JP2588960Y2 - 基板処理装置 - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この考案は、半導体ウェハや液晶
パネル用のガラス基板といった基板に所要の処理液を供
給し、基板洗浄、エッチング等の処理を基板に施す基板
処理装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】この種の基板処理装置として、例えば、
各種薬液や純水等を個別に収容する複数の処理槽が用意
されており、基板をこの処理槽の中に順に浸すことによ
り、酸化膜エッチング、洗浄等の処理を基板に施すもの
が知られている。こうした基板処理装置においては、薬
液中に含まれる微粒子を除去する目的のために、各処理
槽内の薬液をポンプで循環しながらフィルタにてろ過す
る、いわゆる循環フィルタリングシステムの構成が採用
されている。

【０００３】

【考案が解決しようとする課題】ところで、こうした従
来の基板処理装置では、前記ポンプやフィルタ等の器具
は装置内の適当な位置にレイアウトされていた。このた
め、メンテナンスを行なうに際し、処理液の種類に応じ
た循環経路別に作業を進めることができず、作業性が悪
いといった問題があった。

【０００４】また、この基板処理装置を設計するに際
し、ポンプやフィルタ等の器具のレイアウト位置に規則
性がないことから、この種のレイアウトを装置毎に個別
で行なう必要があり、設計に多大な時間を費やすといっ
た問題もあった。

【０００５】この考案の基板処理装置は、従来技術にお
ける前述した課題を解決するためになされたもので、メ
ンテナンスの作業性を高め、さらに、設計における簡易
化を図ることを目的とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】このような目的を達成す
るため、前記課題を解決するための手段として、この考
案の基板処理装置は、基板処理用の処理液を個別に収容
する複数の処理液収容部と、前記処理液収容部に収容さ
れた処理液を各処理液収容部から個別に循環もしくは配
送する複数の処理液経路とを備える基板処理装置におい
て、各処理液経路毎に、当該処理液経路に備えられる循
環用もしくは配送用器具を集めて載置する基台をそれぞ
れ設けると共に、前記各基台を個別に装置本体外に導く
搬送路を備えたことを、要旨としている。

【０００７】こうした基板処理装置において、好ましく
は、各基台を、液体を貯留可能な器状に形成した構成と
する。

【０００８】

【作用】以上のように構成されたこの考案の基板処理装
置によれば、各基台に処理液経路別の器具が集められて
それぞれ載置されることから、各基台を装置本体外に導
くことにより、処理液経路別にメンテナンス等の作業を
進めることができる。また、設計の段階において、処理
液経路別に器具の集合をユニット化することができる。

【０００９】

【実施例】以上説明したこの考案の構成・作用を一層明
らかにするために、以下この考案の好適な実施例につい
て説明する。

【００１０】この考案の一実施例である基板処理装置
は、半導体ウェハ（以下、基板と呼ぶ）に薬液や純水等
を供給して、基板洗浄等の処理を基板に施すものであ
る。この基板処理装置の管路構成について図１を用いて
まず説明する。

【００１１】図１に示すように、この基板処理装置は、
処理液Ｌ１，Ｌ２を個別に貯留して基板を収容する処理
槽１，２を備えている。処理槽１の底壁には流出口１ａ
が設けられており、この流出口１ａから処理槽１の上部
に戻る循環路１１が備えられている。この循環路１１に
は、その上流側から、処理液圧送ポンプ１３、フィルタ
１５および開閉バルブ１７が順に設けられている。一
方、処理槽２側にも処理槽１側と同様に循環路２１を備
え、この循環路２１には、その上流側から、処理液圧送
ポンプ２３、フィルタ２５および開閉バルブ２７が順に
設けられている。各処理槽１，２に貯留された処理液Ｌ
１，Ｌ２を循環路１１，２１を介してそれぞれ循環させ
ながらフィルタ１５，２５にてろ過することにより、処
理液Ｌ１，Ｌ２中に含まれる微粒子がそれぞれ除去され
る。

