JP2021502519A - 真空ポンプ及び／又は除害システム用モジュール - Google Patents

Abstract

真空ポンプ及び／又は除害システムのためのモジュール。本モジュールは、スペースを定めるフレームと、設備供給部から設備を受け取るよう構成される複数の設備入力と、受け取った設備をモジュールから出力するよう構成された複数の設備出力と、フレームによって定められるスペース内に少なくとも部分的に配置される複数の設備接続ラインと、を備える。複数の設備接続ラインは、設備入力を設備出力に接続する。本モジュールは更に、設備入力にて受け取った設備の設備出力の外への供給を制御し、モジュールから遠隔にある１又は２以上の真空ポンプ及び／又は除害装置の動作を制御する、コントローラを備える。【選択図】図５

Description

本発明は、真空ポンプ及び／又は除害システムに関する。

真空ポンプ及び除害システムは、様々な異なる技術分野、例えば、半導体製造において使用される。通常、上記のシステムにおいて、真空ポンプ装置は、ガス（例えば、産業プロセスからのガス）を特定の場所から外にポンプ送給するのに使用され、除害装置は、生成された望ましくない物質（例えば、排気ガス）を除害（例えば、破壊又は処分）するのに使用される。

関与するプロセスによっては、真空ポンプと除害の基準が異なる場合がある。例えば、通常は、異なるプロセスガス、異なるガス圧力及び異なるガス流に伴う異なるプロセスに対して異なる真空ポンプ装置及び／又は異なる除害装置を使用するのが望ましい。また、通常は、望ましくない異なる物質を破壊又は処分するのに異なる除害装置を使用するのが望ましい。

真空ポンプ及び除害システムは通常、使用されることになる特定のプロセスに従って特注で設計される。しかしながら、異なるプロセスには、異なる真空ポンプ及び除害システムソリューションを必要とするので、このような特注のシステムを設計、製造及び設置するのに費やす時間量は通常は長期にわたる。

第１の態様において、真空ポンプ及び／又は除害システムのためのモジュールが提供される。本モジュールは、スペースを定めるフレームと、設備供給部から設備（facilities）を受け取るよう構成される複数の設備入力と、受け取った設備をモジュールから出力するよう構成された複数の設備出力と、フレームによって定められるスペース内に少なくとも部分的に配置される複数の設備接続ラインと、を備える。複数の設備接続ラインは、設備入力を設備出力に接続する。本モジュールは更に、設備入力にて受け取った設備の設備出力の外への供給を制御し、モジュールから遠隔にある１又は２以上の真空ポンプ及び／又は除害装置の動作を制御する、コントローラを備える。

モジュールが、０．５ｍ以下の幅を有することができる。

モジュールが、０．１５ｍ以下の幅を有することができる。

モジュールは更に、工具から工具信号を受け取るように構成された工具インタフェースを備える。コントローラによって実施される制御の少なくとも一部は、工具信号に基づくことができる。

複数の設備入力は、モジュールの共用面に又はその近傍に配置することができる。

複数の設備入力は各々、モジュールの側面部に又はその近傍に配置することができる。

工具インタフェースは、モジュールの上面部に又はその近傍に配置することができる。

共用面は、モジュールの上面部とすることができる。

モジュールが更に、真空ポンプ及び／又は除害システムに関連する情報を表示し、ユーザ入力を受け取り、ユーザ入力に基づいてコントローラに信号を送信する、よう構成されたユーザインタフェースを備えることができる。

モジュールは、フレームに滑動可能に装着され、前記フレーム内の開口の内外に滑動するよう構成された引き出し部を更に備えることができる。コントローラは、引き出し部と共にフレームにおける開口の外に滑動できるように引き出し部に装着することができる。

フレームは、モジュールの高さを変更するため調整されるように構成された少なくとも１つの足部を備えることができる。

設備は、液体クーラント、水道用水、脱イオン水、清浄な乾燥空気、メタン、酸素、窒素、及び水素からなる設備流体のグループから選択された設備流体を含むことができる。

第２の態様において、真空ポンプ及び／又は除害システムが提供される。本システムは、第１の態様に関連するモジュールと、該モジュールに接続された１又は２以上の他のモジュールとを備える。１又は２以上の他のモジュールの少なくとも１つは、真空ポンプ及び／又は除害装置を備える。

