JP3144733B2 - 基板処理装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、基板処理装置、特に、
複数種の処理液により基板を処理する基板処理槽を複数
有する基板処理装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】半導体基板や液晶用のガラス基板等の薄
板状の被処理基板（以下、単に基板と記す）を表面処理
する場合には、基板を処理槽内に浸漬して処理する浸漬
型の基板処理装置が一般に用いられる。

【０００３】この種の基板処理装置は、基板の表面処理
を行うための複数の基板処理槽及び複数の処理液を基板
処理槽に供給する処理液供給部を含む装置本体と、装置
本体とは別の場所に設けられ、基板処理槽から排出され
た排液を処理液の種別毎に分別して排出するための排液
排出ユニットとを備えている。装置本体と排液排出ユニ
ットとを結ぶ排液配管には、排液量を考慮して通常は、
４０Ａ〜６５Ａ程度の大口径の配管が用いられる。

【０００４】この種の基板処理装置では、例えば塩酸や
フッ酸等の酸系の処理液で基板に処理を施したり、水酸
化アンモニウム等のアルカリ系の処理液で基板に対して
処理を施すことが行われる。また洗浄後には、純水によ
る洗浄が行われる。このように基板処理装置では、酸系
の処理液やアルカリ系の処理液や純水が用途に応じて用
いられている。これらの処理液を混合して排出すると化
学反応等を引き起こすおそれがあるので、酸やアルカリ
や水等の種別に応じて排液排出ユニットにより分別し排
出している。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】前記従来の構成では、
装置本体内の処理槽と排液排出ユニットとを結ぶ排液配
管を処理槽の数に応じた本数配置する必要がある。しか
も、これらの配管は大口径であるために、それに要する
配管スペースが大きくなる。また、装置本体とは別に排
液排出ユニットが必要であり、装置の全体設置スペース
が大きくなる。

【０００６】本発明の目的は、全体設置スペース及び配
管スペースを小さくすることにある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】請求項１に係る基板処理
装置は、複数の処理部と、処理液供給手段と、複数の排
出路と、排液切り換え手段とを有している。複数の処理
部は、複数種類の処理液で基板を処理し、処理に使用し
た処理液を排液として排出する。処理液供給手段は、複
数の処理部のそれぞれに対して、複数種類の処理液を供
給する。複数の排出路は、処理部から排出される排液の
種類に対応して設けられており、排液を装置外部に排出
する。排液切り換え手段は、複数の処理部のそれぞれに
対応して 設けられており、処理部から排出された排液
を、排液の種類に応じて排出路に流す。また、排液切り
換え手段は、排液受け入れ口と、複数の排出口と、バル
ブとを備えている。排液受け入れ口は、処理部から排出
される排液を受け入れる。複数の排出口は、各排出路に
接続されている。バルブは、排液受け入れ口から流入す
る排液を、排液の種類に応じて所定の排出口に流す。

【０００８】請求項２に係る基板処理装置は、請求項１
に記載の基板処理装置において、処理液供給手段は、処
理部に対して、酸性薬液、アルカリ性薬液、純水の何れ
かを供給するものである。排出路は、酸性薬液を基板処
理装置の外部に排出する酸排出路と、アルカリ性薬液を
基板処理装置の外部に排出するアルカリ排出路と、純水
を基板処理装置の外部に排出する純水排出路とから成
る。排液切り換え手段は、酸排出路に接続され酸性薬液
を排出する酸排出口と、アルカリ排出路に接続されアル
カリ性薬液を排出するアルカリ排出口と、純水排出路に
接続され純水を排出する純水排出口とを備えている。

【０００９】請求項３に係る基板処理装置は、請求項１
または２に記載の基板処理装置において、処理部は、処
理液を貯留する処理槽である。そして、排液切り換え手
段の排液受け入れ口は、処理槽に直接接続されている。

【００１０】請求項４に係る基板処理装置は、請求項１
または２に記載の基板処理装置において、複数の処理部
は、処理槽を有しており、所定の方向に並んで設けられ
ている。複数の処理部の処理槽は、処理液を貯留して基
板を収容する内槽と、内槽から溢れ出た処理液を受ける
外槽とから成る。また、複数の排出路は、各処理槽に下
方において、複数の処理部の並び方向に沿って延設され
ている。排液切り換え手段は、それぞれ、各処理槽と複
数の排出路との間の空間に設けられている。

【００１１】

【作用】請求項１に係る基板処理装置では、基板処理装
置内に複数の排出路と廃液切り換え手段とを設け、装置
外部に排出する排液が分別排出されるようにしている。
また、排液の種別に応じて各排出路で一括して排液がで
きるようになっている。このため、別個に排液排出ユニ
ットを設置したり排液排出ユニットと基板処理装置とを
結ぶ排液配管を設置したりする必要がなくなり、設置ス
ペースを抑えることができる。

