TWI791671B - 用於真空泵及/或減量系統之模組 - Google Patents
用於真空泵及/或減量系統之模組 Download PDFInfo
- Publication number
- TWI791671B TWI791671B TW107140189A TW107140189A TWI791671B TW I791671 B TWI791671 B TW I791671B TW 107140189 A TW107140189 A TW 107140189A TW 107140189 A TW107140189 A TW 107140189A TW I791671 B TWI791671 B TW I791671B
- Authority
- TW
- Taiwan
- Prior art keywords
- module
- facility
- connection
- modules
- connection point
- Prior art date
Links
- 238000005086 pumping Methods 0.000 title claims abstract description 9
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 53
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 41
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims description 22
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 9
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 claims description 4
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000002826 coolant Substances 0.000 claims description 3
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 claims description 3
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 230000005611 electricity Effects 0.000 claims description 3
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000008399 tap water Substances 0.000 claims description 3
- 235000020679 tap water Nutrition 0.000 claims description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 238000011038 discontinuous diafiltration by volume reduction Methods 0.000 claims 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 13
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 6
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 4
- 238000013461 design Methods 0.000 description 3
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 2
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 230000000712 assembly Effects 0.000 description 1
- 238000000429 assembly Methods 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000009417 prefabrication Methods 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 230000032258 transport Effects 0.000 description 1
- 210000001113 umbilicus Anatomy 0.000 description 1
- 238000013022 venting Methods 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04B—POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS
- F04B39/00—Component parts, details, or accessories, of pumps or pumping systems specially adapted for elastic fluids, not otherwise provided for in, or of interest apart from, groups F04B25/00 - F04B37/00
- F04B39/12—Casings; Cylinders; Cylinder heads; Fluid connections
- F04B39/121—Casings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
- C23C14/564—Means for minimising impurities in the coating chamber such as dust, moisture, residual gases
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04B—POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS
- F04B37/00—Pumps having pertinent characteristics not provided for in, or of interest apart from, groups F04B25/00 - F04B35/00
- F04B37/10—Pumps having pertinent characteristics not provided for in, or of interest apart from, groups F04B25/00 - F04B35/00 for special use
- F04B37/14—Pumps having pertinent characteristics not provided for in, or of interest apart from, groups F04B25/00 - F04B35/00 for special use to obtain high vacuum
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04B—POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS
- F04B39/00—Component parts, details, or accessories, of pumps or pumping systems specially adapted for elastic fluids, not otherwise provided for in, or of interest apart from, groups F04B25/00 - F04B37/00
- F04B39/12—Casings; Cylinders; Cylinder heads; Fluid connections
- F04B39/123—Fluid connections
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04B—POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS
- F04B39/00—Component parts, details, or accessories, of pumps or pumping systems specially adapted for elastic fluids, not otherwise provided for in, or of interest apart from, groups F04B25/00 - F04B37/00
- F04B39/14—Provisions for readily assembling or disassembling
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04B—POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS
- F04B41/00—Pumping installations or systems specially adapted for elastic fluids
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04C—ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
- F04C23/00—Combinations of two or more pumps, each being of rotary-piston or oscillating-piston type, specially adapted for elastic fluids; Pumping installations specially adapted for elastic fluids; Multi-stage pumps specially adapted for elastic fluids
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04C—ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
- F04C23/00—Combinations of two or more pumps, each being of rotary-piston or oscillating-piston type, specially adapted for elastic fluids; Pumping installations specially adapted for elastic fluids; Multi-stage pumps specially adapted for elastic fluids