真空ポンプ及び／又は除害システムは、統合システムとすることができる。用語「統合システム」は、共通のシステムに一体化された２又は３以上のモジュールを指すのに用いることができ、モジュールは、真空ポンプ装置を含むモジュール、プロセスガス除害装置を含むモジュール、及び真空ポンプ及び／又は除害装置を制御するコントローラを含むモジュールからなるモジュールのグループから選択される。

第３の態様において、真空ポンプ及び／又は除害システムを設置する方法であって、第１の態様に係るモジュールを所定の場所に位置付けるステップと、モジュールに隣接する真空ポンプ及び／又は除害システムの１又は２以上の他のモジュールを位置付けるステップと、複数の設備入力ラインを用いてモジュールの複数の設備入力を設備供給部に接続するステップと、設備分配ラインを用いてモジュールの複数の設備出力を１又は２以上の他のモジュールに接続するステップと、を含む、方法が提供される。

真空ポンプ及び／又は除害システムを示す概略図（縮尺通りではない）である。 真空ポンプ及び／又は除害システムの設備ラインを示す概略図（縮尺通りではない）である。 真空ポンプ及び／又は除害システムの斜視図を示す概略図（縮尺通りではない）である。 真空ポンプ及び／又は除害システムのモジュールの斜視図を示す概略図（縮尺通りではない）である。 真空ポンプ及び／又は除害システムの設備モジュールの斜視図を示す概略図（縮尺通りではない）である。 真空ポンプ及び／又は除害システムを設置する方法を示すフローチャートである。

図１は、真空ポンプ及び／又は除害システム２を示す概略図（縮尺通りではない）である。本システム２は、エンティティ４に該システム２とエンティティ４の間の流体入力ライン６（一般に「フォアライン」と呼ばれる）を介して流体接続される。エンティティ４は、例えば、半導体製造などの産業プロセスで使用されるチャンバ又はルームとすることができる。システム２はまた、排気ライン８に流体接続される。

作動時には、システム２は、流体入力ライン６を介してガスをエンティティ４から外にポンプ送給し、及び／又はポンプ送給されるガス中に存在する可能性があるエンティティ４により生成される望ましくない物質を除害（例えば、破壊又は処分）する。システム２はまた、排気ガス（除害プロセスを受けたガスとすることができる）をシステム２から排気ライン８にポンプ送給し、これによりシステム２から排気ガスを除去する。

システム２は、複数のモジュール１０を備え、これらはまた、「ユニット」又は「スライス」とも呼ばれる場合がある。本明細書では、用語「モジュール」は、システム２の残りのものから取り外し可能なシステム２の個別部分を指すのに使用される。

各モジュール１０は、１又は２以上の装置１２を備える。各装置１２は、システム２内のそれぞれの機能を実行するよう構成される。例えば、装置１２は、エンティティ４から外にガスをポンプ送給する真空ポンプ、エンティティ４によって生成される望ましくない物質を除害する除害装置、ＤＣ電力をＡＣ電力に変換するインバータ、或いはシステム２の全て又は一部の動作を制御する電子コントローラとすることができる。しかしながら、１又は２以上の装置１２は、これらに限定されない。一般に、装置１２の各々は、真空ポンプ及び／又は除害システムにて使用される何らかの装置とすることができる。一部の実施形態において、装置１２の２又は３以上は、実質的に同じであり、及び／又は実質的に互いに同じ機能を実行する。

図２は、真空ポンプ及び／又は除害システム２の設備ラインを示す概略図（縮尺通りではない）である。用語「設備（facilities）」は、本明細書では、システム２の主ポンプ／除害機能をサポートするためシステム２によって使用されるリソースを指すのに使用される。これらの設備は、使用時にシステム２が適切に動作するのを可能にする。設備の実施例は、設備流体（例えば、液体クーラント、水道用水、脱イオン水、清浄な乾燥空気、メタン、酸素、窒素、水素）、電気接続によって搬送される電力及び電気信号、及び光学的接続（例えば、光ファイバー）によって搬送される光学信号を含む。

システム２は、設備入力ライン１６によって設備供給部１４に接続される。作動時には、システム２は、複数の設備入力ライン１６を介して設備供給部１４から設備を受け取る。

より具体的には、システム２は、複数の設備入力ライン１６によって設備供給部１４に接続される設備モジュール４０を備える。

本明細書では、用語「設備モジュール（facilities module）」は、システム２によって使用される設備が設備供給部１４からシステム２に入るシステム２の特定のモジュールを指すのに使用される。この実施形態において、設備モジュール４０は、真空ポンプ及び／又は除害装置自体を備えていない。

