JP2000306880A - 処理システム - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 保守・点検領域を含む設置スペースを小さく
すると共に、メンテナンス性の向上を図れるようにした
処理システムを提供すること。 【解決手段】 半導体ウエハＷを洗浄（処理）する処理
室２１ａ〜２１ｃ；２２ａ〜２２ｃを備える処理部２
と、半導体ウエハＷを処理室２１ａ〜２１ｃ；２２ａ〜
２２ｃに対して搬入・搬出する搬送チャック５と、半導
体ウエハＷの洗浄（処理）に使用される処理流体を収容
する収容部３と、処理部２と収容部３とを分離すべく処
理部２と収容部３との間に形成される保守・点検領域６
とを設け、収容部３の処理流体と処理部２の処理室２１
ａ〜２１ｃ；２２ａ〜２２ｃとを接続する配管２８を、
保守・点検領域６の下部に設けられた空間３０内に配設
する。これにより、保守・点検領域６を含む設置スペー
スを小さくすることができると共に、メンテナンス性の
向上を図ることができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、処理システムに
関するもので、更に詳細には、例えば半導体ウエハやＬ
ＣＤ用ガラス基板等の被処理体を処理例えば洗浄する処
理システムに関するものである。

【０００２】

【従来の技術】一般に、半導体製造装置の製造工程にお
いては、半導体ウエハやＬＣＤ用ガラス基板等の被処理
体を、薬液｛例えばアンモニア水やフッ化水素酸等｝や
リンス液等の処理液が貯留された処理室例えば処理槽に
順次搬送し、処理液に浸漬して、被処理体表面に付着し
たパーティクルの除去や化学的，物理的に吸着したＮ
ｉ，Ｃｒ等の重金属あるいは自然酸化膜等を除去する処
理システムが採用されている。

【０００３】この処理システムには、各薬液を貯留する
複数の薬液処理槽やリンス液を貯留する複数のリンス液
処理槽と、各処理槽に薬液やリンス液を供給する供給源
や圧送ガス等の処理流体と、上記各処理槽に対して被処
理体を搬入・搬出する搬送手段例えば搬送チャックと、
搬送チャックを駆動制御する制御機器類等が具備されて
いる。この処理システムを円滑に稼働するためには、処
理流体例えば薬品類の交換、制御機器類の保守・点検等
を定期的に行うなどして、処理システムを常時管理する
必要がある。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
この種の処理システムにおいては、処理槽と搬送手段と
を具備する処理部、処理流体を収容する収容部や搬送手
段の制御機器類の収容部が、互いに密接した状態に組み
込まれているため、処理流体の交換や制御機器類の保守
・点検を行う場所（領域）を装置の外方に確保する必要
があった。したがって、処理システムの設置スペースが
大きくなるばかりか、保守・点検の際には、装置の裏側
で作業員が作業しなければならないため、作業性（メン
テナンス性）が悪いという問題があった。

【０００５】この発明は上記事情に鑑みなされたもの
で、保守・点検領域を含む設置スペースを小さくすると
共に、メンテナンス性の向上を図れるようにした処理シ
ステムを提供することを目的とするものである。

【０００６】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、この発明は以下のように構成する。

【０００７】請求項１記載の発明は、被処理体を処理す
る処理室を備えた処理部と、 上記被処理体を上記処理
室に搬送する搬送手段と、 上記被処理体の処理に使用
される処理流体を収容する収容部と、 上記処理部と収
容部との間に形成される保守・点検領域と、 上記収容
部の処理流体と処理部の処理室とに接続される配管と、
を具備し、 上記保守・点検領域から上記処理部の保守
・点検及び上記収容部の保守・点検を可能にする、こと
を特徴とする。

【０００８】請求項２記載の発明は、請求項１記載の処
理システムにおいて、 上記収容部に、搬送手段の駆動
及び制御信号を発する制御機器類を収容し、 上記制御
機器類と上記搬送手段とを接続する配線とを具備する、
ことを特徴とする。

【０００９】上記請求項１又は２記載の処理システムに
おいて、上記搬送手段の配設位置は任意で合っても差し
支えないが、好ましくは搬送手段を、処理部内又は保守
・点検領域と処理部との境界近傍側に配設し、上記保守
・点検領域から上記処理部と搬送手段の保守・点検を可
能にする方がよい（請求項３）。

【００１０】また、上記配管を、保守・点検領域の下
部、側部又は上部のうちの少なくとも一部に設けられた
空間内に配設し、 上記保守・点検領域から上記配管の
保守・点検を可能にするか（請求項４）、あるいは、上
記配管及び配線を、保守・点検領域の下部、側部又は上
部のうちの少なくとも一部に設けられた空間内に配設
し、 上記保守・点検領域から上記配管と配線の保守・
点検を可能にする方が好ましい（請求項５）。