- F04C23/001—Combinations of two or more pumps, each being of rotary-piston or oscillating-piston type, specially adapted for elastic fluids; Pumping installations specially adapted for elastic fluids; Multi-stage pumps specially adapted for elastic fluids of similar working principle
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04C—ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
- F04C25/00—Adaptations of pumps for special use of pumps for elastic fluids
- F04C25/02—Adaptations of pumps for special use of pumps for elastic fluids for producing high vacuum
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04C—ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
- F04C29/00—Component parts, details or accessories of pumps or pumping installations, not provided for in groups F04C18/00 - F04C28/00
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04D—NON-POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
- F04D25/00—Pumping installations or systems
- F04D25/16—Combinations of two or more pumps ; Producing two or more separate gas flows
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16B—DEVICES FOR FASTENING OR SECURING CONSTRUCTIONAL ELEMENTS OR MACHINE PARTS TOGETHER, e.g. NAILS, BOLTS, CIRCLIPS, CLAMPS, CLIPS OR WEDGES; JOINTS OR JOINTING
- F16B5/00—Joining sheets or plates, e.g. panels, to one another or to strips or bars parallel to them
- F16B5/02—Joining sheets or plates, e.g. panels, to one another or to strips or bars parallel to them by means of fastening members using screw-thread
- F16B5/0216—Joining sheets or plates, e.g. panels, to one another or to strips or bars parallel to them by means of fastening members using screw-thread the position of the plates to be connected being adjustable
- F16B5/0233—Joining sheets or plates, e.g. panels, to one another or to strips or bars parallel to them by means of fastening members using screw-thread the position of the plates to be connected being adjustable allowing for adjustment perpendicular to the plane of the plates
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16L—PIPES; JOINTS OR FITTINGS FOR PIPES; SUPPORTS FOR PIPES, CABLES OR PROTECTIVE TUBING; MEANS FOR THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16L23/00—Flanged joints
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16L—PIPES; JOINTS OR FITTINGS FOR PIPES; SUPPORTS FOR PIPES, CABLES OR PROTECTIVE TUBING; MEANS FOR THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16L23/00—Flanged joints
- F16L23/04—Flanged joints the flanges being connected by members tensioned in the radial plane
- F16L23/06—Flanged joints the flanges being connected by members tensioned in the radial plane connected by toggle-action levers
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16L—PIPES; JOINTS OR FITTINGS FOR PIPES; SUPPORTS FOR PIPES, CABLES OR PROTECTIVE TUBING; MEANS FOR THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16L23/00—Flanged joints
- F16L23/04—Flanged joints the flanges being connected by members tensioned in the radial plane
- F16L23/08—Flanged joints the flanges being connected by members tensioned in the radial plane connection by tangentially arranged pin and nut
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16L—PIPES; JOINTS OR FITTINGS FOR PIPES; SUPPORTS FOR PIPES, CABLES OR PROTECTIVE TUBING; MEANS FOR THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16L25/00—Constructive types of pipe joints not provided for in groups F16L13/00 - F16L23/00 ; Details of pipe joints not otherwise provided for, e.g. electrically conducting or insulating means
- F16L25/12—Joints for pipes being spaced apart axially
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16L—PIPES; JOINTS OR FITTINGS FOR PIPES; SUPPORTS FOR PIPES, CABLES OR PROTECTIVE TUBING; MEANS FOR THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16L27/00—Adjustable joints, Joints allowing movement
- F16L27/08—Adjustable joints, Joints allowing movement allowing adjustment or movement only about the axis of one pipe
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16L—PIPES; JOINTS OR FITTINGS FOR PIPES; SUPPORTS FOR PIPES, CABLES OR PROTECTIVE TUBING; MEANS FOR THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16L51/00—Expansion-compensation arrangements for pipe-lines
- F16L51/04—Expansion-compensation arrangements for pipe-lines making use of bends, e.g. lyre-shaped
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16L—PIPES; JOINTS OR FITTINGS FOR PIPES; SUPPORTS FOR PIPES, CABLES OR PROTECTIVE TUBING; MEANS FOR THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16L53/00—Heating of pipes or pipe systems; Cooling of pipes or pipe systems
- F16L53/30—Heating of pipes or pipe systems
- F16L53/35—Ohmic-resistance heating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/4412—Details relating to the exhausts, e.g. pumps, filters, scrubbers, particle traps
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04C—ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
- F04C2240/00—Components
- F04C2240/30—Casings or housings
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04C—ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
