例としてのみ意図され、その他のアタッチメント物も本明細書に意図されることが理解されるべきである。
いくつかの実施形態では、アタッチメント３０は、例えば、アタッチメント３０の周辺の周りに位置付けられたタブなどの一つまたは複数の接触部材４６を含み得る。四つの接触部材４６が図４に一般に図示されるが、任意の数の接触部材４６が本開示の範囲内である。アタッチメント３０が容器３２およびブレードアセンブリー３４を含む実施形態では、接触部材４６は、容器３２、ブレードアセンブリー３４、またはその両方から外側に延在し得る。
アタッチメント３０の接触部材４６は、ベース２２の据え付けエリア４８と協働して、アタッチメント３０をベース２２に連結するように構成される。示されるように、据え付けエリア４８は、一つまたは複数の受けスロット５０を含み、その中に、アタッチメント３０の複数の接触部材４６の各々が収容可能である。アタッチメント３０は、食品加工システム２０のベース２２にスライド可能に接続するように構成され得る。代替的にまたは追加的に、アタッチメント３０は、アタッチメント３０がベース２２に対してロックされるように、ベース２２に回転可能に接続するように構成され得る。しかし、アタッチメントをベース２２に結合するための任意の適切な機構は、本開示の範囲内であることが理解されるべきである。
ここで図５および図１０を参照すると、一実施形態では、食品加工システム２０は、真空動作を実施するよう動作可能である。従って、食品加工システム２０のベース２２は、例えば、真空ポンプなどの真空を引くことができる機構５４を有する真空システム５２を追加的に含み得る。しかしながら、真空を引くことができる任意の機構が本明細書で意図される。ベース２２と併用するためのために構成される少なくとも一つのアタッチメント３０は、アタッチメント３０がベース２２と接続されるときに真空ポンプ５４に動作可能に連結される。図示した非限定的な実施形態では、真空ポンプ５４は、異なる構成を有する一つまたは複数のアタッチメント３０が真空ポンプ５４に容易に連結できるように、ベース２２の側面５６、例えばその後部に配置される。真空ポンプ５４は、ユーザーインターフェイス２８の一つまたは複数の入力部２９の作動に応答して、真空ポンプ５４がコントローラーＣによって動作するように、概略的にＣで図示されたコントローラーに動作可能に連結され得る。
図５および図１０を引き続き参照し、次に真空動作に適した図６～図９および図１１～図１６のさまざまなアタッチメントをさらに参照する。図６～図９の図示した非限定的な実施形態では、真空動作を実施するのに適した真空アタッチメント１３０の実施例が示される。図示した非限定的な実施形態では、アタッチメント１３０は、図３のアタッチメントと類似しており、およそ７２オンスの流体を保持する大きさの真空容器１３２を含む。前述したように、容器１３２は、典型的には、第一の開放端部１３６と、第二の閉端部１３８と、第一の端部１３６と第二の端部１３８との間に延在する一つまたは複数の側壁１４０とを含み、容器１３２の中空内部加工チャンバー１４２を画定する。
真空アタッチメント１３０は、さらに、容器１３２の第一の開放端部１３６に選択的に結合されて、容器１３２のチャンバー１４２を封止するように構成される蓋１４３を含む。一実施形態では、蓋１４３は、壁１４５によって部分的に画定される、その中に形成される少なくとも一つの内部チャンバーを有する。示されるように、蓋１４３は、その第一の側面１５２に位置する第一のチャンバー１５０と、その第二の側面１５６に隣接して配置される第二のチャンバー１５４とを含み得る。第一のチャンバー１５０および第二のチャンバー１５４は、蓋１４３の対向する面または蓋１４３の隣接する面に配置されるものとして示されるが、チャンバー１５０、１５４が蓋１４３の同じ側に形成される実施形態も、本開示の範囲内である。
一実施形態では、蓋１４３は、例えば、蓋１４３に対して、第一の閉位置と第二の開位置との間で移動可能なフラップ１５８などの少なくとも一つの構成要素を含む。フラップ１５８が第一の閉位置にある時、フラップ１５８の内部に面する表面１６０は、第一のチャンバー１５０の上部範囲を画定する。蓋１４３が容器１３２の第一の開放端部１３６に貼り付けられるとき、第一のチャンバー１５０は、以下でより詳細に記載されるように、真空通路１６２と流体連通して配置される。従って、第一のチャンバー１５０はまた、真空チャンバーとみなされ得る。代替的に、または追加的に、第一の閉位置と第二の開位置との間の枢動可能な第二のフラップ１６４は、後でより詳細に記載されるように、第二のチャンバー１５４内に配置される解放機構を動作させるように動作可能であり得る。
容器１３２は、さらに、アタッチメント１３０がベース２２に連結されるときに、真空ポンプ５４および真空チャンバー１５０を流体接続するように構成される真空通路または導管１６２を含む。一実施形態では、真空通路１６２の端部１６６は、真空チャンバー１５０内に延在するか、または真空チャンバー１５０と直接連結し得る。しかしながら、真空チャンバー１５０は蓋１４３内に配置されるため、他の実施形態では、真空通路１６２は容器１３２の端部１３８を超えては延在しない。結果として、真空通路１６２の一部分は、蓋１４３によって少なくとも部分的に画定され得る。
