JP6522892B2 - 真空排気システム - Google Patents
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Description
本発明の好ましい態様は、前記複数の排気ユニットのそれぞれには、前記第1集合管および前記第2真空ポンプはそれぞれ複数設けられており、前記複数の第1集合管のいずれも、前記複数の第1真空ポンプに接続されており、前記複数の第2真空ポンプは、前記複数の第1集合管にそれぞれ接続されていることを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記第2真空ポンプは容積型多段真空ポンプであることを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、クリーニングガスを処理するガス処理装置をさらに備えたことを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記複数の処理チャンバに連結された大気排出管と、前記大気排出管に接続された粗引きポンプをさらに備え、前記大気排出管と前記集合管は、並列に配置されており、前記粗引きポンプは、大気圧下で動作することが可能であることを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記複数の処理チャンバから排気された処理ガスを無害化するガス処理装置をさらに備えたことを特徴とする。
本発明の他の態様は、複数の処理チャンバから気体を排気するための真空排気システムであって、前記複数の処理チャンバにそれぞれ接続された複数の第1真空ポンプと、前記複数の第1真空ポンプに複数の第1集合管を介して接続された複数の第2真空ポンプと、前記第2真空ポンプの下流側に配置された複数の第3真空ポンプと、前記複数の第2真空ポンプを前記複数の第3真空ポンプに連結する第2集合管を備え、前記複数の第1集合管は並列に配置されており、前記第2集合管は、前記複数の第2真空ポンプにそれぞれ接続された複数の排気管と、前記複数の排気管が接続された連通管と、前記連通管に接続された主管と、前記主管に接続された複数の分岐管とを有し、前記連通管には複数の遮断弁が取り付けられていることを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記複数の排気管には複数の開閉弁がそれぞれ取り付けられていることを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記複数の遮断弁のそれぞれは、前記複数の排気管のうちの隣接する2つの間に位置していることを特徴とする。
図1は、本発明の一実施形態に係る真空排気システムを示す図である。この真空排気システムは、CVD装置、エッチング装置などの半導体デバイス製造装置に使用される複数の処理チャンバから処理ガスを排気するために使用される。
5 第1真空ポンプ
7 第1集合管
8 第2真空ポンプ
10 ガス処理装置
12 搬送チャンバ
15 粗引きポンプ
16 ロードロックチャンバ
20 排気管
21 横引き管(連通管)
22 主管
24 開閉弁
28 第3真空ポンプ
30 大気排出管
31 粗引きポンプ
32 開閉弁
33 排気管
34 横引き管(連通管)
35 第2集合管
36 排気管
37 横引き管(連通管)
38 主管
39 分岐管
40 開閉弁
42 開閉弁
43 開閉弁
47 不活性ガス供給装置
50 集合管
51 排気管
53 開閉弁
61 上段湿式除害装置
62 触媒式除害装置
63 下段湿式除害装置
70 排気ユニット
72 立ち上げ配管
73 遮断弁
74 立ち上げ用ポンプ
80 クリーニングガス排出管
81 クリーニングガス排出用ポンプ
84 排気管
85 横引き管(連通管)
86 主管
87 分岐管
91 開閉弁
92 開閉弁
101 燃焼式除害装置
102 湿式除害装置
111 排気管
112 開閉弁
118 排ガス処理装置
119 湿式除害装置
121,122,124 遮断弁
130 除害装置
Claims (13)
- 複数の処理チャンバから気体を排気するための真空排気システムであって、
前記複数の処理チャンバにそれぞれ接続される複数の第1真空ポンプと、