- F04C2240/00—Components
- F04C2240/70—Use of multiplicity of similar components; Modular construction
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04C—ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
- F04C2240/00—Components
- F04C2240/80—Other components
- F04C2240/81—Sensor, e.g. electronic sensor for control or monitoring
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Compressors, Vaccum Pumps And Other Relevant Systems (AREA)
- Compressor (AREA)
- Flanged Joints, Insulating Joints, And Other Joints (AREA)
- Pipe Accessories (AREA)
- Applications Or Details Of Rotary Compressors (AREA)
- Jet Pumps And Other Pumps (AREA)
- Particle Accelerators (AREA)
- Thermal Insulation (AREA)
Abstract
本發明揭示一種用於一真空泵及/或減量系統之模組。該模組包括一頂側、與該頂側對置之一底側、一前側、與該前側對置之一後側及兩個對置橫向側。該前側及該後側安置於該頂側與該底側之間,且該兩個對置橫向側安置於該頂側與該底側之間且安置於該前側與該後側之間。該頂側、該底側、該前側、該後側及該等橫向側界定一空間。該模組包括完全位於該空間內之一裝置及耦合至該裝置之一或多個連接點。該等連接點之各者用於接收該裝置之一輸入或自該裝置接收一輸出。該一或多個連接點位於該頂側處。該模組在一第一系統維度上具有等於一固定系統值之一第一整數倍之一最大尺寸,該第一系統維度係該等橫向側之間的一維度。就各連接點而言,該連接點與各橫向側之間在該第一系統維度上之一距離係該固定系統值之一各自第二整數倍。
Description
本發明係關於真空泵及/或減量系統。
真空泵及減量系統用於各種不同技術領域(例如半導體製造)中。通常,在該等系統中,真空泵設備用於將氣體(例如來自一工業程序之氣體)泵抽出一特定位置,且減量設備用於減少(例如銷毀或處理掉)已產生之非所要物質(例如排放氣體)。
取決於所涉及之程序,可存在真空泵及減量之不同準則。例如,通常期望針對涉及不同製程氣體、不同氣體壓力及不同氣流之不同程序使用不同真空泵設備及/或不同減量設備。另外,通常期望使用不同減量設備來銷毀或處理掉不同非所要物質。
通常根據將與真空泵及減量系統一起使用之特定程序來設計訂製真空泵及減量系統。然而,設計、製造及安裝此一訂製系統所花費之時間量通常很長,因為不同程序需要不同真空泵及減量系統解決方案。
在一第一態樣中,提供一種用於一真空泵及/或減量系統之模組。該模組包括一頂側、與該頂側對置之一底側、一前側、與該前側對置之一後側及兩個對置橫向側。該前側及該後側安置於該頂側與該底側之間,且該兩個對置橫向側安置於該頂側與該底側之間且安置於該前側與該後側之間。該頂側、該底側、該前側、該後側及該等橫向側界定一空間。該模組包括完全位於該空間內之一裝置及耦合至該裝置之一或多個連接點。該等連接點之各者用於接收該裝置之一輸入或自該裝置接收一輸出。該一或多個連接點位於該頂側處。該模組在一第一系統維度上具有等於一固定系統值之一第一整數倍之一最大尺寸,該第一系統維度係該等橫向側之間的一維度。就各連接點而言,該連接點與各橫向側之間在該第一系統維度上之一距離係該固定系統值之一各自第二整數倍。
該裝置可選自由以下各者組成之裝置群組:用於泵抽一流體之一真空泵裝置、用於減少一流體之一減量裝置、經組態以控制設施自該模組至遠離該模組之其他實體之一供應之一控制器及經組態以控制遠離該模組之一或多個真空泵及/或減量裝置之操作之一控制器。
該一或多個連接點可包括選自由以下各者組成之群組之一或多個輸入端或輸出端:用於自一設施供應器接收設施之一設施輸入端、用於自該模組輸出設施之一設施輸出端、一製程氣體進口及一製程氣體出口。
該等設施可包含選自由以下各者組成之群組之一或多個設施:一設施流體、電力、電信號及光學信號。
該等設施可包含選自由以下各者組成之設施流體群組之設施流體:液體冷卻劑、自來水、去離子水、清潔乾燥空氣、甲烷、氧氣、氮氣及氫氣。
該等連接點之一或多者可包括選自由以下各者組成之連接器群組之一連接器:一肘形連接器、一漸縮管連接器、一T型連接器、一十字形連接器、包括一閥之一連接器、一Y型連接器、一電連接器及一光學連接器。
該模組可包括複數個該等連接點。就至少一對該等連接點而言,該對連接點之間在一第二系統維度上之一距離可為該固定系統值之一各自第三整數倍。該第二系統維度可垂直於該第一系統維度。
該共同固定系統值可為10 mm至200 cm之範圍內之一值。該共同固定系統值可為44 mm。
在一第二態樣中,提供一種真空泵及/或減量系統,其包括複數個模組,各模組係根據第一態樣。
該等模組可配置成在該第一系統維度上彼此相鄰。
該複數個模組之一第一模組可包括一第一連接點。該複數個模組之一第二模組可包括一第二連接點。該系統可進一步包括附接於該第一連接點與該第二連接點之間的一連接線路。該連接線路可包括沿該第一系統維度對準之一或多個部分,該一或多個部分之各者具有等於該固定系統值之一各自整數倍之一長度。
該複數個模組之一第一模組可包括一第一連接點。該複數個模組之一第二模組可包括一第二連接點。該第一連接點與該第二連接點之間在一第二系統維度上之一距離可為該固定系統值之一整數倍。該第二系統維度可垂直於該第一系統維度。
該系統可進一步包括附接於該第一連接點與該第二連接點之間的一連接線路。該連接線路可包括沿該第二系統維度對準之一或多個部分,該一或多個部分之各者具有等於該固定系統值之一各自整數倍之一長度。
該複數個模組之一模組可為一設施模組。
該設施模組之該等連接點可包括經組態以自一設施供應器接收設施之一或多個設施輸入端及經組態以將所接收之設施輸出至該設施模組外之一或多個設施輸出端。該設施模組可包括:一或多個設施連接線路,其等將該等設施輸入端連接至該等設施輸出端;及一控制器,其經組態以控制該等設施輸入端處所接收之設施至該等設施輸出端外之供應及控制遠離該設施模組之一或多個真空泵及/或減量裝置之操作。
該真空泵及/或減量系統可為一整合系統。術語「整合系統」可用於係指一起整合為一共同系統之兩個或兩個以上模組,該等模組選自由以下各者組成之模組群組:包括真空泵裝置之一模組、包括製程氣體減量裝置之一模組及包括用於控制真空泵及/或減量裝置之一控制器之一模組。
圖1係展示一真空泵及/或減量系統2的一示意圖(未按比例繪製)。系統2經由系統2與一實體4之間的一流體輸入線路6 (通常指稱一「前級線路(foreline)」)來流體地連接至實體4。實體4可為(例如)用於一工業程序(諸如半導體製造)中之一室或空間。系統2亦流體地連接至一排放線路8。
在操作中,系統2經由流體輸入線路6來將氣體泵抽出實體4及/或減少(例如銷毀或處理掉)由實體4產生之非所要物質(其可存在於泵抽氣體中)。系統2亦將排放氣體(其可為已經歷一減量程序之氣體)自系統2泵抽至排放線路8中以藉此自系統2移除排放氣體。
系統2包括複數個模組10,其亦可指稱「單元」或「切片」。術語「模組」在本文中用於係指可自系統2之剩餘部分移除之系統2之一離散部分。
各模組10包括一或多個裝置12。各裝置12經組態以在系統2內執行一各自功能。例如,一裝置12可為用於將氣體泵抽出實體4之一真空泵、用於減少由實體4產生之非所要物質之一減量裝置、用於將DC電力轉換為AC電力之一反相器或用於控制系統2之全部或部分操作之一電子控制器。然而,一或多個裝置12不受限於此。一般而言,各裝置12可為用於一真空泵及/或減量系統中之任何裝置。在一些實施例中,裝置12之兩者或兩者以上實質上相同及/或執行實質上彼此相同之功能。
在操作中,氣體經由流體輸入線路6來泵抽出(即,藉由模組10之一或多者之一真空泵裝置12)實體4,通過模組10之一或多者(例如圖1中所展示之複數個模組10),且隨後自排放線路8排出。
在此實施例中,系統2之各模組10具有等於一共同系統值(下文中指稱「x」)之一整數倍(例如x、2x、3x、4x等等)之一寬度(或其他尺寸,但為了方便起見,其將指稱一橫向尺寸或更簡單地指稱一「寬度」)。模組10之寬度在圖中由雙頭箭頭及元件符號13指示。在此實施例中,一模組10之寬度13係其最大橫向尺寸,且一模組10之一或多個部分可具有小於模組10之(最大)寬度13之一橫向尺寸。
通常,各模組10具有選自由3x、8x、12x或15x組成之寬度群組之一寬度。然而,在一些實施例中,一或多個模組10可具有為x之一不同整數倍之一寬度。例如,模組化系統可包含一或多個模組,各模組具有選自由以下各者組成之寬度群組之一寬度:x、2x、3x、4x、5x、6x、7x、8x、9x、10x、11x、12x、13x、14x、15x、16x、17x、18x、19x、20x、21x、22x、23x、24x、25x、26x、27x、28x、29x、30x及30x以上。
值x可為(例如)以下範圍內之一值:10 mm至200 cm、或更佳地10 mm至100 cm、或更佳地10 mm至90 cm、或更佳地10 mm至50 cm、或更佳地10 mm至20 cm、或更佳地10 mm至10 cm、或更佳地10 mm至5 cm、或更佳地20 mm至50 mm、或更佳地30 mm至40 mm。實例性x值包含(但不限於) 10 mm、11 mm、22 mm、40 mm、41 mm、42 mm、43 mm、44 mm、45 mm、46 mm、47 mm、48 mm、49 mm、50 mm、88 mm、176 mm、352 mm、704 mm、11 cm、 22 cm、100 cm、175 cm、200 cm等等。較佳地,x等於44 mm或約44 mm。「x」所選擇之值往往無需很準確,而是可選擇任何適當值。
在此實施例中,模組10具有實質上相等高度。模組10之高度係在190 cm至200 cm之範圍內(例如約198 cm)。在此實施例中,模組10具有實質上相等深度。模組10之深度係在130 cm至140 cm之範圍內(例如約134 cm)。
圖2係展示真空泵及/或減量系統2之設施線路的一示意圖(未按比例繪製)。術語「設施」在本文中用於係指由系統2使用以支援系統2之主要泵抽/減量功能之資源。此等設施允許系統2在使用期間適當操作。設施之實例包含設施流體(例如液體冷卻劑、自來水、去離子水、清潔乾燥空氣、甲烷、氧氣、氮氣及氫氣)、由電連接件攜載之電力及/或電信號及由光學連接件(例如光纖)攜載之光學信號。
系統2藉由複數個設施輸入線路16來連接至一設施供應器14。在操作中,系統2自設施供應器14經由複數個設施輸入線路16接收設施。
更具體而言,系統2包括藉由複數個設施輸入線路16來連接至設施供應器14之一設施模組100。
術語「設施模組」在本文中用於係指由系統2使用之設施在該處自設施供應器14進入系統2之系統2之一特定模組。在此實施例中,設施模組100本身不包括任何真空泵及/或減量裝置。設施模組100係一類型之模組10。在此實施例中,設施模組100之寬度13係3x。
設施模組100藉由複數個設施分配線路18來連接至系統2之其他模組10。設施輸入線路16藉由設施模組100之設施連接線路19來連接至設施分配線路18。設施分配線路18可經配置使得其跨模組10之頂部及後部水平延伸。設施分配線路可包括向下延伸部分或臍管部分,其等各可釋放地連接至一模組10上之一特定連接點以藉此將設施供應至各模組10。臍管部分繼而可延伸至模組之前部以易於接取模組之連接。