真空通路１６２は、図７に示すような略直線状の構成を有してもよく、または代替的に、一つまたは複数の屈曲または角度をその中に形成し得る。真空ポンプ５４はベース２２の側面５６に位置するため、真空ポンプ５４に流体的に連結するためにベース２２の表面と接するように構成される真空通路１６２の遠位端１６８は、容器１３２の対応する側面に隣接して同様に配置される。一実施形態では、真空システム５２の一部分は、ベース２２の上面５８に隣接して配置される。結果として、真空通路１６２の遠位端１６８は、容器１３２の第一の端部１３６から鉛直にオフセットされ得る。しかし、真空通路１６２の遠位端１６８が容器１３２の第一の端部１３６と整列する実施形態も本明細書では考慮される。
真空アタッチメント２３０の別の実施例を図１０～図１５に示す。図４の反転瓶または容器に類似した構成を有する真空アタッチメント２３０が示される。アタッチメント２３０は、第一の開放端部２３６と、第二の閉端部２３８と、第一の端部２３６と第二の端部２３８との間に延在する一つまたは複数の側壁２４０とを含む、反転瓶または容器２３２を含み、容器２３２の中空加工チャンバー２４２を画定する。例えば、前述した回転可能なブレードアセンブリーなどのアクセサリーは、容器２３２の第一の開放端部２３６に接続可能であり、容器２３２がベース２２の周りに設置されるときにベース２２の駆動ユニットに結合するように構成される。アタッチメント２３０は、ベース２２から分離されるときに第一の構成を、ベース２２に連結されるときに第二の反転構成を一般に有する。
図示した非限定的実施形態では、容器２３２は、第一の端部２３６と第二の端部２３８との間の位置に配置された内部壁２４５を含む。図示した非限定的実施形態では、内部壁２４５は加工チャンバー２４２を封止するが、容器２３２の第二の端部２３８からオフセットされる。カバー２５８は、内部壁２４５と容器２３２の第二の端部２３８との間の位置で、内部壁２４５から鉛直にオフセットされる。カバー２５８は、容器２３２に永久的に固定されてもよく、または代替的に、例えば、閉位置と開位置との間で内部壁２４５に対して移動、例えば枢動できる。実施形態では、カバー２５８は、内部壁２４５の中央部分に位置する突起部２５９から側壁２４０の内部表面２６１まで延在する。ガスケットまたはシール２６３は、カバー２５８に取り付けられてもよく、側壁２４０の内部表面２６１と内部壁２４５と接触して、その間に気密シールを形成するように構成される。内部壁２４５、隣接する側壁２４０、およびカバー２５８は共に協働して、周囲雰囲気から封止され、加工チャンバー２４２から分離している真空チャンバー２５０を画定する。
容器１３２は、さらに、アタッチメント２３０がベース２２に連結されるときに、真空ポンプ５４および真空チャンバー２５０を流体接続するように構成される真空通路または導管２６２を含む。真空通路２６２は、図１２に示すような略直線状の構成を有してもよく、または代替的に、その中に形成される一つまたは複数の屈曲または角度を有し得る（図１５）。真空ポンプ５４はベース２２の側面５６に位置するため、真空ポンプ５４に流体的に連結するためにベース２２の表面と接するように構成される真空通路１６２の遠位端１６８は、容器２３２の対応する側面に隣接して同様に配置される。アタッチメント１３０と同様に、ベース２２に対する真空システム５２の位置決めの結果として、真空通路２６２の遠位端２６８は、容器２３２の第一の端部２３６から鉛直にオフセットされ得る。しかし、真空通路１６２の第一の端部１６４が容器１３２の第一の端部１３６と整列する実施形態も本明細書では考慮される。
ここで両方の真空アタッチメント１３０、２３０を参照すると、一実施形態では、真空通路１６２、２６２は、例えば、容器１３２、２３２の側壁１４０、２４０などの本体と一体的に形成される。図１１に最もよく示されるように、真空通路１６２、２６２は、容器１３２、２３２の側壁１４０、２４０内に埋め込まれる。しかしながら、他の実施形態では、真空通路１６２、２６２は、容器３２の外部に配置され得る。こうした実施形態では、真空通路１６２、２６２は、容器１３２、２３２の側壁１４０、２４０によって少なくとも部分的に画定されてもよく、あるいは、側壁１４０、２４０から完全に分離し得る。こうした実施形態では、真空通路１６２、２６２は、例えば、付加製造、オーバーモールド、インサート成形、または射出成形プロセスを介してなど、容器１３２、２３２で形成され得る。
他の実施形態では、二次構造１７０、２７０は、容器１３２、２３２の側壁１４０、２４０に取り付けられ、真空通路１６２の一部分を画定する。二次構造１７０、２７０は、容器１３２、２３２の材料と同じ材料、または代替的には、異なる材料から形成され得る。一実施形態では、図１２に最もよく示される二次構造２７０は、オーバーモールドまたはインサート成形プロセスを介して容器２３２と一体的に形成される。別の実施形態では、図１３～図１４に示す通り、二次構造２７０は成形または押出成形シリコーンチャネルであり、チャネルの縁は、食品が側壁２４０とチャネル２７０との間の境界面に詰まりも固着もしないように、容器２３２の側壁２４０に封止される。チャネル２７０は、真空通路２６２の少なくとも一部分を形成する剛直な管２７２（図１３を参照）をさらに含み得る。しかし、シリコーンチャネル２７０が、容器２３２のチャネル２７０と側壁２４０との間に真空通路２６２を画定するように輪郭が付けられる実施形態も本明細書では意図される。さらに、二次構造２７０はシリコーンチャネルとして記述されるが、任意の適切な材料が本開示の範囲内であることが理解されるべきである。図１５の非限定的実施形態では、二次構造２７０は、誘導溶接を介して容器２３２に貼り付けられる。
