JP2021158197A - パワー半導体モジュール - Google Patents

パワー半導体モジュール Download PDF

Info

Publication number
JP2021158197A
JP2021158197A JP2020056269A JP2020056269A JP2021158197A JP 2021158197 A JP2021158197 A JP 2021158197A JP 2020056269 A JP2020056269 A JP 2020056269A JP 2020056269 A JP2020056269 A JP 2020056269A JP 2021158197 A JP2021158197 A JP 2021158197A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
base plate
resin insulating
case
adhesive
resin
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2020056269A
Other languages
English (en)
Other versions
JP7378333B2 (ja
Inventor
俊彦 宮田
Toshihiko Miyata
俊彦 宮田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP2020056269A priority Critical patent/JP7378333B2/ja
Priority to US17/157,650 priority patent/US11581229B2/en
Priority to DE102021105479.6A priority patent/DE102021105479A1/de
Priority to CN202110295187.2A priority patent/CN113451225A/zh
Publication of JP2021158197A publication Critical patent/JP2021158197A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP7378333B2 publication Critical patent/JP7378333B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/02Containers; Seals
    • H01L23/10Containers; Seals characterised by the material or arrangement of seals between parts, e.g. between cap and base of the container or between leads and walls of the container
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/02Containers; Seals
    • H01L23/04Containers; Seals characterised by the shape of the container or parts, e.g. caps, walls
    • H01L23/053Containers; Seals characterised by the shape of the container or parts, e.g. caps, walls the container being a hollow construction and having an insulating or insulated base as a mounting for the semiconductor body
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/02Containers; Seals
    • H01L23/04Containers; Seals characterised by the shape of the container or parts, e.g. caps, walls
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/12Mountings, e.g. non-detachable insulating substrates
    • H01L23/14Mountings, e.g. non-detachable insulating substrates characterised by the material or its electrical properties
    • H01L23/145Organic substrates, e.g. plastic
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/28Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
    • H01L23/31Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape
    • H01L23/3107Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape the device being completely enclosed
    • H01L23/3121Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape the device being completely enclosed a substrate forming part of the encapsulation
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/28Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/29Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process of an individual layer connector
    • H01L2224/29001Core members of the layer connector
    • H01L2224/29099Material
    • H01L2224/291Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
    • H01L2224/29101Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of less than 400°C
    • H01L2224/29111Tin [Sn] as principal constituent
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/31Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
    • H01L2224/32Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
    • H01L2224/321Disposition
    • H01L2224/32151Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/32221Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/32225Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/44Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/45Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/45001Core members of the connector
    • H01L2224/4501Shape
    • H01L2224/45012Cross-sectional shape
    • H01L2224/45014Ribbon connectors, e.g. rectangular cross-section
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/44Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/45Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/45001Core members of the connector
    • H01L2224/4501Shape
    • H01L2224/45012Cross-sectional shape
    • H01L2224/45015Cross-sectional shape being circular
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/44Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/45Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/45001Core members of the connector
    • H01L2224/45099Material
    • H01L2224/451Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
    • H01L2224/45117Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 400°C and less than 950°C
    • H01L2224/45124Aluminium (Al) as principal constituent
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/44Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/45Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/45001Core members of the connector
    • H01L2224/45099Material
    • H01L2224/451Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
    • H01L2224/45138Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
    • H01L2224/45147Copper (Cu) as principal constituent
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4805Shape
    • H01L2224/4809Loop shape
    • H01L2224/48091Arched
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/481Disposition
    • H01L2224/48151Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/48221Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/48225Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
    • H01L2224/48227Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation connecting the wire to a bond pad of the item
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/484Connecting portions
    • H01L2224/4846Connecting portions with multiple bonds on the same bonding area
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/73Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
    • H01L2224/732Location after the connecting process
    • H01L2224/73251Location after the connecting process on different surfaces
    • H01L2224/73265Layer and wire connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/80Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
    • H01L2224/83Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector
    • H01L2224/8338Bonding interfaces outside the semiconductor or solid-state body
    • H01L2224/83399Material
    • H01L2224/834Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
    • H01L2224/83417Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 400°C and less than 950°C
    • H01L2224/83424Aluminium [Al] as principal constituent
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/80Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
    • H01L2224/83Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector
    • H01L2224/8338Bonding interfaces outside the semiconductor or solid-state body
    • H01L2224/83399Material
    • H01L2224/834Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
    • H01L2224/83438Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
    • H01L2224/83447Copper [Cu] as principal constituent
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/80Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
    • H01L2224/83Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector
    • H01L2224/838Bonding techniques
    • H01L2224/83801Soldering or alloying
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/80Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
    • H01L2224/83Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector
    • H01L2224/838Bonding techniques
    • H01L2224/8384Sintering
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/12Mountings, e.g. non-detachable insulating substrates
    • H01L23/14Mountings, e.g. non-detachable insulating substrates characterised by the material or its electrical properties
    • H01L23/142Metallic substrates having insulating layers
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/16Fillings or auxiliary members in containers or encapsulations, e.g. centering rings
    • H01L23/18Fillings characterised by the material, its physical or chemical properties, or its arrangement within the complete device
    • H01L23/24Fillings characterised by the material, its physical or chemical properties, or its arrangement within the complete device solid or gel at the normal operating temperature of the device
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/34Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements
    • H01L23/36Selection of materials, or shaping, to facilitate cooling or heating, e.g. heatsinks
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/28Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process
    • H01L24/29Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process of an individual layer connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/31Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
    • H01L24/32Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/44Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
    • H01L24/45Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L24/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/73Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L24/10, H01L24/18, H01L24/26, H01L24/34, H01L24/42, H01L24/50, H01L24/63, H01L24/71
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/171Frame
    • H01L2924/1715Shape
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/171Frame
    • H01L2924/173Connection portion, e.g. seal
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/181Encapsulation
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/19Details of hybrid assemblies other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/191Disposition
    • H01L2924/19101Disposition of discrete passive components
    • H01L2924/19107Disposition of discrete passive components off-chip wires

