KR101092510B1

KR101092510B1 - 진공처리장치

Info

Publication number: KR101092510B1
Application number: KR1020080080620A
Authority: KR
Inventors: 마사카즈 이소자키; 아키타카 마키노; 신고 기무라; 미노루 야토미
Original assignee: 가부시키가이샤 히다치 하이테크놀로지즈
Priority date: 2008-06-27
Filing date: 2008-08-18
Publication date: 2011-12-13
Also published as: KR20100002018A; US20090324367A1; JP5097627B2; JP2010010398A; US8100620B2

Abstract

본 발명은 설치 면적당의 생산성이 높은 반도체 제조장치를 제공하는 것이다.

이를 위하여 내부가 감압되는 처리실을 가지는 복수의 진공처리용기와, 이들 진공처리용기가 주위에 연결되어 배치되어 감압된 내부를 처리 대칭의 시료가 반송되는 진공반송용기와, 이 진공반송용기의 앞쪽측에 연결되어 그 앞면측에 상기 시료가 수납된 카세트가 탑재되는 복수의 카세트대가 배치되어 대기압하의 내부에서 상기 시료가 반송되는 대기 반송용기와, k의 대기 반송용기 내의 좌우의 한쪽 끝부에 배치되어 상기 시료의 위치를 조절하는 위치 맞춤기와, 이 위치 맞춤기의 아래쪽에서 바닥면과의 사이에 배치되어 상기 복수의 진공처리용기에 공급되는 유체의 공급을 조절하는 조절기를 구비하였다.

Description

진공처리장치{VACUUM PROCESSING DEVICE}

본 발명은, 진공처리장치에 관한 것으로, 특히 감압된 내부에서 처리대상인 반도체 웨이퍼 등의 기판 상의 시료를 처리하는 복수의 처리실을 가지는 반도체 제조장치에 관한 것이다.

상기와 같은 장치, 특히 감압된 장치 내에서 처리대상의 반도체 웨이퍼 등의 기판형상의 시료를 처리하는 진공처리장치에서는, 처리의 미세화, 정밀화와 함께, 처리대상인 기판의 처리의 효율의 향상이 요구되어 왔었다. 이 때문에 최근에는 하나의 장치에 진공용기를 복수 연결하여 복수의 처리실이 구비된, 이른바 멀티챔버장치가 개발되어 왔다. 이와 같은 복수의 처리실 또는 챔버를 구비하고 처리를 행하는 장치에서는, 각각의 처리실 또는 챔버가, 내부의 가스나 그 압력이 감압 가능하게 조절되어 기판을 반송하기 위한 로봇 아암 등이 구비된 반송실(반송챔버)에 접속되어 있다.

이와 같은 장치에서는, 하나의 진공처리장치에서 단위 시간당 처리되는 시료의 처리매수가 증대하고, 이와 같은 진공처리장치가 복수 설치되는 청정룸 등의 사용자의 건물의 설치 면적당의 생산성을 향상할 수 있다. 통상, 이와 같은 장치는, 청정룸 내부에서 카세트 등의 시료를 수납한 용기가 로봇 등에 의하여 반송되는 기설정된 직선형상의 통로의 끝에 통로를 따라 나란히 배치되어 있다. 하나의 통로를 따라 나란하게 한 장치수가 증대할수록 하나의 시설당의 단위 시간마다의 처리매수가 증대하여 효율이 증대한다고 생각된다.

이 때문에, 이와 같은 시설의 건물 내에 설치되는 진공처리장치에서는, 설치된 상태에서의 장치가 점유하는 건물의 바닥 면적을 작게 하는 것이 요구되고 있다. 또한 이와 같은 장치는, 정기적으로 메인티넌스를 받을 필요가 있기 때문에, 메인티넌스의 공간도 확보할 필요가 있다. 이와 같은 메인티넌스용의 공간으로서, 통상은 장치 본체의 주위에 사용자나 메인티넌스 담당자가 보수용품이나 도구 등을 가지고 통행 가능하도록, 장치가 설치된 바닥면 상에 기설정된 폭으로 공간이 취해져 있다.

이와 같은 멀티챔버의 구성의 일례는, 일본국 특개2005-101598호 공보(특허문헌 1)에 개시되어 있다.

[특허문헌 1]

일본국 특개2005-101598호 공보

상기 종래기술에서는, 다음과 같은 점에 대하여 고려가 부족하여 문제가 있었다.

즉, 진공처리장치를 구성하는 유닛, 예를 들면 대기압하에서 웨이퍼를 반송하는 대기측의 블록 또는 처리대상의 웨이퍼를 처리하는 실을 구성하는 진공용기를 포함하는 처리유닛의 각 부분이 효율적으로 배치되어 있지 않아 낭비가 있었기 때문에 처리유닛의 설치면적이나 체적이 커져 장치 전체의 점유면적이 커져 있었다. 이 때문에, 진공처리장치의 설치부분에서의 설치 가능한 대수가 저하하거나, 사용자가 메인티넌스나 이동 등에 사용할 수 있는 진공처리장치의 주위의 공간이 작아지거나 하고 있었다.

상기 종래기술에서, 처리실을 내부에 구비한 복수의 처리유닛은 내부가 진공이 되는 진공반송실의 주위에 이 측면과 연결되어 배치되어 있다. 이들 복수의 처리유닛은 진공반송실을 내부에 포함하는 진공용기로부터 분리하거나, 상호의 사이가 차단되어 진공처리장치의 본체로부터 전기적, 공간적으로 연결이 끊어진 상태로 하여 보수나 교환 등의 메인티넌스의 작업이 가능하게 구성되어 있다. 또, 각 처리유닛의 크기는, 웨이퍼의 지름이나 처리실을 구성하는 진공용기의 구조, 처리유닛에 탑재되는 유닛의 동작에 필요한 전원이나 제어장치, 가스, 물의 레귤레이터 등의 유틸리티의 크기나 배치에 크게 영향을 받는다. 이 때문에, 장치 전체의 설치시의 점유면적은 처리실 또는 챔버의 크기에 의해 좌우되게 된다. 종래기술에서 는, 각 처리유닛에 필요한 냉각매체의 공급은, 각 처리유닛 내의 설치된 접속부 또는 각 처리유닛 근방의 바닥면에 설치된 접속부에서 실시되고 있었기 때문에, 각 처리유닛의 크기를 증대시키고 있거나, 메인티넌스 공간을 저감시키고 있어, 장치의 설치면적을 증대시키고 있었다.

또, 각 처리유닛에 냉각매체의 공급하는 접속부를 설치하고 있기 때문에, 설치 및 메인티넌스작업을 증대시키고 있었다.