【００１２】さらに、処理液Ｌ１側の処理液圧送ポンプ
１３とフィルタ１５との間からは、処理液Ｌ１をドレン
容器３１に導くドレン配管３３が分岐して設けられてい
る。同様に、処理液Ｌ２側の処理液圧送ポンプ２３とフ
ィルタ２５との間からは、処理液Ｌ１をドレン容器３１
に導くドレン配管３５が分岐して設けられている。な
お、ドレン配管３３，３５には開閉バルブ３７，３９が
それぞれ備えられている。ドレン配管３１の開閉バルブ
３７を開状態、循環路１１の開閉バルブ１７を閉状態と
することで、処理液Ｌ１をドレン容器３１側に逃すこと
ができ、一方、ドレン配管３５の開閉バルブ３９を開状
態、循環路２１の開閉バルブ２７を閉状態とすること
で、処理液Ｌ２をドレン容器３１側に逃すことができ
る。なお、前記循環路１１，２１およびドレン配管３
３，３５は樹脂で形成された可撓性のものである。

【００１３】図２は、この基板処理装置の底部付近を示
す斜視図である。図２に示すように、この基板処理装置
は、筺体５１の底板５１ａに２対の案内レール５３Ｌ，
５３Ｒ，５５Ｌ，５５Ｒを備える。案内レール５３Ｌ，
５３Ｒ，５５Ｌ，５５Ｒは断面凹形状であり、その溝部
５７に基台６１，６３の底部の突出片６１Ｌ，６１Ｒ，
６３Ｌ，６３Ｒがかみ合って、案内レール５３Ｌ，５３
Ｒ，５５Ｌ，５５Ｒ上に基台６１，６３が載置される。

【００１４】基台６１，６３は、内部に液体を貯留可能
な箱形状である。基台６１の底面上には、前述した循環
路１１に備えられる処理液圧送ポンプ１３，フィルタ１
５および開閉バルブ１７とドレン配管３３に備えられる
開閉バルブ３７とが載置されている。また、基台６３の
底面上には、循環路２１に備えられる処理液圧送ポンプ
２３，フィルタ２５および開閉バルブ２７とドレン配管
３５に備えられる開閉バルブ３９とが載置されている。

【００１５】図３に、こうした基台６１，６３の基板処
理装置の底部Ｔにおける位置関係を示した。図３に示す
ように、処理液Ｌ１に関する器具、即ち、処理液圧送ポ
ンプ１３，フィルタ１５，開閉バルブ１７，３７は集め
られて基台６１上に位置し、また、処理液Ｌ２に関する
器具、即ち、処理液圧送ポンプ２３，フィルタ２５，開
閉バルブ２７，３９は集められて基台６３上に位置して
いる。なお、基台６１，６３は、基板処理装置の停止
後、必要に応じて、図３に示した位置、即ち、図２中、
２点鎖線で示した位置から、図２に示すように案内レー
ル５３Ｌ，５３Ｒ，５５Ｌ，５５Ｒに沿って筺体５１の
外部に引き出される。

【００１６】したがって、この基板処理装置では、メン
テナンス等の作業時において、処理液Ｌ１，Ｌ２の種類
に応じた基台６１，６３別に作業を進めることができる
ことから、メンテナンス等の作業性に優れている。特
に、案内レール５３Ｌ，５３Ｒ，５５Ｌ，５５Ｒにより
基台６１，６３を装置本体外部に容易に運び出すことが
できることから、装置外部でメンテナンスの作業を行な
うことができ、よりその作業性に優れている。

【００１７】また、基台６１，６３により処理液経路別
に器具の集合のユニット化が図られていることから、基
板処理装置の設計に際し、ユニットを配列するだけで設
計を行なうことができる。このため、設計の簡易化を図
ることができ、設計に要する時間を短縮することができ
る。

【００１８】さらに、本実施例では、基台６１，６３は
箱形状となっていることから、管路、特に、管路と器具
との接続部から液漏れがあった場合に、その漏れた処理
液を基台６１，６３で貯留することができ、安全性に優
れている。

【００１９】さらに、基台６１，６３の取り替えが容易
であることから、基台６１，６３を別のものに取り替え
るだけで、管路の構成が違う循環系に容易に対応するこ
とができる。