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)

Abstract

【課題】絶縁性を確保することができるパワー半導体モジュールを提供する。【解決手段】回路パターン3aと樹脂絶縁層3bとベース板3cとから構成される樹脂絶縁ベース板3に半導体素子1が搭載され、樹脂絶縁ベース板3を取り囲んでいるケース4と樹脂絶縁層3bとは、接着剤5にて接着されている。接着剤5は、封止樹脂8と同一材料であり、ケース4の樹脂絶縁層3bの側に形成されたテーパ部4aと樹脂絶縁層3bとに取り囲まれた領域に充填され、樹脂絶縁層3bとケース4とが接着され、接着剤5の中の気泡9は、樹脂絶縁層3bと反対側にあるテーパ部4aの側に配置されている。【選択図】図1

Description

本開示は、パワー半導体モジュールに関するものである。
従来の半導体装置は、ケースとベース板の上面との間に、厚いフィレット形状を有した接着剤により、ベース板とケースが固定されている。(例えば、特許文献1参照)
特開2019−96797号公報(段落0013〜0016、図1〜2)
しかしながら、ケース内に充填される封止樹脂のような粘度の大きな接着剤を用いる場合、流動性が低下し、気泡が発生し易くなるため、絶縁基板上において絶縁不足となることがあった。
本開示は、上述のような問題を解決するためになされたものであり、絶縁性を確保するパワー半導体モジュールを提供することを目的とする。
本開示に係るパワー半導体モジュールは、半導体素子を搭載した樹脂絶縁ベース板と、樹脂絶縁ベース板を取り囲んでいるケースと、樹脂絶縁ベース板とケースとに取り囲まれた領域に、封止されている封止樹脂と、樹脂絶縁ベース板とケースとを接着し、ケースと樹脂絶縁ベース板とに取り囲まれ、ケースの樹脂絶縁ベース板の側に形成されたテーパ部に充填されている接着剤とを備えたものである。
本開示に係るパワー半導体モジュールによれば、パワー半導体モジュール内において、絶縁性を確保することができる。
実施の形態1に係るパワー半導体モジュールの構成を示す断面図である。 実施の形態1に係るパワー半導体モジュールの変形例を示す断面図である。 実施の形態2に係るパワー半導体モジュールの構成を示す断面図である。 実施の形態3に係るパワー半導体モジュールの構成を示す断面図である。
実施の形態1.
実施の形態1に係るパワー半導体モジュールの構成について、図面を用いながら説明する。図1は、パワー半導体モジュールの構成を示す断面図である。
パワー半導体モジュール100は、インバータ装置、加工装置、産業ロボット等の産業用途をはじめとして、幅広く用いられている。図1に示すように、パワー半導体モジュール100は、半導体素子1、樹脂絶縁ベース板3、ケース4、電極端子6、金属ワイヤ7、封止樹脂8から構成されている。ケース4と樹脂絶縁ベース板3は、ケース4と樹脂絶縁ベース板3の樹脂絶縁層3bとの間において、接着剤5にて接着され、固定されている。
半導体素子1が、樹脂絶縁ベース板3に対し、少なくとも1つ以上搭載されている。パワー半導体モジュール100の仕様に応じて必要な個数の半導体素子1を搭載することができる。
半導体素子1は、Siから構成され、電力を制御するいわゆる電力半導体素子である。例えばIGBT(Insulated Gate Bipolar Transistor)、MOSFET(Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor)、FWD(Free Wheeling Diode)である。半導体素子1の一辺は、3mm〜15mmである。なおSiに限らず、SiCもしくはGaNといったワイドバンドギャップ半導体の素子でもかまわない。