상기한 바와 같이, 종래의 기술에서는, 진공처리장치의 설치 면적당의 웨이퍼의 처리의 효율이 손상되고 있었다.

본 발명의 목적은, 데드 스페이스를 유효 활용함으로써 설치 면적당의 생산성이 높은 반도체 제조장치를 제공하는 것에 있다. 또, 본 발명의 다른 목적은, 설치나 메인티넌스의 작업이 간단하고 제조비용이 낮은 플라즈마처리장치를 제공하는 것에 있다.

상기 목적은, 내부가 감압되는 처리실을 가지는 복수의 진공처리용기와, 상기 진공처리용기의 아래쪽에 배치되어 상기 처리실 내부를 배기하는 배기장치와, 상기 복수의 진공처리용기가 주위에 착탈 가능하게 연결되어 배치되고 그 감압된 내부에 처리대상인 시료를 반송하기 위한 진공반송로봇이 배치된 진공반송용기와, 상기 진공반송용기의 앞쪽측에 연결되어 그 앞면측에 상기 시료가 수납된 카세트가 탑재되는 복수의 카세트대가 배치되어 대기압하의 내부에서 상기 시료가 반송되는 대기반송용기를 가지며, 진공처리장치의 앞쪽측 부분을 구성하며 상기 대기반송용기를 포함하는 대기측 블럭과, 진공처리장치의 뒤쪽측 부분을 구성하며 상기 복수의 진공처리용기와 상기 진공반송용기를 포함하는 진공측 블럭을 구비한 진공처리장치에 있어서, 상기 대기반송용기의 상기 대기압 하의 내부의 공간에 배치되어 전방에서 보아 좌우 방향으로 연장되는 레일을 따라서 이동하여 당해 대기반송용기의 내부에서 상기 시료를 반송하는 대기반송로봇과, 상기 대기반송용기의 상기 레일의 좌 또는 우의 한쪽 끝측에 배치되어 회전하는 대(臺)를 가지고 상기 시료가 탑재된 상기 대를 회전하여 상기 시료의 중심 및 상기 시료에 미리 형성된 노치의 위치를 조절하는 위치맞춤기와, 상기 위치맞춤기의 바로 아래쪽에서 당해 위치맞춤기와 바닥면과의 사이에 배치되어 상기 복수의 진공처리용기에 공급되는 유체의 공급을 조절하는 조절기를 구비한 것에 의하여 달성된다.

또한 유체는 상기 복수의 진공처리용기 또는 그 내부의 시료대의 냉각용 액체인 것에 의하여 달성된다. 또한, 상기 진공반송용기는 위쪽에서 보아 다각형의 평면형을 가지고 그 복수의 변에 상기 진공처리용기가 연결되고, 상기 대기반송용기는, 상기 위치맞춤기가 배치된 상기 좌 또는 우의 한쪽 끝측의 끝부의 위치가 뒤쪽에 배치된 상기 진공측 블럭의 상기 한쪽 끝측의 끝부의 위치에 맞추어 배치되고 또한 상기 내부의 공간에 상하 방향으로 대기의 흐름을 형성하는 팬과, 상기 대기반송용기의 상부에 배치되어 상기 팬 또는 상기 대기반송로봇의 동작을 조절하는 제어유닛을 구비하며, 상기 대기반송용기의 내부의 상기 한쪽 끝측에 배치된 상기 위치맞춤기의 바로 아래쪽에 상기 조절기를 구비한 것에 의해 달성된다.

본 발명의 실시형태에 대하여, 도면을 인용하여 이하에 설명한다.

(실시예 1)

본 발명의 실시예에 대하여, 도 1 내지 도 4를 이용하여 설명한다. 도 1은 본 발명의 실시예에 관한 진공처리장치의 전체구성을 나타내는 사시도이다. 도 1(a)는 앞쪽에서 본 도면이고, (b)는 뒤쪽에서 본 사시도이다.

이 도면에서, 본 실시예의 진공처리장치(100)는 크게 전후 2개의 블록으로 나뉜다. 진공처리장치(100)의 앞쪽측은 장치에 공급된 웨이퍼가 대기압하에서 감압되는 챔버에 반송되어 처리실에 공급되는 대기측 블록(101)이다. 진공처리장치(100)의 뒤쪽측은, 진공측 블록(102)이다. 이 진공측 블록(102)에는, 감압하여 처리대상의 시료인 웨이퍼를 처리하는 처리실을 가지는 처리유닛(103, 104)과 이들 처리실에 웨이퍼를 감압하에서 반송하는 반송유닛(105) 및 이 반송유닛(105)과 대 기측 블록(101)을 접속하는 복수의 록(lock)실(113, 113')을 구비하고 있고, 이들은 내부가 감압되어 높은 진공도의 압력으로 유지 가능한 유닛이고, 진공도를 달성할 수 있는 진공펌프 등의 기기를 구비하고 있다.

또, 본 실시예에서 진공처리장치(100)의 앞쪽측에 배치된 대기측 블록(101)은, 대기압하에서 웨이퍼를 반송, 수납, 위치 결정 등의 처리를 하는 부분이고, 뒤쪽측의 진공측 블록(102)은, 대기압으로부터 감압된 압력하에서 웨이퍼를 반송, 처리 등을 행하여 웨이퍼를 탑재한 상태에서 압력을 상하(上下)시킴과 동시에 웨이퍼의 처리를 행하는 처리용 블록이다. 또, 뒤에서 설명하는 바와 같이 본 실시예에서는 진공처리장치(100)의 앞면측의 대기측 블록(101)에 배치된 박스체(108)는, 처리유닛(104)과 마찬가지로 진공처리장치(100)의 앞쪽에서 그 뒤쪽을 보고 수평방향에 대하여 좌측에 바짝 댄 배치로 되어 있다.

대기측 블록(101)은, 내부의 공간에 반송로봇(도시 생략)을 구비한 박스형의 용기인 박스체(108)를 가지고, 이 박스체(108)에 설치되어 처리용 또는 클리닝용 웨이퍼가 수납되어 있는 웨이퍼 카세트대(109)를 3식을 구비하고 있다. 또한 반송로봇은 이들 카세트대(109) 상의 카세트와 박스체(108) 배면의 측면에 이것과 연결된 록실(113, 113')과의 사이에서 웨이퍼를 반입 또는 반출하는 작업을 행한다. 또, 대기측 블록(101)은 그 박스체(108) 내에 위치 맞춤부(111)를 구비하여, 이 위치 맞춤부(111) 내에서 반송되는 웨이퍼를 카세트대(109) 또는 록실(113, 113') 내의 웨이퍼 배치의 자세에 맞추어 그 위치 맞춤을 행한다. 또한 대기측 블록(101)에 배치된 박스체(108) 내에는 뒤에서 설명하는 바와 같이 처리유닛(103a∼c, 104) 에서 웨이퍼를 탑재하여 유지하는 시료대나 진공용기의 온도의 조절에 사용되는 물 등의 냉각용 액체의 공급을 조절하는 냉각매체 공급유닛(300)을 구비하고 있고, 진공처리장치(100)에 공급하는 냉각매체를 다른 부분으로부터 도입하고 있다.