設備モジュール４０は、複数の設備分配ライン１８によってシステム２の他のモジュール１０に接続される。設備入力ライン１６は、設備モジュール４０の設備接続ライン１９によって設備分配ライン１８に接続される。

作動時には、設備モジュール４０は、複数の設備入力ライン１６を介して設備供給部１４から設備を受け取る。受け取った設備は、次いで、設備モジュール４０の設備接続ライン１９によって、設備モジュール１００を通って設備分配ライン１８に送られる。次いで、設備は、設備分配ライン１８によってシステム２の他のモジュール１０に送られ、これにより他のモジュール１０に設備を供給する。このようにして、設備供給部１４からシステム２によって受け取られた設備の全ては、システム２の単一のモジュール（すなわち、設備モジュール４０）にてシステム２に入り、単一のモジュールからシステム２の残りの部分に分配される。

設備モジュール４０について、図５を参照して以下でより詳細に説明する。

図３は、真空ポンプ及び／又は除害システム２の斜視図を示す概略図（縮尺通りではない）である。システム２の複数のモジュール１０は、横並びで連続した配列で位置付けられ、共に結合されてシステム２を形成している。各モジュール１０は、１又は２以上の隣接するモジュール１０に取り付けられる。

システム２は、設備ライン２０と、真空ポンプ及び／又は除害ライン２１とを備える。設備ライン２０（例えば、上述のような、設備入力ライン１６、設備分配ライン１８及び／又は設備接続ライン１９）は、設備流体の流れ及び／又はワイヤ又は光ファイバーのような電気又は光学接続を可能にするよう構成されたパイプ（例えば、金属又はポリマーパイプ）を含むことができる。真空ポンプ及び／又は除害ライン２１は、パージガスの流れを可能にするよう構成されたパイプ（例えば、金属パイプ）を含むことができる。

図４は、真空ポンプ及び／又は除害システム２のモジュール１０の斜視図を示す概略図（縮尺通りではない）である。

モジュール１０は、フレーム２２と、該フレーム２２内に少なくとも部分的に配置された１又は２以上の装置１２とを備える。還元すると、フレーム２２は、空間を定め、１又は２以上の装置１２は、空間内に少なくとも部分的に配置される。モジュール１０はまた、フレーム２２に結合されたベース２４を備える。フレーム２２は、複数の相互接続バー２５を備える。

モジュール１０は、前面部２６、後面部２７、上面部２８、底面部２９、及び対向する２つの側面部３０を有する。

モジュール１０はまた、設備ライン２０と真空ポンプ及び／又は除害ライン２１とを備える。

設備ライン２０の少なくとも一部は、設備モジュール１００によって分配される設備流体を受け取り、該設備流体をモジュール１０を通じて配向し、モジュール１０の外に（例えば、別のモジュールに又はシステム２全体の外に）設備流体を排出するように構成されたラインとすることができる。設備ライン２０の少なくとも一部は、設備モジュール１００からモジュール１０へ電力、電気信号又は光学信号を搬送するよう構成されたラインとすることができる。

真空ポンプ及び／又は除害ライン２１は、エンティティ４からポンプ送給されたガスを受け取り、ポンプ送給されたガスをモジュール１０を通じて配向し、該ポンプ送給されたガスをモジュール１０の外に（例えば、別のモジュールに又はシステム２全体の外に）排出するよう構成されている。

上述のように、システム２は、設備モジュール４０を備え、ここで図５を参照しながらより詳細に説明する。

図５は、設備モジュール４０の斜視図を示す概略図（縮尺通りではない）である。

設備モジュール４０は、フレーム４１と、複数の設備入力４２と、複数の設備出力４４と、工具インタフェース４６と、コントローラ４８とを備える。

設備モジュール４０は、前面部５０と、該前面部５０の反対側の後面部５２と、上面部５４と、該上面部５４の反対側の底面部５６と、２つの対向する側面部５８とを備える。

フレーム４１は、設備モジュール４０の他の部分が少なくとも部分的に、より好ましくは全体的に配置されるスペースを定める。例えば、コントローラ４８の全部又は一部は、フレーム４１によって定められるスペース内に配置することができる。フレーム４１はまた、設備モジュール４０の他の部分を装着することができる指示構造体としての機能を果たす。この実施形態において、フレーム４１は、設備モジュール４０が上に載置される２つの足部４３を備える。足部４３は、設備モジュール４０の高さを変更できるように高さを調整可能である。例えば、足部４３は、設備モジュール４０の高さを変更できるよう伸縮可能とすることができる。これは、設備モジュール４０の高さをシステム２における所望のレベルまで調整できるようにする傾向がある。足部４３は、設備モジュール４０の底面部２９にて又はその近傍に配置される。