また、半導体素子1は、接合材2を介して、樹脂絶縁ベース板3の回路パターン3aに搭載されている。接合材2は、Snを含む導電性金属であり、所謂はんだである。なお、半導体素子1が発熱するため、接合材2は、はんだに限定するものではなく、はんだより熱伝導率が大きく、放熱性を有する焼結材であってもよい。
樹脂絶縁ベース板3は、回路パターン3aと樹脂絶縁層3bとベース板3cとが積み重り、構成されている。回路パターン3aは、CuまたはAlのいずれかを含む導電性金属であり、例えば、厚さは0.5mm程である。なお、回路パターン3aの厚さは、電流密度や通電時の発熱温度により設定される。樹脂絶縁層3bは、BNまたはAlのいずれかを含むフィラーが入ったエポキシ樹脂であり、樹脂絶縁層3bの厚さは、0.1〜0.2mmである。ベース板3cは、CuまたはAlのいずれかを含む熱伝導率に優れた金属であり、厚さは、1〜5mmである。樹脂絶縁ベース板3の熱伝導率は、6〜18W/(m・K)であり、パワー半導体モジュール100に必要な放熱仕様に応じて使い分けられている。
ケース4は、PPS(Poly Phenylene Sulfide)樹脂またはPBT(Poly Butylene Terephthalate)樹脂のいずれかを含むものである。
電極端子6は、ケース4とともにインサート成形さてれおり、ケース4内に埋め込められている。図1に示すように、電極端子6は屈曲しており、電極端子6の一方の先端部は、外部と電気的に入出力するため、ケース4から突出し延在している。電極端子6の他方の先端部は、ケース4の内側にて平坦面状に露出している。
図1に示すように、金属ワイヤ7により、半導体素子1、回路パターン3a及び電極端子6が、電気的に接続されている。金属ワイヤ7は、AlまたはCuのいずれかを含む材料である。金属ワイヤ7の直径は、0.1〜0.5mmである。なお、線形状に限定することなく、大電流に対応できる板形状のリボンワイヤを用いて接続してもよい。
封止樹脂8は、樹脂絶縁ベース板3の半導体素子1が搭載された側の面とケース4にて取り囲まれた領域に充填され封止されている。封止樹脂8は、熱硬化性を有し、SiOを含むフィラーが入ったエポキシ樹脂であるが、これに限定するものでなく、必要な弾性率、熱伝導率、耐熱性、絶縁性及び接着性を有した樹脂であればよい。例えば、エポキシ樹脂の他に、シリコーン樹脂、フェノール樹脂、ポリイミド樹脂等でもよい。
接着剤5により、樹脂絶縁層3bとケース4が接着され、固定されている。これにより、封止樹脂8がケース4に取り囲まれた領域に充填されるとき、封止樹脂8が漏れるのを防ぐことができる。接着剤5は、封止樹脂8と同一材料である。
図1に示すように、ケース4の樹脂絶縁ベース板3の側にはテーパ部4aが形成されている。樹脂絶縁層3bとケース4とに囲まれた領域に、接着剤5が充填され、樹脂絶縁層3bとケース4とが接着されている。接着剤5を充填するときの空気の巻き込みにより、気泡9が発生することがある。また、接着剤5を充填した後、接着剤5を硬化させるため加熱するとき、気泡9が発生し、もしくは接着剤5の中に点在していて目に見えないような微細な気泡9が集まることにより、絶縁性に影響を与えるサイズとなる気泡9が形成されることがある。特に、接着剤5が封止樹脂8と同一材料であるため、20〜60Pa・Sと粘度が大きいため、樹脂絶縁層3bとケース4との間のような狭い領域に接着剤5を充填する場合、流動性が低下し、気泡9が発生し易い。なお、封止樹脂8は、充填する領域が大きく、図1の紙面上の上側が大きく開放されているため、気泡9は残存し難い。