대기측 블록(101)에 배치된 박스체(108)는, 도면상 화살표로 나타내는 그 앞면측의 측면이 웨이퍼가 수납된 카세트가 반송되는 통로에 면하고 있다. 이 반송용 통로에 평행한 앞면의 측면 상에 카세트가 탑재되는 상면이 같은 높이가 되도록 좌우방향으로 병렬로 배치된 복수(본예에서는 3개)의 카세트대(109)를 구비하고 있다. 카세트대(109)에 웨이퍼를 수납한 카세트가 탑재되면, 카세트 내부 및 반송유닛(105)의 록실(113, 113')과의 사이에서 대기압하의 박스체(108) 내부의 공간 내에서 웨이퍼가 반송된다. 즉, 이 박스체(108)는 대기 반송용기로서, 내부의 대기 반송실 내부에서 앞면쪽 측면의 평행한 축 상을 로봇이 이동하여 구동되고, 웨이퍼가 카세트와 록실(113, 113')과의 사이를 이송한다. 즉, 박스체(108)는, 내부에서 대기압하에서 웨이퍼가 반송되는 대기 반송용기로 되어 있다.

또, 본 실시예에서의 진공측 블록(102)에 포함되는 처리유닛(103a∼c, 104)은, 처리유닛(103a∼c)이, 카세트대(109)로부터 진공측 블록(102)으로 반송되는 웨이퍼의 에칭처리를 행하는 에칭실을 구비한 에칭처리유닛이다. 한편, 처리유닛(104)이 처리유닛(103a∼c)으로 에칭처리가 실시된 웨이퍼가 내부에 반송된 후 이것의 표면의 마스크나 불필요한 재료를 애싱(회화 ; 灰化)처리하는 애싱처리유닛이다.

이들 처리유닛은, 모두 상부가 각각의 웨이퍼의 처리를 행하기 위한 처리실 을 내부에 구비한 진공용기 및 위쪽에 배치된 전계, 자계의 발생수단을 포함하는 플라즈마발생수단을 가지는 처리 용기부이고, 그 아래쪽에 처리실 내를 배기하기 위한 진공펌프가 진공용기에 연결되어 배치되고, 또한 그 아래쪽에 직육면체나 또는 그것과 유사한 형상을 가지고 내부에 진공펌프 또는 처리 용기부의 동작에 필요한 전원, 제어장치 등의 기기를 수납하는 베드부로 되어 있다. 본 실시예에서의 처리유닛(103a∼c, 104)은, 이들 상부의 처리 용기부의 진공용기의 측벽이 반송실(112)을 구성하는 평면형상 다각형의 진공용기 측벽에 착탈 가능하게 연결하여 내부끼리가 연통하는 구성으로 되어 있다. 착탈은 유닛 전체로서 행하여져 베드부에는 수납된 기기의 접속/이탈을 행하기 위한 커넥터부를 가지고 있다.

또, 진공측 블록(102)을 구성하는 반송유닛(105)은, 이들 처리유닛이 착탈 가능하게 설치되고, 내부가 높은 진공도로 감압되어 유지되는 진공용기를 구비하고 있고, 이 진공용기는 상기 처리유닛에서 처리가 행하여지는 웨이퍼 또는 처리가 실시된 후의 웨이퍼가 감압된 그 내부를 반송되는 반송실(112)을 내부에 구비한 진공반송용기이다.

즉, 반송유닛(105)은, 처리유닛(103a∼c, 104), 그 안쪽이 감압되어 각 처리유닛과 록실(113)과의 사이에서 미처리 또는 처리 후의 웨이퍼를 반송하는 로봇 아암(도시 생략)이 내부의 중심 근방에 배치된 반송실(112)과, 상기 복수의 록실(113, 113')로 구성되어 있다. 반송실(112) 내부에 배치된 웨이퍼를 반송하는 로봇 아암은, 반송실(112)의 주위에 연결되어 배치된 4대의 처리유닛과 2개의 록실(113, 113') 내부에 배치되어 웨이퍼가 그 위에 탑재되는 시료대의 탑재면에서 대략 등거리에 회전의 중심이 위치하도록 축대칭으로 배치되어 있다. 록실(113, 113')은 대기압과 반송실(112) 내와 동등한 기설정된 진공도의 압력과의 사이에서 가변으로 내부의 압력을 조절하는 진공용기 내의 공간이고, 대기압이 된 상태에서 대기측 블록(101) 내와 연통하는 기능을 가지고 있기 때문에, 반송실(112)의 로봇 아암은 대기측 블록(101)과의 사이에서 시료를 주고 받는 수단으로 되어 있다.

또, 상기한 바와 같이, 반송유닛(105)을 구성하는 반송실(112)과 대기측 블록(101)과의 사이에는 이들을 접속하여 이들의 사이에서 웨이퍼를 주고 받는 록실(113, 113')이 배치되어 있다. 이들 록실(113, 113')은, 그 안쪽이 감압된 진공반송용기 내의 반송실(112) 내부에 배치된 로봇 아암(도시 생략)에 탑재되어 반송되어 온 웨이퍼가 설치된 후 안쪽이 대기압까지 승압되어 대기측 블록(101) 내에 배치된 다른 로봇 아암(도시 생략)에 탑재되어 대기측 블록(101)측으로 인출된다. 이 인출된 웨이퍼는, 상기 카세트대(109) 내의 원래의 위치로 되돌아가거나, 이들 어느 하나의 카세트로 되돌아간다. 또는 이들 카세트대(109)의 어느 하나로부터 상기 로봇 아암에 의하여 인출된 웨이퍼가 외기압으로 설정된 록실(113, 113') 내에 설치된 후, 내부가 감압되고, 마찬가지로 감압된 반송실(112) 내의 로봇 아암에 탑재되어 반송실(112) 내를 통하여 상기 처리유닛(103a∼c) 또는 처리유닛(104) 중 어느 하나로 반송된다.

