JP2021042221A - ジアリールスルホンを製造するための改良された方法 - Google Patents

ジアリールスルホンを製造するための改良された方法 Download PDF

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Abstract

【課題】4,4’−ジクロロジフェニルスルホンなどのジアリールスルホンを製造するためのより経済的な方法には、依然として需要がある。具体的には、副生物の形成を最小限に抑えつつ、DCDPSなどのジアリールスルホンを高収率および高い選択性で効率的に製造するための方法に依然として需要がある。【解決手段】4,4’−ジクロロジフェニルスルホンなどのジアリールスルホンを調製するための方法が開示される。本方法は、アリール化合物と三酸化硫黄とを接触させ、ベンゼンスルホン酸を準備することを含む。このベンゼンスルホン酸を、触媒の存在下で追加のアリール化合物とカップリングする。カップリング工程において、追加のアリール化合物を連続して添加しながら、水を除去する。【選択図】図1

Description

関連出願へのクロスリファレンス
本出願は、米国特許法第119(e)条に基づき、2015年6月9日にファイルされた米国特許仮出願第62/173,283号の優先権の利益を主張するものであり、その全体を本明細書に援用する。
本明細書に記載の本発明は、4,4’−ジハロジフェニルスルホンなどのジアリールスルホンを製造するための方法に関する。
4,4’−ジクロロジフェニルスルホン(DCDPS)などのジアリールスルホンを調製するためのいくつかの方法が知られている。このような方法では、ジアリールスルホンの製造に、クロロベンゼンなどのさまざまなアリール開始材料から開始して、さまざまな経路を利用することができる。
米国特許第4,937,387号明細書に記載された一例としてのジアリールスルホンの調製では、二工程からなる方法で、三酸化硫黄およびモノクロロベンゼンからDCDPSを製造する。第1の工程でモノクロロベンゼンと三酸化硫黄とを反応させ、クロロベンゼンスルホン酸(CBSA)を形成する。第2の工程は、クロロベンゼンスルホン酸とモノクロロベンゼンとの反応である。この反応は、CBSAおよび硫酸フィード(表I)を基準にしたDCDPSへの平均変換率が20.8%になることが報告されている。未反応のCBSAを回収するための工程を追加し、第2の工程を繰り返してさらにDCDPSを形成することができるようにする。
Figure 2021042221
米国特許第4,937,387号明細書に記載されたDCDPSの製造方法
米国特許第4,983,773号明細書に記載された別のジアリールスルホン調製例では、ホウ酸を加えて一工程からなる方法でクロロベンゼンおよびスルホン酸からDCDPSが形成される。溶媒を用いた選択的な洗浄、分別晶析または遠心分離によって、精製を行う。報告された収率は84%である。
Figure 2021042221
米国特許第4,983,773号明細書に記載されたDCDPSの製造方法
国際公開第2012/143281号に記載されたさらに別のジアリールスルホン調製例では、クロロベンゼン、硫酸、脱水試薬としての無水トリフルオロ酢酸(TFAA)からDCDPSが形成される。TFAAがトリフルオロ酢酸(TFA)に変換されるため、反応全体で生成物としての水が生じることがない。報告されている中で最も良い収率は100%である。ただし、この方法では、化学量論量のTFAAを使用している。
Figure 2021042221
国際公開第2012/143281号に記載されたDCDPSの製造方法
米国特許第4,983,773号 国際公開第2012/143281号
4,4’−ジクロロジフェニルスルホンなどのジアリールスルホンを製造するためのより経済的な方法には、依然として需要がある。具体的には、副生物の形成を最小限に抑えつつ、DCDPSなどのジアリールスルホンを高収率および高い選択性で効率的に製造するための方法に依然として需要がある。
いくつかの実施形態では、本開示は、式
Figure 2021042221
(式中、XおよびXは独立に、H、ハロゲン、C〜Cアルキル、C〜C10アリール、−C〜Cアルキル−(C〜C10アリール)、−OC〜Cアルキルまたは−OC〜C10アリールであり、C〜Cアルキル、C〜C10アリール、−C〜Cアルキル−(C〜C10アリール)、−OC〜Cアルキルまたは−OC〜C10アリールにおける各々の水素原子は独立に、ハロゲン、C〜Cアルキル、C〜C10アリール、−C〜Cアルキル−(C〜C10アリール)、−OC〜Cアルキルまたは−OC〜C10アリールで任意に置換されていてもよい)で表されるスルホンを調製するための方法であって、
a.式
Figure 2021042221
で表されるスルホン酸と、式
Figure 2021042221
で表されるアリール化合物とを、触媒の存在下で接触させることを含むカップリング工程を含み、生成する水は、カップリング工程において除去される、スルホンの調製方法を提供する。
いくつかの実施形態では、本開示は、式
Figure 2021042221
(式中、XおよびXは独立に、H、ハロゲン、C〜Cアルキル、C〜C10アリール、−C〜Cアルキル−(C〜C10アリール)、−OC〜Cアルキルまたは−OC〜C10アリールであり、C〜Cアルキル、C〜C10アリール、−C〜Cアルキル−(C〜C10アリール)、−OC〜Cアルキルまたは−OC〜C10アリールにおける各々の水素原子は独立に、ハロゲン、C〜Cアルキル、C〜C10アリール、−C〜Cアルキル−(C〜C10アリール)、−OC〜Cアルキルまたは−OC〜C10アリールで任意に置換されていてもよい)で表されるスルホンを調製するための方法であって、
a.式
Figure 2021042221
で表されるアリール反応物と、三酸化硫黄とを接触させ、式
Figure 2021042221
で表されるスルホン酸を含む第1の生成物混合物を準備する第1の工程と、
b.式
Figure 2021042221
で表されるスルホン酸と、式
Figure 2021042221
で表されるハロゲン化アリールとを、触媒の存在下で接触させることを含むカップリング工程と、を含み、生成する水は、カップリング工程において除去される、スルホンの調製方法を提供する。
いくつかの実施形態では、本開示は、式
Figure 2021042221
(式中、XおよびXは独立に、ハロゲンである)で表されるスルホンを調製するための方法であって、スルホン酸とハロゲン化アリールとを触媒の存在下で接触させることを含むカップリング工程を含み、生成する水は、カップリング工程において除去される、スルホンの調製方法を提供する。
いくつかの実施形態では、本開示は、式
Figure 2021042221
(式中、XおよびXは独立に、ハロゲンである)で表されるスルホンを調製するための方法であって、ハロゲン化アリール反応物と三酸化硫黄とを接触させ、スルホン酸を含む第1の生成物混合物を準備することを含む第1の工程と、スルホン酸と、ハロゲン化アリールとを、触媒の存在下で接触させることを含むカップリング工程と、を含み、生成する水は、カップリング工程において除去される、スルホンの調製方法を提供する。