在操作中,設施模組100自設施供應器14經由複數個設施輸入線路16接收設施。接著,由設施模組100之設施連接線路19輸送所接收之設施通過設施模組100而至設施分配線路18。接著,由設施分配線路18輸送設施至系統2之其他模組10以藉此將設施供應至其他模組10。依此方式,由系統2自設施供應器14接收之所有設施在系統2之一單一模組(即,設施模組100)處進入系統2且自該單一模組分配至系統2之剩餘部分(例如藉由位於設施模組100中之一控制器)。
設施模組100中之控制器可經組態以控制設施模組100之設施輸入端處所接收之設施至設施模組100之設施輸出端外之供應及/或控制一或多個其他模組10之一或多個真空泵及/或減量裝置12之操作。控制器亦可經組態以控制設施通過系統2而供應至系統2外。例如,控制器可經組態以控制設施流體流動通過系統2,使得自系統2輸出之廢棄設施流體具有一特定溫度。
設施輸入線路16、設施分配線路18及設施連接線路19在下文中統稱為「設施線路」。
圖3係展示真空泵及/或減量系統2之一透視圖的一示意圖(未按比例繪製)。系統2之複數個模組10依一並排鄰接配置定位且耦合在一起以形成系統2。各模組10附接至一或多個相鄰模組10。
系統2包括設施線路20及真空泵及/或減量線路21。設施線路20(例如上文所描述之設施輸入線路16、設施分配線路18及/或設施連接線路19)可包含經組態以容許設施流體流動通過其之管(例如金屬或聚合物管)及/或諸如電線或光纖之電或光學連接件。真空泵及/或減量線路21可包含經組態以容許泵抽氣體流動通過其之管(例如金屬管)。
圖4係展示真空泵及/或減量系統2之一實例性模組10之一透視圖的一示意圖(未按比例繪製)。
模組10包括一框架22及至少部分安置於框架22內之一或多個裝置12。換言之,框架22界定一空間且一或多個裝置12至少部分安置於該空間內。模組10亦包括耦合至框架22之一基底24。框架22包括複數個互連桿25。
模組10具有一前側26、一後側27、一頂側28、一底側29及兩個對置橫向側30。
模組10亦包括設施線路20及真空泵及/或減量線路21。
至少一些設施線路20可為經組態以接收由設施模組100分配之設施流體、導引設施流體通過模組10及使設施流體自模組10排出(例如排出至另一模組或完全排出至系統2外)之線路。至少一些設施線路20可為經組態以將電力、電信號或光學信號自設施模組100輸送至模組10之線路。
在此實施例中,模組10之設施線路20包含一或多個輸入端(下文中指稱設施線路輸入端且圖中由元件符號34指示)及一或多個輸出端(下文中指稱設施線路輸出端,圖中由元件符號36指示)。
設施線路輸入端34係經組態以自另一模組10 (例如自設施模組100)接收設施之輸入端。設施線路輸出端36係經組態以將設施自模組10輸出至另一模組10或完全輸出至系統2外之輸出端。設施線路輸入端34及設施線路輸出端36係模組10之設施線路20可經由其來連接至系統2之其他模組10 (例如藉由模組10外之設施線路20,即,經由設施輸入線路16及/或設施分配線路18)之連接點或連接器。設施線路輸入端34及設施線路輸出端36可包含選自包含(但不限於)以下各者之連接器群組之一或多個連接器:一肘形連接器、一漸縮管連接器、一T型連接器(或T形連接器)、一十字形連接器(或四通接頭)、包括一閥之一連接器、一Y型連接器(或Y形連接器)、一電連接器及一光學連接器。
在此實施例中,如稍後將在下文參考圖5及圖6更詳細描述,設施線路輸入端34及設施線路輸出端36位於模組10之頂側28處。
真空泵及/或減量線路21經組態以接收自實體4泵抽之氣體、導引泵抽氣體通過模組10及使泵抽氣體自模組10排出(例如排出至另一模組或完全排出至系統2外)。
在此實施例中,真空泵及/或減量線路21包含一或多個輸入端(下文中指稱製程氣體線路輸入端且圖中由元件符號38指示)及一或多個輸出端(下文中指稱製程氣體線路輸出端,圖中由元件符號40指示)。
製程氣體線路輸入端38係經組態以自實體4或另一模組10接收製程氣體之輸入端。製程氣體線路輸出端40係經組態以將製程氣體自模組10輸出至另一模組10或完全輸出至系統2外之輸出端。製程氣體線路輸入端38及製程氣體線路輸出端40係模組10之真空泵及/或減量線路21可經由其來連接至系統2之其他模組10 (例如藉由模組10外之真空泵及/或減量線路21)之連接點或連接器。製程氣體線路輸入端38及製程氣體線路輸出端40可包含選自由包含(但不限於)以下各者之連接器群組之一或多個連接器:一肘形連接器、一漸縮管連接器、一T型連接器(或T形連接器)、一十字形連接器(或四通接頭)、包括一閥之一連接器或一Y型連接器(或Y形連接器)。
在此實施例中,如稍後將在下文參考圖5及圖6更詳細描述,製程氣體線路輸入端38及製程氣體線路輸出端40位於模組10之頂側28處。
圖5係展示系統2之一部分之一俯視圖的一示意圖(未按比例繪製),其用於描述用於與系統2中之其他模組10連接之一模組10或若干模組之連接點(即,一或多個設施線路輸入端34、一或多個設施線路輸出端36、一或多個製程氣體線路輸入端38及一或多個製程氣體線路輸出端40)之定位。
圖5中所展示之系統2之部分包含(僅供說明)一第一模組10a、一第二模組10b及設施模組100。第一模組10a包含一第一真空泵及/或減量裝置12a。第二模組10b包含一第二真空泵及/或減量裝置12b。設施模組100係用於將設施供應至第一裝置12a及第二裝置12b。
在此實施例中,模組10a、10b、100包含由模組10a、10b、100中之各自實心圓表示之各種連接點。特定言之,第一模組10a包括一第一設施線路輸入端34a、一第一設施線路輸出端36a、一第一製程氣體線路輸入端38a及一第一製程氣體線路輸出端40a。第二模組10b包括一第二設施線路輸入端34b、一第二設施線路輸出端36b、一第二製程氣體線路輸入端38b及一第二製程氣體線路輸出端40b。設施模組100包括一第三設施線路輸入端34c及一第三設施線路輸出端36c。
連接點34a至34c、36a至36c、38a至38b、40a至40b位於跨模組10a、10b、100及整個系統2之所謂第一「x線」(圖5中展示為垂直虛線)上。使用元件符號50來標記一些第一x線。在此實施例中,第一x線50係實質上垂直於橫向維度(即,模組10a、10b、100之寬度13)且彼此隔開一距離x之線。如上所述,值x可為(例如) 10 mm至200 cm之範圍內之一值或更佳為44 mm或約44 mm。「x」所選擇之值往往無需很精確且可選擇任何適當值。
此外,模組10a、10b、100之橫向側30沿各自第一x線50對準。
位於第一「x線」上之連接點34a至34c、36a至36c、38a至38b、40a至40b趨向於規定:任兩個連接點34a至34c、36a至36c、38a至38b、40a至40b之間在橫向維度上之距離係值x之一整數倍。舉例而言,用於排放製程氣體之第一裝置12a (其可為一真空泵裝置)之排放點/連接器40a在橫向維度上相距7x (或固定系統值之7倍)之一距離處連接至第二裝置12b (其可為用於減少製程氣體之一減量單元)之進口點/連接器38b。作為另一實例,設施模組100之設施線路輸出端36c在橫向維度上相距14x之一距離處連接至第一裝置12a之第一設施線路輸入端34a,且在橫向維度上相距5x之一距離處連接至第二裝置12b之第二設施線路輸入端34b。
沿各自第一x線50對準之模組10a、10b、100之橫向側30及位於第一「x線」上之連接點34a至34c、36a至36c、38a至38b、40a至40b趨向於規定:一連接點34a至34c、36a至36c、38a至38b、40a至40b與一模組之一橫向側30之間在橫向維度上之距離係值x之一整數倍。例如,一連接點與該連接點所在之模組之側之間在橫向維度上之距離係值x之一整數倍。舉例而言,設施模組100之設施線路輸入端34c及設施線路輸出端36c在橫向維度上與設施模組100之各自橫向側30隔開x之一距離。
圖6係展示系統2之一部分之一俯視圖的一示意圖(未按比例繪製),其用於描述用於與系統2中之其他模組10連接之一模組10或若干模組之連接點34、36、38、40之定位。
在此實施例中,連接點34a至34c、36a至36c、38a至38b、40a至40b位於跨模組10a、10b、100及整個系統2之第二「x線」(圖6中展示為水平虛線)上。使用元件符號52標記一些第二x線。在此實施例中,第二x線52係實質上平行於橫向維度(即,模組10a、10b、100之寬度13)之線且彼此隔開x之一距離。
位於第二「x線」上之連接點34a至34c、36a至36c、38a至38b、40a至40b趨向於規定:任兩個連接點34a至34c、36a至36c、38a至38b、40a至40b之間在垂直於橫向維度之一方向上之距離係值x之一整數倍。舉例而言,用於排放製程氣體之第一裝置12a之排放點/連接器40a在垂直於橫向維度之方向上相距2x之一距離處連接至第二裝置12b之進口點/連接器38b。
在一些實施例中,模組10a、10b、100之前側26及後側27沿第二x線52對準。
在安裝系統2中沿第一x線及第二x線定位之模組10之連接點或連接器34a至34c、36a至36c、38a至38b、40a至40b趨向於促進將該等連接點連接在一起。兩個連接點可由形成沿一或多個第一x線及/或一或多個第二x線之一路徑之連接線路連接在一起。將不同模組之連接點連接在一起所需之連接線路(例如管、導管、電力線或用於真空泵及/或減量系統中之任何其他連接線路)之長度趨向於為相同預定共同系統值x之整數倍。例如,設施模組100之設施線路輸出端36c可藉由一連接線路來連接至第一模組10a之設施輸入端34a,該連接線路具有在橫向方向上運行之長度14x之一第一組件及自該第一組件之一端垂直延伸且具有長度4x之一第二組件。此趨向於允許有利地預製標準化連接線路,其趨向於減少組裝/安裝時間及成本。此外,可在系統安裝之前組態用於連接模組之連接線路之區段以藉此進一步減少安裝時間。
舉例而言,現將描述用於將不同模組10之連接點連接在一起之一組標準化連接線路。圖7係展示一組70實例性連接線路的一示意圖(未按比例繪製)。組70包括複數個實質上筆直連接線路72及複數個彎角或「彎曲」連接線路74。
連接線路72、74可包含(例如)用於輸送流體之管、用於容納電導體或光纖之外殼(例如管子)、電導體及光纖。
在一些實施例中,組70之至少一些連接線路72、74實質上為剛性的。
筆直連接線路72提供複數個離散連接組件。在此實施例中,各筆直連接線路72具有實質上等於共同系統值x之一整數倍之一長度。筆直連接線路72分組為不同群組,各群組含有一各自長度之筆直連接線路72。一第一群組76包含具有等於x之一長度之筆直連接線路72。一第二群組78包含具有等於2x之一長度之筆直連接線路72。一第三群組80包含具有等於3x之一長度之筆直連接線路72。一第四群組82包含具有等於4x之一長度之筆直連接線路72。一第五群組84包含具有等於6x之一長度之筆直連接線路72。一第六群組86包含具有等於10x之一長度之筆直連接線路72。一第七群組88包含具有等於20x之一長度之筆直連接線路72。在其他實施例中,可使用具有為共同系統值x之一不同整數倍之長度的筆直連接線路。例如,可使用具有等於x、2x、3x、4x、5x、7x、8x、9x、10x、11x、12x、13x、14x、15x、16x、17x、18x、19x、20x及/或20x以上之長度之筆直連接線路。