상기 작동을 행하기 위하여 록실(113, 113')에는, 대기측 블록(101)과 반송유닛의 반송실과의 사이를 접속하여, 이 안쪽으로 반송되는 웨이퍼가 탑재된 상태에서 내부의 압력을 상승 또는 감소시키고, 이것을 유지하는 가스배기장치와 가스 공급장치가 접속되어 있다. 이 때문에, 이 록실(113, 113')은, 그 전후에 개방 또는 폐쇄되어 내부를 밀봉하는 게이트 밸브(도시 생략)가 배치되어 있다. 또한 이들 안쪽에는 웨이퍼가 탑재되는 대를 배치하고 있어, 웨이퍼가 내부의 압력상승, 하강시에 이동하지 않도록 고정하는 수단을 구비하고 있다. 즉, 이들 록실(113, 113')은, 안쪽에 웨이퍼를 탑재한 상태에서 형성되는 내외의 압력의 차를 견디어 시일하는 수단을 구비한 구성으로 되어 있다.

또, 본 실시예에서는, 처리유닛(103a∼c 및 104)은, 에칭처리유닛 3개와 애싱처리유닛 1개에 의하여 구성되어 있으나, 이들 유닛은 반송유닛(105)의 반송실(112)의 각 측면에 각각의 진공용기가 착탈 가능하게 연결되어 구비되어 있다. 반송실(112)을 구성하는 진공용기는, 그 평면형이 5각 또는 6각형의 형상을 갖추고, 도면상 아래쪽의 진공처리장치(100)의 앞면측에서 보아 좌우단의 변을 구성하는 측면은 도면상 상하방향에서 반송실(112) 내의 중심을 지나는 진공처리장치(100)의 전후방향의 축에 등거리의 평행한 대칭의 바닥에 수직한 면으로 되어 있다. 또, 도면상 위쪽의 뒤쪽측의 변인 2개의 측면은 전후방향의 축에 기설정된 각도를 가지고 대칭으로 배치된 수직한 면으로 되어 있다.

반송실(112)은, 에칭용 처리유닛(103a∼c)의 3개는 반송실(112)의 안 길이측의 2개의 변에 상당하는 대칭인 측면과 상면에서 보아 우단의 변에 상당하는 측면에 착탈 가능하게 접속되고, 애싱용 처리유닛(104)의 하나는 좌단의 측면에 접속되고, 또한 반송실(112)의 남는 변에 록실(113, 113')이 접속되어 있다. 즉, 본 실시예에서는, 평면형이 다각형인 반송실(112)의 주위에 그 변에 대하여 3개의 에칭 처리실과 하나의 애싱 처리실이 반송실(112)의 주위에 방사상으로 배치되어 있다.

또, 본 실시예는, 이들 반송 유닛(105)에 접속된 처리유닛(103, 104)은 이 반송유닛(105)에 대하여 수평방향으로 이동하여 착탈 가능하게 구성되어 있음과 동시에, 반송유닛(105)에서 록실(113, 113')과 반송실(112)은 수평방향으로 이동하여 착탈 가능하게 구성되어 접속되어 있다. 또한 처리유닛(103a∼c)의 각각은, 반송 유닛(105)과 연결되어 진공처리장치(100) 본체에 장착된 상태에서 상기 반송실(112)의 평면형의 중심을 상하방향으로 지나는 축의 주위에 대하여 동일한 형상 또는 이것에 장착되는 기기가 동일한 배치를 구비한 유닛으로 되어 있다. 또한 각 처리유닛(103a∼c)은 진공용기와 이 내부의 처리실 내에 배치된 웨이퍼가 탑재되는 시료대를 가지고, 그 중심과 반송실(112) 내에 배치되어 회전하여 웨이퍼를 반송하는 로봇의 회전의 상기 중심을 지나는 상하(바닥면에 수직한)방향의 축과의 사이의 거리가 같아지도록 배치되어 있고, 이 축의 주위에 처리유닛(103a∼c)이 서로 동일한 구성으로 배치되어 있다. 즉, 각 처리유닛의 로봇의 회전 중심에 대한 반송유닛(105)과의 연결부, 처리실, 시료대, 전계 및 자계의 공급수단, 처리실 내에의 가스공급구, 처리실의 배기구, 베드부의 형상, 구조 및 위치가 동일하게 되어 있다.

애싱용 처리유닛(104)도, 진공용기, 처리실, 시료대를 마찬가지로 구비하여 배치되어 있고, 이것이 반송유닛(105)에 연결된 상태에서 시료대 상의 탑재면과 상기 중심과의 거리가 처리유닛(103a∼c)과의 거리와 같아진다. 또한, 처리유닛(104)에서는, 처리유닛(103a∼c)에 의해 처리가 실시된 웨이퍼가 그 후의 처리를 실시하는 유닛이며, 웨이퍼 표면의 특정한 형상의 홈이나 구멍의 형상을 에칭처리 한 후에, 그 형상을 규정하기 위한 레지스트 마스크의 회화나 에칭처리에 사용한 부식성이 높은 가스성분의 제거 등의 처리가 행하여진다.

이와 같은 장치에서 행하여지는 웨이퍼의 처리의 전형은, 대기측 블록(101)의 박스체(108)의 앞쪽측에 위치하는 통로를 도시 생략한 기설정된 반송수단에 의해 반송되어 카세트대(109) 상에 탑재된 카세트의 내부에서 박스체(108) 내에 배치된 로봇 아암의 핸드 상에 탑재되어 인출되고, 박스체(108) 내의 대기반송실을 반송되어 대기압이 된 록실(113, 113') 내부에 반입되어 시료대 상에 탑재된다. 그후 밀봉된 록실(113, 113')이 감압되어 반송실(112)과 실질적으로 동일한 압력이 된 후, 록실(112) 내의 로봇에 의해 인출되어 기설정된 에칭용 처리유닛(103a∼c)의 어느 하나에 반송되어 그 내부에서의 에칭처리를 받은 후, 감압된 반송실(112) 내를 다시 처리유닛(104) 내로 반송되어 회화처리가 실시된다. 이후, 웨이퍼는 반송실(112) 내의 상기 로봇에 의해 반송실(112)에서 감압된 록실(113, 113') 내로 반입되고, 대기측 블록(101) 내부로 반출되어 박스체(108) 내의 로봇에 의해 원래의 카세트대(109) 상의 카세트 내의 원래의 위치로 되돌아간다.

도 2는 냉각매체 공급유닛(300)의 배치 및 냉각매체의 순환경로를 나타내는 평면도이고, (a)는 진공처리장치(100)를 위쪽에서 본 도, (b)는 진공처리장치(100)를 앞쪽에서 본 도면이다. 상기한 바와 같이 대기측 블록(101)은 박스체(108)를 구비하고 있고, 박스체(108) 내부에는 위치 맞춤부(111) 및 냉각매체 공급유닛(300)이 배치되어 있다.