本発明の実施形態について、以下に列挙する項でさらに説明する。本明細書に記載の実施形態はいずれも、互いに矛盾しないかぎり本明細書に記載の他のどの実施形態とも一緒に使用できることは、理解できよう。
1.式
Figure 2021042221
(式中、式中、XおよびXは独立に、ハロゲンである)で表されるスルホンを調製するための方法であって、

Figure 2021042221
(式中、Xはハロゲンである)で表されるスルホン酸と、式
Figure 2021042221
(式中、Xはハロゲンである)で表されるハロゲン化アリールとを、触媒の存在下で接触させることを含むカップリング工程を含み、生成する水は、カップリング工程において除去される、スルホンの調製方法。
1a.式
Figure 2021042221
(XおよびXは独立に、H、ハロゲン、C〜Cアルキル、C〜C10アリール、−C〜Cアルキル−(C〜C10アリール)、−OC〜Cアルキルまたは−OC〜C10アリールであり、C〜Cアルキル、C〜C10アリール、−C〜Cアルキル−(C〜C10アリール)、−OC〜Cアルキルまたは−OC〜C10アリールにおける各々の水素原子は独立に、ハロゲン、C〜Cアルキル、C〜C10アリール、−C〜Cアルキル−(C〜C10アリール)、−OC〜Cアルキルまたは−OC〜C10アリールで任意に置換されていてもよい)で表されるスルホンを調製するための方法であって、
a.式
Figure 2021042221
で表されるスルホン酸と、式
Figure 2021042221
で表されるアリール化合物とを、触媒の存在下で接触させることを含むカップリング工程を含み、生成する水は、カップリング工程において除去される、スルホンの調製方法。
2.XおよびXはClである、上記の項のいずれか1項に記載の方法。
3.カップリング工程の粗収率は、スルホン酸に対するスルホンの割合で決定して、約50%〜約100%、約55%〜約100%、約60%〜約100%、約65%〜約100%、約70%〜約100%、約75%〜約100%、約80%〜約100%、約85%〜約100%、約50%〜約95%、約55%〜約95%、約60%〜約95%、約65%〜約95%、約70%〜約95%、約75%〜約95%、約80%〜約95%、約85%〜約95%、約50%〜約90%、約55%〜約90%、約60%〜約90%、約65%〜約90%、約70%〜約90%、約75%〜約90%、約80%〜約90%または約85%〜約90%である、上記の項のいずれか1項に記載の方法。
4.カップリング工程の粗収率は、スルホン酸に対するスルホンの割合で決定して、約60%〜約95%である、上記の項のいずれか1項に記載の方法。
5.カップリング工程の粗収率は、スルホン酸に対するスルホンの割合で決定して、約82%〜約93%である、上記の項のいずれか1項に記載の方法。
6.カップリング工程の精製収率は、スルホン酸に対するスルホンの割合で決定して、約40%〜約95%、約45%〜約95%、約50%〜約95%、約55%〜約95%、約60%〜約95%、約65%〜約95%、約70%〜約95%、約75%〜約95%、約80%〜約95%、40%〜約90%、約45%〜約90%、約50%〜約90%、約55%〜約90%、約60%〜約90%、約65%〜約90%、約70%〜約90%、約75%〜約90%、約80%〜約90%、40%〜約85%、約45%〜約85%、約50%〜約85%、約55%〜約85%、約60%〜約85%、約65%〜約85%、約70%〜約85%、約75%〜約85%または約80%〜約85%である、上記の項のいずれか1項に記載の方法。
7.カップリング工程の精製収率は、スルホン酸に対するスルホンの割合で決定して、約50%〜約85%である、上記の項のいずれか1項に記載の方法。
8.カップリング工程の精製収率は、スルホン酸に対するスルホンの割合で決定して、約70%〜約75%である、上記の項のいずれか1項に記載の方法。
9.カップリング工程は、無水条件下で開始される、上記の項のいずれか1項に記載の方法。
10.カップリング工程は、水が約10重量%未満、水が約5重量%未満、水が約1重量%未満または水が約0.5重量%未満の状態で開始される、上記の項のいずれか1項に記載の方法。
11.カップリング工程は、水が約10重量%未満の状態で開始される、上記の項のいずれか1項に記載の方法。
12.生成する水は、カップリング工程において連続して除去される、上記の項のいずれか1項に記載の方法。
13.生成する水は、蒸留によって除去される、上記の項のいずれか1項に記載の方法。
14.カップリング工程全体での水の濃度は、約10重量%未満、約5重量%未満、約1重量%未満または約0.5重量%未満である、上記の項のいずれか1項に記載の方法。
15.カップリング工程全体での水の濃度は、約10重量%未満である、上記の項のいずれか1項に記載の方法。
16.カップリング工程は、脱水試薬なしで行われる、上記の項のいずれか1項に記載の方法。
17.カップリング工程の全成分に対する触媒の濃度は、カップリング工程の開始時に、約0.1重量%〜約10重量%、約0.1重量%〜約5重量%、約0.5重量%〜約2重量%、約0.7重量%〜約1.1重量%または約0.9重量%である、上記の項のいずれか1項に記載の方法。
18.カップリング工程の全成分に対する触媒の濃度は、カップリング工程の開始時に、約0.1重量%〜約5重量%である、上記の項のいずれか1項に記載の方法。
19.カップリング工程の全成分に対する触媒の濃度は、カップリング工程の開始時に、約0.7重量%〜約1.1重量%である、上記の項のいずれか1項に記載の方法。
20.スルホン酸に対する触媒の量は、カップリング工程の開始時に、約0.01当量〜約1当量、約0.01当量〜約0.5当量、約0.01当量〜約0.1当量、約0.01〜約0.075当量、約0.02当量〜約1当量、約0.02当量〜約0.5当量、約0.02当量〜約0.1当量、約0.02〜約0.075当量、約0.025当量または約0.05当量である、上記の項のいずれか1項に記載の方法。
21.スルホン酸に対する触媒の濃度は、カップリング工程の開始時に、約0.01当量〜約0.1当量である、上記の項のいずれか1項に記載の方法。
22.スルホン酸に対する触媒の濃度は、カップリング工程の開始時に、約0.025当量〜約0.05当量である、上記の項のいずれか1項に記載の方法。
23.触媒は、ホウ素触媒、鉄触媒、亜鉛触媒、スズ触媒、チタン触媒、ジルコニウム触媒、ビスマス触媒、アンチモン触媒、シリカ触媒、金属硫酸塩触媒、金属酸化物触媒、スルホン酸触媒、ヨウ素触媒またはこれらの組み合わせからなる群から選択される、上記の項のいずれか1項に記載の方法。
24.触媒は、酸化アルミニウム、酸化アンチモン、酸化ジルコニウム、酸化ビスマス、無水ホウ酸、ホウ酸、酸化第二鉄、酸化第二スズ、酸化チタン、硫酸チタン、酸化亜鉛、ヨウ素、ヨウ化リチウム、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、シリカおよびジメチルスルフェートからなる群から選択される、上記の項のいずれか1項に記載の方法。