気泡9が樹脂絶縁層3bに接すると、回路パターン3aとベース板3cとの間において沿面距離が不足し、絶縁不足となる。これを抑制するために、接着剤5にて接着されるケース4の下側(図1の紙面上で下側)に対し、図1の紙面上で上側に向かってテーパ形状を有したテーパ部4aを設け、そこに接着剤5を充填することにより、気泡9の配置を樹脂絶縁層3bから極力離れるようにしている。発生した気泡9は、接着剤5の中で、図1の紙面上で上側に移動しようとするので、接着剤5の中の気泡9を浮上させ、図1の紙面上で上側に向かってテーパ形状になっているテーパ部4aに気泡9を配置し留めておくことができる。なお、テーパ部4aの高さは、樹脂絶縁層3bから0.5〜2mmである。また、気泡9のサイズは、最大0.1mm程である。
このように、ケース4にテーパ部4aを設け、ケース4と樹脂絶縁層3bとを接着剤5にて接着することにより、接着剤5の中の気泡9が樹脂絶縁層3bに接することを回避することができる。従って、回路パターン3aとベース板3cとの間において、沿面距離が不足することなく、パワー半導体モジュール100として絶縁性を確保することができる。
実施の形態1では、回路パターン3aと樹脂絶縁層3bとベース板3cとから構成される樹脂絶縁ベース板3に半導体素子1が搭載されている。樹脂絶縁ベース板3を取り囲んでいるケース4と樹脂絶縁層3bとは、接着剤5にて接着されている。ケース4と樹脂絶縁ベース板3とに取り囲まれた領域には封止樹脂8が封止されている。上記の接着剤5は、上記の封止樹脂8と同一材料であり、ケース4の樹脂絶縁層3bの側に形成されたテーパ部4aと樹脂絶縁層3bとに取り囲まれた領域に充填され、樹脂絶縁層3bとケース4とが接着されている。接着剤5の中の気泡9は、樹脂絶縁層3bに接することなく、樹脂絶縁層3bと反対側にあるにテーパ部4aの側に配置されている。以上のような構成としたことにより、回路パターン3aとベース板3cとの間において、沿面距離が不足することなく、パワー半導体モジュール100として絶縁性を確保することができる。
また、ケース4に対し、直方体でなく、テーパ部4aの形状にすることにより、接着剤5の充填量を減らすことができる。
なお、樹脂絶縁層3bとケース4とは接しているため、接着剤5は、密閉され閉じ込められているが、これに限定されることなく、樹脂絶縁層3bの回路パターン3a側の面とケース4との間において、接着剤5が流れない程度の隙間があってもよい。フィラーのサイズから、隙間は0.2mm以下であることが好ましい。
また、回路パターン3aまたはベース板3cの露出している面には、外観上の見栄え、はんだ接合性向上または樹脂絶縁ベース板3の保管/管理性から、Niめっきをしてもよい。
また、図示していないが、封止樹脂8の上側(図1の紙面上で上側)に蓋を設けてもよい。
また、パワー半導体モジュール100の変形例を図2に示す。ケース4の樹脂絶縁層3bの側に山型形状が続く2つのテーパ形状を有したテーパ部4aが形成されている。ケース4のテーパ部4aと樹脂絶縁層3bとに囲まれた領域に接着剤5が充填され、ケース4と樹脂絶縁層3bが接着され、固定されている。これにより、接着剤5の中の気泡9は、樹脂絶縁層3bに接することなく、テーパ部4aの側に分散させられる。気泡9が多い場合に、その効果は顕著となる。従って、回路パターン3aとベース板3cとの間において、沿面距離が不足することなく、パワー半導体モジュール100として絶縁性を確保することができる。また、アンカー効果により、接着剤5とケース4との接着強度向上を図ることができる。
なお、ケース4に設けられるテーパ部4aの形状は、図1及び図2に示す形状に限定するものではなく、テーパ形状であれば、同様な効果を得ることができる。
実施の形態2.
図3は、実施の形態2に係るパワー半導体モジュールの構成を示す断面図である。なお本実施の形態におけるパワー半導体モジュール100は、多くの構成が実施の形態1と共通する。このため、実施の形態1と異なる点について説明するとともに、同一または対応する構成については同じ符号を付けて示し、その説明を省略する。実施の形態1とは、図3に示すように、ベース板3cの外周面が露出している構成、樹脂絶縁ベース板3とケース4との接着構成が相違している。
