TWM564065U - 輔助區的平臺構造模組 - Google Patents

Abstract

一種多個平臺構造模組，用於在多層制程設施的輔助層中完成多種施工工程的模組化構造、用於製造相同模組的方法以及使用相同方法建構輔助層模組。

Description

輔助區的平臺構造模組

本揭露係關於一種輔助區的平臺構造模組。

一般來說，多數的潔淨室製造廠房，諸如半導體廠房、LCD(液晶顯示器)廠房或製藥廠房等等，需要維持潔淨或超潔淨（無塵）狀態，確保製造產品的品質。這些廠房通常也需要精確地控制溫度、壓力及濕度，甚至有時候需要精確地抑制振動。

前述潔淨室製造廠房以圖11、12及13所述的半導體廠房100為例。半導體廠房100通常包含主機台層110、低於主機台層100的輔助層120以及在主機台層110與輔助層120之間的混凝土格子梁版130。多片光柵面板112支撐製造工具111以及可界定在多片光柵面板112下方的空間113，作為連接製造工具111的各種不同工程。通常，輔助層120是依功能區分為清潔輔助層140與設備輔助層150。在清潔輔助層140中，裝配各種公用設施、硬管管道、軟管管道、電線系統、電纜管線及/或管道架170，以及相關的連接件及閥。

依照慣例，在現場建構半導體廠房100的施工期間，勞動力與規劃密集的裝配工作涉及各種行業在相同空間中同時施工。所述裝配工作包含：針對每一個位在主機台層110的功能區從多個連接點（points of connection, POCs）到主要公共設施，執行主要公共設施（基礎硬管的建構）的工程之後，公共設施及管道架170是以可被升高的鋼鐵支撐平臺141和用於連接不同氣體與液體進給硬管143的輸送管142一起水準地被裝配到多個位在清潔輔助層140中的支撐柱160上，並且確保裝配工程完成後是否可以正常的運轉與開始被安裝在施工場地的多數樓層，其中在施工場地的些許樓層必須被手動地安裝和相互連接。在半導體廠房中，常見的功能區的多數示例包含化學機械研磨（chemical mechanical planarization: chemical and mechanical polishing, CMP）區域、熱氧化（oxidation: oxidizing, OX）區塊、微影成像（photolithography: photolithography, LITHO）區域、幹式蝕刻（dry etching: dry-etching, eTCH）區域、濕式蝕刻（wet etching: wet etching, wET）區域、薄膜成形（thin film: a thin film, TF）區、金屬沉積（metal deposition: deposition of metal, MP）區、等離子布植（ion implantation: ion-implanted, IMP）區域、擴散（diffusion: Balanced, DIFF）區。此外，一般在傳統施工的同時，不同種類的輔助設備位元在基礎型連接點（base utility POC）與設備輔助層150，諸如幫浦（pumps）、閥箱（valve manifold boxes, VMB）或閥櫃（valve manifold cabinets, VMC）以及連接閥櫃的施工場地的線路，且所述輔助設備也必須被包含在二次配管（hook-up）的裝配工程中。在半導體廠房、薄膜電晶體液晶顯示器（Thin film transistor liquid crystal display, TFT-LCD）廠房或等離子顯示面板（plasma display panel, PDP）廠房，基礎管道工程及系泊工程（mooring operations）、電場導線與冷卻水硬管工程（electrical electronic field lines and process cooling water pipe）、超純水管道、氬、氮、氧、氦、液化天然氣、廢水線（waste lines）、真空管及各種不同的幹式蝕刻制程應用在各種不同的工作區，諸如氟氣、不同的濕式腐蝕劑管道及空調管道都被需要。

另外，在傳統半導體廠房的建構中，即使有廣泛且詳細高等規劃和施工管理，各種行業也面臨需要互相協調不同技術領域的時間和可用施工空間的挑戰，諸如有關耗費各種行業的勞動力、大規模生產力問題及技術集中。常常還存在一些問題，諸如延遲的互相協調、佈線和管道佈線的干擾、多餘的勞動管理、工作環境安全、焊接煙霧的危害、因高效率的施工導致無法維持管理品質的一致性。因此，難以實現高效率的施工和避免代價高昂的延遲。