25a.触媒は酸化アルミニウムである、上記の項のいずれか1項に記載の方法。
25b.触媒は酸化ジルコニウムである、上記の項のいずれか1項に記載の方法。
25c.触媒は酸化ビスマスである、上記の項のいずれか1項に記載の方法。
25d.触媒は無水ホウ酸である、上記の項のいずれか1項に記載の方法。
25e.触媒はホウ酸である、上記の項のいずれか1項に記載の方法。
25f.触媒は酸化第二鉄である、上記の項のいずれか1項に記載の方法。
25g.触媒は酸化第二スズである、上記の項のいずれか1項に記載の方法。
25h.触媒は酸化チタンである、上記の項のいずれか1項に記載の方法。
25i.触媒は硫酸チタンである、上記の項のいずれか1項に記載の方法。
25j.触媒は酸化亜鉛である、上記の項のいずれか1項に記載の方法。
25k.触媒はヨウ素である、上記の項のいずれか1項に記載の方法。
25l.触媒はヨウ化リチウムである、上記の項のいずれか1項に記載の方法。
25m.触媒はメタンスルホン酸である、上記の項のいずれか1項に記載の方法。
25n.触媒はトリフルオロメタンスルホン酸である、上記の項のいずれか1項に記載の方法。
25o.触媒はシリカである、上記の項のいずれか1項に記載の方法。
25p.触媒はジメチルスルフェートである、上記の項のいずれか1項に記載の方法。
25q.触媒は酸化アンチモンである、上記の項のいずれか1項に記載の方法。
26.カップリング工程によって、式
Figure 2021042221
(式中、XおよびXは独立に、H、ハロゲン、C〜Cアルキル、C〜C10アリール、−C〜Cアルキル−(C〜C10アリール)、−OC〜Cアルキルまたは−OC〜C10アリールであり、C〜Cアルキル、C〜C10アリール、−C〜Cアルキル−(C〜C10アリール)、−OC〜Cアルキルまたは−OC〜C10アリールにおける各々の水素原子は独立に、ハロゲン、C〜Cアルキル、C〜C10アリール、−C〜Cアルキル−(C〜C10アリール)、−OC〜Cアルキルまたは−OC〜C10アリールで任意に置換されていてもよい)で表される2,4’異性体は、全スルホン生成物に対する2,4’異性体の割合で決定して、20%未満の量しか生じない、項1または3〜25のいずれか1項に記載の方法。
27.カップリング工程によって、式
Figure 2021042221
(式中、XおよびXは独立に、H、ハロゲン、C〜Cアルキル、C〜C10アリール、−C〜Cアルキル−(C〜C10アリール)、−OC〜Cアルキルまたは−OC〜C10アリールであり、C〜Cアルキル、C〜C10アリール、−C〜Cアルキル−(C〜C10アリール)、−OC〜Cアルキルまたは−OC〜C10アリールにおける各々の水素原子は独立に、ハロゲン、C〜Cアルキル、C〜C10アリール、−C〜Cアルキル−(C〜C10アリール)、−OC〜Cアルキルまたは−OC〜C10アリールで任意に置換されていてもよい)で表される2,4’異性体は、全スルホン生成物に対する2,4’異性体の割合で決定して10%未満の量しか生じない、項1または3〜26のいずれか1項に記載の方法。
28.カップリング工程によって、式
Figure 2021042221
(式中、XおよびXは独立に、H、ハロゲン、C〜Cアルキル、C〜C10アリール、−C〜Cアルキル−(C〜C10アリール)、−OC〜Cアルキルまたは−OC〜C10アリールであり、C〜Cアルキル、C〜C10アリール、−C〜Cアルキル−(C〜C10アリール)、−OC〜Cアルキルまたは−OC〜C10アリールにおける各々の水素原子は独立に、ハロゲン、C〜Cアルキル、C〜C10アリール、−C〜Cアルキル−(C〜C10アリール)、−OC〜Cアルキルまたは−OC〜C10アリールで任意に置換されていてもよい)で表される3,4’異性体は、全スルホン生成物に対する3,4’異性体の割合で決定して20%未満の量しか生じない、項1および3〜27のいずれか1項に記載の方法。
29.カップリング工程によって、式
Figure 2021042221
(式中、XおよびXは独立に、H、ハロゲン、C〜Cアルキル、C〜C10アリール、−C〜Cアルキル−(C〜C10アリール)、−OC〜Cアルキルまたは−OC〜C10アリールであり、C〜Cアルキル、C〜C10アリール、−C〜Cアルキル−(C〜C10アリール)、−OC〜Cアルキルまたは−OC〜C10アリールにおける各々の水素原子は独立に、ハロゲン、C〜Cアルキル、C〜C10アリール、−C〜Cアルキル−(C〜C10アリール)、−OC〜Cアルキルまたは−OC〜C10アリールで任意に置換されていてもよい)で表される3,4’異性体は、全スルホン生成物に対する3,4’異性体の割合で決定して10%未満の量しか生じない、項1および3〜28のいずれか1項に記載の方法。
30.XおよびXはClである、項26から29のいずれか1項に記載の方法。
31.ハロゲン化アリールまたはアリール化合物は、カップリング工程において連続してスルホン酸に添加される、上記の項のいずれか1項に記載の方法。
32.ハロゲン化アリールまたはアリール化合物は、約0.5時間〜約20時間、約1時間〜約20時間、約2時間〜約20時間、約7時間〜約20時間、約9時間〜約20時間、約10時間〜約20時間、約0.5時間〜約15時間、約1時間〜約15時間、約2時間〜約15時間、約7時間〜約15時間、約9時間〜約15時間、約10時間〜約15時間、約0.5時間〜約13時間、約1時間〜約13時間、約2時間〜約13時間、約7時間〜約13時間、約9時間〜約13時間、約10時間〜約13時間、約0.5時間〜約12時間、約1時間〜約12時間、約2時間〜約12時間、約7時間〜約12時間、約9時間〜約12時間、約10時間〜約12時間または約10時間かけて、連続してスルホン酸に添加される、上記の項のいずれか1項に記載の方法。
33.ハロゲン化アリールまたはアリール化合物は、約7時間〜約13時間かけて連続してスルホン酸に添加される、上記の項のいずれか1項に記載の方法。
34.ハロゲン化アリールまたはアリール化合物は、約9時間〜約12時間かけて連続してスルホン酸に添加される、上記の項のいずれか1項に記載の方法。
35.ハロゲン化アリールまたはアリール化合物は、約10時間かけて連続してスルホン酸に添加される、上記の項のいずれか1項に記載の方法。
36.ハロゲン化アリールまたはアリール化合物は、水がスルホン酸から連続して除去されるのと同時に連続してスルホン酸に添加される、上記の項のいずれか1項に記載の方法。
37.ハロゲン化アリールまたはアリール化合物は、クロロベンゼンがスルホン酸から連続して除去されるのと同時に連続してスルホン酸に添加される、上記の項のいずれか1項に記載の方法。
38.ハロゲン化アリールまたはアリール化合物は、約0.1mL/分〜約10mL/分、約0.5mL/分〜約5mL/分、約0.5mL/分〜約3mL/分または約1.5mL/分の流量で添加される、上記の項のいずれか1項に記載の方法。