통상, 진공처리장치(100)의 처리나 동작에 필요한 시료대의 냉각매체의 온도 조절기나 열전달 촉진용 가스의 순환, 공급용 장치라는 유틸리티는, 다른 장소, 예를 들면 장치 본체를 설치하는 공장의 반도체 디바이스의 제조라인을 구성하는 건물의 바닥 아래쪽의 다른 플로어에 냉각매체를 공급·회수하여 순환시킴과 동시에 그 온도를 조절하는 칠러(chiller)유닛을 배치하여 각 장치 본체에 관로를 부설하여 공급·회수되는 경우가 일반적이다. 이것은, 상기 대기측 블록(101)의 앞쪽측의 카세트 반송용 통로를 따라 가로 및 복수의 진공처리장치(100)를 배치할 때에 이들 장치끼리의 사이의 간격을 될 수 있는 한 작게 하여 한정된 공장의 제조라인의 면적을 더욱 유효하게 이용하여 더욱 다수의 장치를 배치하기 위함이다.

예를 들면 냉각매체(본 실시예에서는, 방부제를 함유하는 공업용수를 주성분으로 하는 액체이다)는 이와 같이 다른 층에 배치된 칠러유닛으로부터 이것에 연결된 관로에 공급되어 내부를 통과하여 흐른다. 관로는 장치가 설치되는 바닥면에 설치되어 있는 개구보다 바닥면 위쪽으로 도입되어 돌출되고, 개구의 위쪽에 배치된 냉각매체 공급 유닛(300) 하부에 배치된 커넥터부(310)와 접속되어 진공처리장치(100)와 접속된다. 관로로부터 공급된 냉각매체인 물은, 커넥터부(310)를 거쳐 냉각매체 공급유닛(300)에 유입하여 그 내부에서 본 실시예의 4개의 처리유닛(103a∼103c, 104)의 각각의 용도로서 분기되어 유출되고, 분기된 각 관로는 박스체(108) 배면의 좌측 하부에 배치된 커넥터부(303)와 박스체(108) 안쪽에서 연결되고, 바깥쪽에서 연결된 냉각수 공급·배출 관로(304)를 통하여 상기 각 처리실에 공급된다.

각 처리실에 공급된 냉각수는, 각 처리실에서 처리 중에 시료대를 기설정된 온도가 되도록 냉각한 후, 냉각수의 공급과 마찬가지로 냉각수 공급·배출 관로(304) 및 커넥터부(303)를 거쳐 냉각매체 공급유닛(300)으로 되돌아간다. 이 배출된 각 처리유닛으로부터의 냉각수는, 냉각매체 공급유닛(300) 내에서 합류되고, 냉각매체 공급유닛(300) 아래쪽에 설치되어 있는 커넥터부(310)를 통하여 관로로부터 바닥 아래쪽의 칠러유닛으로 되돌아가도록 순환한다.

또 박스체(108) 내에는, 도시 생략한 반송용 로봇이 배치되어 있고, 이 로봇의 동작에 의하여 웨이퍼의 박스체(108) 내에서의 반송이 실시된다. 로봇은 웨이퍼를 그 위에 탑재하는 핸드를 구비한 아암을 1개 이상 가지고, 박스체(108) 내의 반송용 공간에 장치 앞쪽측에서 보아 수평으로 좌우방향(도면상 좌우방향)으로 연장되는 레일(206) 상을 이것을 따라 좌우로 이동하거나 또는 상하방향으로 핸드의 높이위치를 변화시켜 박스체(108) 앞쪽의 복수의 카세트대(109) 및 뒤쪽의 록실(113, 113')과의 사이에서 웨이퍼를 반송한다.

이 박스체(108) 내의 웨이퍼의 반송은, 박스체(108) 내부의 반송용 공간 내부에 위쪽에서 아래쪽을 향하는 공기 또는 부식성 가스를 포함하는 가스의 흐름 중에서 행하여진다. 이와 같은 아래쪽을 향하는 기류를 형성하기 위하여, 본 실시예의 박스체(108)의 상부에는 1개 이상의 팬이 배치되고, 박스체(108)의 하부에는 박스체(108) 외부와 연통한 개구부가 배치되어 있으며, 팬의 동작에 의하여 내부의 반송용 공간의 전체에 걸쳐 위쪽에서 아래쪽을 향하는 다운 플로우를 발생시키고 있다. 한편, 박스체(108)에는 카세트로부터 인출된 웨이퍼의 위치를 기설정된 범위로 하기 위한 웨이퍼 위치 맞춤부(111)가 구비되어 있다. 이 웨이퍼 위치 맞춤 부(111)는, 회전하는 원통형상의 대의 위에 탑재된 처리 전의 웨이퍼의 중심 및 웨이퍼에 미리 형성되어 있는 노치부의 위치를 로봇의 핸드에 대하여 기설정된 것이 되도록 조절한다.

이와 같은 처리 전의 웨이퍼를 처리하는 위치 맞춤부(111)는, 로봇의 동작이나 다운 플로우의 흐름을 고려하여, 도 2(b)에 나타내는 바와 같이 박스체(108)의 앞쪽에서 보아 그 한쪽 끝측, 본 실시예에서는 좌측 끝부에 배치되고, 그 높이 위치는 하단부가 카세트대(109)의 대의 상면의 근방이 되도록 배치되어 있다. 이와 같은 배치에 의하여 로봇의 이동량의 저감이나 웨이퍼의 오염의 억제를 실현할 수 있다.

또한, 박스체(108)의 다른쪽 끝측(도면상 우측)의 측면에는 예비 포트(202)가 배치되어 있다. 이 예비 포트(202)는, 개폐할 수 있는 개구를 가지고 사용자의 요구에 따라 다른 부품을 추가 유닛으로서 장착 가능하게 구성되어 있다. 예를 들면 다른 카세트대(114)가 예비 포트(202)에 연결되어 배치할 수 있다. 이 예비 포트(202)에는, 카세트대(114)가 배치된 경우에 카세트의 설치에 대응하여 개폐되어 카세트 내와 박스체(108) 내의 대기 반송용의 실내를 연통, 차단하는 로드 포트가 포함되어 있다. 이 밖에, 진공측 블록(102)에서의 처리 전, 또는 처리 후의 웨이퍼를 복수매, 예를 들면 카세트에 수납 가능한 웨이퍼와 동일한 매수를 일시적으로 수납 가능한 용기를 가지는 퇴피용 스테이션, 처리 전 또는 처리 후의 웨이퍼를 광학적으로 검사하는 검사장치 등을 설치 가능하게 하여도 된다. 예비 포트(202)는, 이와 같은 다른 목적을 위한 각각의 장치에 적합할 수 있는 치수나 배치를 구비하 고 있고, 박스체(108) 내부를 외부의 분위기로부터 차단할 수 있도록 개구부는 개폐 가능하게 구성되어 있다.