任意の構成を有する任意の二次構造１７０、２７０は、本明細書に記載の接続プロセス、または任意の他の適切なプロセスのいずれかを使用して、容器１３２、２３２に貼り付けられてもよく、または一体的に形成され得ることが理解されるべきである。第二の構造１７０、２７０の材料および／または二次構造１７０、２７０を容器１３２、２３２に接続するために使用される製造プロセスに関係なく、真空通路１６２、２６２の一部を包む二次構造１７０、２７０の少なくとも一部は、容器１３２、２３２の隣接する側壁１４０、２４０と面一であり、典型的には滑らかな遷移を形成する。
ここで図１８を参照すると、一実施形態では、真空通路１６２、２６２の少なくとも一部分は、容器１３２、２３２の内部に位置する。示されるように、真空通路１６２、２６２は、真空通路１６２、２６２が加工チャンバー１４２、２４２の高さにわたって加工チャンバー１４２、２４２から分離されるままになるように、加工チャンバー１４２、２４２を通って延在する。結果として、容器１３２、２３２の外部表面は一般に滑らかであり、真空通路１６２、２６２の存在によって変化しない。さらに、いくつかの実施形態では、真空通路１６２、２６２は、食品加工ベース２２に接続するように構成される容器１３２、２３２の端部を越えて延在し得る。真空通路１６２、２６２は、側壁１４０、２４０の内側表面２４１に配置されるように示されるが、真空通路１６２、２６２は、加工チャンバー１４２、２４２内の任意の位置に配置され得ることが理解されるべきである。さらに、真空通路１６２、２６２は、容器１３２、２３２の側壁１４０、２４０の内部２４１と一体的に形成されてもよく、または代替的に、側壁１４０、２４０の表面２４１に接続される二次構造（図示せず）によって囲まれてもよい。真空通路１６２、２６２の一部分のみが加工チャンバー１４２、２４２内に配置される実施形態、および真空通路１６２、２６２の一部分のみが加工チャンバー１４２、２４２の外側に位置する実施形態も、本開示の範囲内であることがさらに理解されるべきである。
さらに、食品加工ベース２２に接続可能な容器１３２、２３２の端部に隣接に対して真空通路１６２，２６２の端部の位置に応じて、容器２３２がパーソナルブレンド容器である実施形態では、２３２の端部２３６に結合するように構成される一つまたは複数のアクセサリーに流体チャネルが形成され得る。例えば、回転可能なブレードアセンブリー３４などのアクセサリー内に形成される流体チャネルは、容器２３２の真空通路２６２を食品加工ベース２２内の真空システム５２に連結する。しかしながら、真空通路の端部が加工チャンバー２４２の開放端部からオフセットされる実施形態も本明細書で意図される。
図１８に最もよく示されるように、容器３２がパーソナルブレンダー容器２３２である実施形態では、例えば、回転可能なブレードアセンブリーなどのアクセサリー３４は、容器２３２の開放端部２３６に結合するように構成される。アクセサリー３４内の流体チャネル７８は、アクセサリー３４が容器２３２に連結されるたびに、容器２３２内の真空通路２６２とシールを形成するように構成される。このアライメントおよびシールを確保するために、アクセサリー３４は、マルチ部品構造を有し得る。図示した非限定的実施形態では、アクセサリー３４は、流体チャネル７８を画定する静的内側部分２８０と、アクセサリー３４を容器２３２の開放端部２３６に選択的に連結するために、内側部分２８０および容器２３２に対して回転可能である回転可能な外側部分２８２とを含む。アクセサリー３４の外側部分２８２は、ねじ係合を介して容器２３２に連結するように構成されるものとして本明細書に図示および説明されるが、他の接続機構も本開示の範囲内である。
ここで図９～図１０および図１６～図１７を参照すると、反転真空瓶２３０および真空ピッチャー１３０などの各真空アタッチメントは、それぞれ加工チャンバー１４２、２４２と真空チャンバー１５０、２５０との間の境界面に、それぞれ真空チャンバー１５０、２５０内に位置する真空封止アセンブリー３００を含む。ここで図１６～図１７を参照すると、真空封止アセンブリー３００の実施例がより詳細に図示される。より具体的には、真空封止アセンブリー３００は、加工チャンバー１４２、２４２を真空チャンバー１５０、２５０から分離する壁内に形成され得る。従って、反転真空瓶２３０に関して、真空封止アセンブリー３００は、内部壁１４５に位置してもよく、真空ピッチャー１３０の一実施形態では、真空封止アセンブリー３００は、蓋１４３の壁１４５に配置される。真空封止アセンブリー３００を各アタッチメントのこの位置に配置することによって、真空封止アセンブリー３００は、真空アタッチメント１３０、２３０が食品加工システム２０のベース２２に連結されるときに、ユーザーによって容易にアクセスできる。しかしながら、他の実施形態では、真空封止アセンブリー３００は、真空アタッチメント１３０、２３０の周りの別の場所に位置し得る。