彎角連接線路74提供複數個離散連接組件。彎角連接線路74可呈直角(如圖中所展示)或可呈大於或小於90°之其他夾角。在此實施例中,各彎角連接線路74包括成一角度耦合之兩個筆直部分(其等可具有相等長度或不同長度)。在此實施例中,各彎角連接線路74之各筆直部分具有實質上等於共同系統值x之一整數倍之一長度。彎角連接線路74分組為不同群組,各群組含有具有實質上相同尺寸及形狀之彎角連接線路74。一第八群組90包含具有長度x之一第一筆直部分及長度x之一第二筆直部分之彎角連接線路74。一第九群組92包含具有長度x之一第一筆直部分及長度2x之一第二筆直部分之彎角連接線路74。較佳地,提供複數個不同尺寸之彎角組件連接線路74。在其他實施例中,可使用包含具有為共同系統值x之一不同整數倍之長度之筆直部分的彎角連接線路。例如,彎角連接線路可具有筆直部分,各筆直部分具有選自由x、2x、3x、4x、5x、7x、8x、9x、10x、11x、12x、13x、14x、15x、16x、17x、18x、19x、20x及/或20x以上組成之長度群組之一長度。
彎角連接線路74可用於連接未對準或彼此成一角度之其他組件(例如筆直連接線路72)。
有利地,可藉由自群組76至92選擇適當連接線路72、74且將該等選定連接線路72、74連接在一起以提供具有等於一所要長度(該所要長度係共同系統值x之一整數倍)之一總長度之一連接線路來提供該所要長度之一連接線路。
因此,提供一種用於構造一真空泵及/或減量系統之模組化系統。
有利地,模組及連接線路可經容易及有效率地配置及附接在一起以提供多個不同系統組態以藉此容易地滿足不同真空泵及/或減量要求。
可在設計及安裝系統之前製造及製備模組、連接器及連接線路以藉此減少成本及前置時間。
由一所安裝之真空泵及/或減量系統佔據之空間(或佔據面積)趨向於為系統設計之一重要因數。一減小佔據面積趨向於導致減少成本及/或較高生產率。有利地,使用上述模組化系統,各模組及連接線路可在系統界定及安裝之前被設計、製造及組裝且在安裝時佔據安裝系統之一界定空間。此方法趨向於提供整個系統之減小佔據面積。此外,改良系統之總佔據面積之可預測性。
有利地,上述設施模組趨向於允許由一真空泵及/或減量系統使用之所有設施在一單一位置(即,設施模組)處進入系統。此趨向於允許更容易地執行系統之安裝或組裝,因為系統之一使用者可在一個已知位置而非多個不同位置處將其設施供應器連接至系統。
有利地,上述設施模組及連接線路趨向於允許將設施模組之設施輸出端容易地連接至系統之其他模組。
在上述實施例中,所有模組之高度實質上彼此相等且可為(例如) 190 cm至200 cm,例如約198 cm。當安裝於一系統中時,一模組之高度可(例如)歸因於連接線路自模組之一頂部延伸以將該模組連接至其他模組而大於198 cm。在一些實施例中,模組之一或多者具有不同於其他模組之一或多者之一高度。另外,在一些實施例中,模組之一或多者(例如全部)具有除190 cm至200 cm之外之一高度。較佳地,各模組具有實質上等於某一共同值(例如共同系統值x或不同於x之一值y)之一整數倍之一高度。
在上述實施例中,所有模組之深度實質上彼此相等且可為(例如) 130 cm至140 cm,例如約134 cm。然而,在其他實施例中,模組之一或多者具有不同於其他模組之一或多者之一深度。另外,在一些實施例中,模組之一或多者(例如全部)具有除130 cm至140 cm之外之一深度。較佳地,各模組具有實質上等於某一共同值(例如共同系統值x、值y或不同於x及y之一值z)之一整數倍之一深度。
在上述實施例中,連接線路組包括筆直連接線路及彎角連接線路。然而,在其他實施例中,模組化系統包含不同形狀連接線路來替代筆直連接線路及彎角連接線路之一或多者,或除包含筆直連接線路及彎角連接線路之一或多者之外,亦包含不同形狀連接線路。可包含於模組化系統中之其他連接線路之實例包含(但不限於) S形彎曲組件、直線連接線路及至少部分可撓曲連接線路(例如一軟管)。
在上述實施例中,連接線路組包括具有上文參考圖7所描述之長度及形狀之連接線路。然而,在其他實施例中,連接線路組可包括具有不同長度之連接線路來替代圖7中所展示及上文所更詳細描述之連接線路之一或多者,或除包括圖7中所展示及上文所更詳細描述之連接線路之一或多者之外,亦包括具有不同長度之連接線路。例如,可判定常用於一安裝系統中之一連接線路具有7x、11x、15x或x之某一其他倍數之一長度,且在此情況中,可期望製造具有該長度之連接線路。可期望減少不同尺寸之連接線路之群組之數目。例如,可期望不產生具有6x之長度之連接線路,因為此等線路可易於藉由接合(例如) 3x之組件來提供。在其中連接線路包含一密封載體之實施例中,該等連接線路之長度較佳地包含任何密封載體。
另外,在一些實施例中,連接線路組可包含具有並非為共同系統值x之一整數倍之一長度的一或多個連接線路。可視需要針對任何安裝系統製造不基於值x之訂製組件。例如,可在安裝期間使用具有不基於值x之長度之彎角連接件及/或可撓曲氣體導管來連接相鄰連接線路。此趨向於視需要有利地提供系統之額外可組態度,甚至同時基於共同系統值x來預組態系統之大部分。
在上述實施例中,模組如早先上文所更詳細描述般配置及連接在一起。特定言之,模組依一並排鄰接配置連接在一起,各模組在其橫向側之一或兩者處附接至一或多個相鄰模組。然而,在其他實施例中,模組可依一不同方式定位或配置及連接在一起。例如,在一些實施例中,相鄰模組之間存在空間或間隙。此等空間可促進由一使用者接取以(例如)執行維護或保養操作。較佳地,相鄰模組之間的空間或間隙之尺寸係共同系統值x之一整數倍。此趨向於促進由連接線路連接於隔開模組之間。在一些實施例中,一或多個模組可在除其橫向側之一者之外之一側處附接至一或多個相鄰模組。例如,在一些實施例中,一模組在其後側處附接至一不同模組。
在上述實施例中,模組之連接點位於或接近於該等模組之頂側。然而,在其他實施例中,一或多個模組之一或多個連接點位於或接近於一不同側(例如後側)。
在上述實施例中,模組之連接點沿第一x線及第二x線定位。然而,在其他實施例中,連接點之一或多者不沿第二x線之一者定位。
2‧‧‧真空泵及/或減量系統
4‧‧‧實體
6‧‧‧流體輸入線路
8‧‧‧排放線路
10‧‧‧模組
10a‧‧‧第一模組
10b‧‧‧第二模組
12‧‧‧裝置
12a‧‧‧第一真空泵及/或減量裝置
12b‧‧‧第二真空泵及/或減量裝置
13‧‧‧寬度
14‧‧‧設施供應器
16‧‧‧設施輸入線路
18‧‧‧設施分配線路
19‧‧‧設施連接線路
20‧‧‧設施線路
21‧‧‧真空泵及/或減量線路
22‧‧‧框架
24‧‧‧基底
25‧‧‧互連桿
26‧‧‧前側
27‧‧‧後側
28‧‧‧頂側
29‧‧‧底側
30‧‧‧橫向側
34‧‧‧設施線路輸入端/連接點
34a‧‧‧第一設施線路輸入端/連接點
34b‧‧‧第二設施線路輸入端/連接點
34c‧‧‧第三設施線路輸入端/連接點
36‧‧‧設施線路輸出端/連接點
36a‧‧‧第一設施線路輸出端/連接點
36b‧‧‧第二設施線路輸出端/連接點
36c‧‧‧第三設施線路輸出端/連接點
38‧‧‧製程氣體線路輸入端/連接點
38a‧‧‧第一製程氣體線路輸入端/連接點
38b‧‧‧第二製程氣體線路輸入端/連接點
40‧‧‧製程氣體線路輸出端/連接點
40a‧‧‧第一製程氣體線路輸出端/連接點
40b‧‧‧第二製程氣體線路輸出端/連接點
50‧‧‧第一x線
52‧‧‧第二x線
70‧‧‧連接線路組
72‧‧‧筆直連接線路
74‧‧‧彎角連接線路
76‧‧‧第一群組
78‧‧‧第二群組
80‧‧‧第三群組
82‧‧‧第四群組
84‧‧‧第五群組
86‧‧‧第六群組
88‧‧‧第七群組
90‧‧‧第八群組
92‧‧‧第九群組
100‧‧‧設施模組
圖1係展示一真空泵及/或減量系統的一示意圖(未按比例繪製);
圖2係展示真空泵及/或減量系統之設施線路的一示意圖(未按比例繪製);
圖3係展示真空泵及/或減量系統之一透視圖的一示意圖(未按比例繪製);
圖4係展示真空泵及/或減量系統之一模組之一透視圖的一示意圖(未按比例繪製);
圖5及圖6係展示真空泵及/或減量系統之一部分之一俯視圖的一示意圖(未按比例繪製),其用於描述系統之模組之連接點之定位;及
圖7係展示用於將真空泵及/或減量系統之模組連接在一起之一組實例性連接線路的一示意圖(未按比例繪製)。
10‧‧‧模組
12‧‧‧裝置
13‧‧‧寬度
20‧‧‧設施線路
21‧‧‧真空泵及/或減量線路
22‧‧‧框架
24‧‧‧基底
25‧‧‧互連桿
26‧‧‧前側
27‧‧‧後側
28‧‧‧頂側
29‧‧‧底側
30‧‧‧橫向側
34‧‧‧設施線路輸入端/連接點
36‧‧‧設施線路輸出端/連接點
38‧‧‧製程氣體線路輸入端/連接點
40‧‧‧製程氣體線路輸出端/連接點
Claims (14)
- 一種用於一真空泵系統之模組,該模組包括:一頂側及與該頂側對置之一底側;一前側及與該前側對置之一後側,該前側及該後側安置於該頂側與該底側之間;兩個對置橫向側,其等安置於該頂側與該底側之間且安置於該前側與該後側之間,其中該頂側、該底側、該前側、該後側及該等橫向側界定一空間;一裝置,其完全位於該空間內;及一或多個連接點,其等耦合至該裝置,該等連接點之各者用於接收該裝置之一輸入或自該裝置接收一輸出;其中該一或多個連接點位於該頂側處;該模組在一第一系統維度上具有等於一固定系統值之一第一整數倍之一最大尺寸,該第一系統維度係該等橫向側之間的一維度;且就各連接點而言,該連接點與各橫向側之間在該第一系統維度上之一距離係該固定系統值之一各自第二整數倍;其中該共同固定系統值係10mm至200cm之範圍內之一值。
- 如請求項1之模組,其中該裝置選自由以下各者組成之裝置群組:用於泵抽一流體之一真空泵裝置、用於減少一流體之一減量裝置、經組態以控制設施自該模組至遠離該模組之其他實體之一供應之一控制器及經組態以控制遠離該模組之一或多個真空泵及/或減量裝置之操作之一控制器。
- 如請求項1或2之模組,其中該一或多個連接點包括選自由以下各者組成之群組之輸入端或輸出端之一或多者:用於自一設施供應器接收設施之一設施輸入端、用於自該模組輸出設施之一設施輸出端、一製程氣體進口及一製程氣體出口。
- 如請求項2之模組,其中該等設施包含選自由以下各者組成之群組之一或多個設施:一設施流體、電力、電信號及光學信號。
- 如請求項4之模組,其中該等設施包含選自由以下各者組成之設施流體群組之設施流體:液體冷卻劑、自來水、去離子水、清潔乾燥空氣、甲烷、氧氣、氮氣及氫氣。
- 如請求項1或2之模組,其中該等連接點之一或多者包括選自由以下各者組成之連接器群組之一連接器:一肘形連接器、一漸縮管連接器、一T型連接器、一十字形連接器、包括一閥之一連接器、一Y型連接器、一電連接器及一光學連接器。
- 如請求項1或2之模組,其中:該模組包括複數個該等連接點;就至少一對該等連接點而言,該對連接點之間在一第二系統維度上之一距離係該固定系統值之一各自第三整數倍;且該第二系統維度垂直於該第一系統維度。
- 如請求項1之模組,其中該共同固定系統值係44mm。
- 一種真空泵系統,其包括複數個模組,各模組係如請求項1至8中任一項。
- 如請求項9之真空泵系統,其中該等模組配置成在該第一系統維度上彼此相鄰。
- 如請求項9或10之真空泵系統,其中:該複數個模組之一第一模組包括一第一連接點;該複數個模組之一第二模組包括一第二連接點;且該系統進一步包括附接於該第一連接點與該第二連接點之間的一連接線路;其中該連接線路包括沿該第一系統維度對準之一或多個部分,該一或多個部分之各者具有等於該固定系統值之一各自整數倍之一長度。
- 如請求項9或10之真空泵系統,其中:該複數個模組之一第一模組包括一第一連接點;該複數個模組之一第二模組包括一第二連接點;該第一連接點與該第二連接點之間在一第二系統維度上之一距離係該固定系統值之一整數倍;且該第二系統維度垂直於該第一系統維度。
- 如請求項12之真空泵系統,其中:該系統進一步包括附接於該第一連接點與該第二連接點之間的一連接線路;其中該連接線路包括沿該第二系統維度對準之一或多個部分,該一或多個部分之各者具有等於該固定系統值之一各自整數倍之一長度。