【００１１】また、請求項６記載の発明は、請求項１又
は２記載の処理システムにおいて、上記処理部、収容部
及び保守・点検領域を、外部と区画された１つのブロッ
ク内に配設すると共に、上記ブロック内に出入りするた
めの出入口を上記保守・点検領域に設ける、ことを特徴
とする。

【００１２】上記請求項６記載の処理システムにおい
て、 上記出入口に扉を開閉可能に取り付け、かつ、上
記扉の開放状態を検知する検出手段からの信号に基づい
て上記搬送手段、処理部又は収容部の少なくとも１つの
動作が停止するように形成する方が好ましい（請求項
７）。

【００１３】また、上記処理部、収容部及び保守・点検
領域との互いの境界を仕切壁にて区画する方が好ましい
（請求項８）。また、上記ブロックの少なくとも１箇所
に開口部を設け、この開口部に、ブロックの外部と内部
との間で被処理体を搬入及び搬出する搬入・搬出部を設
けることも可能である（請求項９）。

【００１４】また、請求項６ないし９のいずれかに記載
の処理システムにおいて、 上記ブロックにおける収容
部同士を近接配置して複数のブロックを連設することも
可能である（請求項１０）。

【００１５】また、請求項１１記載の発明は、請求項１
ないし１０のいずれかに記載の処理システムにおいて、
上記処理部と保守・点検領域とを仕切壁をもって区画
し、上記処理部の上部にフィルタ手段を介設した空気導
入口を設けると共に、処理部の下方に排気口を設けてな
る、ことを特徴とする。

【００１６】請求項１，３，４記載の発明によれば、処
理システム内に保守・点検領域を設けることができるの
で、外部に保守・点検場所を確保する必要がなく、処理
システムの設置スペースを小さくすることができる。ま
た、１つの保守・点検領域から薬品類の交換ができると
共に、処理部の点検等を行うことができるので、メンテ
ナンス性の向上が図れる。また、請求項３記載の発明に
よれば、搬送手段の部品類の交換や点検も保守・点検領
域から行うことができる。更に、請求項４記載の発明に
よれば、保守・点検領域内での作業時に、配管が作業者
の妨げにならず、作業が容易に行える。

【００１７】請求項２，３，５記載の発明によれば、請
求項１記載の発明と同様に処理システムの設置スペース
を小さくすることができる。また、１つの保守・点検領
域から薬品類の交換の他、制御機器類の点検等ができる
と共に、処理部の点検等を行うことができるので、更に
メンテナンス性の向上が図れる。更に、請求項５記載の
発明によれば、保守・点検領域内での作業時に、配線が
作業者の妨げにならず、作業が容易に行える。

【００１８】請求項６〜９記載の発明によれば、保守・
点検領域内に作業員が入って安全に保守・点検作業を行
うことができる。この場合、扉の開放状態を検出手段が
検出し、その検出信号に基づいて搬送手段の駆動部、処
理部又は収容部の少なくとも１つの動作を停止すること
で、更に安全に保守・点検作業を行うことができる（請
求項７）。更に、保守・点検時に開閉する部分が扉の部
分だけであるので、各装置ごとに検出手段を設置する必
要がない。したがって、検出手段の個数を減少させるこ
とができ、コストダウンを図ることができる。また、処
理部、収容部及び保守・点検領域との互いの境界を仕切
壁にて区画することにより、処理部や収容部で発生した
有害な蒸気や液体が保守・点検領域に侵入あるいは充満
するのを防ぐことができ、作業員の安全を確保すること
ができる（請求項８）。

【００１９】請求項１０記載の発明によれば、ブロック
における収容部同士を近接配置して複数のブロックを連
設することにより、複数の処理システムを狭いスペース
内に設置することができる。

【００２０】請求項１１記載の発明によれば、処理部内
の雰囲気をクリーンな状態に維持することができると共
に、処理部内の雰囲気が保守・点検領域に流れるのを防
止することができる。したがって、処理性能の安定化が
図れると共に、保守・点検作業の安全性を図ることがで
きる。