図3に示すように、ベース板3cの半導体素子1が搭載されている側の外周面は、樹脂絶縁層3bがなく、露出している。なお、樹脂絶縁層3bの長さは、回路パターン3aとベース板3cとの間において、沿面距離を満たす長さとなっている。
ケース4の樹脂絶縁ベース板3の側にはテーパ部4aが形成されている。樹脂絶縁層3b及びベース板3cとケース4とに囲まれた領域に、接着剤5が充填され、ベース板3cと樹脂絶縁層3bとケース4とが接着されている。
接着中または加熱硬化するときに、接着剤5の中の気泡9が接着剤5から排出し易くなるように、ベース板3cの外周の側面とケース4との間に隙間が設けられ、接着剤5が露出している。なお、接着剤5は、ベース板3cの樹脂絶縁層3bと反対側の面まで流れ、充填されることはない。
このように、ベース板3cの外周の側面とケース4との間に隙間が設けられ、接着剤5が露出していることにより、接着剤5の中の気泡9が排出し易くなる。またケース4にテーパ部4aを設け、ケース4と樹脂絶縁層3bとベース板3cとを接着剤5にて接着することにより、接着剤5の中の気泡9が樹脂絶縁層3bに接することを回避することができる。従って、回路パターン3aとベース板3cとの間において、沿面距離が不足することなく、パワー半導体モジュール100として絶縁性を確保することができる。
実施の形態2では、樹脂絶縁ベース板3は、回路パターン3aと樹脂絶縁層3bとベース板3cとから構成され、ベース板3cの半導体素子1が搭載されている側の外周面は、樹脂絶縁層3bがなく、露出している。回路パターン3aには半導体素子1が搭載されている。樹脂絶縁ベース板3を取り囲んでいるケース4と樹脂絶縁層3bとは、接着剤5にて接着されている。ケース4と樹脂絶縁ベース板3とに取り囲まれた領域には封止樹脂8が封止されている。上記の接着剤5は、上記の封止樹脂8と同一材料であり、ケース4の樹脂絶縁層3bの側に形成されたテーパ部4aと樹脂絶縁層3b及びベース板3cとに取り囲まれた領域に充填され、樹脂絶縁層3b及びベース板3cとケース4とが接着されている。接着剤5の中の気泡9は、樹脂絶縁層3bに接することなく、樹脂絶縁層3bと反対側にあるテーパ部4aの側に配置されている。また、接着剤5の中の気泡9が排出し易くするため、ベース板3cの外周の側面とケース4との間に隙間が設けられ、接着剤5が露出している。以上のような構成としたことにより、回路パターン3aとベース板3cとの間において、沿面距離が不足することなく、パワー半導体モジュール100として絶縁性を確保することができる。
また、パワー半導体モジュール100は、高温及び低温といった使用環境条件と、反りの影響により、樹脂絶縁層3bとベース板3cとの端部に応力及び歪が発生し、ベース板3cに対し樹脂絶縁層3bが剥離することがある。しかしながら、接着剤5にて樹脂絶縁層3bとベース板3cとを接着し固定されているので、ベース板3cに対し樹脂絶縁層3bの剥離を抑制することができる。従って、パワー半導体モジュール100として絶縁性を確保することができる。
実施の形態3.
図4は、実施の形態3に係るパワー半導体モジュールの構成を示す断面図である。なお本実施の形態におけるパワー半導体モジュール100は、多くの構成が実施の形態1と共通する。このため、実施の形態1と異なる点について説明するとともに、同一または対応する構成については同じ符号を付けて示し、その説明を省略する。実施の形態1とは、図4に示すように、ベース板3cの外周面が露出している構成、樹脂絶縁ベース板3とケース4との接着構成、及びベース板3cの形状が相違している。
図4に示すように、ベース板3cの半導体素子1が搭載されている側の外周面は、樹脂絶縁層3bがなく、露出している。なお、樹脂絶縁層3bの長さは、回路パターン3aとベース板3cとの間において、沿面距離を満たす長さとなっている。