在本案揭露的一實施例中，一種平臺構造模組，可在多層制程設施中建構輔助層模組，平臺構造模組包含：結構基體被配置成在輔助層中具有寬度，該寬度的尺寸可佔據在支撐柱之間的空間；支撐結構連接該結構基體，該結構基體適於支架、硬管管道、導管管道及相關的連接與控制；至少一氣體供給或一排放導管；以及至少一硬管管道可供給、排放或供給及排放液體、散裝材料或液體及散裝材料。結構基體、所述支撐結構、所述至少一導管、所述硬管管道及所述相關的連接與控制可被預先製造成整體單元，該整體單元位於該設施外側的位置，以及被運輸到該設施內被裝配。

在本案揭露的另一實施例中，一種在一多層制程設施中建構一輔助層模組的方法，包含：在裝配現場裝配多個平臺構造模組，該裝配現場位於該制程設施裝配位置的外側，運輸該些平臺構造模組到該制程設施裝配位置，依序地移動該些平臺構造模組到該制程設施的輔助層內的一預定裝配位置內，依序地提高每一該平臺構造模組到該平臺構造模組的裝配位置內，並連接鄰近的至少一其他該平臺構造模組，以位元在每一該平臺構造模組的安裝部分固定該些制程設施支撐結構，以及連接多個硬管、多個導管與多個鄰近該些平臺構造模組的管線。在此實施例中，每一平臺構造模組包含至少一結構基體被配置成在一輔助層中具有一寬度，該寬度的尺寸可佔據在支撐柱之間的空間，支撐結構連接該結構基體，該結構基體適於一支架、一硬管管道、一導管管道及一相關的連接與控制，至少一氣體供給或一排放導管以及一硬管管道，可供給、排放或供給及排放液體、散裝材料或液體及散裝材料。

本揭露描述多個實施例，包含完整結構性的支撐自身的多個輔助層平臺與所有必要的硬管、導管、電纜和其他多個裝配工程，其中多個輔助層平臺和所有必要的裝配工程可以預先建構和遠離裝配現場，即裝配現場可以是多個平臺構造模組。所述多個模組適合被裝配在對應於輔助層工程區間的寬度（如24英尺寬），且所述多個模組可被連接，使所述工程區間的結構變得完整（如只有三到七個被連接的模組，使工程區間的結構變得完整）。尤其是在本揭露所述多個有關潔淨室結構的實施例可被理解，更具體地說，本揭露是描述多個有關矽晶圓製造設備、TFT-LCD製造設備、PDP制程廠房，諸如生產設施、製藥廠或精密光學製品。因此，本揭露所述多個平臺構造模組適合在潔淨室設施本身預先生產，以維持高等級的潔淨度，接著運輸到裝配/建構現場將其他模組、制程工具、施工設備一起作最後的二次配管。在此實施例中，輔助層構造與二次配管相較於先前構造可被簡化，並造成包含消除大部分危險的高架工作、節省花費成本、提高勞動生產力的安全、簡化複雜的規劃、現場硬管施工和增加品質控制的功效。

本揭露所述制程廠房或廠房不限於使用半導體制程設施，還有一般任何用於高性能的智慧建築或高性能重型建築，包含潔淨室製造設施採用多層主機台層/輔助層類型的構造，諸如半導體晶圓的生產、多個TFT-LCD或PDP 裝置、某些與藥物相關的制程或高精度的光學製造，僅列舉數例。

如圖1所示，根據本揭露一實施例的平臺構造模組10，被提高到適當位置且被裝配成固定在多個支撐柱160之前，被放置在輔助層120的工程區間，並被懸吊在格子梁版130或其組合(於下文更詳細地描述)。圖2顯示平臺構造模組10是被提高到適當位置之後。如圖1、2及3所示（以及圖4至圖8更詳細地描述另一些實施例），平臺構造模組10具有被支撐在結構基體14上的硬管支撐結構12以及可包含所有的硬管管道15、多個空氣與氣體供給導管18,19、多個排放導管16,17與多個配件以及多個連接點21，可被視為在主機台層110上方與在輔助區設備層下方的輔助設備提供所需的相關工具。