【００２１】

【発明の実施の形態】以下に、この発明の実施の形態を
図面に基づいて詳細に説明する。この実施形態では半導
体ウエハの洗浄処理に適用した場合について説明する。

【００２２】◎第一実施形態 図１はこの発明の処理システムの一実施形態を示す概略
断面図、図２はその要部を示す概略斜視図、図３は第一
実施形態の概略断面図である。

【００２３】上記処理システムは、被処理体である半導
体ウエハＷ（以下にウエハＷという）の搬入・搬出部１
と、ウエハＷを処理例えば洗浄する処理部２と、処理例
えば洗浄に使用される薬液やリンス液等の薬品や圧送ガ
ス等の処理流体を収容する処理流体収容部３（以下に第
１の収容部３という）と、後述する搬送手段例えば搬送
チャック５の駆動及び制御信号を発する制御機器類を収
容する制御機器類収容部４（以下に第２の収容部４とい
う）と、処理部２と第１及び第２の収容部３，４とを分
離すべく処理部２と第１及び第２の収容部３，４との間
に形成される保守・点検領域６と、搬入・搬出部１と処
理部２に敷設される搬送レール７に沿って移動して、複
数枚例えば５０枚のウエハＷを処理部２に配設された後
述する複数の処理室２１ａ〜２１ｃ；２２ａ〜２２ｃの
各々に対して搬入・搬出する搬送手段例えば搬送チャッ
ク５とを、壁パネルによって外部と区画された１つのブ
ロック１００内に具備してなる。

【００２４】上記搬入・搬出部１には、未処理のウエハ
Ｗを収容するキャリア８ａと、処理済みのウエハＷを収
容するキャリア８ｂが載置されている。この搬入・搬出
部１と処理部２との間には、複数枚のウエハＷの姿勢を
変換する姿勢変換手段９と、上記搬送チャック５との間
でウエハＷを受け渡すウエハ受渡し手段１０とを具備し
たインターフェース部１１と、キャリア８ａ及び８ｂを
搬入・搬出部１とインターフェイス部１１との間で受け
渡しを行うキャリア搬送手段（図示省略）とが形成され
ている。

【００２５】上記処理部２には、搬入・搬出部１及びイ
ンターフェース部１１側から順に、搬送チャック洗浄・
乾燥ユニット１２、乾燥処理ユニット１３、第１の薬液
を貯留する第１の薬液処理室２１ａとリンス液を貯留す
る第１のリンス液処理室２２ａとを具備する第１の洗浄
処理ユニット２０Ａ、第２の薬液を貯留する第２の薬液
処理室２１ｂとリンス液を貯留する第２のリンス液処理
室２２ｂとを具備する第２の洗浄処理ユニット２０Ｂ及
び第３の薬液を貯留する第３の薬液処理室２１ｃとリン
ス液を貯留する第３のリンス液処理室２２ｃとを具備す
る第３の洗浄処理ユニット２０Ｃが一直線状に配列、つ
まり乾燥処理ユニット１３の隣から順に、第１のリンス
液処理室２２ａ，第１の薬液処理室２１ａ，第２のリン
ス液処理室２２ｂ，第２の薬液処理室２１ｂ，第３のリ
ンス液処理室２２ｃ及び第３の薬液処理室２１ｃが配列
されている。この場合、第１ないし第３の洗浄処理ユニ
ット２０Ａ〜２０Ｃの各薬液処理室２１ａ〜２１ｃ及び
各リンス液処理室２２ａ〜２２ｃには、搬送チャック５
との間で複数例えば５０枚のウエハＷの受け渡しを行
い、受け取ったウエハＷを処理室２１ａ〜２１ｃ内に収
容するウエハボート１４が昇降機構１５によって昇降可
能に形成されている（図３参照）。

【００２６】また、処理部２は、図３に示すように、互
いの境界に配設される仕切壁１６によって保守・点検領
域６と区画されており、その天井面にはフィルタ手段と
してのフィルタユニット１７を介設した空気導入口１８
が設けられ、処理部２の下方には、図示しない排気手段
例えば真空ポンプに接続する排気口１９が設けられてい
る。したがって、処理部２内には常時清浄化されたクリ
ーンな空気が供給されている。なお、仕切壁１６の一部
には、処理部２内を監視できるように覗き窓２９が設け
られている。

【００２７】上記処理部２内に配設される薬液処理室２
１ａ〜２１ｃ及びリンス液処理室２２ａ〜２２ｃは、図
３に示すように、薬液又はリンス液等の洗浄液（図面で
は薬液の場合を示す）を貯留する内槽２４と内槽２４か
ら溢流した薬液を受け止める外槽２５とで構成されてお
り、内槽２４の下方には、薬液供給ノズル２６が配設さ
れている。薬液供給ノズル２６は、第１の収容部３内に
配設された薬液供給源としての薬液タンク２７（薬品
類）と供給用の配管２８を介して接続されている。この
場合、供給配管２８は、上記保守・点検領域６の下部に
設けられた空間３０内に配設されている。ここでは、１
つの処理室２１ａと薬液タンク２７との接続形態につい
て説明したが、他の各薬液処理室２１ａ〜２１ｃ及びリ
ンス液処理室２２ａ〜２２ｃの供給配管２８も同様に空
間３０内に配設されている。また、空間３０内には、第
２の収容部４内に収容された制御機器類と搬送チャック
５の駆動部等を接続する配線２８Ａも配設されている
（図３参照）。