39.ハロゲン化アリールまたはアリール化合物は、約1.5mL/分の流量で添加される、上記の項のいずれか1項に記載の方法。
40.カップリング工程は、約150℃〜約280℃、約160℃〜約280℃、約170℃〜約280℃、約180℃〜約280℃、約150℃〜約260℃、約160℃〜約260℃、約170℃〜約260℃、約180℃〜約260℃、約150℃〜約240℃、約160℃〜約240℃、約170℃〜約240℃または約180℃〜約240℃のカップリング温度で行われる、上記の項のいずれか1項に記載の方法。
41.カップリング工程は、約180℃〜約240℃のカップリング温度で行われる、上記の項のいずれか1項に記載の方法。
42.カップリング工程の間に、カップリング温度を高めることをさらに含む、項40または41に記載の方法。
43.カップリング工程の間に、カップリング温度を約180℃から約240℃に高めることをさらに含む、項40から42のいずれか1項に記載の方法。
44.カップリング温度は、約5分間〜約120分間、約15分間〜約120分間、約30分間〜約120分間、約45分間〜約120分間、約60分間〜約120分間、約90分間〜約120分間、約5分間〜約90分間、約15分間〜約90分間、約30分間〜約90分間、約45分間〜約90分間、約60分間〜約90分間、約5分間〜約60分間、約15分間〜約60分間、約30分間〜約60分間、約45分間〜約60分間、約5分間〜約45分間、約15分間〜約45分間、約30分間〜約45分間、約5分間〜約30分間、約15分間〜約30分間または約5分間〜約15分間かけて連続して高められる、項42または43に記載の方法。
45.カップリング温度は、約15分間〜約45分間かけて連続して高められる、項42から44のいずれか1項に記載の方法。
46.カップリング温度は、約30分間かけて連続して高められる、項42から45のいずれか1項に記載の方法。
47.ハロゲン化アリールまたはアリール化合物は、カップリング温度が高められるのと同時に連続して添加される、項42から46のいずれか1項に記載の方法。
48.ハロゲン化アリールまたはアリール化合物は、カップリング工程の溶媒である、上記の項のいずれか1項に記載の方法。
49.カップリング工程は、約15psi〜約100psi、約30psi〜約100psi、約40psi〜約100psi、約15psi〜約75psi、約30psi〜約75psi、約40psi〜約75psi、約15psi〜約60psi、約30psi〜約60psi、約40psi〜約60psi、約15psi〜約50psi、約30psi〜約50psi、約40psi〜約50psiまたは約45psiの圧力で行われる、上記の項のいずれか1項に記載の方法。
50.カップリング工程は、約30psi〜約60psiの圧力で行われる、上記の項のいずれか1項に記載の方法。
51.カップリング工程は、約45psiの圧力で行われる、上記の項のいずれか1項に記載の方法。
52.カップリング工程の後に、スルホンからハロゲン化アリールまたはアリール化合物を除去することをさらに含む、上記の項のいずれか1項に記載の方法。
53.カップリング工程の後に、蒸留によってスルホンからハロゲン化アリールまたはアリール化合物を除去することをさらに含む、上記の項のいずれか1項に記載の方法。
54.スルホンを約50℃〜約70℃のクエンチ温度まで冷却することをさらに含む、上記の項のいずれか1項に記載の方法。
55.スルホンを約60℃のクエンチ温度まで冷却することをさらに含む、上記の項のいずれか1項に記載の方法。
56.カップリング工程の後に、スルホンを抽出することをさらに含む、上記の項のいずれか1項に記載の方法
57.カップリング工程の後に、スルホンを芳香族溶媒で抽出することをさらに含む、上記の項のいずれか1項に記載の方法。
58.カップリング工程の後に、スルホンをトルエンで抽出することをさらに含む、上記の項のいずれか1項に記載の方法。
59.抽出する工程は、スルホンからハロゲン化アリールまたはアリール化合物を除去した後に行われる、項56から58のいずれか1項に記載の方法。
60.抽出する工程によって、スルホンを含む琥珀色の溶液が生じる、項56から59のいずれか1項に記載の方法。
61.スルホンを水で洗浄することをさらに含む、上記の項のいずれか1項に記載の方法。
62.洗浄する工程は、スルホンを抽出した後に行われる、項61に記載の方法。
63.洗浄する工程によって、スルホン酸を実質的に含まないスルホンが生じる、項61または62に記載の方法。
64.スルホンを結晶化させることをさらに含む、上記の項のいずれか1項に記載の方法。
65.結晶化させる工程は、スルホンの洗浄および抽出の後に行われる、項64に記載の方法。
66.結晶化させる工程によって、純度が約95%より高いスルホンが生じる、項64または65に記載の方法。
67.結晶化させる工程によって、純度が約99%より高いスルホンが生じる、項64から66のいずれか1項に記載の方法。
68.結晶化させる工程によって、純度が約99.9%より高いスルホンが生じる、項64から67のいずれか1項に記載の方法。
69.式
Figure 2021042221
(式中、Xは、H、ハロゲン、C〜Cアルキル、C〜C10アリール、−C〜Cアルキル−(C〜C10アリール)、−OC〜Cアルキルまたは−OC〜C10アリールであり、C〜Cアルキル、C〜C10アリール、−C〜Cアルキル−(C〜C10アリール)、−OC〜Cアルキルまたは−OC〜C10アリールにおける各々の水素原子は独立に、ハロゲン、C〜Cアルキル、C〜C10アリール、−C〜Cアルキル−(C〜C10アリール)、−OC〜Cアルキルまたは−OC〜C10アリールで任意に置換されていてもよい)で表される反応物と、三酸化硫黄とを接触させ、スルホン酸を含む第1の生成物混合物を準備することを含む第1の工程をさらに含む、上記の項のいずれか1項に記載の方法。
70.XはClである、項69に記載の方法。
71.第1の工程は、無水条件下で行われる、項69または70に記載の方法。
72.第1の生成物混合物における水の濃度は、約10重量%未満、約5重量%未満、約1重量%未満または約0.5重量%未満である、項69から71のいずれか1項に記載の方法。
73.第1の生成物混合物における水の濃度は、約10重量%未満である、項69から72のいずれか1項に記載の方法。
74.第1の工程は、第1の反応容器において行われ、第1の生成物混合物は、カップリング工程に使用するために第1の工程の後で第2の反応容器に移される、項69から73のいずれか1項に記載の方法。
75.第1の工程は、約30℃〜約100℃、約40℃〜約100℃、約50℃〜約100℃、約60℃〜約100℃、約30℃〜約90℃、約40℃〜約90℃、約50℃〜約90℃、約60℃〜約90℃、約30℃〜約80℃、約40℃〜約80℃、約50℃〜約80℃、約60℃〜約80℃、約30℃〜約75℃、約40℃〜約75℃、約50℃〜約75℃または約60℃〜約75℃のスルホン化温度で行われる、項69から74のいずれか1項に記載の方法。