真空封止アセンブリー３００は、壁１４５、２４５に形成される一次チャンバー開口部３０６を通って延在するバルブステム３０４と、バルブステム３０４に略垂直に延在するフランジ３０８とを有する、アンブレラバルブ３０２を含む。示されるように、バルブステム３０４の遠位端３１０の一つまたは複数の寸法は、容器または蓋に対するアンブレラバルブ３０２の移動をそれぞれ制限するために、一次チャンバー開口部３０６より大きい。バルブステム３０４と一次チャンバー開口部３０６との間の係合を介して、一次チャンバー開口部３０６を通る容器１３２，２３２の内部加工チャンバー１４２、２４２からの流体または食品粒子の流れが制限される。アンブレラバルブ３０２のフランジ３０８は、例えば、フランジ３０８の周辺の近くなど、フランジ３０８の一部分が、壁１４５、２４５に形成される少なくとも一つの二次チャンバー開口部３１２と重複する配置となるようにサイズ決めされ得る。代替的に、または追加的に、バルブステム３０４の側壁は、少なくとも一つの二次開口部チャンバー３１２と同様にオーバーラップするように輪郭付けられてもよい。一実施形態では、通常の条件下で、バルブステム３０４は、一次チャンバー開口部３０６および少なくとも一つの二次チャンバー開口部３１２の両方を封止して、そこを通る流体および／または食品粒子の流れを防止する。しかし、フランジ３０８が少なくとも一つの二次的チャンバー開口部３１２を封止するように動作可能である実施形態も本明細書で意図される。反転真空瓶２３０で使用されるアンブレラバルブ３０２の構成は、真空ピッチャー１３０で使用されるアンブレラバルブ３０２の構成と同一であってもよく、または別の方法として異なってもよい。
真空動作中、いずれかのアタッチメント１３０、２３０がベース２２に取り付けられ、真空通路１６２、２６２が真空システム５２に動作可能に連結されると、真空機構５４は、アンブレラバルブ３０２の露出表面に印加される陰圧を生成する。生成される陰圧は、フランジ３０８の周辺部分を、加工チャンバー１４２、２４２内の空気がそこを通って引き込まれるのを許容するほど十分に二次チャンバー開口部３１２から分離させる。真空機構５４の動作が停止し、陰圧が取り除かれるとすぐに、フランジ３０８の周辺部分は、二次チャンバー開口部３１２を封止するために元の位置に付勢する。この付勢は、例えば、アンブレラバルブ３０２が形成されるシリコーンなどの弾性材料の結果であり得る。あるいは、付勢機構（図示せず）を使用して、フランジ３０８を封止位置に戻す移動を容易にし得る。真空動作は、食品がチャンバー１４２、２４２内に配置された後に、食品加工動作を実施する前に行われてもよい。別の実施形態では、真空動作は、食品加工動作の実施後にチャンバー１４２、２４２内に真空を引き込むように開始される。混合動作後に真空を形成することは、アタッチメント１３０、２３０内の食品の貯蔵寿命または保管を延ばすために使用され得る。
一実施形態では、食品加工システム２０は、アタッチメント１３０、２３０内の圧力を検出するように動作可能なセンサーＳを含み得る。一実施形態では、センサーＳは、真空通路１６２、２６２、または真空チャンバー１５０、２５０内に位置する。しかしながら、他の実施形態では、センサーＳは、加工チャンバー１４２、２４２内に配置され得る。コントローラーＣは、センサーＳによって測定される圧力に応答して真空機構５４を動作させるように構成される。一実施形態では、標的陰圧は、食品加工システム２０によって実行される真空動作と関連付けられる。目標圧力は、食品加工ベース２２に接続されるアタッチメント３０のタイプおよび加工チャンバー１４２、２４２内の材料の体積を含むがこれに限定されない、一つまたは複数のパラメーターに基づいて変化し得る。一実施形態では、センサーＳによって測定され、コントローラーＣに通信される圧力が目標圧力と等しいと、コントローラーＣは真空機構５４の動作を停止し得る。
あるいは、コントローラーＣは、目標圧力が検出された後、連続的にまたは断続的に、真空機構５４を動作させるように構成され得る。一実施形態では、コントローラーＣは、真空機構５４を真空チャンバー１５０、２５０および／または真空通路１６２、２６２内の圧力が目標圧力と等しい後、一定時間、動作させるように構成され得る。例えば、コントローラーＣは、真空機構５４を目標圧力がアタッチメント１３０、２３０内で検出された後、さらに１０秒間、動作させることができる。他の実施形態では、コントローラーＣは、第二の標的陰圧が第一の目標圧力よりも大きくなるまで、真空機構５４を動作させることができる。真空封止アセンブリー３００を移動させて、真空チャンバー１５０、２５０および加工チャンバー１４２、２４２を流体結合させるために、所定の量の圧力が必要とされるため、真空チャンバー１５０、２５０内の圧力は、加工チャンバー１４２、２４２内の圧力とは異なる、例えば、より大きな陰圧であり得る。センサーＳが、圧力が、例えば－８０ｋＰａなどの第一の目標圧力に到達したことを検出すると、加工チャンバー１４２、２４２内の圧力は、実際には、例えば、－６０ｋＰａなどの、第一の目標圧力よりも小さくてもよい。従って、追加の時間の間、または第二の目標圧力に達するまでの真空機構５４の動作は、加工チャンバー１４２／２４２内の第一の目標圧力を達成するために、真空封止アセンブリー３００を動作させるために必要な圧力を補償し得る。真空機構５４の継続的な動作は、時間または第二の閾値に基づいて決定されるものとして本明細書に記述されるが、加工チャンバー１４２、２４２内の所望の圧力を達成するための真空機構の任意の適切な制御は、本開示の範囲内である。