複数の設備入力４２は、図２を参照して上記で説明された設備入力ライン１６を介して設備供給部１４から設備を受け取るよう構成される。この実施形態において、各設備入力４２は、それぞれの設備を受け取るよう構成される。例えば、設備入力４２の１つは、設備流体を受け取るよう構成することができるが、設備入力４２の別のものは、電力を受け取るよう構成することができる。電力を受け取るよう構成された設備入力４２は、上記電力を設備供給部１４の電力供給部から受け取ることになり、設備流体を受け取るよう構成された設備入力４２は、電力供給部とは別個の設備供給部１４の設備流体供給部から上記設備流体を受け取ることになる点は理解されるであろう。

複数の設備出力４４は、図２を参照して上記で説明された設備分配ライン１８を介して、設備モジュール４０からシステム２の他のモジュール１０に設備を出力するように構成される。この実施形態において、各設備出力４４は、それぞれの設備を出力するよう構成される。例えば、設備出力４４のうちの１つは、設備流体を出力するよう構成することができるが、設備出力４４の別のものは、電気又は光学出力とすることができる。

複数の設備入力４２は、フレーム４１によって定められるスペース内で少なくとも部分的に、より好ましくは全体的に配置された設備接続ラインによって複数の設備出力４４に接続される。設備接続ラインは、複数の設備入力４２から複数の設備出力４４に設備を搬送するよう構成される。

工具インタフェース４６は、設備モジュール４０と、真空ポンプ及び／又は除害システム２の外部にある工具（図示せず）との間のインタフェースである。工具は、例えば、真空ポンプ及び／又は除害システム２がガスをポンプ送給するのに使用されるチャンバ（例えば、半導体製造にて使用されるエッチング工具）内に配置された産業用工具である。工具インタフェース４６は、工具に接続されて、該工具からの工具信号を受け取るように構成されている。工具信号は、工具の状態を表示し、例えば、工具が実行している特定の動作の表示を提供する。

この実施形態において、複数の設備入力４２は、設備モジュール４０の共用面に又はその近傍に配置される。より具体的には、複数の設備入力４２は、上面部５４に又はその近傍に配置される。複数の設備出力４４の各々は、設備モジュール４０の側面部５８に又はその近傍に配置される。工具インタフェース４６は、設備モジュール４０の上面部５４に又はその近傍に配置される。

コントローラ４８は、コンピュータメモリ、コンピュータディスク、ＲＯＭ、ＰＲＯＭ、その他、又はこれらの何れかの組み合わせもしくは他の記憶媒体など、機械可読記憶媒体内又は上に格納されたコンピュータプログラム又は複数のコンピュータプログラムの形態の命令及びデータを含む、命令を実装しデータを使用するためのコンピュータ又は１又は２以上のプロセッサを備える。

コントローラ４８は、制御するよう構成されたシステム２の一部に１又は２以上の制御信号を送信することにより、真空ポンプ及び／又は除害システム２の少なくとも一部（又は全部）を制御するよう構成される。より具体的には、コントローラ４８は、設備入力４２にて受け取った設備の設備出力４４の外への供給を制御するよう構成される。例えば、コントローラ４８は、設備モジュール４０の設備ラインにおいて１又は２以上のバルブを開閉する１又は２以上の制御信号を送信するよう構成することができる。

コントローラ４８はまた、設備モジュール４０から遠隔にあるシステム２の１又は２以上の真空ポンプ及び／又は除害装置の動作を制御するよう構成される。例えば、コントローラ４８は、１又は２以上の制御信号を別のモジュールの真空ポンプに送信して、該真空ポンプの動作速度を調整するよう構成することができる。