76.第1の工程は、外からの冷却なしで行われる、項69から75のいずれか1項に記載の方法。
77.第1の生成物混合物は、スルホン酸、ハロゲン化アリール、スルホンを含む、項69から76のいずれか1項に記載の方法。
78.第1の生成物混合物は、約53%のスルホン酸、約6%のハロゲン化アリール、約41%のスルホンを含む、項69から77のいずれか1項に記載の方法。
79.カップリング工程は、第1の生成物混合物に触媒を添加することを含む、項69から78のいずれか1項に記載の方法。
80.カップリング工程は、第1の生成物混合物にホウ酸を添加することを含む、項69から79のいずれか1項に記載の方法。
81.第1の工程およびカップリング工程は、バッチ処理である、項69から80のいずれか1項に記載の方法。
82.第1の工程はバッチ処理であり、カップリング工程は連続処理である、項69から80のいずれか1項に記載の方法。
図1は、カップリング工程および精製ステップを含む、クロロベンゼンスルホン酸からジクロロジフェニルスルホンを調製するための方法の一実施形態を示す流れ図である。
本明細書に記載した本出願人による発明によれば、上記発明の開示にて番号を付して示した項の実施形態またはこれらの任意の組み合わせと、本願の詳細な説明に記載する任意の実施形態との組み合わせについても企図される。
第1の実施形態による方法は、式
Figure 2021042221
(式中、XおよびXは各々独立に、H、ハロゲン、C〜Cアルキル、C〜C10アリール、−C〜Cアルキル−(C〜C10アリール)、−OC〜Cアルキルまたは−OC〜C10アリールであり、C〜Cアルキル、C〜C10アリール、−C〜Cアルキル−(C〜C10アリール)、−OC〜Cアルキルまたは−OC〜C10アリールにおける各々の水素原子は独立に、ハロゲン、C〜Cアルキル、C〜C10アリール、−C〜Cアルキル−(C〜C10アリール)、−OC〜Cアルキルまたは−OC〜C10アリールで任意に置換されていてもよい)で表されるスルホンを調製するための方法を含む。
本明細書で使用する場合、「アルキル」という用語は、任意に分枝して炭素原子数が1〜20である、炭素原子の鎖を含む。さらに、いくつかの実施形態では、アルキルは、C〜C12、C〜C10、C〜C、C〜C、C〜C、C〜C、C〜Cをはじめとして、適宜的に長さが限定される場合があることも理解されたい。例として、C〜C、C〜C、C〜C、C〜Cなど、このように特に長さが限定されたアルキル基を、「低級アルキル」と呼ぶことがある。アルキル基の例としては、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、sec−ブチル、tert−ブチル、ペンチル、2−ペンチル、3−ペンチル、ネオペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチルなどがあげられるが、これらに限定されるものではない。アルキルは、置換されていても未置換であってもよい。一般的な置換基としては、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、ヘテロ脂環式の基、ヒドロキシ、アルコキシ、アリールオキシ、メルカプト、アルキルチオ、アリールチオ、シアノ、ハロ、カルボニル、オキソ、(=O)、チオカルボニル、O−カルバミル、N−カルバミル、O−チオカルバミル、N−チオカルバミル、C−アミド、N−アミド、C−カルボキシ、O−カルボキシ、ニトロ、アミノあるいは、本明細書に示すさまざまな実施形態に記載されるようなものがあげられる。「アルキル」を上述したものなどの他の基と組み合わせ、官能化されたアルキルを形成してもよいことは、理解できよう。一例として、本明細書に記載するような「アルキル」基と「カルボキシ」基との組み合わせを、「カルボキシアルキル」基と呼ぶこともある。他の非限定的な例として、ヒドロキシアルキル、アミノアルキルなどがあげられる。
本明細書で使用する場合、「アリール」という用語は、炭素原子数が6〜12で、完全共役したπ電子系を持つ、炭素のみで構成された単環基または縮合環式多環式基を示す。あるいくつかの実施形態では、アリールは、C〜C10アリールなど適宜的に大きさが限定される場合もあることは理解できよう。アリール基の例としては、フェニル、ナフタレニル、アントラセニルがあげられるが、これらに限定されるものではない。アリール基は未置換であってもよく、アルキルについて説明したように、あるいは本明細書に示すさまざまな実施形態に記載されるように、置換されてもよい。「アリール」を他の基と組み合わせ、官能化されたアリールを形成してもよいことは、理解できよう。一例として、本明細書に記載するような「C〜C10アリール」基と「C〜Cアルキル」基との組み合わせを、「−C〜Cアルキル−(C〜C10アリール)」と呼ぶこともある。
本明細書で使用する場合、「ヒドロキシ」または「ヒドロキシル」とは、−OH基をいう。
本明細書で使用する場合、「アルコキシ」とは、−OC〜Cアルキルなどの−O−(アルキル)基をいう。
代表的な例として、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、シクロプロピルオキシ、シクロブチルオキシ、シクロペンチルオキシ、シクロヘキシルオキシなどがあげられるが、これらに限定されるものではない。
本明細書で使用する場合、「アリールオキシ」とは、−OC〜C10アリールなどの−O−アリール基をいう。
本明細書で使用する場合、「メルカプト」とは、−SH基をいう。
本明細書で使用する場合、「アルキルチオ」とは、−S−(アルキル)または−S−(未置換のシクロアルキル)基をいう。代表的な例として、メチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、ブチルチオ、シクロプロピルチオ、シクロブチルチオ、シクロペンチルチオ、シクロヘキシルチオなどがあげられるが、これらに限定されるものではない。
本明細書で使用する場合、「アリールチオ」とは、−S−アリールまたは−S−ヘテロアリール基をいう。代表的な例として、フェニルチオ、ピリジニルチオ、フラニルチオ、チエニルチオ、ピリミジニルチオなどがあげられるが、これらに限定されるものではない。
本明細書で使用する場合、「シアノ」とは、−CN基をいう。
「オキソ」という用語は、カルボニル酸素を表す。たとえば、オキソで置換されたシクロペンチルはシクロペンタノンである。
本明細書で使用する場合、「ハロゲン」とは、フッ素(F)、塩素(Cl)、臭素(Br)、ヨウ素(I)をいう。アニオン形態のハロゲンまたは別の原子に共有結合しているハロゲンは、「ハロゲン化物」と呼ばれることもある。例として、炭素とハロゲンとの間の結合は共有結合であると理解され、炭素−ハロゲンまたは炭素−ハロゲン結合と呼ばれることもある。
本明細書で使用する場合、「結合」とは、共有結合をいう。