【００２０】次に、この実施例の別態様について述べ
る。この実施例において、図４に示すように、循環路１
１，２１およびドレン配管３３，３５を螺旋状に巻回し
て伸縮可能なものとしてもよい。この構成により、これ
ら管路を外すことなしに基台６１，６３を引っ張るだけ
で装置本体から外部に取り出すことができる。また、こ
れら管路を螺旋状のものに換えて、側壁が蛇腹状になっ
た構成としてもよい。

【００２１】また、前記実施例において、図５に示すよ
うに、基台６１，６３の内側底面に電気的に液体を感知
する漏液センサ９１，９３をそれぞれ設け、漏液センサ
９１，９３からの出力信号を電子制御ユニット９５で受
け、電子制御ユニットにより漏液センサ９１，９３の感
知状況に応じて表示パネル９７に警報を表示する構成と
してもよい。この構成によれば、漏液センサ９１，９３
により液漏れが検知されると、電子制御ユニット９５
は、センサ別、即ち、処理液Ｌ１，Ｌ２別に警報を表示
する。このため、液漏れが生じた異常な循環経路を容易
に検出することができる。

【００２２】さらに、基台６１，６３の底面に排出口を
設け、この排出口に設けたバルブを前記電子制御ユニッ
ト９５で開閉制御する構成としてもよい。この構成によ
り、漏液センサ９１，９３により液漏れが感知されたと
き、電子制御ユニット９５により、基台６１，６３内に
貯留された液体を外部に自動的に排出することができ
る。

【００２３】また、前記実施例では、基台６１，６３上
に載置する器具を処理槽１，２からの循環路１１，２１
に備えられるものとしていたが、これに換えて、処理液
を処理槽からユースポイント（例えば、処理液吐出ノズ
ル）まで供給する処理液供給経路を予め用意し、その処
理液供給経路に備えられる器具を前記載置の対象として
もよい。この構成により、ユースポイントへの処理液供
給経路においてもメンテナンス等の作業性を向上するこ
とができ、また、設計の簡易化を図ることができる。

【００２４】以上、本考案のいくつかの実施例を詳述し
てきたが、本考案はこうした実施例に何等限定されるも
のではなく、本考案の要旨を逸脱しない範囲において種
々なる態様にて実施し得ることは勿論である。

【００２５】

【考案の効果】以上説明したようにこの考案の基板処理
装置では、処理液経路別に器具が集めて基台に載置され
ていることから、各基台を装置本体外に導くことによ
り、処理液経路別にメンテナンス等の作業を進めること
ができる。このため、メンテナンス等の作業性に優れて
いる。また、処理液経路別に器具の集合がユニット化さ
れていることから、装置の設計を簡易化することがで
き、設計に要する時間を短縮することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本考案の一実施例である基板処理装置の管路構
成を示す概略経路図である。

【図２】この基板処理装置の底部付近を示す斜視図であ
る。

【図３】この基板処理装置の底部における基台等の位置
関係を示す説明図である。

【図４】この実施例の別態様を示す基台周辺の斜視図で
ある。

【図５】この実施例の他の別態様を示す概略構成図であ
る。

【符号の説明】

１，２…処理槽 １１，２１…循環路 １３，２３…処理液圧送ポンプ １５，２５…フィルタ １７，２７…開閉バルブ ３１…ドレン容器 ３３，３５…ドレン配管 ３７，３９…開閉バルブ ５１…筺体 ５３Ｌ，５３Ｒ，５５Ｌ，５５Ｒ…案内レール ６１，６３…基台 Ｌ１…処理液 Ｌ２…処理液

フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.⁶，ＤＢ名) H01L 21/304 H01L 21/306 B08B 3/04

Claims (2)

(57)【実用新案登録請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板処理用の処理液を個別に収容する複
   数の処理液収容部と、 前記処理液収容部に収容された処理液を各処理液収容部
   から個別に循環もしくは配送する複数の処理液経路とを
   備える基板処理装置において、 各処理液経路毎に、当該処理液経路に備えられる循環用
   もしくは配送用器具を集めて載置する基台をそれぞれ設
   けると共に、 前記各基台を個別に装置本体外に導く搬送路を備えた基
   板処理装置。
2. 【請求項２】 請求項１記載の基板処理装置であって、 各基台を、液体を貯留可能な器状に形成した基板処理装
   置。