この実施形態において、コントローラ４８はまた、システム２において１又は２以上のセンサ（図示せず）からの１又は２以上のセンサ信号を受け取るよう構成される。１又は２以上のセンサは、設備モジュール４０内に配置された１又は２以上のセンサを含むことができる。１又は２以上のセンサは、設備モジュール４０（例えば、システム２の他のモジュール１０における）から遠隔に配置された１又は２以上のセンサを含むことができる。この実施形態において、コントローラ４８によって実施される制御の少なくとも一部は、コントローラ４８によって受け取られた１又は２以上のセンサ信号に基づいている。例えば、コントローラ４８は、設備モジュール４０において圧力センサ又は圧力計からのセンサ信号を受け取り、圧力センサ信号に基づいて設備モジュール４０の外への設備の供給を制御するよう構成することができる。このようにして、コントローラ４８は、システム２が安全に及び／又は所定の基準に従って動作するようにシステム２を制御することができる。

この実施形態において、コントローラ４８は、設備モジュール４０の底面部５６に又はその近傍に配置される。

この実施形態において、工具インタフェース４６は、コントローラ４８に接続され、工具信号をコントローラ４８に送信するよう構成される。この実施形態において、コントローラ４８によって実施される制御の少なくとも一部は、工具信号に基づいている。例えば、コントローラ４８は、工具信号に基づいて、遠隔の真空ポンプ及び／又は除害装置の動作及び／又は設備の供給を制御することができる。

この実施形態において、設備モジュール４０は更に、ユーザインタフェース（図示せず）を備える。ユーザインタフェースは、システム２に関連する情報を表示するよう構成されたディスプレイを備える。例えば、ディスプレイは、設備モジュール４０において設備流体の圧力を示す情報を表示するよう構成することができる。ユーザインタフェースはまた、ユーザからの１又は２以上のユーザ入力（例えば、ユーザインタフェースのボタン又はタッチスクリーンを介して）を受け取るよう構成される。ユーザインタフェースは、１又は２以上のユーザ入力に基づいてコントローラ４８に１又は２以上のコマンド信号を送信するよう構成される。１又は２以上のコマンド信号は、コントローラ４８に対して、ユーザ入力に従って真空ポンプ及び／又は除害システム２の少なくとも一部を制御するよう命令する。

この実施形態において、ユーザインタフェースは、設備モジュール４０の前面部にて又はその近傍に配置される。

この実施形態において、設備モジュール４０は、フレーム４１に滑動可能に装着され、フレーム４１における開口の内外に滑動するよう構成された引き出し部４７を備える。また、この実施形態において、コントローラ４８は、引き出し部４７と共にフレーム４１における開口の外に滑動できるように引き出し部４７に装着される。このようにして、コントローラ４８は、フレーム４１によって定められるスペースから少なくとも部分的に延出するように、フレーム４１によって定められるスペースから少なくとも部分的に取り外し可能である。これにより、ユーザは、コントローラ４８の保守整備及び／又は検査のためコントローラ４８にアクセスできるようになる。これはまた、コントローラに関連する配線及び保守整備及び／又は検査のためコントローラ４８自体へのアクセスを可能にする傾向がある。この実施形態において、引き出し部４７の前部は、設備モジュール４０の前面部５０に又はその近傍に配置される。

設備モジュール４０は、幅、高さ及び深さを有する。幅は、設備モジュール４０の２つの側面部５８間の距離である。高さは、設備モジュール４０の上面部５４及び底面部５６間の距離である。深さは、設備モジュール４０の前面部５０及び後面部５２間の距離である。

この実施形態において、設備モジュール４０の幅は、１ｍ以下、又は好ましくは０．４ｍ以下、又は好ましくは０．５ｍ以下、又は好ましくは０．４ｍ以下、又は好ましくは０．３ｍ以下、又は好ましくは０．２ｍ以下、又は好ましくは０．１５ｍ以下、又は好ましくは０．１４ｍ以下、又は好ましくは０．１３ｍ以下、又は好ましくは０．１２ｍ以下、又は好ましくは０．１１ｍ以下、又は好ましくは０．１０ｍ以下である。この幅は、１３０〜１４０ｍｍ（例えば、約１３２ｍｍ）の範囲とすることができる。

この実施形態において、設備モジュール４０の高さは、１９０〜２００ｃｍ（例えば、約１９８ｃｍ）の範囲とすることができる。この実施形態において、設備モジュール４０の深さは、１３０〜１４０（例えば、約１３４ｃｍ）の範囲とすることができる。