真空アタッチメント１３０、２３０は、さらに、容器１３２、２３２の加工チャンバー１４２、２４２を解放経路を介して周囲へ通気し、それによって、その中に形成される真空を破るよう動作可能な解放機構３２０をさらに含む。解放機構３２０は、同様に、ユーザーが容易にアクセスできるアタッチメント１３０、２３０の位置に取り付けられる。示されるように、解放機構３２０は、真空封止アセンブリー３００から遠隔に位置し、真空封止アセンブリー３００に接続されていない。しかしながら、解放機構３２０が真空封止アセンブリー３００に直接的または間接的に連結される実施形態も、本開示の範囲内であることが理解されるべきである。反転真空瓶２３０に関して、解放機構３２０は、容器２３２の露出した第二の端部２３８に取り付けられる。真空ピッチャー１３０に関して、解放機構３２０は、蓋１４３内に形成される第二のチャンバー１５４内に取り付けられてもよい。
解放機構３２０の実施例を図１６～図１７により詳細に示す。図示した非限定的実施形態では、解放機構３２０は、その端部に取り付けられた封止部材３２４を有するコネクター３２２を含む。解放機構３２０はさらに、アクチュエーター３２６の旋回軸を画定するピン３２８を介してコネクター３２２に枢動可能に連結されるアクチュエーター３２６を含む。一実施形態では、カムレバー３３０は、コネクター３２２からアクチュエーター３２６に向かって延在する。解放機構３２０が非作動状態にある時、封止部材３２４は、加工チャンバー１４２、２４２に流体的に接続される隣接する開口部３３２と係合する。コイルばねなどの付勢部材３３４は、例えば、コネクター３２２に連結されて、封止部材３２４を付勢して開口部３３２と係合し、空気気密で液体機密のシールを形成し得る。
解放機構３２０を作動させるために、アクチュエーター３２６はピン３２８の軸の周りを旋回する。この動きは、付勢部材３３４の付勢を克服し、コネクター３２２のカムレバー３３０に力を加え、ピン３２８の周りのカム移動により、コネクター３２２および封止部材３２４を鉛直に動かし、開口部３３２と係合解除する。このコネクター３２２の開口部３３２との係合外への移動は、周囲空気が解放経路を通って、すなわち、容器１３２、２３２の外部と露出した開口部３３２との間を通って加工チャンバー１４２、２４２の中へと、流れることを可能にする。真空ピッチャー１３０に関して、一実施形態では、蓋１４３内に形成されるフラップ１５８は、アクチュエーター３２６として機能し、解放機構３２０を選択的に動作させ、容器１３２の加工チャンバー１４２内の真空を破る。アクチュエーター３２６から力が除去されると、付勢部材３３４は機構３２０を元の位置に付勢し、それによって開口部３３２を封止する。枢動可能に操作される解放機構３２０が本明細書に図示および説明されるが、封止部材３２４を開口部３３２から分離するために、引き込み運動、ねじれ運動、またはその他の適切な動きを介して動作可能な解放機構も本開示の範囲内であることが理解されるべきである。さらに、アンブレラバルブまたはダックビルバルブなどの他の機構、または任意の適切な移動も、チャンバー１４２、２４２内の真空を選択的に破るために使用され得ることが理解されるべきである。
容器１３２、２３２の加工チャンバー１４２、２４２内に真空が生成された後、ブレードアセンブリーまたは蓋１４３などのアクセサリーを取り外し、その上に作用する力の結果として、加工チャンバー１４２、２４２内の食品にアクセスすることは、不可能ではないにしても困難である。従って、ユーザーは、容器１３２、２３２の内部加工チャンバー１４２、２４２内の内容物にアクセスする前に、解放機構３２０を動作させることによって、まず容器１３２、２３２内の真空を破るべきである。
食品加工動作の前に真空機構５４とともに使用された場合、本明細書に図示および記載されるように、真空容器１３２、２３２は、ビタミン保持、特にビタミンＣを増加させる食品を提供し得る。ブレンド加工中の酸素への曝露は、容器１３２、２３２内の材料を劣化させ得る。容器１３２、２３２から酸素を除去することによって、プロセスされる原料の栄養特性の全体的な劣化が低減される。
本明細書に引用された刊行物、特許出願、および特許を含む全ての参考文献は、あたかも各参考文献が個別におよび具体的に参照により組み込まれることが示され、その全体が本明細書に示されるのと同程度に、本明細書によって参照により組み込まれる。
用語「一つの（ａ）」、「一つの（ａｎ）」、「前記（ｔｈｅ）」および開示内容を説明する文脈中（特に、以下の特許請求の範囲における文脈中）の類似する指示対象は、本明細書中で特に示したり、明らかに文脈と矛盾したりしない限り、単数および複数の両方を包含するものと解釈される。「含む（ｃｏｍｐｒｉｓｉｎｇ）」、「有する（ｈａｖｉｎｇ）」、「含む（ｉｎｃｌｕｄｉｎｇ）」および「含む（ｃｏｎｔａｉｎｉｎｇ）」という用語は、別段の記載がない限り、開放端の用語として解釈されるものとする（すなわち、「含むが、これに限定されない」を意味する）。本明細書の値の範囲の列記は、本明細書中で特に示さない限り、前述の範囲内の個々の値を個別に参照する簡略な方法として機能することが意図されるものであり、個々の値はそれぞれ本明細書に個別に記載されるものとして本明細書に組み込まれる。本明細書中で特に示したり、明らかに文脈と矛盾したりしない限り、本明細書に記載の全ての方法は、任意の適切な順序で実行可能である。本明細書で設けられるありとあらゆる例、または例示的な言語（例えば「など」）の使用は、単に本発明をよりよく明らかにするためのものであり、特にクレームされていない限り、本発明の範囲を制限するものではない。本明細書中のいずれの語句も、特許請求しない任意の要素を本発明の実施に必須であると示すとは解釈されない。