또한, 본 실시예에서는, 박스체(108)의 앞쪽의 측면은 카세트가 반송되는 통로에 면하고 있고, 이 반송방향에 평행하게 배치되어 있다. 그리고, 박스체(108) 앞쪽의 측면에는, 카세트대(109)가 3개 반송방향을 따라 배치되어 있다. 이 카세트대(109) 각각의 위에는, 통상, 반도체 디바이스 등의 제품을 제조하기 위하여 처리되는 제품용 웨이퍼의 복수매를 가지는 적어도 하나의 로트가 수납된 카세트가 탑재된다. 이 카세트대(109)는, 본 실시예와 같이 3개 배치로 하고 있으나, 예를 들면 하나의 배치이어도 된다.

대기측 블록(101)의 박스체(108) 배면과 처리유닛(103c)의 전단과의 사이의 바닥면 상에는 발판(204)이 배치되어 있다. 반송유닛(105)의 반송실(112) 아래쪽의 바닥면 위쪽에는 진공처리장치(100)의 동작에 요하는 복수의 장치, 기기가 배치되어 있고, 반송실(112)의 아래쪽은 이것들의 수납 공간으로 되어 있다. 또, 이들 수납된 장치, 기기를 사용자가 보수, 점검, 교환 등의 메인티넌스의 작업을 행할 때에 작업용 공간도 필요하게 되기 때문에, 바닥면 상에 설치된 장치, 기기의 상단과 반송실(112)을 구성하는 평면형상 다각형의 진공용기의 하면과의 사이에는 기설정된 거리가 분명하게 되어 있다.

또한, 본 실시예에서는, 반송실(112) 아래쪽의 바닥면 상의 장치, 기기의 위쪽은 이들을 덮는 하나 이상의 평판이 배치되고, 평면형상이 다각형의 반송실(112)의 진공용기 형상에 맞추어 반송실(112) 아래쪽에서 다각형 형상의 평면을 구성하 고 있다. 이 평판은 위쪽에 작업자가 올라설 수 있을 만큼의 강도를 가진 발판으로 되어 있고, 반송실(112) 아래쪽에 하면이 평탄한 메인티넌스용의 공간을 형성하고 있다. 또한 이 발판의 상면의 높이는, 각 처리유닛(103a∼c, 104)의 베드부의 직육면체의 상부 평면의 높이와 일치하고 있다.

또한, 처리유닛(103c)과 박스체(108)와의 사이의 바닥면 상에 배치된 발판(114)은, 상부 평면을 구성하는 평판의 아래쪽에는 이것을 지지하는 복수의 지주(支柱)의 사이에 공간이 있고, 이 공간에 각 처리유닛에 공급되는 가스의 분배기(도시 생략)가 배치되어 있다. 이 분배기에는 진공처리장치(100)가 설치되는 바닥 아래쪽의 다른 플로우에 배치된 복수 종류의 가스원과 연결된 복수의 관로가 접속되어 이들 가스가 공급된다. 공급된 가스는 분배기로부터 각 처리유닛마다 분기된 관로를 지나 이들 처리유닛에 가스가 공급된다. 분기된 가스의 관로도, 냉각수 공급·배출 관로(304)와 함께 발판(114)뿐만 아니라 반송실(112) 아래쪽의 평탄면을 구성하는 발판 아래쪽의 공간에 배치되어 각 처리유닛과 연결되어 있다.

즉, 진공측 블록(102)의 하부는, 높이가 동일한 발판, 베드부에 의해 구성된 평탄한 면을 가지는 블록으로 되어 있고, 이들 평탄면은 모두 사용자가 메인티넌스 등의 작업을 위하여 올라서기 가능하게 되어 있음과 동시에, 평탄면을 구성하는 평판 아래쪽에 수납을 위한 공간으로 되어 있다. 각 처리유닛끼리의 사이에도, 상기 수납블록의 탑재면과 높이를 일치시켜 사용자가 올라서서 작업할 수 있는 발판을 착탈 가능하게 배치하여, 각 처리유닛에 대한 메인티넌스 작업을 용이하게 할 수도 있다.

본 실시예의 박스체(108)는, 그 안쪽의 위쪽에는, 반송용 로봇, 각 처리유닛이나 다운 플로우 형성용 팬의 동작을 조절하는 제어유닛(203)이 배치되어 있다. 또한 박스체(108)의 안쪽 뒷부분은, 처리유닛, 반송용 로봇과 제어유닛(203)과의 사이를 연결하는 배선을 수납하는 덕트(205)가 배치된다. 이 덕트(205)는, 웨이퍼의 반송을 고려하여 박스체(108) 내부에서 그 좌단측에 바짝대어져 웨이퍼 위치 맞춤부(111) 또는 냉각매체 공급유닛(300) 근방에 배치되어 있으나, 이들보다는 우측에 위치하고, 단면 ㄷ자형상의 판형상 부재를 박스체(108) 배면의 안쪽에 설치하여 구성되어 있다.

본 실시예에 나타내는 진공처리장치(100)가 청정룸 등의 사용자의 건물 내에 설치될 때에는, 대기측 블록(101)으로부터 설치되는 것이 일반적이다. 이것은 건물 내에 진공처리장치(100)를 설치하는 경우에는, 상기와 같이 장치의 앞면에 배치된 카세트대를 반송용 통로에 면하도록 설치하게 되기 때문에, 카세트 반송용의 통로에 면하고 있는 대기측 블록(101) 및 박스체(108)를 먼저 설치하고, 뒤쪽측의 진공측 블록(102)을 대기측 블록(101) 설치 후에 순서대로 설치한다. 이 때의 설치의 기준이 되는 위치를 설정하여 작업이 행하여지나, 본 실시예의 기준위치로서는, 박스체(108)의 앞면측의 측면의 좌단 아래쪽의 진공처리장치(100)가 설치되는 바닥면 상에 투영된 위치를 기준위치(201)로 하여 사용자의 건물의 바닥면 상에 설치된다.

또한 본 실시예에서는 대기측 블록(101) 및 박스체(108)는, 앞쪽에서 보아 진공처리장치(100)의 좌측에 바짝 대어져 배치되어 있고, 특히 진공측 블록(102)의 좌단과 대기측 블록(101) 또는 박스체(108)의 좌단이 일치하도록 배치되어 있다. 이때, 웨이퍼 위치 맞춤부(111)는, 박스체(108) 내의 정면에서 보아 좌단면측에 배치되어 있는 것이 사정이 좋다. 즉, 웨이퍼 카세트대(109)의 수, 예비 포트(202)에 추가유닛의 유무에 의하지 않고 위치가 정해지고, 또 진공측 블록(102)의 처리유닛(103a∼c)의 수나 배치의 패턴의 각각에서 진공처리장치(100)의 메인티넌스용의 공간을 확보하여 진공측 블록(101), 박스체(108)를 이동하는 것을 억제할 수 있기 때문이다.