有利には、上述の設備モジュールは、真空ポンプ及び／又は除害システムによって使用される設備の全てが単一の場所（すなわち、設備モジュール）にてシステムに入ることを可能にする係合がある。これにより、システムの設置又は組立をより容易に実施できるようになる傾向があり、これは、システムのユーザが、複数の異なる場所ではなく１つの既知の場所で設備供給部をシステムに接続できるようになることに起因している。

有利には、上述の設備モジュールは、設備入力に対して既知の場所に工具インタフェースが存在することに起因して、システムへの工具の容易な接続を可能にする傾向がある。

有利には、上述の設備モジュールは、設備入力に対して既知の場所に設備出力が存在することに起因して、システムへの他の工具への設備出力の容易な接続を可能にする傾向がある。

有利には、上述の幅は、システム内の比較的小さなスペース量において設備入力、設備出力及び工具インタフェースをコンパクトに配置できるようにする傾向がある。

このようにして、真空ポンプ及び／又は除害システムのための設備モジュールが提供される。

図６は、真空ポンプ及び／又は除害システムを設置する方法を示すフローチャートである。この方法は、ユーザの工場などの特定の消耗の場所にシステムを設置するのに使用される。

図６のフローチャートに示され且つ以下で説明されるプロセスステップの一部は、省略するか、又は以下で提示され図６に示されるものに対して異なる順序で実施することができる点に留意されたい。更に、プロセスステップは、便宜上及び理解を容易にするために、別個の時間的に順次ステップとして描かれているが、それでもプロセスステップの一部は、実際には、時間的にある程度少なくとも重なり合うか又は同時に実施することができる。

ステップｓ２において、ユーザは、所定の場所に上述の設備モジュール４０を位置付ける。例えば、ユーザは、産業処理工場で使用される工具の下方に設備モジュール４０を位置付けることができる。

ステップｓ４において、ユーザは、設備モジュール４０に隣接した真空ポンプ及び／又は除害システムの他の１又は２以上のモジュール１０を位置付ける。例えば、ユーザは、設備モジュール４０の後面部５８のうちの１つに隣接した別のモジュール１０を位置付けることができる。

ステップｓ６において、ユーザは、設備入力ライン１６を用いて設備供給部１４に設備モジュール４０の複数の設備入力４２を接続する。

ステップｓ８において、ユーザは、設備分配ライン１８を用いて１又は２以上の他のモジュール１０に設備モジュール４０の複数の設備出力４４を接続する。

このようにして、真空ポンプ及び／又は除害システムを設置する方法が提供される。

有利には、真空ポンプ及び／又は除害システムを設置する上述の方法は、システムの残りの部分を設置するための基準の開始点として設備モジュールを利用する傾向がある。換言すると、設備モジュールは、最初に設置されて、システムの残りの部分を設置するための「基準」として使用される。この利点は、システムのユーザによってシステムをより容易に設置又は組み立てることを可能にする傾向がある。

上述の実施形態において、複数の設備入力は、設備モジュールの上面部にて又はその近傍に配置される。しかしながら、他の実施形態では、設備入力の１又は２以上は、異なる面部、例えば後面部にて又はその近傍に配置される。

上記の実施形態において、複数の設備出力は各々、設備モジュールの側面部にて又はその近傍に配置される。しかしながら、他の実施形態では、設備出力の１又は２以上は、異なる面部、例えば後面部又は上面部にて又はその近傍に配置される。

上記の実施形態において、工具インタフェースは、設備モジュールの上面部にて又はその近傍に配置される。しかしながら、他の実施形態では、工具インタフェースは、異なる面部、例えば後面部にて又はその近傍に配置される。一部の実施形態において、工具インタフェースは省略される。

上記の実施形態において、コントローラは、設備モジュールの後面部にて又はその近傍に配置される。しかしながら、他の実施形態では、コントローラは、設備モジュール、例えば、上面部にて又はその近傍に異なる場所を有する。

一部の実施形態において、真空ポンプ及び／又は除害システムの少なくとも一部は、設備モジュールのコントローラによって制御されず、例えば、設備モジュール以外のモジュール内のコントローラによって、システムから遠隔のコントローラによって、或いはユーザによって手動で制御することができる。