「置換された」という用語は、特定の基または部分が1つ以上の置換基を持つことを意味する。「未置換」という用語は、特定の基が置換基を持たないことを意味する。「置換された」という用語が構造系の説明に用いられる場合、置換は、この系のうち原子価の点で可能な任意の位置で生じることを意味する。いくつかの実施形態では、「置換された」とは、特定の基または部分が1つ、2つまたは3つの置換基を持つことを意味する。他の実施形態では、「置換された」とは、特定の基または部分が1つまたは2つの置換基を持つことを意味する。さらに他の実施形態では、「置換された」とは、特定の基または部分が1つの置換基を持つことを意味する。
本明細書で使用する場合、「任意の」または「任意に」とは、その後ろに記載される事象または状況が生じ得るが必ずしも生じる必要はないことを意味するとともに、その記述には、その事象または状況が起こる場合とおよび起こらない場合が含まれることを意味する。たとえば、「C〜Cアルキルにおける各々の水素原子は独立に、ハロゲンで任意に置換されていてもよい」とは、各々のハロゲン基について、水素原子のC〜Cアルキル置換部分にハロゲンが存在してもよいが必ずしも存在する必要はなく、その記述には、たとえばC〜Cアルキルがハロゲンで置換される状況と、たとえばC〜Cアルキルがハロゲンで置換されない状況が含まれる。
いくつかの実施形態では、本開示の方法はさらに、式
Figure 2021042221
(式中、Χは、H、ハロゲン、C〜Cアルキル、C〜C10アリール、−C〜Cアルキル−(C〜C10アリール)、−OC〜Cアルキルまたは−OC〜C10アリールであり、C〜Cアルキル、C〜C10アリール、−C〜Cアルキル−(C〜C10アリール)、−OC〜Cアルキルまたは−OC〜C10アリールにおける各々の水素原子は独立に、ハロゲン、C〜Cアルキル、C〜C10アリール、−C〜Cアルキル−(C〜C10アリール)、−OC〜Cアルキルまたは−OC〜C10アリールで任意に置換されていてもよい)で表される反応物と三酸化硫黄とを接触させることを含む第1の工程を含む。第1の工程では、スルホン酸を含む第1の生成物混合物が準備される。いくつかの実施形態では、Xはハロゲンである。いくつかの実施形態では、XはClである。
第1の工程は、一般的に以下の式
Figure 2021042221
で説明される。
例として、第1の工程は第1の反応容器で行うことができ、この第1の工程の後で、カップリング工程用に、第1の工程で生成する生成物混合物を第2の反応容器に移してもよい。
第1の工程の生成物混合物は、スルホン酸、ハロゲン化アリール、スルホンを含んでもよい。スルホン酸は、クロロベンゼンスルホン酸であってもよく、ハロゲン化アリールは、モノクロロベンゼンであってもよく、スルホンは、ジクロロジフェニルスルホンであってもよい。いくつかの実施形態では、第1の生成物混合物は、約53%のスルホン酸と、約6%のハロゲン化アリールと、約41%のスルホンとを含む。
本開示の方法は、式
Figure 2021042221
(式中、Xはハロゲンである)で表されるスルホン酸と、式
Figure 2021042221
(式中、Xは、H、ハロゲン、C〜Cアルキル、C〜C10アリール、−C〜Cアルキル−(C〜C10アリール)、−OC〜Cアルキルまたは−OC〜C10アリールであり、C〜Cアルキル、C〜C10アリール、−C〜Cアルキル−(C〜C10アリール)、−OC〜Cアルキルまたは−OC〜C10アリールにおける各々の水素原子は独立に、ハロゲン、C〜Cアルキル、C〜C10アリール、−C〜Cアルキル−(C〜C10アリール)、−OC〜Cアルキルまたは−OC〜C10アリールで任意に置換されていてもよい)で表されるハロゲン化アリールとを接触させることを含むカップリング工程を含む。いくつかの実施形態では、Xはハロゲンである。いくつかの実施形態では、XはClである。
カップリング工程は、一般的に以下の式
Figure 2021042221
で説明される。
本明細書に化学式を示す場合、この化学反応式には出てこない追加の反応物、追加の反応成分、副生物、追加の生成物、不純物が存在し得ることは、理解できよう。
また、カップリング工程の接触ステップにおいて、ハロゲン化アリールの炭素と三酸化硫黄の硫黄との間に結合が形成されることも、理解できよう。理論に拘泥されることなく、三酸化硫黄がアリール水素を置換する求電子芳香族置換反応の結果として、結合が形成されることもある。
カップリング工程は触媒の存在下で行われ、生成する水は、カップリング工程において除去される。本明細書で使用する場合、「生成する水」とは、カップリング工程の結果として形成される水のことである。水の存在しない状態と触媒とを組み合わせることで、従来技術において知られている方法よりも高い選択性かつ高収率で、スルホン生成物が得られる。
本開示の一態様において、カップリング工程は、第1ステップの生成物混合物に触媒を添加することを含んでもよい。いくつかの実施形態では、触媒はホウ酸である。
本開示の別の態様において、第1の工程およびカップリング工程は、バッチ処理の別のステップである。本開示の別の態様において、第1の工程およびカップリング工程は、連続処理の別のステップである。他の実施形態では、第1の工程はバッチ処理であり、カップリング工程は連続処理である。
本明細書に記載の方法のいくつかの実施形態では、XおよびXはClである。このような実施形態において、スルホンは、式
Figure 2021042221
で表される。
およびXがClである場合、第1の工程は、一般的に以下の式
Figure 2021042221
で説明され、カップリング工程は、一般的に以下の式
Figure 2021042221
で説明される。
本明細書で使用する場合、収率は、化学量論的計算で予測される理論上の最大量の生成物に対して、反応によって生成される生成物の実際の量を表す。たとえば、スルホン酸に対するスルホンの割合で収率を決定することには、最初の反応混合物中のスルホン酸のモル数に基づいてスルホンの理論上の最大量を決定することを含んでもよい。収率を計算することは、従来技術において十分に理解されている。
本明細書で使用する場合、粗収率とは、反応のワークアップまたはクエンチ後かつ追加の精製ステップの前に決定される収率を示す。本明細書で使用する場合、精製収率とは、反応のワークアップまたはクエンチ後かつ1つ以上の精製ステップの後に決定される収率を示す。
上述したように、この方法は、向上した収率でスルホン生成物を生成する。いくつかの実施形態では、スルホン酸に対するスルホンの割合で決定されるカップリング工程の粗収率は、約50%〜約100%、約55%〜約100%、約60%〜約100%、約65%〜約100%、約70%〜約100%、約75%〜約100%、約80%〜約100%、約85%〜約100%、約50%〜約95%、約55%〜約95%、約60%〜約95%、約65%〜約95%、約70%〜約95%、約75%〜約95%、約80%〜約95%、約85%〜約95%、約50%〜約90%、約55%〜約90%、約60%〜約90%、約65%〜約90%、約70%〜約90%、約75%〜約90%、約80%〜約90%または約85%〜約90%である。たとえば、スルホン酸に対するスルホンの割合で決定されるカップリング工程の粗収率は、約60%〜約95%になり得る。また、スルホン酸に対するスルホンの割合で決定されるカップリング工程の粗収率は、約82%〜約93%になり得る。