【００１２】請求項２に係る基板処理装置では、排液と
なる酸性薬液、アルカリ性薬液、及び純水に対して、そ
れぞれ、排出路である酸排出路、アルカリ排出路、及び
純水排出路を設けている。これにより、処理液の種類に
応じた分別排出が可能となるとともに、３種類の排液に
対してそれぞれ排出路を設けているため、同時に一括し
て各排液を排出することができる。

【００１３】請求項３に係る基板処理装置では、排液切
り換え手段の排液受け入れ口を直接処理槽に接続するよ
うにし、より一層の省スペース化を図っている。請求項
４に係る基板処理装置では、処理槽と排出路との間の空
間に排液切り換え手段を配置し、より一層の省スペース
化を図っている。

【００１４】

【実施例】図１及び図２において、本発明の一実施例を
採用した浸漬型基板洗浄装置１は、多数の基板を収容し
たキャリアＣの搬入・搬出部２と、キャリアＣからの基
板Ｗの取り出し又はキャリアＣへの基板Ｗの装填を行う
基板移載部３と、キャリアＣを洗浄するためのキャリア
洗浄器３ａと、搬入・搬出部２と基板移載部３とキャリ
ア洗浄器３ａとの間でキャリアＣを移載するキャリア移
載ロボット４と、複数の基板を一括して洗浄する浸漬型
基板洗浄処理部５と、基板の液切り及び乾燥を行うため
の基板搬送部６と、基板移載部３でキャリアＣから取り
出した複数の基板を一括保持して基板洗浄処理部５及び
基板乾燥部６に搬送する基板搬送ロボット７とから構成
されている。

【００１５】基板移載部３はキャリアＣを載置する回転
可能な２つのテーブル８を有している。テーブル８の中
心には、矩形の開口が形成されており、この開口の下方
には、キャリアＣから基板Ｗを一括して取り出すととも
に、キャリアＣに基板Ｗを一括して装填するための昇降
可能な基板受け部８ａが配置されている。

【００１６】キャリア移載ロボット４は、昇降及び回転
自在でありかつ図１の矢印Ａ方向に移動可能に構成され
ている。このキャリア移載ロボット４は、搬入・搬出部
２に搬入されてきたキャリアＣをテーブル８上に移載
し、基板洗浄中においてキャリア洗浄器３ａとテーブル
８との間でキャリアＣを出し入れし、また洗浄済みの基
板Ｗを収容したキャリアＣをテーブル８から搬入・搬出
部２へ移載する。

【００１７】基板搬送ロボット７は、移動部１０内を図
１の矢印Ｂ方向に移動可能であり、基板移載部３の基板
受け部８ａから受け取った複数の基板Ｗを挟持する基板
挟持アーム９を有している。このロボット７は、基板挟
持アーム９で挟持した複数の基板Ｗを移動部１０に沿っ
て基板洗浄処理部５及び基板乾燥部６へ順次搬送する。

【００１８】基板洗浄処理部５は、オーバーフロー型の
ものであり、並設された３つの洗浄槽１２と、洗浄槽１
２に昇降自在に設けられた基板保持具１１と、各基板洗
浄槽１２へ下方より複数種の洗浄液を供給する洗浄液供
給部１３（図５）と、各基板洗浄槽１２よりオーバーフ
ローした洗浄液を排出する洗浄液排出部１４（図３）と
を備えている。各洗浄槽１２には、基板搬送ロボット７
から受け取った複数の基板が基板保持具１１で保持され
浸漬される。

【００１９】基板洗浄槽１２は基板Ｗを表面処理するた
めのものであり、石英ガラス製で、側面視略Ｖ字状、平
面視略矩形状に形成されている。また基板洗浄槽１２
は、オーバーフロー液回収槽１５内に配置されており、
洗浄液を複数種の洗浄処理工程毎に置換し得るオーバー
フロー槽として構成されている。なお、基板洗浄槽１２
は石英ガラス製に限られず、例えば、洗浄液として石英
ガラスを腐食させてしまうフッ酸等を用いる場合には、
４フッ化エチレン樹脂等の樹脂製材料で形成したもので
も良い。

【００２０】洗浄液排出部１４は、図２及び図３に示す
ように、各回収槽１５の下方に配置されている。洗浄液
排出部１４は、回収槽１５に接続された排液管１６と、
排液管１６に接続された排液切り換え弁１７とを有して
いる。排液切り換え弁１７は、各洗浄槽１２に対応して
配置されている。排液切り換え弁１７は、洗浄槽１２か
ら回収槽１５及び排液管１６を介して排出された処理液
を酸，アルカリ，純水の３系統に分別して排出するため
のものである。