ケース4の樹脂絶縁ベース板3の側にはテーパ部4aが形成されている。樹脂絶縁層3b及びベース板3cとケース4とに囲まれた領域に、接着剤5が充填され、ベース板3cと樹脂絶縁層3bとケース4とが接着されている。
接着中または加熱硬化するときに、接着剤5の中の気泡9が接着剤5から排出し易くなるように、ベース板3cの外周の側面とケース4との間に隙間を設け、接着剤5が露出している。なお、接着剤5は、ベース板3cの樹脂絶縁層3bと反対側の面まで流れ、充填されることはない。
接着剤5は、樹脂絶縁層3b及びケース4と比較して、ベース板3cとの接着性が小さい傾向にある。図4に示すように、ベース板3cの半導体素子1が搭載されている側の両端に段差を設けることにより、アンカー効果により、ベース板3cと接着剤5との接着力向上を図ることができる。
このように、ベース板3cの外周の側面とケース4との間に隙間が設けられ、接着剤5が露出していることにより、接着剤5の中の気泡9が排出し易くなる。またケース4にテーパ部4aを設け、ケース4と樹脂絶縁層3bとベース板3cとを接着剤5にて接着することにより、接着剤5の中の気泡9が樹脂絶縁層3bに接することを回避することができる。従って、回路パターン3aとベース板3cとの間において、沿面距離が不足することなく、パワー半導体モジュール100として絶縁性を確保することができる。
実施の形態3では、樹脂絶縁ベース板3は、回路パターン3aと樹脂絶縁層3bとベース板3cとから構成され、ベース板3cの半導体素子1が搭載されている側の外周面は、樹脂絶縁層3bがなく、露出している。また、ベース板3cの半導体素子1が搭載されている側の両端に段差が設けられている。回路パターン3aには半導体素子1が搭載されている。樹脂絶縁ベース板3を取り囲んでいるケース4と樹脂絶縁層3bとは、接着剤5にて接着されている。ケース4と樹脂絶縁ベース板3とに取り囲まれた領域には封止樹脂8が封止されている。上記の接着剤5は、上記の封止樹脂8と同一材料であり、ケース4の樹脂絶縁層3bの側に形成されたテーパ部4aと樹脂絶縁層3b及びベース板3cとに取り囲まれた領域に充填され、樹脂絶縁層3b及びベース板3cとケース4とが接着されている。接着剤5の中の気泡9は、樹脂絶縁層3bに接することなく、樹脂絶縁層3bと反対側にあるテーパ部4aの側に配置されている。また、接着剤5の中の気泡9が排出し易くするため、ベース板3cの外周の側面とケース4との間に隙間が設けられ、接着剤5が露出している。以上のような構成としたことにより、回路パターン3aとベース板3cとの間において、沿面距離が不足することなく、パワー半導体モジュール100として絶縁性を確保することができる。
また、パワー半導体モジュール100は、高温及び低温といった使用環境条件と、反りの影響により、樹脂絶縁層3bとベース板3cとの端部に応力及び歪が発生し、ベース板3cに対し樹脂絶縁層3bが剥離することがある。しかしながら、接着剤5にて樹脂絶縁層3bとベース板3cとを接着し固定されているので、ベース板3cに対し樹脂絶縁層3bの剥離を抑制することができる。従って、パワー半導体モジュール100として絶縁性を確保することができる。
また、接着剤5は、樹脂絶縁層3b及びケース4と比較して、ベース板3cとの接着性が小さい傾向にある。このような場合でも、図4に示すように、ベース板3cの両端に段差を設けることにより、アンカー効果により、ベース板3cと接着剤5との接着力向上を図ることができる。
なお、各実施の形態を自由に組み合わせることや、各実施の形態を適宜、変形、省略することが可能である。
1 半導体素子
3 樹脂絶縁ベース板
3a 回路パターン
3b 樹脂絶縁層
3c ベース板
4 ケース
4a テーパ部
5 接着剤
8 封止樹脂