【００２８】なお、上記内槽２４の底部に設けられた排
出口（図示せず）には第１のドレン弁３１を介設した第
１のドレン管３２が接続され、外槽２５の底部に設けら
れた排出口（図示せず）には第２のドレン弁３３を介設
した第２のドレン管３４が接続されている。そして、こ
れらドレン管３２，３４を介して排出された排液は、処
理部２の下部側方に接続された排液管路３６から外部に
排出されるように構成されている（図１参照）。

【００２９】一方、上記保守・点検領域６における搬入
・搬出部１と反対側の一側端には、作業員の出入口４０
が設けられており、この出入口４０に扉４１が開閉可能
に取り付けられている。この場合、図１に示すように、
出入口４０には扉４１の開放状態を検知する検出手段と
してのセンサ４２が配設されており、このセンサ４２か
らの検出信号が制御器４３に伝達され、制御器４３から
の制御信号が搬送チャック５の駆動部に伝達されて、扉
４１の開放状態には搬送チャック５の駆動が停止される
ように構成されている。なおここでは、説明上制御器４
３を処理システムの外に表示したが、制御器４３は上記
第２の収容部４内に収容されている。なお、蒸気制御器
４３からの制御信号に基づいて搬送チャック５、処理部
２又は第１，第２の収容部３，４の少なくとも１つの動
作が停止するように形成することも可能である。ここ
で、処理部２の動作とは、薬液や純水又は圧送ガス等の
処理流体を処理室２１ａ〜２１ｃに供給するための供給
ポンプや加圧手段あるいは循環ポンプや補充ポンプなど
の動作や、処理流体の温度コントローラの動作をいう。
また、収容部３，４の動作とは、収容部３，４に、上記
供給ポンプ、加圧手段、循環ポンプ及び温度コントロー
ラがある場合においては、これらの動作をいう。なお、
処理部２側に供給ポンプや加圧手段があり、収容部３，
４側に循環ポンプ、補充ポンプ、及び温度コントローラ
がある場合は、処理部２の動作は、供給ポンプや加圧手
段の動作をいい、収容部３，４の動作は、循環ポンプ、
補充ポンプや温度コントローラの動作をいう。なおこの
場合、配管上のバルブの開閉動作もメンテナンス時には
止まるようにしておく方が望ましい。

【００３０】上記第１の収容部３と第２の収容部４は２
段に形成されており、上段に制御機器類を収容する第２
の収容部４が位置し、下段に薬品類を収容する第１の収
容部３が位置している。なお、第１及び第２の収容部
３，４と隣接する位置には、上記処理部２内に配設され
る乾燥処理ユニット１３に供給される乾燥ガスの供給源
であるイソプロピルアルコール（ＩＰＡ）のタンク、Ｉ
ＰＡガス生成器等のＩＰＡユニット４４が配設されてい
る。このＩＰＡユニット４４と乾燥処理ユニット１３と
を接続する配管も上記配管２８と同様に保守・点検領域
６の下部に形成された空間３０内に配設されている。

【００３１】上記のように構成される処理システムによ
れば、保守・点検領域６を介して処理部２と第１及び第
２の収容部３，４とを分離して設けるので、処理システ
ムの外部に保守・点検用のスペースを設けることなく、
処理システムを設置することができる。また、薬液類の
交換や制御機器類の点検等、あるいは処理部２内の処理
の点検・監視等を行う場合には、保守・点検領域６内で
作業することができるので、交換、点検等の作業が容易
である。この場合、保守・点検領域６の扉４１を開放す
ると、センサ４２が検知して、その信号を制御器４３に
伝達し、制御器４３からの制御信号によって搬送チャッ
ク５の駆動が停止するので、作業者は安全に交換、点検
等の作業を行うことができる。

【００３２】なお、上記説明では、搬入・搬出部１と出
入口４０とを対向する側に配設した場合について説明し
たが、必ずしも搬入・搬出部１と出入口４０とを対向す
る側に配設する必要はなく、ブロック１００の少なくと
も１箇所に開口部を設け、この開口部に搬入・搬出部１
を設けるようにしてもよい。この場合、開口部をブロッ
ク１００の対向する２箇所に設けて、各開口部に搬入・
搬出部１を設けて双方向からウエハＷの搬入及び搬出を
行うこともできる。

【００３３】◎第二実施形態 図４はこの発明の処理システムの第二実施形態の概略平
面図、図５は図４のＡ−Ａ線に沿う断面図である。

【００３４】第二実施形態は、処理システムを更に小型
化にすると共に、洗浄処理性能の向上を図れるようにし
た場合である。すなわち、搬送チャック５を処理部２と
保守・点検領域６との間に配設すると共に、上記第１な
いし第３の洗浄処理ユニット２０Ａ〜２０Ｃの薬液処理
室２１ａ〜２１ｃとリンス液処理室２２ａ〜２２ｃに共
通のウエハボート１４によってウエハＷを収容するよう
にした場合である。