いくつかの実施形態では、スルホン酸に対するスルホンの割合で決定されるカップリング工程の精製収率は、約40%〜約95%、約45%〜約95%、約50%〜約95%、約55%〜約95%、約60%〜約95%、約65%〜約95%、約70%〜約95%、約75%〜約95%、約80%〜約95%、40%〜約90%、約45%〜約90%、約50%〜約90%、約55%〜約90%、約60%〜約90%、約65%〜約90%、約70%〜約90%、約75%〜約90%、約80%〜約90%、40%〜約85%、約45%〜約85%、約50%〜約85%、約55%〜約85%、約60%〜約85%、約65%〜約85%、約70%〜約85%、約75%〜約85%または約80%〜約85%である。たとえば、スルホン酸に対するスルホンの割合で決定されるカップリング工程の精製収率は、約50%〜約85%になり得る。また、スルホン酸に対するスルホンの割合で決定されるカップリング工程の精製収率は、約70%〜約75%になり得る。
「約」という語が先行する値には、その値そのものとその前後の値の両方が含まれることは、理解できよう。たとえば、「約90%」は、正確に90%と約90%の両方を示す。
いくつかの実施形態では、カップリング工程は、無水条件下で開始される。たとえば、いくつかの実施形態では、カップリング工程は、水が約10重量%未満、水が約5重量%未満、水が約1重量%未満、または水が約0.5重量%未満の状態で開始される。いくつかの実施形態では、カップリング工程は、水が約10重量%未満の状態で開始される。
いくつかの実施形態では、カップリング工程で生成する水は、カップリング工程において連続して除去される。たとえば、生成する水は、蒸留によって除去することができる。
あるいくつかの実施形態では、カップリング工程全体での水の濃度は、約10重量%未満、約5重量%未満、約1重量%未満または約0.5重量%未満である。たとえば、カップリング工程全体での水の濃度は、約10重量%未満になり得る。
いくつかの実施形態では、カップリング工程は、脱水試薬なしで行われる。本明細書で使用する場合、「脱水試薬」は、スルホン形成に関与する他の反応物と反応することによってカップリング工程における反応生成物としての水の生成を防止する試薬である。脱水試薬の例は、クロロベンゼンと硫酸とを用いた場合、無水トリフルオロ酢酸である。
他の実施形態では、カップリング工程の全成分に対する触媒の濃度は、カップリング工程の開始時に、約0.1重量%〜約10重量%、約0.1重量%〜約5重量%、約0.5重量%〜約2重量%、約0.7重量%〜約1.1重量%または約0.9重量%である。例として、カップリング工程の全成分に対する触媒の濃度は、カップリング工程の開始時に、約0.1重量%〜約5重量%になり得る。また、カップリング工程の全成分に対する触媒の濃度は、カップリング工程の開始時に、約0.7重量%〜約1.1重量%になり得る。
さらに、スルホン酸に対する触媒の量は、カップリング工程の開始時に、約0.01当量〜約1当量、約0.01当量〜約0.5当量、約0.01当量〜約0.1当量、約0.01〜約0.075当量、約0.02当量〜約1当量、約0.02当量〜約0.5当量、約0.02当量〜約0.1当量、約0.02〜約0.075当量、約0.025当量または約0.05当量になり得る。例として、スルホン酸に対する触媒の濃度は、カップリング工程の開始時に、約0.01当量〜約0.1当量になり得る。また、スルホン酸に対する触媒の濃度は、カップリング工程の開始時に、約0.025当量〜約0.05当量になり得る。
いくつかの実施形態では、触媒は、ホウ素触媒、鉄触媒、亜鉛触媒、スズ触媒、チタン触媒、ジルコニウム触媒、ビスマス触媒、アンチモン触媒、シリカ触媒、金属硫酸塩触媒、金属酸化物触媒、スルホン酸触媒、ヨウ素触媒またはこれらの組み合わせである。たとえば、触媒は、酸化アルミニウム、酸化アンチモン、酸化ジルコニウム、酸化ビスマス、無水ホウ酸、ホウ酸、酸化第二鉄、酸化第二スズ、酸化チタン、硫酸チタン、酸化亜鉛、ヨウ素、ヨウ化リチウム、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、シリカまたはジメチルスルフェートであってもよい。あるいくつかの実施形態では、触媒は、酸化アルミニウムであってもよい。あるいくつかの実施形態では、触媒は、酸化アンチモンであってもよい。あるいくつかの実施形態では、触媒は、酸化ジルコニウムであってもよい。あるいくつかの実施形態では、触媒は、酸化ビスマスであってもよい。あるいくつかの実施形態では、触媒は、無水ホウ酸であってもよい。あるいくつかの実施形態では、触媒は、ホウ酸であってもよい。あるいくつかの実施形態では、触媒は、酸化第二鉄であってもよい。あるいくつかの実施形態では、触媒は、酸化第二スズであってもよい。あるいくつかの実施形態では、触媒は、酸化チタンであってもよい。あるいくつかの実施形態では、触媒は、硫酸チタンであってもよい。あるいくつかの実施形態では、触媒は、酸化亜鉛であってもよい。あるいくつかの実施形態では、触媒は、ヨウ素であってもよい。あるいくつかの実施形態では、触媒は、ヨウ化リチウムであってもよい。あるいくつかの実施形態では、触媒は、メタンスルホン酸であってもよい。あるいくつかの実施形態では、触媒は、トリフルオロメタンスルホン酸であってもよい。あるいくつかの実施形態では、触媒は、シリカであってもよい。あるいくつかの実施形態では、触媒は、ジメチルスルフェートであってもよい。
いくつかの実施形態では、カップリング工程によって、式
Figure 2021042221
(式中、XおよびXは独立に、H、ハロゲン、C〜Cアルキル、C〜C10アリール、−C〜Cアルキル−(C〜C10アリール)、−OC〜Cアルキルまたは−OC〜C10アリールであり、C〜Cアルキル、C〜C10アリール、−C〜Cアルキル−(C〜C10アリール)、−OC〜Cアルキルまたは−OC〜C10アリールにおける各々の水素原子は独立に、ハロゲン、C〜Cアルキル、C〜C10アリール、−C〜Cアルキル−(C〜C10アリール)、−OC〜Cアルキルまたは−OC〜C10アリールで任意に置換されていてもよい)で表される2,4’異性体は、全スルホン生成物に対する2,4’異性体の割合で決定して20%未満の量しか生じない。他の実施形態では、カップリング工程によって、2,4’異性体は、10%未満の量しか生じない。例として、XおよびXは、Clであってもよい。
他の実施形態では、カップリング工程によって、式
Figure 2021042221