- 如請求項9或10之真空泵系統,其中該複數個模組之一模組係一設施模組;該設施模組之該等連接點包括:一或多個設施輸入端,其等經組態以自一設施供應器接收設施;及一或多個設施輸出端,其等經組態以將該所接收之設施輸出至該設施模組外;且該設施模組包括:一或多個設施連接線路,其等將該等設施輸入端連接至該等設施輸出端;及一控制器,其經組態以控制該等設施輸入端處所接收之設施至該等設施輸出端外之供應及控制遠離該設施模組之一或多個真空泵及/或減量裝置之操作。
Applications Claiming Priority (9)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GBGB1718752.7A GB201718752D0 (en) | 2017-11-13 | 2017-11-13 | Vacuum and abatement systems |
GB1718752.7 | 2017-11-13 | ||
??1718752.7 | 2017-11-13 | ||
??1804937.9 | 2018-03-27 | ||
GB1804937.9A GB2568329A (en) | 2017-11-13 | 2018-03-27 | Modular vacuum pumping and/or abatement system |
GB1804937.9 | 2018-03-27 | ||
GB1808946.6 | 2018-05-31 | ||
GB1808946.6A GB2568339A (en) | 2017-11-13 | 2018-05-31 | A module for a vacuum pumping and/or abatement system |
??1808946.6 | 2018-05-31 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW201928197A TW201928197A (zh) | 2019-07-16 |
TWI791671B true TWI791671B (zh) | 2023-02-11 |
Family
ID=60788391
Family Applications (5)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW107140190A TWI793210B (zh) | 2017-11-13 | 2018-11-13 | 用於真空泵及/或減量系統之模組 |
TW107140192A TW201923228A (zh) | 2017-11-13 | 2018-11-13 | 真空泵及/或減量系統 |
TW107140191A TWI828640B (zh) | 2017-11-13 | 2018-11-13 | 真空系統管連接器 |
TW107140188A TWI783081B (zh) | 2017-11-13 | 2018-11-13 | 模組化真空泵及/或減量系統 |
TW107140189A TWI791671B (zh) | 2017-11-13 | 2018-11-13 | 用於真空泵及/或減量系統之模組 |
Family Applications Before (4)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW107140190A TWI793210B (zh) | 2017-11-13 | 2018-11-13 | 用於真空泵及/或減量系統之模組 |
TW107140192A TW201923228A (zh) | 2017-11-13 | 2018-11-13 | 真空泵及/或減量系統 |
TW107140191A TWI828640B (zh) | 2017-11-13 | 2018-11-13 | 真空系統管連接器 |
TW107140188A TWI783081B (zh) | 2017-11-13 | 2018-11-13 | 模組化真空泵及/或減量系統 |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (4) | US11519401B2 (zh) |
EP (4) | EP3710702B1 (zh) |
JP (4) | JP7242692B2 (zh) |
KR (4) | KR102589659B1 (zh) |
CN (4) | CN111556927A (zh) |
GB (6) | GB201718752D0 (zh) |
TW (5) | TWI793210B (zh) |
WO (6) | WO2019092408A1 (zh) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB2564399A (en) * | 2017-07-06 | 2019-01-16 | Edwards Ltd | Improvements in or relating to pumping line arrangements |
GB201718752D0 (en) * | 2017-11-13 | 2017-12-27 | Edwards Ltd | Vacuum and abatement systems |
CN117536862A (zh) * | 2018-03-06 | 2024-02-09 | 株式会社国际电气 | 泵、处理装置、排气系统、半导体器件的制造方法 |
GB2597503A (en) * | 2020-07-24 | 2022-02-02 | Edwards Ltd | A modular foreline system |
GB2626561A (en) * | 2023-01-26 | 2024-07-31 | Edwards Ltd | Connector for use in a vacuum pumping system |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7824500B1 (en) * | 2007-11-19 | 2010-11-02 | National Semiconductor Corporation | System and method for cleaning a reactor chamber of a pump exhaust abatement system |
Family Cites Families (82)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE219659C (zh) * | ||||
US1985544A (en) * | 1933-04-17 | 1934-12-25 | Locomotive Finished Material C | Return bend joint |
US3398262A (en) * | 1967-09-14 | 1968-08-20 | Electro Trace Corp | Pipe heating arrangement |
JPS5224511Y2 (zh) * | 1972-08-14 | 1977-06-03 | ||
JPS5015116A (zh) * | 1973-06-11 | 1975-02-18 | ||
US4031611A (en) * | 1974-08-16 | 1977-06-28 | Thermon Manufacturing Company | Method of making preinsulated pipe assembly |
DE2709002C3 (de) * | 1977-03-02 | 1980-09-11 | Danfoss A/S, Nordborg (Daenemark) | Verdichteraggregat, insbesondere für Kältemaschinen |
US4163571A (en) * | 1977-07-18 | 1979-08-07 | Durapipe Limited | Pipe couplings |
US4214628A (en) * | 1978-07-11 | 1980-07-29 | Botts Elton M | Multiple-purpose underground fluid injection system |
US4553023A (en) * | 1981-11-27 | 1985-11-12 | Nordson Corporation | Thermally insulated electrically heated hose for transmitting hot liquids |
DE8811176U1 (de) * | 1988-09-03 | 1988-12-29 | Jeschke, Immanuel, 3203 Sarstedt | Vorrichtung zum Ausgleich von Verschiebungen und Versetzungen erdverlegter Rohre in Versorgungsleitungen |
US5415439A (en) * | 1992-08-24 | 1995-05-16 | General Electric Company | Misalignment fitting |
JP2588960Y2 (ja) * | 1993-04-23 | 1999-01-20 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板処理装置 |
IL117775A (en) * | 1995-04-25 | 1998-10-30 | Ebara Germany Gmbh | Inhalation system with gas exhaust cleaner and operating process for it |
US5769467A (en) * | 1995-10-10 | 1998-06-23 | Bridges; Donald Y. | Pipe couplings for misaligned or out-of-round pipes and expanding/contracting pipes |
US5536317A (en) * | 1995-10-27 | 1996-07-16 | Specialty Coating Systems, Inc. | Parylene deposition apparatus including a quartz crystal thickness/rate controller |
JP3177453B2 (ja) * | 1996-08-12 | 2001-06-18 | ニチアス株式会社 | マントルヒータ |
NL1011651C2 (nl) * | 1999-03-23 | 2000-09-27 | Petrus Johannes Bus | Buizenstelsel voor chemische vloeistoffen, in het bijzonder olieproducten, zoals brandstoffen. |
EP1085206A1 (de) * | 1999-09-13 | 2001-03-21 | Manfred Zucht | Schwingkolbenpumpenstation |
US6397883B1 (en) * | 1999-12-16 | 2002-06-04 | The Boc Group, Inc. | Equipment skid |
US20020025286A1 (en) * | 2000-08-30 | 2002-02-28 | Gravley Rodrick J. | System, method and product-by-process for treatment of exhaust gases |