本開示を実施するための発明者に公知の最良のモードを含む、本開示の例示的な実施形態を本明細書に記載する。これらの実施形態の変形は、前述の説明を読んで当業者にとって明らかとなり得る。発明者らは、当業者がこのような変形を適切なものとして採用することを期待しており、発明者は本発明を本明細書に特に記載されるもの以外に実施する意図を有する。従って、本発明は、適用法により許可されている特許請求の範囲に記載された主題の全ての修正および均等物を含む。さらに、本明細書に別段の指示がない限り、または別途文脈によって明らかに矛盾しない限り、その可能性のある全ての変形における上述の要素の任意の組み合わせは、本発明によって包含される。

Claims (78)

  1. 食品加工システムと併用するためのアタッチメントであって、
    壁および加工チャンバーを含む密封可能本体と、
    前記密封可能本体内に形成されるチャンバー開口部と、
    前記チャンバー開口部と流体連通して配置される真空通路であって、前記密封可能本体の前記壁および前記加工チャンバーのうちの少なくとも一つと関連付けられる、真空通路とを含む、アタッチメント。
  2. 前記真空通路の一部分が、前記壁によって少なくとも部分的に画定される、請求項１に記載のアタッチメント。
  3. 前記真空通路の一部分が、前記密封可能本体の前記壁と一体的に形成される、請求項１に記載のアタッチメント。
  4. 前記真空通路が、前記壁および前記加工チャンバーの外側の前記密封可能本体の側面に配置される、請求項１に記載のアタッチメント。
  5. 前記壁に接続される二次構造をさらに含み、前記二次構造および前記壁が協働して前記真空通路の少なくとも一部分を画定する、請求項４に記載のアタッチメント。
  6. 前記二次構造が前記壁にオーバーモールドされる、請求項５に記載のアタッチメント。
  7. 前記二次構造が成形チャネルである、請求項５に記載のアタッチメント。
  8. 前記二次構造が押出成形チャネルである、請求項５に記載のアタッチメント。
  9. 前記二次構造が、誘導溶接を介して前記壁に貼り付けられる、請求項５に記載のアタッチメント。
  10. 前記二次構造が、前記壁とのシームレスな境界面を形成する、請求項５に記載のアタッチメント。
  11. 前記二次構造の少なくとも一部分が、前記壁の隣接表面と面一である、請求項１０に記載のアタッチメント。
  12. 前記真空通路の一部分が、前記加工チャンバーを通って延在する、請求項１に記載のアタッチメント。
  13. 前記真空通路の前記一部分が、前記壁の内部表面に取り付けられる、請求項１２に記載のアタッチメント。
  14. 前記真空通路が、剛直な管によって少なくとも部分的に画定される、請求項１に記載のアタッチメント。
  15. 前記真空通路および前記チャンバー開口部に接続される真空チャンバーをさらに含む、請求項１に記載のアタッチメント。
  16. 前記密封可能本体に取り付けられるカバーをさらに含み、前記カバーおよび前記密封可能本体が協働して前記真空チャンバーを画定する、請求項１５に記載のアタッチメント。
  17. 蓋をさらに含み、前記真空チャンバーが前記蓋内に画定される、請求項１５に記載のアタッチメント。
  18. 前記チャンバー開口部内に配置された真空封止アセンブリーをさらに含む、請求項１５に記載のアタッチメント。
  19. 前記加工チャンバーに関連付けられた解放機構をさらに含み、前記解放機構が、前記加工チャンバーを前記密封可能本体外部の周囲雰囲気に流体連結するように移動可能である、請求項１５に記載のアタッチメント。
  20. 前記密封可能本体が、前記食品加工ベースから分離されるときに第一の配向を有し、前記食品加工ベースに接続されるときに第二の配向を有する、請求項１に記載のアタッチメント。
  21. 前記密封可能本体が、前記食品加工ベースから分離されるとき、および前記食品加工ベースに接続されるときに、第一の配向を有する、請求項１に記載のアタッチメント。
  22. 食品加工システムであって、
    真空システムを含む食品プロセッサーベースと、
    前記食品プロセッサーベースとの取り外し可能な関連付けのために構成されるアタッチメントとを含み、
    前記アタッチメントが、
    壁および加工チャンバーを含む密封可能本体と、
    前記密封可能本体内に形成されるチャンバー開口部と、
    前記チャンバー開口部と流体連通して配置される真空通路であって、前記密封可能本体の前記壁および前記加工チャンバーのうちの少なくとも一つと関連付けられ、前記アタッチメントが前記食品プロセッサーベースの周りに据え付けられたとき、前記真空通路が前記真空システムへ流体接続される、真空通路とを含む、食品加工システム。
  23. 前記真空システムが、前記食品加工ベースの第一の側面に隣接して配置され、前記真空通路が、前記食品加工ベースに取り付けられた時に、前記食品加工ベースの前記第一の側面と整列する、請求項２２に記載の食品加工システム。
  24. 前記真空通路の一部分が、前記壁によって少なくとも部分的に画定される、請求項２２に記載の食品加工システム。