또한 박스체(108) 내의 좌단부에 배치되는 웨이퍼 위치 맞춤부(111)는, 그 하단의 높이가, 예를 들면 앞면측의 카세트대(109)의 상면의 높이와 동일하게 배치된다. 이때, 웨이퍼 위치 맞춤부(111) 아래쪽에는 공간이 생기기 때문에, 본 실시예에서는 이 공간에 냉각매체 공급유닛(300)을 배치하여 직육면체를 구성하는 박스체(108) 내부에 수납하고 있다. 이와 같이 박스체(108)에서는, 위치 맞춤부(111)의 아래쪽에는 공간(데드 스페이스)이 생기기 때문에, 이 공간(데드 스페이스)에 냉각매체 공급유닛(300)을 배치함으로써 공간(데드 스페이스)의 유효활용을 실시할 수 있고, 풋프린트의 축소화가 실현되고, 사용자의 제조효율이 향상하여 제조비용을 저감하는 것이 가능해진다.

또한, 본 실시예에서는 상기 기준위치(201) 상을 지나는 전후방향의 바닥면에 수직한 면에 처리유닛(104)의 앞쪽에서 본 좌단과 일치하고 있는, 이 처리유닛(104)의 좌단은, 진공측 블록(102)의 좌단으로 되어 있다. 반드시 상기한 바와 같이 기준위치(201) 상을 지나는 전후방향의 바닥면에 수직한 면과 진공측 블 록(102)의 좌단의 면이 일치할 필요는 없고, 기준위치(201)[박스체(108)의 좌단]를 진공측 블록(102)의 좌단보다 우측에 배치하여도 된다.

도 3은 냉각매체 공급유닛(300)의 구성을 나타내는 도면이고, (a)는 박스체(108)를 좌측면에서 본 도, (b)는 박스체(108)를 뒤쪽면에서 본 도면이다. 냉각매체 공급유닛(300)은, 상하방향으로 병렬로 배치된 냉각수 IN측 배관(301), 냉각수 OUT측 배관(302)을 구비하고 있다.

냉각수 IN측 배관(301) 및 냉각수 OUT측 배관(302)의 각각은, 하부에 배치된 커넥터부(310)에 의하여 바닥면의 개구(305)를 통하여 바닥면을 관통하여 아래쪽에서 위쪽으로 연장되는 관로와 연결되어 있다. 냉각수 IN측 배관(301)은 그 관의 축을 따라 기설정된 간격으로 병렬로 배치된 4개의 분기관에 의하여 각 처리유닛마다 분기되고, 각각의 분기관이 각 처리유닛에 연결되는 도입측 관로와 연결되어 있고, 커넥터부(310)에 의해 접속된 관로로부터 냉각수 IN측 배관(301)에 공급된 냉각수는 분기되어 각 처리유닛에 공급된다. 또, 냉각수 OUT측 배관(302)은 그 관의 축을 따라 기설정된 간격으로 병렬로 배치된 4개의 분기관에 의해 각 처리유닛의 각각과 연결된 배출측 관로와 연결되어 있고, 각 처리유닛으로부터 배출된 냉각수가 냉각수 OUT측 배관(302)에서 합류되어, 아래쪽의 관로로부터 바닥면 아래쪽으로 배출된다.

또, 이 냉각수 IN측 배관(301) 및 냉각수 OUT측 배관(302)의 각 분기관에는, 크로스밸브가 배치되어 있다. 예를 들면, 냉각수 IN측 배관(301)의 각 분기관 상의 크로스밸브(306)는, 그 동작에 의해 도면상 좌측에 연결되는 도시 생략한 배관 으로부터의 공기, 질소 등의 가스 및 냉각수의 공급이 변환하는 것이다. 또한, 냉각수 OUT측 배관(302)의 각 분기관 상의 크로스밸브(307)는, 그 동작에 의하여 도면상 좌측에 연결되는 도시 생략한 배관에의 냉각수의 드레인 및 배출 및 냉각수 OUT측 배관(302)과의 변환을 행하는 것이다. 이와 같이 냉각매체 공급유닛(300)은, 냉각수의 공급을 조절하는 조절기의 기능을 가지고 있다.

본 실시예는, 이들 크로스밸브(306, 307)를 각 처리유닛마다 사용자가 밸브를 조작하여 냉각수의 공급을 온/오프 가능한 구조로 되어 있다. 사용자가 조작하는 밸브를 1개소로 모음으로써 정기적인 메인티넌스 및 비상시의 조작성을 향상시키고 있다. 또, 박스체(108)의 좌측 측면의 하부에는 개폐 가능한 개구부가 배치되고, 이 개구를 통하여 사용자가 상기 크로스밸브(306, 307)를 조작할 수 있게 되어 있다.

또, 냉각매체 공급유닛(300)은, 냉각수 IN측 배관(301) 및 냉각수 OUT측 배관(302)이 박스체(108)의 측벽에 연결되어 위치가 고정됨으로써, 분기관이나 크로스밸브(306, 307)를 포함하여 유닛 전체로서 그 위치가 박스체(108)에 대하여 고정되어 있다. 이 때문에, 박스체(108)가 바닥면 상에 그 위치가 고정되어 있으면, 냉각매체 공급유닛(300)의 바닥면 상의 위치 및 대기측 유닛(101)에 대한 상대적인 위치가 고정되는 구성으로 되어 있다. 대기측 유닛(101)에 진공측 유닛(102)이 설치되어 연결된 상태에서는, 냉각매체 공급유닛(300)의 각 처리유닛과의 상대적인 위치도 고정되게 된다. 이와 같은 구성에 의하여 가스나 냉각수 등의 유체를 처리유닛에 공급하는 진공처리장치가 설치되는 바닥면 상에서 상기 유체가 흐르는 배관 의 길이의 변동을 저감하여, 처리유닛을 착탈하거나 다른 처리유닛을 장착한 경우에도, 처리유닛의 처리의 성능을 안정화하여 성능 차의 증대를 억제할 수 있다.