Claims (6)

  1. 半導体素子と、
    前記半導体素子を搭載した樹脂絶縁ベース板と、
    前記樹脂絶縁ベース板を取り囲んでいるケースと、
    前記樹脂絶縁ベース板と前記ケースとに取り囲まれた領域に、封止されている封止樹脂と、
    前記樹脂絶縁ベース板と前記ケースとを接着し、前記樹脂絶縁ベース板と前記ケースとに取り囲まれ、前記ケースの前記樹脂絶縁ベース板の側に形成されたテーパ部に充填されている接着剤と、
    を備えたパワー半導体モジュール。
  2. 前記樹脂絶縁ベース板は、回路パターンと樹脂絶縁層とベース板とから構成される請求項1記載のパワー半導体モジュール。
  3. 前記接着剤は、前記封止樹脂と同一材料である請求項1または請求項2に記載のパワー半導体モジュール。
  4. 前記絶縁樹脂ベース板の外周の側面と前記ケースとの間に、前記接着剤が露出している請求項1から請求項3のいずれか1項に記載のパワー半導体モジュール。
  5. 前記ベース板の前記半導体素子が搭載している側の外周面が露出している請求項1から請求項4のいずれか1項に記載のパワー半導体モジュール。
  6. 前記ベース板の前記半導体素子が搭載している側の両端に段差が設けられている請求項1から請求項5のいずれか1項に記載のパワー半導体モジュール。
JP2020056269A 2020-03-26 2020-03-26 パワー半導体モジュール Active JP7378333B2 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2020056269A JP7378333B2 (ja) 2020-03-26 2020-03-26 パワー半導体モジュール
US17/157,650 US11581229B2 (en) 2020-03-26 2021-01-25 Power semiconductor module with adhesive filled tapered portion
DE102021105479.6A DE102021105479A1 (de) 2020-03-26 2021-03-08 Leistungs-Halbleitermodul
CN202110295187.2A CN113451225A (zh) 2020-03-26 2021-03-19 功率半导体模块