【００２１】排液切り換え弁１７は、図４に示すよう
に、酸系の排液を排出するための酸系排液バルブ３４
と、アルカリ系の排液を排出するためのアルカリ系排液
バルブ３５と、純水系の排液を排出するための純水系排
液バルブ３６とこれらの３つのバルブ３４〜３６を並設
配置した排液連結管３７とから構成されている。排液連
結管３７には、図４の左右方向に排液通路３８が形成さ
れている。排液通路３８の一端には、排液管１６に接続
された排液口３９が設けられている。また他端はプラグ
により封止されている。排液通路３８の各バルブ３４〜
３６に対向する下端には、排液連結管３７の下面に開口
する各排液の排出口４０〜４２が形成されている。これ
らの排出口４０〜４２は、各排液バルブ３４〜３６によ
り個別に開閉される。

【００２２】排液切り換え弁１７の下方には、図２及び
図３に示すように、酸，アルカリ，純水の各系統の排液
を排出するための酸系排出管３１、アルカリ系排出管３
２及び純水系排出管３３が並べて配置されている。これ
らの排出管３１〜３３は、洗浄槽１２の並設方向に長い
ダクト状であり、洗浄槽１２に対応して配置された３つ
の排液切り換え弁１７の処理液の種別に応じた各排出口
４０〜４２に接続されている。この結果、排出管３１〜
３３は、排液切り換え弁１７からの排液を種別毎に一括
して排出できる。

【００２３】洗浄液供給部１３は、図５に示すように、
各基板洗浄槽１２の下部にそれぞれ連結された純水供給
管１８を備えている。純水供給管１８には、基板洗浄槽
１２より上流側へ順に導入弁連結管１９、流量計２６及
び純水を定圧で微量及び定量供給可能な制御弁２７が配
置されている。純水供給管１８には、常温または所定温
度に加熱された純水Ｄ_Wが供給される。

【００２４】導入弁連結管１９には、複数の薬液導入弁
２０_A〜２０_Dと、排液管１６に接続された洗浄槽排液弁
２２と、純水供給弁２３とが連結されている。各薬液導
入弁２０_A〜２０_Dには、薬液Ｑ_A〜Ｑ_Dを供給するための
図示しない薬液圧送部が連結されている。ここでは、た
とえば薬液Ｑ_Aは塩酸、薬液Ｑ_Bは水酸化アンモニウム、
薬液Ｑ_Cは過酸化水素水、薬液Ｑ_Dはフッ酸である。この
４種類の薬液のうち、水酸化アンモニウムの薬液Ｑ_Bを
除く薬液Ｑ_A，Ｑ_C，Ｑ_Dは全て酸性である。薬液導入弁
２０_A〜２０_Dは、選択的に開閉制御され、薬液圧送部か
ら純水供給管１８に所定の薬液を導入する。なお、薬液
圧送部は、１種類の薬液を貯溜するための薬液貯溜容器
２２_A〜２２_D（図１）を有している。この薬液貯溜容器
２２_A〜２２_Dに前述した薬液Ｑ_A〜Ｑ_Dが貯溜されてい
る。

【００２５】次に上述の実施例の動作について説明す
る。基板が収納されたキャリアＣが搬入・搬出部Ｄに載
置されると、キャリア移載ロボット４がそれを受け取
り、基板移載部３に載置する。キャリアＣが基板移載部
３に移載されると、基板受け部８ａがキャリアＣから基
板Ｗを取り出し、基板搬送ロボット７に基板Ｗを渡す。
基板搬送ロボット７は、基板洗浄槽１２のいずれか１つ
に基板Ｗを搬送する。洗浄処理が終了すると、浸漬され
ていた基板は基板搬送ロボット７により次の基板洗浄槽
１２または基板乾燥部６に運ばれる。

【００２６】この洗浄処理中において、酸系の薬液が投
入されオーバーフローする際には、排液切り換え弁１７
の酸系排液バルブ３５が開かれる。そして酸系排出管３
２にオーバーフローした排液は排出される。洗浄が終了
すると、薬液導入弁２０_A〜２０_Dをいずれも閉じ、洗浄
槽１２に純水のみを投入する。そして徐々に薬液と置換
しながら基板及び洗浄槽１２を水洗する。この処理中に
おいても同様に酸系排液バルブ３５のみが開かれる。