US7032614B2 (en) * | 2000-11-03 | 2006-04-25 | Applied Materials, Inc. | Facilities connection box for pre-facilitation of wafer fabrication equipment |
JP3752583B2 (ja) * | 2001-03-30 | 2006-03-08 | ニチアス株式会社 | マントルヒータ及びその製造方法 |
CN1207505C (zh) | 2003-01-27 | 2005-06-22 | 甘国工 | 有孔钢骨架增强复合聚合物管道接头 |
US20060207230A1 (en) * | 2003-03-17 | 2006-09-21 | Demarco Maxvac Corporation | Vacuum loader with filter doors |
DE10316129B4 (de) * | 2003-04-03 | 2006-04-13 | Festo Ag & Co. | Diagnosemodul und Steuergerät für eine Ventilbatterie |
ES2291791T3 (es) * | 2003-10-21 | 2008-03-01 | Norma Germany Gmbh | Conducto de fluido. |
EP1574773A2 (en) * | 2004-03-10 | 2005-09-14 | Calsonic Kansei Corporation | Y-shaped branching pipe of a bouble walled pipe and method of making the same |
US7325409B2 (en) * | 2004-03-24 | 2008-02-05 | Espinosa Edward P | Vacuum storage apparatus with sliding drawers |
GB0416385D0 (en) | 2004-07-22 | 2004-08-25 | Boc Group Plc | Gas abatement |
JP4911980B2 (ja) | 2006-02-02 | 2012-04-04 | 東京エレクトロン株式会社 | 減圧処理装置 |
US7932480B2 (en) * | 2006-04-05 | 2011-04-26 | Mks Instruments, Inc. | Multiple heater control system with expandable modular functionality |
JP2008234939A (ja) * | 2007-03-19 | 2008-10-02 | Kawai Denki Seisakusho:Kk | 被覆加熱装置 |
KR100809852B1 (ko) * | 2007-05-17 | 2008-03-04 | (주)엘오티베큠 | 일체형 진공발생장치 |
US20080295421A1 (en) | 2007-05-30 | 2008-12-04 | Jan Dirk Hekma Wierda | System and method for installing a semiconductor manufacturing apparatus |
US20090078208A1 (en) * | 2007-09-12 | 2009-03-26 | Dennis Lee Hakes | Strip, dip and scrub |
KR20090080609A (ko) * | 2008-01-22 | 2009-07-27 | 삼성전기주식회사 | 양면 발광 소자 패키지 및 그 제조 방법 |
GB0809976D0 (en) | 2008-06-02 | 2008-07-09 | Edwards Ltd | Vacuum pumping systems |
US8500419B2 (en) * | 2008-11-10 | 2013-08-06 | Schlumberger Technology Corporation | Subsea pumping system with interchangable pumping units |
KR20100073338A (ko) * | 2008-12-23 | 2010-07-01 | 주식회사 동부하이텍 | 반도체 공정챔버의 진공펌프 시스템 |
CA2707142A1 (en) | 2009-06-09 | 2010-12-09 | Turner Logistics | Frames for supporting service cells |
DE102009037010A1 (de) * | 2009-08-11 | 2011-02-17 | Oerlikon Leybold Vacuum Gmbh | Vakuumpumpensystem |
US9740184B2 (en) | 2009-11-16 | 2017-08-22 | Applied Materials, Inc. | Controls interface solution for energy savings |
ES2741636T3 (es) * | 2010-02-08 | 2020-02-11 | Agc Glass Europe | Dispositivo de revestimiento modular |
US9909326B2 (en) | 2010-02-25 | 2018-03-06 | John Clement Preston | Scaffolding |
US8486265B2 (en) * | 2010-06-23 | 2013-07-16 | Ying-Chen Lin | Stackable modular ultra pure water machine |
GB2481793B (en) * | 2010-07-05 | 2013-08-21 | Pickup Bellows Ltd | Connecting joint |
EP2616605A4 (en) * | 2010-09-15 | 2014-09-03 | Pentair Thermal Man Llc | ELECTRICAL TRACING SYSTEM COMPRISING A HYBRID COMPOSITE INSULATION |
US8957334B1 (en) * | 2011-03-10 | 2015-02-17 | Electro-Mechanical Corporation | Illumination and visual indicator |
US20120261011A1 (en) * | 2011-04-14 | 2012-10-18 | Young Man Cho | Energy reduction module using a depressurizing vacuum apparatus for vacuum pump |
US9285067B2 (en) * | 2011-04-28 | 2016-03-15 | Aktiebolaget Skf | Modular double adjustable chock |
GB201107860D0 (en) | 2011-05-11 | 2011-06-22 | Manda Ion | Rack module |
FR2979093B1 (fr) * | 2011-08-17 | 2013-09-20 | Peugeot Citroen Automobiles Sa | Structure porteuse comportant un chassis intermediaire porte par un chassis principal, procede de montage de cette structure, et application a un groupe motopropulseur de vehicule automobile |
GB2500610A (en) * | 2012-03-26 | 2013-10-02 | Edwards Ltd | Apparatus to supply purge gas to a multistage vacuum pump |
US20130276702A1 (en) * | 2012-04-24 | 2013-10-24 | Applied Materials, Inc. | Gas reclamation and abatement system for high volume epitaxial silicon deposition system |
US9010041B2 (en) * | 2012-06-25 | 2015-04-21 | Sunpower Corporation | Leveler for solar module array |
JP5802966B2 (ja) * | 2012-09-10 | 2015-11-04 | オリオン機械株式会社 | パッケージ型の回転ポンプ装置ユニット |
DE102012112815A1 (de) * | 2012-12-20 | 2014-06-26 | Bayer Technology Services Gmbh | Prozessaggregat und Verwendung mehrerer Prozessaggregate |
KR101349313B1 (ko) * | 2013-01-10 | 2014-01-16 | 주식회사 사람들 | 누설 여부 검지가 가능한 진공배관용 연결부재 |
JP6153754B2 (ja) | 2013-03-28 | 2017-06-28 | 株式会社荏原製作所 | 除害機能付真空ポンプ |
GB2513300B (en) | 2013-04-04 | 2017-10-11 | Edwards Ltd | Vacuum pumping and abatement system |
JP6166102B2 (ja) * | 2013-05-30 | 2017-07-19 | 株式会社荏原製作所 | 除害機能付真空ポンプ |
JP6116401B2 (ja) | 2013-06-27 | 2017-04-19 | 株式会社荏原製作所 | 真空ポンプ装置 |
DE202014100983U1 (de) * | 2014-03-05 | 2014-04-09 | Polygon - Produktdesign, Konstruktion, Herstellung Gmbh | Montagemodul |
JP6472653B2 (ja) * | 2014-03-17 | 2019-02-20 | 株式会社荏原製作所 | 除害機能付真空ポンプ |
JP6441660B2 (ja) * | 2014-03-17 | 2018-12-19 | 株式会社荏原製作所 | 除害機能付真空ポンプ |
JP6522892B2 (ja) * | 2014-05-30 | 2019-05-29 | 株式会社荏原製作所 | 真空排気システム |
CN203924215U (zh) * | 2014-07-03 | 2014-11-05 | 合肥巨澜安全技术有限责任公司 | 一种新型移动式排涝装置 |
US10159595B2 (en) * | 2014-12-05 | 2018-12-25 | Somnics, Inc. | Negative pressure generating device and application thereof |