上記の実施形態において、設備モジュールは、ユーザインタフェースを備える。しかしながら、他の実施形態では、ユーザインタフェースは省略される。

上記の実施形態において、設備モジュールは、２つの調整可能な足部を備える。しかしながら、他の実施形態では、設備モジュールは、異なる数の調整可能な足部、例えば、単一の調整可能な足部又は２よりも多い調整可能な足部を有することができる。一部の実施形態において、調整可能な足部は省略される。

上記の実施形態において、設備モジュールは引き出し部を備える。しかしながら、他の実施形態では、設備モジュールは、引き出し部を備えていない。

いくつかの実施形態において、設備モジュールは上述したものとは異なる幅、高さ、及び／又は深さを有しても良い。

Claims (15)

1. 真空ポンプ及び／又は除害システムのためのモジュールであって、
   スペースを定めるフレームと、
   設備供給部から設備を受け取るよう構成される複数の設備入力と、
   前記受け取った設備を前記モジュールから出力するよう構成された複数の設備出力と、
   前記フレームによって定められる前記スペース内に少なくとも部分的に配置され、前記設備入力を前記設備出力に接続する複数の設備接続ラインと、
   コントローラと、
   を備え、前記コントローラが、
   前記設備入力にて受け取った設備の前記設備出力の外への供給を制御し、
   前記モジュールから遠隔にある１又は２以上の真空ポンプ及び／又は除害装置の動作を制御する、
   ように構成される、モジュール。
2. 前記モジュールが、０．５ｍ以下の幅を有する、請求項１に記載のモジュール。
3. 前記モジュールが、０．１５ｍ以下の幅を有する、請求項１に記載のモジュール。
4. 工具から工具信号を受け取るように構成された工具インタフェースを更に備え、前記コントローラによって実施される制御の少なくとも一部は、前記工具信号に基づいている、請求項１〜３の何れかに記載のモジュール。
5. 前記複数の設備入力は、前記モジュールの共用面に又はその近傍に配置される、請求項１〜４の何れかに記載のモジュール。
6. 前記複数の設備入力は各々、前記モジュールの側面部に又はその近傍に配置される、請求項１〜５の何れかに記載のモジュール。
7. 前記工具インタフェースは、前記モジュールの上面部に又はその近傍に配置される、請求項４〜６の何れかに記載のモジュール。
8. 前記共用面が、前記モジュールの上面部である、請求項５〜７の何れかに記載のモジュール。
9. 前記モジュールが更に、
   前記真空ポンプ及び／又は除害システムに関連する情報を表示し、
   ユーザ入力を受け取り、
   前記ユーザ入力に基づいて前記コントローラに信号を送信する、
   よう構成されたユーザインタフェースを備える、請求項１〜８の何れかに記載のモジュール。
10. 前記フレームに滑動可能に装着され、前記フレーム内の開口の内外に滑動するよう構成された引き出し部を更に備え、前記コントローラが、前記引き出し部と共に前記フレームにおける前記開口の外に滑動できるように前記引き出し部に装着される、請求項１〜９の何れかに記載のモジュール。
11. 前記フレームは、前記モジュールの高さを変更するため調整されるように構成された少なくとも１つの足部を備える、請求項１〜１０の何れかに記載のモジュール。
12. 前記設備は、設備流体、電力、電気信号及び光学信号からなるグループから選択された１又は２以上の設備を含む、請求項１〜１１の何れかに記載のモジュール。
13. 前記設備は、液体クーラント、水道用水、脱イオン水、清浄な乾燥空気、メタン、酸素、窒素、及び水素からなる設備流体のグループから選択された設備流体を含む、請求項１２に記載のモジュール。
14. 真空ポンプ及び／又は除害システムであって、
    請求項１〜１３の何れかに記載の前記モジュールと、
    前記モジュールに接続された１又は２以上の他のモジュールと、
    を備え、前記１又は２以上の他のモジュールが、真空ポンプ及び／又は除害装置を備える、真空ポンプ及び／又は除害システム。
15. 真空ポンプ及び／又は除害システムを設置する方法であって、
    請求項１〜１３の何れかに記載の前記モジュールを所定の場所に位置付けるステップと、
    前記モジュールに隣接する前記真空ポンプ及び／又は除害システムの１又は２以上の他のモジュールを位置付けるステップと、
    複数の設備入力ラインを用いて前記モジュールの複数の設備入力を設備供給部に接続するステップと、
    設備分配ラインを用いて前記モジュールの複数の設備出力を前記１又は２以上の他のモジュールに接続するステップと、
    を含む、方法。

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