【００３５】この場合、搬送チャック５は、図５に示す
ように、仕切壁１６の一部に設けられたシール機構５０
を介して水平方向に移動可能に形成されている。このシ
ール機構５０は、図５に示すように、搬送チャック５の
移動方向と平行に配設された樋状の液体貯留容器５１
と、この液体貯留容器５１の上方から液体貯留容器５１
内に貯留されるシール用液体５２内に突入する仕切壁体
１６ａとで構成されている。このようにシール機構５０
を構成する一方、搬送チャック５の保持アーム５ａの基
部側を、略Ｕ字状に屈曲し、この屈曲部５ｂを、仕切壁
体１６ａを迂回するように液体貯留容器５１内のシール
用液体５２中に沈ませて保持アーム５ａを処理部２内に
位置させることにより、搬送チャック５を水平方向に移
動可能にシールすることができる。

【００３６】また、ウエハボート１４は、図６ないし図
１３に示すように、洗浄処理ユニット２０Ａ〜２０Ｃ
（図面では第１の洗浄処理ユニット２０Ａの場合を示
す）内に平行に配置される薬液処理室２１ａとリンス液
処理室２２ａの各々に対して複数例えば５０枚のウエハ
Ｗを収容、引き上げ可能にすべく昇降する昇降移動機構
（図示せず）を具備する移動体６０と、この移動体６０
を水平の横方向に移動する水平移動機構（図示せず）を
具備するガイド体６１とで構成されている。この場合、
昇降移動機構と水平移動機構は、例えばボールネジ機構
にて構成することができる。

【００３７】次に、上記のように構成されるウエハボー
ト１４を用いてウエハＷを洗浄する手順について、図６
ないし図１３を参照して説明する。まず、ウエハボート
１４をリンス液処理室２２ａ内に貯留されたリンス液例
えば純水中に漬けた状態で待機させておき、リンス液処
理室２２ａの上方に搬送チャック５を移動させる（図６
参照）。搬送チャック５をリンス液処理室２２ａ上に移
動させた後、昇降移動機構を駆動させ、ウエハボート１
４を上昇させて、搬送チャック５にて保持されている複
数例えば５０枚のウエハＷをウエハボート１４で受け取
る（図７，図８参照）。ウエハボート１４がウエハＷを
受け取った後、水平移動機構を駆動させ移動体６０を移
動させて、ウエハボート１４を薬液処理室２１ａの上方
に移動する（図９参照）。ウエハボート１４を薬液処理
室２１の上方位置に移動させた後、昇降移動機構を駆動
してウエハボート１４を下降して、ウエハＷを薬液処理
室に貯留された薬液に浸漬する（図１０参照）。所定時
間ウエハＷを薬液に浸漬して薬液処理を行った後、昇降
移動機構を再び駆動してウエハＷを薬液処理室２１ａの
上方に引き上げ、その後、水平移動機構を駆動させてウ
エハボート１４をリンス液処理室２２ａの上方位置まで
移動し、そして、再度昇降移動機構を駆動させてウエハ
ボート１４を下降させてウエハＷをリンス液例えば純水
に浸漬してリンス処理を行う（図１１参照）。所定時間
リンス処理を行った後、昇降移動機構を駆動させてウエ
ハボート１４を上昇させてウエハＷをリンス液処理室２
２ａの上方に位置させる（図１２参照）。ウエハＷをリ
ンス液処理室２２ａの上方に移動させた後、搬送チャッ
ク５をウエハボート１４の下方位置に移動し、その後、
ウエハボート１４を下降してウエハボート１４に保持さ
れているウエハＷを搬送チャック５に受け渡す（図１３
参照）。ウエハＷを受け取った搬送チャック５は、水平
方向に移動してウエハＷを次の洗浄処理ユニットあるい
は乾燥処理ユニット１３に搬送する。なお、ウエハボー
ト１４からウエハＷを受け取る前、あるいは、ウエハＷ
を乾燥処理ユニット１３に搬送した後の搬送チャック５
は、搬送チャック洗浄・乾燥ユニット１２で洗浄され
る。上記説明ではリンス液処理室２２ａの上方でウエハ
Ｗの受け渡しを行う場合について説明したが、ウエハボ
ート１４がリンス液処理室２２ａ内のリンス液に浸漬さ
れた後の状態であれば、薬液処理室２１ａの上方でウエ
ハＷの受け渡しを行うようにしてもよい。

【００３８】上記のように、リンス液に浸漬されたウエ
ハボート１４との間でウエハＷの受け渡しを行うことに
より、ウエハＷへの薬液の付着を防止することができる
ので、洗浄性能の向上を図ることができる。また、薬液
処理室２１ａとリンス液処理室２２ａへのウエハＷの投
入、引き上げを共通のウエハボート１４で行うことによ
り、各処理室毎にウエハボートを配設する場合に比べて
ウエハボート１４の位置合わせの調整が容易となると共
に、位置精度を正確にすることができる。また、センサ
類を省くことができるので、構成部材の削減が図れる。