多個典型的廠區外公共設施的示例可根據本揭露描述的多個實施例，被併入到多個模組內。所述廠區外公共設施的示例包含： · 關鍵的廢水處理系統－濃縮或工業稀釋的廢水處理系統，例如，氫氟酸（HF）、硫酸（Sulfuric）、酸（Acid）、苛性鹼（caustic）、根據多個制程製造工具製造的產品等。 · 關鍵和一般冷卻水制程的封閉回路系統。 · 一般和腐蝕性的多個排放管理的導管管道系統。 · 特殊氣體的超高純度與高純度系統，例如：氫氣、氬氣、氮氣、氦氣、氧氣、混合氣體、特種壓縮空氣等。 · 冷煤。 · 超高純水封閉回路系統（UPW–ultra-high purity water closed loop systems）/關鍵與超高純水封閉回路系統（Critical UPW critical and ultra-high purity water closed loop systems）。 · 用於維護廠房與處理晶圓的真空制程與廠房濕式或幹式真空抽吸系統。 · 電子系統與監控–照明，建築設備控制資料管理（BCD–building equipment control data management）、危險管理佈線（HAZ-Hazards management wiring）、儀器和控制佈線系統（instrument and control wiring systems）、低和高電力分佈電纜（low and high power distribution cabling）。 · 進入閥與面板的通道。 · 小型設備元件–小幫浦、斷路面板、控制台、篩檢程式、閥、調節器，局部熱交換器等。 · 可選擇的灑水滅火系統。

圖4顯示的另一代替的平臺構造模組10a。在不同的多個實施例中，多個平臺構造模組，諸如多個模組10或10a，可經由結合在結構鋼鐵基體或平臺14上的多個硬管架輔助模組12, 12a, 12b與12c所形成。或者，除了硬管架輔助模組之外，位元在結構基體14上方的結構框架可由更傳統的各別結構構件組裝，以形成一個或多個沒有各別輔助模組的平臺構造模組。用於支撐硬管管道的一個輔助模組的基本配置更詳細的顯示在圖5的示例。此一般配置可在適合特定的應用的平臺構造模組的各處重複且可被本領域技術人員的需求改變，以容納所需的導管管道、電纜與不同的供給和排放工程。

在另一替代的實施例中，基本上，平臺構造模組可被配置成倒置的構造並在該模組的頂端上設置結構基體，以便於將該模組固定在格子梁版130的底面，格子梁版130是從上方的懸吊構件支撐，而不是從下方支撐，例如在支撐柱上。在另一替代的實施例中，結構基體被提升到工程區間的位置內之後，被設置成可以和該模組分離的製造與運輸結構。在此替代的實施例中，在該模組固定在適當的位置之後，結構基體可以臨時地使用或移除，且結構基體既可以倚靠在設施的結構柱的配件上或者懸吊在格子梁版130。

如圖5所示，優選的硬管架輔助模組12包含由中間結構構件提供具有結構支撐柱的主框架30和下部框架32，諸如支撐構件33, 34。主框架30具體的應用，例如，還可以分別由第一、第二與第三輔助框架40, 50, 60構成，並可連接在一起作為具有結構構件的鋼體結構，像是中間構件41與水準構件61。因此，所述框架和支撐構件可以界定出主硬管接收區36和輔助硬管接收區37。多個較大硬管70-73可經由適當的硬管夾81，被裝配和固定在硬管接收區36, 37。進一步來說，側框架53固定在下部框架32的上方且由中間側框架和支撐構件51, 52構成，可提供較小的多條硬管或多條軟管74、75、76裝配。另外，硬管架輔助模組12也可包含甲板35，用於構成相關人員方便進入操作或維護的通道，以及可在裝配期間提供的託盤，用於支撐電纜及其他彈性構件。輔助模組也可被配置成支撐多個不同氣體供給和排放的導管16-19，如圖3及4所示。

在所述的示例中，上述位元在上端部分的第二輔助框架50具有多個支架，用於接收電線或、電纜，或者沿著該結構設置支撐杆62的軟管。一般來說，硬管管道的類型和用途是根據所述實施例的裝配需求而有不同方式的應用，但是不是用來限制製成的特定類型或用途。在一個說明的示例中，硬管70可以是處理水硬管，硬管71可以是超純水硬管，硬管72可以是廢水硬管或排水硬管，以及硬管73可以是硬管（或處理空氣）、去離子水供給硬管或飲用水供給硬管、多條硬管74、75可以是用於高純氬氣、氮氣、氧氣、氦氣供給硬管、冷凍硬管、壓力硬管或幹式蝕刻氣體硬管。