前記複数の第1真空ポンプに接続された第1集合管と、
前記第1集合管に接続された第2真空ポンプと、
前記第2真空ポンプの下流側に配置された複数の第3真空ポンプを備え、
前記真空排気システムは、複数の排気ユニットを備え、前記複数の排気ユニットのそれぞれは、前記複数の第1真空ポンプ、前記第2真空ポンプ、および前記第1集合管を有し、
前記真空排気システムは、前記複数の排気ユニットに含まれる前記複数の第2真空ポンプを前記複数の第3真空ポンプに連結する複数の第2集合管をさらに備え、
前記複数の第3真空ポンプは、並列に配置された前記複数の第2集合管を介して前記複数の第2真空ポンプに連結されており、
前記複数の第2集合管のそれぞれは、
前記複数の第2真空ポンプにそれぞれ接続された複数の排気管と、
前記複数の排気管が接続された連通管と、
前記連通管に接続された主管を備え、
前記複数の排気管には複数の開閉弁がそれぞれ取り付けられており、
前記連通管には複数の遮断弁が取り付けられており、
前記複数の遮断弁のそれぞれは、前記複数の排気ユニットのうちの隣接する2つの間に位置していることを特徴とする真空排気システム。 - 前記複数の第2真空ポンプは、前記複数の第1真空ポンプの近傍に配置されていることを特徴とする請求項1に記載の真空排気システム。
- 前記複数の排気ユニットのそれぞれには、前記第1集合管および前記第2真空ポンプはそれぞれ複数設けられており、
前記複数の第1集合管のいずれも、前記複数の第1真空ポンプに接続されており、
前記複数の第2真空ポンプは、前記複数の第1集合管にそれぞれ接続されていることを特徴とする請求項1に記載の真空排気システム。 - 前記第2真空ポンプは容積型多段真空ポンプであることを特徴とする請求項3に記載の真空排気システム。
- 前記第2集合管は、前記複数の第3真空ポンプにそれぞれ接続される複数の分岐管を有しており、
前記複数の分岐管には複数の開閉弁がそれぞれ取り付けられていることを特徴とする請求項1に記載の真空排気システム。 - 前記複数の第3真空ポンプの数は、前記複数の第2真空ポンプの数よりも少ないことを特徴とする請求項1に記載の真空排気システム。
- 前記複数の第1真空ポンプに接続されたクリーニングガス排出管と、
前記クリーニングガス排出管に接続されたクリーニングガス排出用ポンプをさらに備え、
前記クリーニングガス排出管と前記第1集合管は、並列に配置されていることを特徴とする請求項1に記載の真空排気システム。 - クリーニングガスを処理するガス処理装置をさらに備えたことを特徴とする請求項7に記載の真空排気システム。
- 前記複数の処理チャンバに連結された大気排出管と、
前記大気排出管に接続された粗引きポンプをさらに備え、
前記大気排出管と前記集合管は、並列に配置されており、
前記粗引きポンプは、大気圧下で動作することが可能であることを特徴とする請求項1に記載の真空排気システム。 - 前記複数の処理チャンバから排気された処理ガスを無害化するガス処理装置をさらに備えたことを特徴とする請求項1乃至9のいずれか一項に記載の真空排気システム。
- 複数の処理チャンバから気体を排気するための真空排気システムであって、
前記複数の処理チャンバにそれぞれ接続された複数の第1真空ポンプと、
前記複数の第1真空ポンプに複数の第1集合管を介して接続された複数の第2真空ポンプと、
前記第2真空ポンプの下流側に配置された複数の第3真空ポンプと、
前記複数の第2真空ポンプを前記複数の第3真空ポンプに連結する第2集合管を備え、
前記複数の第1集合管は並列に配置されており、
前記第2集合管は、前記複数の第2真空ポンプにそれぞれ接続された複数の排気管と、前記複数の排気管が接続された連通管と、前記連通管に接続された主管と、前記主管に接続された複数の分岐管とを有し、
前記連通管には複数の遮断弁が取り付けられていることを特徴とする真空排気システム。 - 前記複数の排気管には複数の開閉弁がそれぞれ取り付けられていることを特徴とする請求項11に記載の真空排気システム。
- 前記複数の遮断弁のそれぞれは、前記複数の排気管のうちの隣接する2つの間に位置していることを特徴とする請求項11または12に記載の真空排気システム。
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