【００３９】なお、第二実施形態において、その他の部
分は上記第一実施形態と同じであるので、同一部分には
同一符号を付して、説明は省略する。

【００４０】◎第三実施形態 図１４はこの発明の処理システムの第三実施形態を示す
概略平面図、図１５は第三実施形態の要部を示す概略斜
視図、図１６は第三実施形態における薬液処理室とリン
ス液処理室の配列形態及びウエハボートを示す概略斜視
図である。

【００４１】第三実施形態は、処理部２のスペースを小
さくして処理システムの設置スペースを更に小さくする
ようにした場合である。すなわち、処理部２における第
１ないし第３の洗浄処理ユニット２０Ａ〜２０Ｃの薬液
処理室２１ａ〜２１ｃとリンス液処理室２２ａ〜２２ｃ
を搬送チャック５の移動方向と直交する方向に配列し、
薬液処理室２１ａ〜２１ｃとリンス液処理室２２ａ〜ｃ
と平行に上記第二実施形態と同様にウエハボート１４を
配設し、また、乾燥処理ユニット１３と搬送チャック洗
浄・乾燥ユニット１２を同様に直列に配設して、処理部
２のスペースを小さくした場合である。

【００４２】この場合、各洗浄処理ユニット２０Ａ〜２
０Ｃにおける薬液処理室２１ａ〜２１ｃは、搬送チャッ
ク５の搬送レール７より離れた位置に配設され、リンス
液処理室２２ａ〜２２ｃが搬送チャック５の搬送レール
７側に位置した状態に配設されている。また、ウエハボ
ート１４は、図１６に示すように、薬液処理室２１ａ〜
２１ｃとリンス液処理室２２ａ〜２２ｃと平行に配設さ
れたガイド体６１の水平移動機構（図示せず）によって
水平方向に移動する移動体６０にブラケット６２を介し
て取り付けられており、移動体６０に設けられた昇降機
構（図示せず）によって薬液処理室２１ａ〜２１ｃ又は
リンス液処理室２２ａ〜２２ｃに対してウエハＷを投入
（搬入）又は引上げ（搬出）可能に構成されている。し
たがって、上記第二実施形態と同様に、リンス液処理室
２２ａ〜２２ｃ内のリンス液に浸漬されて薬液等が除去
されたウエハボート１４を用いて、搬送チャック５との
間でウエハＷの受け渡しを行うことができる。

【００４３】上記のように、薬液処理室２１ａ〜２１ｃ
とリンス液処理室２２ａ〜２２ｃを搬送チャック５の移
動方向と直交する方向に配列することにより、搬送チャ
ック５の移動方向の長さを小さくすることができると共
に、処理システムの設置スペースを小さくすることがで
きる。また、各洗浄処理ユニット２０Ａ〜２０Ｃの薬液
処理室２１ａ〜２１ｃとリンス液処理室２２ａ〜２２ｃ
へのウエハＷの投入、引き上げを共通のウエハボート１
４で行うことができるので、上記第二実施形態と同様
に、各処理室毎にウエハボートを配設する場合に比べて
ウエハボート１４の位置合わせの調整が容易となると共
に、位置精度を正確にすることができる。また、センサ
類を省くことができるので、構成部材の削減が図れる。

【００４４】なお、第三実施形態において、その他の部
分は上記第一実施形態及び第二実施形態と同じであるの
で、同一部分には同一符号を付して説明は省略する。

【００４５】◎第四実施形態 図１７はこの発明の処理システムの第四実施形態の一例
を示す概略平面図、図１８は第四実施形態の別の一例を
示す概略平面図である。

【００４６】第四実施形態は、複数の処理システムを狭
いスペース内に配置可能にした場合である。すなわち、
上記搬入・搬出部１、処理部２、第１及び第２の収容部
３，４、搬送チャック５及び保守・点検領域６を配設す
る複数例えば２つのブロック１００を、第１及び第２の
収容部３，４同士を背中合わせに近接して配置した場合
である。なお、第１及び第２の収容部３，４は、図１７
に示すように、ブロック１００の一辺の略全域に沿って
配設される場合は、第１及び第２の収容部３，４は平行
に近接される。また、図１８に示すように、第１及び第
２の収容部３，４がブロック１００の一辺の約半分に配
設される場合は、連設する各ブロック１００の第１及び
第２の収容部３，４を交差させて近接させる。

【００４７】上記のように、ブロック１００における第
１及び第２の収容部３，４同士を近接させてブロック１
００を連設配置することにより、狭いスペース内に複数
の処理システムを配置することができる。この場合、図
１８に示すように、第１及び第２の収容部３，４を交差
状に近接することにより、図１７に示す場合に比べて更
に連設する処理システムの幅を狭くすることができ、ス
ペースの有効利用ができる。