【００２７】続いて同じ洗浄槽１２でアルカリ系（例え
ば水酸化アンモニウム）の薬液を投入しオーバーフロー
しながら洗浄処理する場合には、アルカリ系排液バルブ
３４を開き、オーバーフロー液回収槽１５に貯溜した排
液をアルカリ系排出管３１に排出する。アルカリ系薬液
による洗浄が終了すると薬液導入弁２０_A〜２０_Dをいず
れも閉じて純水のみを洗浄槽に投入し、薬液を純水とを
置換しながら水洗処理を行う。このときには、アルカリ
系排液バルブ３４を開いている。所定時間が経過して薬
液が完全に純水と置換されると、純水を洗浄槽１２に満
たした状態で次処理まで待機する。このときには、純水
系排液バルブ３６を開く。なおこのときには死水対策と
して、制御弁２７により微量の純水を洗浄槽１２に投入
する。

【００２８】ここでは、各洗浄槽からの排液を排液切り
換え弁１７により種別に応じて切り換え、各洗浄槽１２
からの処理液を種別に応じて各排出管３１〜３３に一括
して排液しているとともに、それらを基板洗浄装置１内
に設けたので、配管スペースが小さくなるとともに設置
スペースが小さくなる。また、各系統の排液バルブ３４
〜３６を排液連結管３７により一体化しているので、さ
らに配管スペースが小さくなる。

【００２９】〔他の実施例〕 （ａ） 前記実施例では、排液管１６を介して排液切り
換え弁１７を取り付けたが、回収槽１５の下部に排液切
り換え弁１７を直接取り付けてもよい。 （ｂ） 前記実施例では、各系統の排出管３１〜３３を
矩形ダクト状に並設配置した構成としたが、排出管３１
〜３３の構成はこれに限定されるものではなく、排液切
り換え弁１７から個別に配管により排出する構成でもよ
い。

【００３０】

【発明の効果】本発明に係る基板処理装置では、基板処
理装置内に複数の排出路と廃液切り換え手段とが設けら
れているため、装置外部に排出する排液が分別される。
これに従って、別個に排液排出ユニットを設置したり排
液排出ユニットと基板処理装置 とを結ぶ排液配管を設置
したりする必要がなくなり、設置スペースを抑えること
ができる。また、排液が種別に応じて一括して排出され
るので、装置内における配管スペースが小さくなる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例を採用した基板洗浄装置の斜
視概略図。

【図２】その縦断面概略図。

【図３】その横断面部分図。

【図４】排液弁の側面一部切欠き図。

【図５】そ基板洗浄装置の配管回路図。

【符号の説明】

１ 基板洗浄装置 １２ 基板洗浄槽 １７ 排液切り換え弁 ３１，３２，３３ 排出管 ３４，３５，３６ 排液バルブ

Claims (4)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】複数種類の処理液で基板を処理し、処理に
   使用した処理液を排液として排出する複数の処理部と、 前記複数の処理部のそれぞれに対して複数種類の処理液
   を供給する処理液供給手段と、 前記処理部から排出される排液の種類に対応して設けら
   れ、排液を装置外部に排出する複数の排出路と、 前記複数の処理部のそれぞれに対応して設けられ、前記
   処理部から排出された排液を排液の種類に応じて前記排
   出路に流す排液切り換え手段と、 を有し、 前記排液切り換え手段は、前記処理部から排出される排
   液を受け入れる排液受け入れ口と、各前記排出路に接続
   された複数の排出口と、前記排液受け入れ口から流入す
   る排液を排液の種類に応じて所定の前記排出口に流すバ
   ルブとを備えている、 基板処理装置。
2. 【請求項２】請求項１に記載の基板処理装置において、 前記処理液供給手段は、前記処理部に対して、酸性薬
   液、アルカリ性薬液、純水の何れかを供給するものであ
   って、 前記排出路は、酸性薬液を装置外部に排出する酸排出路
   と、アルカリ性薬液を装置外部に排出するアルカリ排出
   路と、純水を装置外部に排出する純水排出路とから成
   り、 前記排液切り換え手段は、前記酸排出路に接続され酸性
   薬液を排出する酸排出口と、前記アルカリ排出路に接続
   されアルカリ性薬液を排出するアルカリ排出口と、前記
   純水排出路に接続され純水を排出する純水排出口とを備
   えている、 基板処理装置。
3. 【請求項３】請求項１または２に記載の基板処理装置に
   おいて、 前記処理部は、処理液を貯留する処理槽であって、 前記排液切り換え手段の排液受け入れ口は、前記処理槽
   に直接接続されている、 基板処理装置。
4. 【請求項４】請求項１または２に記載の基板処理装置に
   おいて、 前記複数の処理部は、所定の方向に並んで設けられてい
   るもので、処理液を貯留して基板を収容する内槽と前記
   内槽から溢れ出た処理液を受ける外槽とから成る処理槽
   を有しており、 前記複数の排出路は、前記各処理槽に下方において、前
   記複数の処理部の並び方向に沿って延設されており、 前記排液切り換え手段は、それぞれ、各前記処理槽と前
   記複数の排出路との間の空間に設けられている、 基板処理装置。