  25. 前記真空通路の一部分が、前記密封可能本体の前記壁と一体的に形成される、請求項２４に記載の食品加工システム。
  26. 前記真空通路が、前記壁および前記加工チャンバーの外側の前記密封可能本体の側面に配置される、請求項２２に記載の食品加工システム。
  27. 前記密封可能本体が、前記壁に接続される二次構造を含み、前記二次構造および前記壁が協働して前記真空通路の少なくとも一部分を画定する、請求項２６に記載の食品加工システム。
  28. 前記二次構造が前記壁にオーバーモールドされる、請求項２７に記載の食品加工システム。
  29. 前記二次構造が成形チャネルである、請求項２７に記載の食品加工システム。
  30. 前記二次構造が押出成形チャネルである、請求項２７に記載の食品加工システム。
  31. 前記二次構造が、誘導溶接を介して前記壁に貼り付けられる、請求項２７に記載の食品加工システム。
  32. 前記二次構造が、前記壁とのシームレスな境界面を形成する、請求項２７に記載の食品加工システム。
  33. 前記二次構造の少なくとも一部分が、前記壁の隣接表面と面一である、請求項３２に記載の食品加工システム。
  34. 前記真空通路の一部分が、前記加工チャンバーを通って延在する、請求項２３に記載の食品加工システム。
  35. 前記真空通路の前記一部分が、前記壁の内部表面に取り付けられる、請求項３４に記載の食品加工システム。
  36. 前記真空通路が、剛直な管によって少なくとも部分的に画定される、請求項２３に記載の食品加工システム。
  37. 前記真空通路および前記チャンバー開口部に接続される真空チャンバーをさらに含む、請求項２３に記載の食品加工システム。
  38. 前記密封可能本体に取り付けられたカバーをさらに含み、前記カバーおよび前記密封可能本体が協働して前記真空チャンバーを画定する、請求項３７に記載の食品加工システム。
  39. 蓋をさらに含み、前記真空チャンバーが前記蓋内に画定される、請求項３８に記載の食品加工システム。
  40. 前記チャンバー開口部内に配置された真空封止アセンブリーをさらに含む、請求項２３に記載の食品加工システム。
  41. 前記加工チャンバーに関連付けられた解放機構をさらに含み、前記解放機構が、前記加工チャンバーを前記密封可能本体外部の周囲雰囲気に流体連結するように移動可能である、請求項２３に記載の食品加工システム。
  42. 前記密封可能本体が、前記食品加工ベースから分離されるときに第一の配向を有し、前記食品加工ベースに接続されるときに第二の配向を有する、請求項２３に記載の食品加工システム。
  43. 食品加工システムと併用するためのアタッチメントであって、
    加工チャンバーを含む密封可能本体と、
    前記加工チャンバーから前記密封可能本体の少なくとも一部分を通って延在する真空経路と、
    前記加工チャンバーから前記密封可能本体の外部へ延在する解放経路であって、前記真空経路が前記解放経路から分離している解放経路と、を含む、アタッチメント。
  44. 前記真空経路が、真空チャンバーおよび真空通路をさらに含み、前記真空通路が前記密封可能本体と一体的である、請求項４３に記載のアタッチメント。
  45. 前記密封可能本体に取り付けられるカバーをさらに含み、前記カバーおよび前記密封可能本体が協働して前記真空チャンバーを画定する、請求項４４に記載のアタッチメント。
  46. 前記密封可能本体の開放端部に接続可能で、前記加工チャンバーを封止する、蓋をさらに含み、前記真空チャンバーが前記蓋内に画定される、請求項４４に記載のアタッチメント。
  47. 前記加工チャンバーを前記真空チャンバーに接続するチャンバー開口部と、
    前記チャンバー開口部内に配置された真空封止アセンブリーとをさらに含む、請求項４３に記載のアタッチメント。
  48. 前記解放経路が、前記加工チャンバーの端部を画定する壁内に形成される解放開口部を含む、請求項４７に記載のアタッチメント。
  49. 前記解放開口部に関連付けられた解放機構をさらに含み、前記解放開口部が、前記加工チャンバーを前記密封可能本体の外部の周囲雰囲気に連結するように移動可能である、請求項４８に記載のアタッチメント。
  50. 前記真空封止アセンブリーおよび前記解放機構が独立して動作可能である、請求項４９に記載のアタッチメント。
  51. 食品加工システムであって、
    真空システムを含む食品プロセッサーベースと、
    前記食品プロセッサーベースとの取り外し可能な関連付けのために構成されるアタッチメントとを含み、
    前記アタッチメントが、
    加工チャンバーを含む密封可能本体と、
    前記密封可能本体の少なくとも一部分を通って前記加工チャンバーから延在する真空経路であって、前記アタッチメントが前記食品加工ベースに接続されるときに前記アタッチメントの前記真空経路が前記真空システムと流体連通して配置される、真空経路と、
    前記加工チャンバーから前記密封可能本体の外部へ延在する解放経路であって、前記真空経路が前記解放経路から分離している解放経路とを含む、食品加工システム。
  52. 前記真空経路が、真空チャンバーと、真空通路とをさらに含み、前記真空通路が前記密封可能本体と一体的である、請求項５１に記載の食品加工システム。