【００４８】なお、第四実施形態において、その他の部
分は、上記第一実施形態ないし第三実施形態と同じであ
るので、同一部分には同一符号を付して、説明は省略す
る。

【００４９】なお、上記実施形態では、この発明の処理
システムを半導体ウエハの処理システムに適用した場合
について説明したが、半導体ウエハ以外のＬＣＤ用ガラ
ス基板等にも適用できることは勿論である。

【００５０】

【発明の効果】以上に説明したように、この発明によれ
ば、上記のように構成されているので、以下のような効
果が得られる。

【００５１】１）請求項１，３，４記載の発明によれ
ば、処理システム内に保守・点検領域を設けることがで
きるので、外部に保守・点検場所を確保する必要がな
く、処理システムの設置スペースを小さくすることがで
きる。また、１つの保守・点検領域から処理流体の交換
ができると共に、処理部の点検等を行うことができるの
で、メンテナンス性の向上が図れる。また、請求項３記
載の発明によれば、搬送手段の部品類の交換や点検も保
守・点検領域から行うことができる。更に、請求項４記
載の発明によれば、保守・点検領域内での作業時に、配
管が作業者の妨げにならず、作業が容易に行える。

【００５２】２）請求項２，３，５記載の発明によれ
ば、請求項１記載の発明と同様に処理システムの設置ス
ペースを小さくすることができる。また、１つの保守・
点検領域から処理流体の交換の他、制御機器類の点検等
ができると共に、処理部の点検等を行うことができるの
で、更にメンテナンス性の向上が図れる。更に、請求項
５記載の発明によれば、保守・点検領域内での作業時
に、配線が作業者の妨げにならず、作業が容易に行え
る。

【００５３】３）請求項６〜９記載の発明によれば、保
守・点検領域内に作業員が入って安全に保守・点検作業
を行うことができる。この場合、扉の開放状態を検出手
段が検出し、その検出信号に基づいて搬送手段の駆動
部、処理部又は収容部の少なくとも１つの動作を停止す
ることで、更に安全に保守・点検作業を行うことができ
る（請求項７）。更に、保守・点検時に開閉する部分が
扉の部分だけであるので、各装置ごとに検出手段を設置
する必要がない。したがって、検出手段の個数を減少さ
せることができ、コストダウンを図ることができる。ま
た、処理部、収容部及び保守・点検領域との互いの境界
を仕切壁にて区画することにより、処理部や収容部で発
生した有害な蒸気や液体が保守・点検領域に侵入あるい
は充満するのを防ぐことができ、作業員の安全を確保す
ることができる（請求項８）。

【００５４】４）請求項１０記載の発明によれば、ブロ
ックにおける収容部同士を近接配置して複数のブロック
を連設することにより、複数の処理システムを狭いスペ
ース内に設置することができる。

【００５５】５）請求項１１記載の発明によれば、処理
部内の雰囲気をクリーンな状態に維持することができる
と共に、処理部内の雰囲気が保守・点検領域に流れるの
を防止することができる。したがって、処理性能の安定
化が図れると共に、保守・点検作業の安全性を図ること
ができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明の処理システムの一実施形態を示す概
略断面図である。