박스체(108) 내에 설치한 냉각매체 공급유닛(300)의 하부에는, 바닥면의 개구(305)를 관통하여 위쪽으로 연장되는 바닥면 아래쪽의 칠러유닛과 연결된 냉각수용의 배관과 냉각수 IN측 배관(301) 및 냉각수 OUT측 배관(302)의 각각이 연결하는 커넥터부(310)가 배치되어 있다. 커넥터부(310)는 바닥면 상에 기설정된 높이에 배치되고, 바닥면의 개구(305)로부터 연장되는 탄력성을 가지고 변형 가능한 배관의 배치에 자유도를 확보하고 있다. 즉, 진공처리장치(100) 또는 대기측 블록(101)의 설치시에 냉각매체 공급유닛(300)의 바로 아래쪽에 바닥을 지지하는 빔 등의 구조부재가 위치한 경우에는, 이것을 피하여 배관을 설치하는 것이 바람직하다. 이것이 불가능하면 대기측 유닛을 설치하는 위치를 다시 변경할 필요가 있어, 작업량이 커지고, 나아가서는 장치 주위의 메인티넌스용의 공간을 손상하게 된다. 커넥터부(310)를 바닥면에서 충분히 떼어 배치함으로써, 탄력성을 가지는 배관을 변형시켜 커넥터부(310)에 접속할 수 있게 되고, 개구(305)를 박스체(108)의 수직방향의 투영면 내에 배치할 수 있으며, 또 설치면적의 증대의 억제나 설치시의 작업효율을 향상할 수 있다.

또, 냉각매체 공급유닛(300)을 박스체(108)의 한쪽 끝 하부의 데드 스페이스에 배치한 것에 의하여 풋프린트의 증대가 억제되고, 또 메인티넌스 공간의 저감을 억제하여 사용자의 반도체 웨이퍼의 처리의 효율을 향상시켜 제조비용을 저감하는 것이 가능하게 된다.

이상의 실시예에 의하면, 메인티넌스에 요하는 공간의 낭비를 억제하여 진공처리장치(100)가 설치되는 부분의 실질적인 설치에 요하는 영역의 크기를 저감하여, 1개소에서 설치할 수 있는 장치의 수를 크게 하는 것이 가능해져, 처리 및 이것에 의한 제품의 제조의 효율이 향상한다. 또, 메인티넌스나 교환에 필요한 작업을 저감하여 장치가 비가동상태가 되는 시간이 저감되고, 처리의 효율이 향상하여 진공처리장치의 설치 면적당의 생산성이 향상한다.

도 1(a)는 본 발명의 실시예에 관한 진공처리장치의 전체 구성을 나타내는 앞쪽에서 본 사시도,

도 1(b)는 도 1(a)에 나타내는 진공처리장치의 전체 구성을 나타내는 뒤쪽에서 본 사시도,

도 2(a)는 도 1에 나타내는 실시예에 관한 진공처리장치의 구성의 개략을 나타내는 상면도,

도 2(b)는 도 1에 나타내는 실시예에 관한 진공처리장치의 구성의 개략을 나타내는 전면도,

도 3(a)는 도 2에 나타내는 냉각매체 공급유닛의 구성의 개략을 나타내는 후면도,

도 3(b)는 도 2에 나타내는 냉각매체 공급유닛의 구성의 개략을 나타내는 후면도이다.

※ 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명

100 : 진공처리장치 101 : 대기측 블록

102 : 진공측 블록 103a, 103b, 103c, 104 : 처리유닛

105 : 반송유닛 108 : 박스체

109 : 카세트대 111 : 위치 맞춤부

113, 113' : 록실 201 : 기준위치

202 : 예비 포트 300 : 냉각매체 공급유닛

301 : 냉각수 IN측 배관 302 : 냉각수 OUT측 배관

303 : 커넥터부 304 : 냉각수 공급, 배출 관로

305 : 개구

Claims

내부가 감압되는 처리실을 가지는 복수의 진공처리용기와, 상기 진공처리용기의 아래쪽에 배치되어 상기 처리실 내부를 배기하는 배기장치와, 상기 복수의 진공처리용기가 주위에 착탈 가능하게 연결되어 배치되고 그 감압된 내부에 처리대상인 시료를 반송하기 위한 진공반송로봇이 배치된 진공반송용기와, 상기 진공반송용기의 앞쪽측에 연결되어 그 앞면측에 상기 시료가 수납된 카세트가 탑재되는 복수의 카세트대가 배치되어 대기압하의 내부에서 상기 시료가 반송되는 대기반송용기를 가지며, 진공처리장치의 앞쪽측 부분을 구성하며 상기 대기반송용기를 포함하는 대기측 블럭과, 진공처리장치의 뒤쪽측 부분을 구성하며 상기 복수의 진공처리용기와 상기 진공반송용기를 포함하는 진공측 블럭을 구비한 진공처리장치에 있어서,

상기 대기반송용기의 상기 대기압 하의 내부의 공간에 배치되어 전방에서 보아 좌우 방향으로 연장되는 레일을 따라서 이동하여 당해 대기반송용기의 내부에서 상기 시료를 반송하는 대기반송로봇과, 상기 대기반송용기의 상기 레일의 좌 또는 우의 한쪽 끝측에 배치되어 회전하는 대(臺)를 가지고 상기 시료가 탑재된 상기 대를 회전하여 상기 시료의 중심 및 상기 시료에 미리 형성된 노치의 위치를 조절하는 위치맞춤기와, 상기 위치맞춤기의 바로 아래쪽에서 당해 위치맞춤기와 바닥면과의 사이에 배치되어 상기 복수의 진공처리용기에 공급되는 유체의 공급을 조절하는 조절기를 구비한 것을 특징으로 하는 진공처리장치.
제 1항에 있어서,

상기 유체는 상기 복수의 진공처리용기 또는 그 내부의 시료대의 냉각용 액체인 것을 특징으로 하는 진공처리장치.
제 1항 또는 제 2항에 있어서,

상기 진공반송용기는 위쪽에서 보아 다각형의 평면형을 가지고 그 복수의 변에 상기 진공처리용기가 연결되고, 상기 대기반송용기는, 상기 위치맞춤기가 배치된 상기 좌 또는 우의 한쪽 끝측의 끝부의 위치가 뒤쪽에 배치된 상기 진공측 블럭의 상기 한쪽 끝측의 끝부의 위치에 맞추어 배치되고 또한 상기 내부의 공간에 상하 방향으로 대기의 흐름을 형성하는 팬과, 상기 대기반송용기의 상부에 배치되어 상기 팬 또는 상기 대기반송로봇의 동작을 조절하는 제어유닛을 구비하며, 상기 대기반송용기의 내부의 상기 한쪽 끝측에 배치된 상기 위치맞춤기의 바로 아래쪽에 상기 조절기를 구비한 것을 특징으로 하는 진공처리장치.
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