本揭露多個實施例的其他優點與特徵可搭配圖6、7及8描述。在一實施例中，由平臺構造模組（如元件符號10/10a）的架構保護的附加空間可包含硬管管道的膨脹接頭，諸如超純水（UPW）膨脹接頭20，如圖6所示。超純水膨脹接頭20符合位在超純水硬管管道上的凸緣22。經由排除需要在現場個別裝配的膨脹接頭，直接從平臺構造模組10包含所需的膨脹接頭瞭解節省大量的成本和時間。位元在平臺構造模組10內的被保護的空間也可包含多個氣體控制台24a,b，如圖7所示。氣體控制台24a,b連接氣體線25。此類裝置可包含關連於每一氣體工具的模組化面板的多個連接點、控制與關閉閥以及其他流量控制裝置。同樣地，平臺構造模組10包含模組化流量控制裝置26，用於控制與關閉散裝材料與液體，如圖8所示，並連接散裝材料與液體的管線27。控制台24a,b與模組化流量控制裝置26可從狹小通道或甲板方便地進入，此類的甲板35也可配置成部份的平臺構造模組的一部份。附加的多個連接點28也可被配置。

另一替代的實施例包含以一個或多個平臺構造模組連接多個輔助層工程區間與主線工程區，於下文中描述。圖9描述此一實施例的一示例。設施80包含多個工程區間平臺構造模組10c連接完成每一工程輔助層工程區間82a, b, c的施工需求。如上所述，在支撐結構（支撐柱）間的多個工程區間平臺構造模組10c可符合每一工程區間的尺寸。除了多個輔助層工程區間之外；多個平臺構造模組10d用於將多個工程區間82a, b, c供給與排放的氣體與液體提供給主線84。多個主線平臺構造模組10d的結構、裝配與連接大致上如上所述。本領域技術人員可根據本揭露教示特定的設施設計圖，取得所需的硬管管道、該些模組的連接件與其他元件。

平臺構造模組10建構與裝配可搭配圖10於下文描述。

(A)在裝配現場中被裝配的平臺構造模組可遠離最終的裝配位置。尤其是，平臺構造模組的設計圖可將平臺構造模組在廠房類型的環境中被裝配，甚至是所需的潔淨室設施，因此，可大大地簡化廠房的建構。在一實施例中，適當的多個架12, 12a, 12b與12c是由結構鋼或不銹鋼構件製造。適當的多個硬管夾與多個支架可裝配和固定硬管管道15與多個導管16, 17, 18與19。每一硬管與導管具有適當的凸緣或其他在裝配現場中適合鄰接模組的配件。控制台、閥、多個連接點與其他連接件也可在此裝配現場中被裝配。甲板35與電纜託盤42也可在此裝配現場中被裝配。所有裝配工程可在結構鋼鐵基體14上實現，致使平臺構造模組可完全地支撐所有組件。本揭露所描述的多個平臺構造模組在裝配之前的檢驗是以不同的量測，如壓力試驗或水壓試驗、分析試驗、儀器驗收或多個點對點的控制裝置，相較於先前非模組化系統更為容易。還有，在離開制程現場之前，所有被覆蓋的硬管、導管及相似多個孔洞在運輸期間可防止污染物。

如上所述，在結構鋼鐵基體14上建構的平臺構造模組是，位元在硬管管道架12的下方或是位在硬管管道架12的上方，或者在結構鋼鐵基體14上建構的平臺構造模組可用於運輸和裝配夾具，在設施的裝配完成之後，平臺構造模組可被移除。

用於特定裝配的平臺構造模組10的尺寸可以是對應於輔助層工程區間的尺寸。在一實施例中，平臺構造模組10可被建構成具有適當的連接三到七個模組的24’ x 24’矩形模組，以便於完成輔助廠房功能層的工程區間。

(B)一個或多個被裝配的平臺構造模組可被適當的運輸手段搬運到裝配現場。例如，運輸可經由平板拖車或火車車廂或平板拖車與火車車廂之組合而實現。

(C)一旦搬運到裝配現場，平臺構造模組10是被準備用來裝配。運輸與將覆蓋在多個硬管與多個導管等相似物被移除之後，檢查所有連接件與支撐結構的完整性。

(D)平臺構造模組被移動到預先裝備位置，預先裝備位置位在制程設施的輔助層120中的工程區間內。在裝配之前，手堆車可被用來移動平臺構造模組，或者是結構基體14可具有萬向輪或車輪，以便於用來移動平臺構造模組到預先裝備位置。