【図２】第一実施形態の要部を示す概略斜視図である。

【図３】第一実施形態の概略断面図である。

【図４】この発明の処理システムの第二実施形態を示す
概略平面図である。

【図５】図４のＡ−Ａ線に沿う断面図である。

【図６】第二実施形態において、ウエハをウエハボート
に受け渡す前の状態を示す概略斜視図である。

【図７】第二実施形態において、ウエハをウエハボート
に受け渡す状態を示す概略斜視図である。

【図８】第二実施形態において、ウエハをウエハボート
に受け渡した後の状態を示す概略斜視図である。

【図９】第二実施形態において、ウエハをウエハボート
によって薬液処理室側に移動する状態を示す概略斜視図
である。

【図１０】第二実施形態において、ウエハの薬液処理の
状態を示す概略斜視図である。

【図１１】第二実施形態において、ウエハのリンス処理
の状態を示す概略斜視図である。

【図１２】第二実施形態における洗浄処理されたウエハ
を搬送チャックに受け渡す前の状態を示す概略斜視図で
ある。

【図１３】第二実施形態において、ウエハをウエハボー
トから搬送チャックに受け渡す状態を示す概略斜視図で
ある。

【図１４】この発明の処理システムの第三実施形態を示
す概略平面図である。

【図１５】第三実施形態の要部を示す概略斜視図であ
る。

【図１６】第三実施形態における薬液処理室とリンス液
処理室及びウエハボートを示す概略斜視図である。

【図１７】この発明の処理システムの第四実施形態の一
例を示す概略平面図である。

【図１８】第四実施形態の別の一例を示す概略平面図で
ある。

【符号の説明】

Ｗ 半導体ウエハ（被処理体） ２ 処理部 ３ 第１の収容部（処理流体の収容部） ４ 第２の収容部（制御機器類の収容部） ５ 搬送チャック（搬送手段） ６ 保守・点検領域 １４ ウエハボート １６ 仕切壁 １７ フィルタユニット（フィルタ手段） １８ 空気導入口 １９ 排気口 ２１ａ〜２１ｃ 薬液処理室 ２２ａ〜２２ｃ リンス液処理室 ２８ 供給配管 ２８Ａ 配線 ３０ 空間 ４０ 出入口 ４１ 扉 ４２ センサ（検知手段） ４３ 制御器 １００ ブロック

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｈ０１Ｌ 21/306 Ｈ０１Ｌ 21/306 Ｊ Ｆターム(参考） 3J071 AA02 AA11 AA12 BB02 BB14 BB16 CC01 DD36 EE01 EE23 FF11 5F043 DD23 EE02 EE35 EE36 EE37 EE40 GG10 5H223 AA05 EE05 9A001 BB05 BB06 KK54 LL09

Claims (11)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 被処理体を処理する処理室を備えた処理
   部と、 上記被処理体を上記処理室に搬送する搬送手段と、 上記被処理体の処理に使用される処理流体を収容する収
   容部と、 上記処理部と収容部との間に形成される保守・点検領域
   と、 上記収容部の処理流体と処理部の処理室とに接続される
   配管と、を具備し、 上記保守・点検領域から上記処理部の保守・点検及び上
   記収容部の保守・点検を可能にする、ことを特徴とする
   処理システム。
2. 【請求項２】 請求項１記載の処理システムにおいて、 上記収容部に、搬送手段の駆動及び制御信号を発する制
   御機器類を収容し、 上記制御機器類と上記搬送手段とを接続する配線とを具
   備する、ことを特徴とする処理システム。
3. 【請求項３】 請求項１又は２記載の処理システムにお
   いて、 上記搬送手段を、処理部内又は保守・点検領域と処理部
   との境界近傍に配設し、 上記保守・点検領域から上記処理部と搬送手段の保守・
   点検を可能にする、ことを特徴とする処理システム。
4. 【請求項４】 請求項１又は３記載の処理システムにお
   いて、 上記配管を、保守・点検領域の下部、側部又は上部のう
   ちの少なくとも一部に設けられた空間内に配設し、 上記保守・点検領域から上記配管の保守・点検を可能に
   する、ことを特徴とする処理システム。
5. 【請求項５】 請求項２又は３記載の処理システムにお
   いて、 上記配管及び配線を、保守・点検領域の下部、側部又は
   上部のうちの少なくとも一部に設けられた空間内に配設
   し、 上記保守・点検領域から上記配管と配線の保守・点検を
   可能にする、ことを特徴とする処理システム。
6. 【請求項６】 請求項１又は２記載の処理システムにお
   いて、 上記処理部、収容部及び保守・点検領域を、外部と区画
   された１つのブロック内に配設すると共に、上記ブロッ
   ク内に出入りするための出入口を上記保守・点検領域に
   設ける、ことを特徴とする処理システム。
7. 【請求項７】 請求項６記載の処理システムにおいて、 上記出入口に扉を開閉可能に取り付け、かつ、上記扉の
   開閉状態を検知する検出手段からの信号に基づいて搬送
   手段、処理部又は収容部の少なくとも一つの動作が停止
   するように形成してなる、ことを特徴とする処理システ
   ム。
8. 【請求項８】 請求項６又は７記載の処理システムにお
   いて、 上記処理部、収容部及び保守・点検領域との互いの境界
   が仕切壁にて区画されている、ことを特徴とする処理シ
   ステム。
9. 【請求項９】 請求項６ないし８のいずれかに記載の処
   理システムにおいて、 上記ブロックの少なくとも１箇所に開口部を設け、この
   開口部に、上記ブロックの外部と内部との間で被処理体
   を搬入及び搬出する搬入・搬出部を設けてなる、ことを
   特徴とする処理システム。
10. 【請求項１０】 請求項６ないし９のいずれかに記載の
    処理システムにおいて、 上記ブロックにおける収容部同士を近接配置して複数の
    ブロックを連設する、ことを特徴とする処理システム。
11. 【請求項１１】 請求項１ないし１０のいずれかに記載
    の処理システムにおいて、 上記処理部と保守・点検領域とを仕切壁をもって区画
    し、上記処理部の上部にフィルタ手段を介設した空気導
    入口を設けると共に、処理部の下方に排気口を設けてな
    る、ことを特徴とする処理システム。