GB2533933A (en) | 2015-01-06 | 2016-07-13 | Edwards Ltd | Improvements in or relating to vacuum pumping arrangements |
EP3054083B1 (en) * | 2015-02-05 | 2017-05-17 | Saipem S.p.A. | Underwater hydrocarbon processing facility |
JP6463220B2 (ja) * | 2015-05-21 | 2019-01-30 | 東京エレクトロン株式会社 | 処理システム |
DE202015005199U1 (de) * | 2015-07-18 | 2015-08-18 | Vacuubrand Gmbh + Co Kg | Vakuumpumpstand mit mindestens zwei Membranpumpen |
GB201515489D0 (en) | 2015-09-01 | 2015-10-14 | Edwards Ltd | Abatement apparatus |
DE102015220126A1 (de) * | 2015-10-15 | 2017-04-20 | Mtu Friedrichshafen Gmbh | Abgaskomponente, Verfahren zum Herstellen einer solchen Abgaskomponente, und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens |
DE102015121905A1 (de) * | 2015-12-16 | 2017-06-22 | Mehrer Compression GmbH | Kompressoranlage mit stufenloser Regelung |
US20170288400A1 (en) * | 2016-03-29 | 2017-10-05 | Donald Williams | Energy process handling system, assembly, and apparatus, and method of using or assembling the same |
DE102016108141A1 (de) * | 2016-05-02 | 2017-11-02 | Connect Com GmbH | Verteilermodul mit einer Leitungsführungsanordnung |
CN106090503A (zh) * | 2016-07-26 | 2016-11-09 | 韦梨樱 | 一种过桥弯头组件 |
CN206018075U (zh) * | 2016-08-23 | 2017-03-15 | 德梅斯特(上海)环保科技有限公司 | 管道系统 |
KR102210393B1 (ko) * | 2017-02-09 | 2021-02-01 | 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 | 수증기 및 산소 시약을 이용하는 플라즈마 저감 기술 |
GB201718752D0 (en) * | 2017-11-13 | 2017-12-27 | Edwards Ltd | Vacuum and abatement systems |
-
2017
- 2017-11-13 GB GBGB1718752.7A patent/GB201718752D0/en not_active Ceased
- 2017-12-21 GB GB1721640.9A patent/GB2568555B/en not_active Expired - Fee Related
-
2018
- 2018-03-27 GB GB1804937.9A patent/GB2568329A/en not_active Withdrawn
- 2018-05-31 GB GB1808946.6A patent/GB2568339A/en not_active Withdrawn
- 2018-05-31 GB GB1808944.1A patent/GB2568338B/en active Active
- 2018-09-07 GB GB1814576.3A patent/GB2568359B/en active Active
- 2018-11-05 CN CN201880086350.0A patent/CN111556927A/zh active Pending
- 2018-11-05 JP JP2020544170A patent/JP7242692B2/ja active Active
- 2018-11-05 US US16/763,519 patent/US11519401B2/en active Active
- 2018-11-05 WO PCT/GB2018/053210 patent/WO2019092408A1/en active Application Filing
- 2018-11-05 EP EP18800314.9A patent/EP3710702B1/en active Active
- 2018-11-05 WO PCT/GB2018/053211 patent/WO2019092409A1/en unknown
- 2018-11-05 KR KR1020207013596A patent/KR102589659B1/ko active IP Right Grant
- 2018-11-08 CN CN201880073561.0A patent/CN111315988A/zh active Pending
- 2018-11-08 JP JP2020544173A patent/JP7395486B2/ja active Active
- 2018-11-08 WO PCT/GB2018/053242 patent/WO2019092428A1/en unknown
- 2018-11-08 US US16/763,516 patent/US11542932B2/en active Active
- 2018-11-08 WO PCT/GB2018/053241 patent/WO2019092427A1/en active Application Filing
- 2018-11-08 KR KR1020207013597A patent/KR20200087766A/ko not_active Application Discontinuation
- 2018-11-08 EP EP18804075.2A patent/EP3710703B1/en active Active
- 2018-11-09 EP EP18804077.8A patent/EP3710701B1/en active Active
- 2018-11-09 KR KR1020207013566A patent/KR102589654B1/ko active IP Right Grant
- 2018-11-09 US US16/763,525 patent/US11512688B2/en active Active
- 2018-11-09 JP JP2020544174A patent/JP7373493B2/ja active Active
- 2018-11-09 WO PCT/GB2018/053243 patent/WO2019092429A1/en unknown
- 2018-11-09 CN CN201880073613.4A patent/CN111315987A/zh active Pending
- 2018-11-09 CN CN201880073564.4A patent/CN111356839B/zh active Active
- 2018-11-09 WO PCT/GB2018/053244 patent/WO2019092430A1/en unknown
- 2018-11-09 JP JP2020544175A patent/JP7312758B2/ja active Active
- 2018-11-09 EP EP18804076.0A patent/EP3710700B1/en active Active
- 2018-11-09 US US16/762,044 patent/US11530694B2/en active Active
- 2018-11-09 KR KR1020207013567A patent/KR102589653B1/ko active IP Right Grant
- 2018-11-13 TW TW107140190A patent/TWI793210B/zh active
- 2018-11-13 TW TW107140192A patent/TW201923228A/zh unknown
- 2018-11-13 TW TW107140191A patent/TWI828640B/zh active
- 2018-11-13 TW TW107140188A patent/TWI783081B/zh active
- 2018-11-13 TW TW107140189A patent/TWI791671B/zh active
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7824500B1 (en) * | 2007-11-19 | 2010-11-02 | National Semiconductor Corporation | System and method for cleaning a reactor chamber of a pump exhaust abatement system |
Also Published As
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI791671B (zh) | 用於真空泵及/或減量系統之模組 | |
WO1999054651A1 (en) | System for fluid delivery in a dialysis clinic | |
CN111278260B (zh) | 一种带液冷散热管路的机柜 | |
WO1993013020A1 (en) | Piping system for supplying ultrapure water | |
US20230307253A1 (en) | A modular foreline system | |
CN118602296B (zh) | 可防止前级管路气体回流的半导体制造设备及方法 | |
CN211118041U (zh) | 一种阶梯式打磨室送风风管结构 | |
TW202432978A (zh) | 將真空泵及/或減量設備連接至流體線路之連接器 | |
CN219796511U (zh) | 一种y字形废气管道 | |
CN208471770U (zh) | 一种对含有固体物的污水处理设备 | |
SA04250015B1 (ar) | وسيلة توصيل الانابيب | |
JP2015124572A (ja) | バイパス管及びこれを備えた真空式液体収集システム | |
CN117752973A (zh) | 一种狭小空间的消防水泵房内输水管道模块化一体式结构 | |
JP2007105656A (ja) | 気体浄化装置 | |
TWM564065U (zh) | 輔助區的平臺構造模組 |