(E)一旦位元在輔助層120工程區間內，平臺構造模組10可在輔助層120工程區間內裝配平臺構造模組10可被提高到平臺構造模組10的裝配位置，例如，經由液壓千斤頂、起重機、叉車等。一旦在最後的裝配，提高到裝配位置（如圖1所示），結構基體14可經由適當的連接結構固定在支撐柱160。在多個鄰近平臺構造模組被固定在各自的裝配位置之後，多個鄰近平臺構造模組可經由多個硬管、導管與相似物等連接件，被功能地連接。

本揭露所述的利用平臺構造模組，輔助層構造可被大大的簡化和更有效率的管理。多個功效包含創建預先設計多個平臺構造模組的集合的能力，以便於該些模組可在制程裝配現場的初始結構施工階段開始之前完成。另一功效是簡化硬管管道在裝配現場的工程，可減少裝配需求，以及經由操作像是在潔淨室構造中支撐抬高作業與在硬管管道與其他技術領域間詳細的協調，因此，經由減少重複勞動力的管理，降低建構成本。一般來說，本揭露多個實施例可增加輔助層潔淨室的效率和安全。

於是，根據本揭露多個構造使用的實施例，包含從平臺構造模組的集合中選擇多個預建平臺構造模組使用，促進工程建構的管理、在不同技術領域間的協調，以及減少在工作區多個行業之間所需的合作。還有，由於該些模組的裝配省略了需要分別裝配和固定的懸吊件與支架，所以該些模組的裝配可以消除因合作的延遲或電線或硬管管道路徑的干涉而產生的管理上有冗員的問題，以及可有效預防裝配意外。另外，增進的控制品質是容易地經由廠區外預先建構實現，潛在地模組可建構在較不密集的進度表及較不繁忙和擁擠的工作區。

10‧‧‧平臺構造模組
10a‧‧‧平臺構造模組
10c‧‧‧工程區間平臺構造模組
10d‧‧‧平臺構造模組
12‧‧‧硬管架輔助模組
12a‧‧‧硬管架輔助模組
12b‧‧‧硬管架輔助模組
12c‧‧‧硬管架輔助模組
14‧‧‧結構基體
15‧‧‧硬管管道
16‧‧‧導管
17‧‧‧導管
18‧‧‧導管
19‧‧‧導管
20‧‧‧超純水（UPW）膨脹接頭
21‧‧‧連接點
22‧‧‧凸緣
24a‧‧‧氣體控制台
24b‧‧‧氣體控制台
25‧‧‧氣體線
26‧‧‧模組化流量控制裝置
27‧‧‧管線
28‧‧‧連接點
30‧‧‧主框架
32‧‧‧下部框架
33‧‧‧支撐構件
34‧‧‧支撐構件
35‧‧‧甲板
36‧‧‧主硬管接收區
37‧‧‧輔助硬管接收區
40‧‧‧第一輔助框架
41‧‧‧中間構件
42‧‧‧電纜託盤
50‧‧‧第二輔助框架
51‧‧‧支撐構件
52‧‧‧支撐構件
53‧‧‧側框架
60‧‧‧第三輔助框架
61‧‧‧水準構件
62‧‧‧支撐杆
70‧‧‧硬管
71‧‧‧硬管
72‧‧‧硬管
73‧‧‧硬管
74‧‧‧軟管
75‧‧‧軟管
76‧‧‧軟管
80‧‧‧設施
81‧‧‧硬管夾
82a‧‧‧工程區間
82b‧‧‧工程區間
82c‧‧‧工程區間
84‧‧‧主線
100‧‧‧半導體廠房
110‧‧‧主機台層
111‧‧‧製造工具
112‧‧‧光柵面板
113‧‧‧空間
120‧‧‧輔助層
130‧‧‧格子梁版
140‧‧‧清潔輔助層
141‧‧‧鋼鐵支撐平臺
142‧‧‧輸送管
143‧‧‧氣體與液體進給硬管
150‧‧‧設備輔助層
160‧‧‧支撐柱
170‧‧‧管道架