  53. 前記密封可能本体に取り付けられたカバーをさらに含み、前記カバーおよび前記密封可能本体が協働して前記真空チャンバーを画定する、請求項５２に記載の食品加工システム。
  54. 前記密封可能本体の開放端部に接続可能で、前記加工チャンバーを封止する、蓋をさらに含み、前記真空チャンバーが前記蓋内に画定される、請求項５３に記載の食品加工システム。
  55. 前記真空経路が、前記加工チャンバーを前記真空チャンバーに接続するチャンバー開口部をさらに含む、請求項５３に記載の食品加工システム。
  56. 前記チャンバー開口部内に配置された真空封止アセンブリーをさらに含む、請求項５５に記載の食品加工システム。
  57. 前記解放経路が、前記加工チャンバーの端部を画定する壁内に形成される解放開口部をさらに含む、請求項５１に記載の食品加工システム。
  58. 前記解放開口部に関連付けられた解放機構をさらに含み、前記解放開口部が、前記加工チャンバーを前記密封可能本体の外部の周囲雰囲気に連結するように移動可能である、請求項５７に記載の食品加工システム。
  59. 前記真空経路が移動可能な真空封止アセンブリーを含み、前記解放経路が移動可能な解放機構を含み、前記真空封止アセンブリーおよび前記解放機構が独立して動作可能である、請求項５１に記載の食品加工システム。
  60. 食品加工システムと併用するためのアタッチメントアセンブリーであって、
    開放端部を含む加工チャンバーを有する容器と、
    前記容器の前記開放端部に接続可能で、前記加工チャンバーを封止するアクセサリーと、
    入口および出口を有する真空通路であって、前記入口が前記加工チャンバーと流体連通して配置され、前記出口が前記アクセサリーから分離している前記容器の領域に位置する、真空通路と、を含む、アタッチメントアセンブリー。
  61. 前記出口が、前記容器の前記開放端部から鉛直にオフセットされる、請求項６０に記載のアタッチメントアセンブリー。
  62. 前記真空通路が、前記容器および前記加工チャンバーの壁の少なくとも一つと関連付けられる、請求項６０に記載のアタッチメントアセンブリー。
  63. 前記真空通路の一部分が、前記壁と一体的に形成される、請求項６２に記載のアタッチメントアセンブリー。
  64. 前記真空通路が、前記壁および前記加工チャンバーの外側の前記容器の側面に配置される、請求項６２に記載のアタッチメントアセンブリー。
  65. 前記壁に接続される二次構造をさらに含み、前記二次構造および前記壁が協働して前記真空通路の少なくとも一部分を画定する、請求項６２に記載のアタッチメントアセンブリー。
  66. 前記二次構造が、前記壁とのシームレスな境界面を形成する、請求項６５に記載のアタッチメントアセンブリー。
  67. 前記二次構造の少なくとも一部分が、前記壁の隣接表面と面一である、請求項６５に記載のアタッチメントアセンブリー。
  68. 前記真空通路が、剛直な管によって少なくとも部分的に画定される、請求項６０に記載のアタッチメントアセンブリー。
  69. 前記密封可能本体が、前記食品加工ベースから分離されるとき、および前記食品加工ベースに接続されるときに第一の配向を有する、請求項６０に記載のアタッチメントアセンブリー。
  70. 前記アクセサリーが蓋である、請求項６９に記載のアタッチメントアセンブリー。
  71. 前記容器が、前記食品加工ベースから分離されるときに第一の配向を有し、前記食品加工ベースに接続されるときに第二の配向を有する、請求項６０に記載のアタッチメントアセンブリー。
  72. 前記アクセサリーが回転可能なブレードアセンブリーである、請求項７１に記載のアタッチメントアセンブリー。
  73. 食品加工システムのアタッチメントの加工チャンバーに真空を形成する方法であって、
    前記アタッチメント内に形成される真空チャンバーと流体連通して配置される真空機構を動作させることと、
    前記真空チャンバーの圧力を感知することと、
    前記真空チャンバー内の前記圧力が目標圧力と等しいことを検出することと、
    前記真空機構を、前記真空チャンバー内の前記圧力が前記目標圧力と等しい後に、動作させることとを含む、方法。
  74. 前記真空機構を、前記真空チャンバー内の前記圧力が前記目標圧力と等しい後に、動作させることが、前記真空機構を連続的に動作させることを含む、請求項７３に記載の方法。
  75. 前記真空機構を、前記真空チャンバー内の前記圧力が前記目標圧力と等しい後に、動作させることが、前記真空機構を断続的に動作させることを含む、請求項７３に記載の方法。
  76. 前記真空機構を、前記真空チャンバー内の前記圧力が前記目標圧力と等しい後に、動作させることが、前記真空機構を、前記真空チャンバー内の前記圧力が前記目標圧力と等しい後に、固定時間の間動作させることを含む、請求項７３に記載の方法。
  77. 前記真空機構を、前記真空チャンバー内の前記圧力が前記目標圧力と等しい後に、動作させることが、前記真空機構を、前記真空チャンバー内の前記圧力が前記目標圧力とは異なる別の目標圧力と等しくなるまで動作させることを含む、請求項７３に記載の方法。
  78. 前記別の目標圧力が、前記目標圧力よりも大きい陰圧である、請求項７７に記載の方法。
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