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2020056269A JP7378333B2 (ja) 2020-03-26 2020-03-26 パワー半導体モジュール

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2021158197A true JP2021158197A (ja) 2021-10-07
JP7378333B2 JP7378333B2 (ja) 2023-11-13

Family

ID=77659080

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2020056269A Active JP7378333B2 (ja) 2020-03-26 2020-03-26 パワー半導体モジュール

Country Status (4)

Country Link
US (1) US11581229B2 (ja)
JP (1) JP7378333B2 (ja)
CN (1) CN113451225A (ja)
DE (1) DE102021105479A1 (ja)

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2019049400A1 (ja) * 2017-09-05 2019-03-14 三菱電機株式会社 パワーモジュール及びその製造方法並びに電力変換装置

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6645134B2 (ja) * 2015-11-16 2020-02-12 富士電機株式会社 半導体装置および半導体装置の製造方法
JP6399272B1 (ja) * 2017-09-05 2018-10-03 三菱電機株式会社 パワーモジュール及びその製造方法並びに電力変換装置
JP6841199B2 (ja) * 2017-09-29 2021-03-10 三菱電機株式会社 半導体装置
JP2019096797A (ja) 2017-11-27 2019-06-20 三菱電機株式会社 半導体装置および電力変換装置
JP7014012B2 (ja) * 2018-03-30 2022-02-01 三菱電機株式会社 半導体装置、半導体装置の製造方法および電力変換装置
JP2020004784A (ja) * 2018-06-26 2020-01-09 三菱電機株式会社 パワーモジュールおよび電力変換装置
JP7247574B2 (ja) * 2018-12-19 2023-03-29 富士電機株式会社 半導体装置

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2019049400A1 (ja) * 2017-09-05 2019-03-14 三菱電機株式会社 パワーモジュール及びその製造方法並びに電力変換装置

Also Published As

Publication number Publication date
US20210305107A1 (en) 2021-09-30
US11581229B2 (en) 2023-02-14
JP7378333B2 (ja) 2023-11-13
DE102021105479A1 (de) 2021-09-30
CN113451225A (zh) 2021-09-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5602077B2 (ja) 半導体装置
US10959333B2 (en) Semiconductor device
JP2018093244A (ja) 電力用半導体装置
JPWO2014097798A1 (ja) 半導体装置
JP5071719B2 (ja) 電力用半導体装置
US9466542B2 (en) Semiconductor device
JP6057926B2 (ja) 半導体装置
JP2016018866A (ja) パワーモジュール
JP6057927B2 (ja) 半導体装置
JP2013069782A (ja) 半導体装置
JP2007012831A (ja) パワー半導体装置
US10818630B2 (en) Semiconductor device
US11990393B2 (en) Semiconductor device including resin with a filler for encapsulating bridge member connected to a substrate
JP2015115382A (ja) 半導体装置
JP2004228286A (ja) 電力用半導体装置
JP6248803B2 (ja) パワー半導体モジュール
US20220399241A1 (en) Semiconductor device
JP7135293B2 (ja) 半導体装置および半導体装置の製造方法
JPWO2019234984A1 (ja) 半導体装置及び電力変換装置
JP7378333B2 (ja) パワー半導体モジュール
JP2017135144A (ja) 半導体モジュール
CN112530915A (zh) 半导体装置
JP4589009B2 (ja) 電力用半導体装置
JP7157783B2 (ja) 半導体モジュールの製造方法及び半導体モジュール
JP2021141237A (ja) 半導体装置

Legal Events

Date Code Title Description
RD01 Notification of change of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421

Effective date: 20220427

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20220621

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20230328

RD01 Notification of change of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421

Effective date: 20230405

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20230523

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20230822

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20230915

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20231003

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20231031

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 7378333

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150