圖1是根據本揭露一實施例，一種安裝在輔助層的平臺構造模組在被提升到最終位置之前的透視圖。 圖2是圖1平臺構造模組在被被提升到最終位置之後的透視圖。 圖3是圖2平臺構造模組的剖面圖。 圖4是根據本揭露其他實施例，一種平臺構造模組的透視圖。 圖5是一種實用框架子模組的一實施例的透視圖，該實用框架子模組被用來形成圖4所示的平臺構造模組。 圖6是根據本揭露其他實施例，一種平臺構造模組的詳細透視圖，說明U形膨脹接頭被整合到平臺構造模組。 圖7是根據本揭露再一實施例，一種平臺構造模組的詳細透視圖，說明多個模組化氣體工具裝置預先設置在平臺構造模組。 圖8是根據本揭露一實施例，一種平臺構造模組的其他詳細透視圖，說明多個模組化散裝材料及液體裝置預先設置在平臺構造模組。 圖9是本揭露的一種多個平臺構造模組配置成設施中多個主線工程區與多個工程區間的示意圖。 圖10是一種透視示意圖，根據本揭露一實施例，說明多個硬管管道架的子模組與結構基體裝配成一平臺構造模組的順序以及在制程設施中的運輸與後續裝配。 圖11、12與13描述之前的傳統半導體制程廠在各視角的構造。

Claims (14)

1. 一種平臺構造模組，可在多層制程設施中建構一輔助層模組，該平臺構造模組包含： 一結構基體被配置成在一輔助層中具有一寬度，該寬度的尺寸可佔據在支撐柱之間的空間； 一支撐結構連接該結構基體，該結構基體適於一支架、一硬管管道、一導管管道及一相關的連接與控制； 至少一氣體供給或一排放導管；以及 至少一硬管管道可供給、排放或供給及排放液體、散裝材料或液體及散裝材料，其中所述結構基體、所述支撐結構、所述至少一導管、所述硬管管道及所述相關的連接與控制可被預先製造成一整體單元，該整體單元位於該設施外側的一位置，以及被運輸到該設施內被裝配。
2. 如請求項1所述之平臺構造模組，其中多個平臺構造模組可被組合成一輔助層模組工程區間。
3. 如請求項1所述之平臺構造模組，其中多個平臺構造模組可被組合成一模組化輔助層主要工程區。
4. 如請求項2所述之平臺構造模組，其中該模組化輔助區工程區間連接該輔助層模組主要工程區。
5. 如請求項1所述之平臺構造模組，其中所述平臺構造模組被配置在一潔淨室設施中並符合該潔淨室設施的尺寸。
6. 如請求項1所述之平臺構造模組，更包含在一設施中裝配之前，多個可拆式覆蓋物配置成覆蓋所有硬管與導管覆蓋全部的硬管與導管開口，以防止污染物。
7. 如請求項1所述之平臺構造模組，所述平臺構造模組配置成在多個設施支撐結構之間的該裝配位置上完全地延伸的尺寸。
8. 如請求項1所述之平臺構造模組，更包含 多個硬管及相關的多個導管與多個導管支架，配置成支撐多個硬管與多個導管； 多個硬管與導管凸緣與多個配件被配置在每一該硬管與每一該導管上，允許該些硬管與該些導管在一裝配位置上配合多個鄰近的模組；以及 多個控制台、多個閥及多個連接點，被配置成在該些硬管與該些導管內傳輸並控制流量。
9. 如請求項1至8之任一項所述之平臺構造模組，更包含至少一甲板組件以及至少一電纜託盤在該平臺構造模組。
10. 一種用於一制程設施的輔助層模組，包含多個平臺構造模組可被組合成多個 輔助層模組工程區間，其中： 所述平臺構造模組包含： 一結構基體被配置成在一輔助層中具有一寬度，該寬度的尺寸可佔據在支撐柱之間的空間； 一支撐結構連接該結構基體，該結構基體適於一支架、一硬管管道、一導管管道及一相關的連接與控制； 至少一氣體供給或一排放導管；以及 至少一硬管管道，可供給、排放或供給及排放液體、散裝材料或液體及散裝材料，其中所述結構基體、所述支撐結構、所述至少一導管、所述硬管管道及所述相關的連接與控制可被預先製造成一整體單元，該整體單元位於該設施外側的一位置，以及被運輸到該設施內被裝配；以及 一如請求項3所述之輔助層模組主要工程區，連接所述模組化輔助區工程區間。
11. 如請求項1所述之平臺構造模組，其中所述平臺構造模組在該制程設施的鄰近區域中可被配置成在當地軌道上運輸的尺寸，且該平臺構造模組可在該當地軌道上被裝備。
12. 如請求項1所述之平臺構造模組，其中該結構基體連接在該支撐結構的一底部。
13. 如請求項1所述之平臺構造模組，其中該結構基體在該支撐結構的一頂部。
14. 如請求項1所述之平臺構造模組，其中該結構基體被配置成在該制程設施中裝配後，可從該支撐結構上移除。