(式中、X1およびX2は独立に、H、ハロゲン、C1〜C6アルキル、C6〜C10アリール、−C1〜C6アルキル−(C6〜C10アリール)、−OC1〜C6アルキルまたは−OC6〜C10アリールであり、C1〜C6アルキル、C6〜C10アリール、−C1〜C6アルキル−(C6〜C10アリール)、−OC1〜C6アルキルまたは−OC6〜C10アリールにおける各々の水素原子は独立に、ハロゲン、C1〜C6アルキル、C6〜C10アリール、−C1〜C6アルキル−(C6〜C10アリール)、−OC1〜C6アルキルまたは−OC6〜C10アリールで任意に置換されていてもよい)で表される3,4’異性体は、全スルホン生成物に対する3,4’異性体の割合で決定して20%未満の量しか生じない。他の実施形態では、カップリング工程によって、3,4’異性体は、10%未満の量しか生じない。例として、X1およびX2は、Clであってもよい。
いくつかの実施形態では、カップリング工程によって、式
Figure 2021042221
(式中、XおよびXは独立に、ハロゲンである)で表される2,4’異性体は、全スルホン生成物に対する2,4’異性体の割合で決定して20%未満の量しか生じない。他の実施形態では、カップリング工程によって、2,4’異性体は、10%未満の量しか生じない。例として、XおよびXは、Clであってもよい。
他の実施形態では、カップリング工程によって、式
Figure 2021042221
(式中、XおよびXは独立に、ハロゲンである)で表される3,4’異性体は、全スルホン生成物に対する3,4’異性体の割合で決定して20%未満の量しか生じない。他の実施形態では、カップリング工程によって、3,4’異性体は、10%未満の量しか生じない。例として、XおよびXは、Clであってもよい。
いくつかの実施形態では、ハロゲン化アリールまたはアリール化合物は、カップリング工程において連続してスルホン酸に添加される。たとえば、ハロゲン化アリールは、約0.5時間〜約20時間、約1時間〜約20時間、約2時間〜約20時間、約7時間〜約20時間、約9時間〜約20時間、約10時間〜約20時間、約0.5時間〜約15時間、約1時間〜約15時間、約2時間〜約15時間、約7時間〜約15時間、約9時間〜約15時間、約10時間〜約15時間、約0.5時間〜約13時間、約1時間〜約13時間、約2時間〜約13時間、約7時間〜約13時間、約9時間〜約13時間、約10時間〜約13時間、約0.5時間〜約12時間、約1時間〜約12時間、約2時間〜約12時間、約7時間〜約12時間、約9時間〜約12時間、約10時間〜約12時間または約10時間かけて、連続してスルホン酸に添加されてもよい。ハロゲン化アリールは、約7時間〜約13時間かけて連続してスルホン酸に添加されてもよい。また、ハロゲン化アリールは、約9時間〜約12時間かけて連続してスルホン酸に添加されてもよい。さらに、ハロゲン化アリールは、約10時間かけて連続してスルホン酸に添加されてもよい。
いくつかの実施形態では、ハロゲン化アリールまたはアリール化合物は、水がスルホン酸から連続して除去されるのと同時に連続してスルホン酸に添加される。あるいくつかの実施形態では、ハロゲン化アリールまたはアリール化合物は、クロロベンゼンがスルホン酸から連続して除去されるのと同時に連続してスルホン酸に添加される。
例として、ハロゲン化アリールまたはアリール化合物は、約0.1mL/分〜約10mL/分、約0.5mL/分〜約5mL/分、約0.5mL/分〜約3mL/分または約1.5mL/分の流量で添加されてもよい。具体的には、ハロゲン化アリールは、約1.5mL/分の流量で添加されてもよい。
いくつかの実施形態では、カップリング工程は、約150℃〜約280℃、約160℃〜約280℃、約170℃〜約280℃、約180℃〜約280℃、約150℃〜約260℃、約160℃〜約260℃、約170℃〜約260℃、約180℃〜約260℃、約150℃〜約240℃、約160℃〜約240℃、約170℃〜約240℃、または約180℃〜約240℃のカップリング温度で行われる。あるいくつかの実施形態では、カップリング工程は、約180℃〜約240℃のカップリング温度で行われる。
本開示の一態様では、カップリング工程の間に、カップリング温度を高めてもよい。この方法は、カップリング工程において、カップリング温度を約180℃から約240℃に高めることを含んでもよい。カップリング温度は、約5分間〜約120分間、約15分間〜約120分間、約30分間〜約120分間、約45分間〜約120分間、約60分間〜約120分間、約90分間〜約120分間、約5分間〜約90分間、約15分間〜約90分間、約30分間〜約90分間、約45分間〜約90分間、約60分間〜約90分間、約5分間〜約60分間、約15分間〜約60分間、約30分間〜約60分間、約45分間〜約60分間、約5分間〜約45分間、約15分間〜約45分間、約30分間〜約45分間、約5分間〜約30分間、約15分間〜約30分間または約5分間〜約15分間かけて連続して高められてもよい。あるいくつかの実施形態では、カップリング温度は、約15分間〜約45分間かけて連続して高められる。いくつかの実施形態では、カップリング温度は、約30分間かけて連続して高められる。
本開示のもうひとつの態様は、ハロゲン化アリールまたはアリール化合物が、カップリング温度が高められるのと同時に連続して添加されてもよいものである。
例として、ハロゲン化アリールまたはアリール化合物は、カップリング工程の溶媒であってもよい。
いくつかの実施形態では、カップリング工程は、約15重量ポンド毎平方インチ(psi)〜約100psi、約30psi〜約100psi、約40psi〜約100psi、約15psi〜約75psi、約30psi〜約75psi、約40psi〜約75psi、約15psi〜約60psi、約30psi〜約60psi、約40psi〜約60psi、約15psi〜約50psi、約30psi〜約50psi、約40psi〜約50psiまたは約45psiの圧力で行われる。たとえば、カップリング工程は、約30psi〜約60psiの圧力で行われてもよい。また、カップリング工程は、約45psiの圧力で行われてもよい。
例示的な実施形態では、本方法は、1つ以上の精製法を含む。いくつかの実施形態では、ハロゲン化アリールまたはアリール化合物は、カップリング工程の後に、スルホンから除去される。ハロゲン化アリールまたはアリール化合物は、蒸留によってスルホンから除去されてもよい。
あるいくつかの実施形態では、スルホンは、約50℃〜約70℃のクエンチ温度まで冷却される。たとえば、本方法は、スルホンを約60℃のクエンチ温度まで冷却することをさらに含んでもよい。
いくつかの実施形態では、本方法は、カップリング工程の後に、スルホンを抽出することを含む。スルホンは、カップリング工程の後に、芳香族溶媒で抽出されてもよい。いくつかの実施形態では、スルホンは、カップリング工程の後に、トルエンで抽出される。抽出する工程は、スルホンからハロゲン化アリールまたはアリール化合物を除去した後に行われてもよい。あるいくつかの実施形態では、抽出する工程によって、スルホンを含む琥珀色の溶液が生じる。
本開示の方法は、スルホンを水で洗浄することをさらに含んでもよい。洗浄する工程は、スルホンを抽出した後に行われてもよい。例として、洗浄する工程によって、スルホン酸を実質的に含まないスルホンが生じ得る。
あるいくつかの実施形態では、本方法は、スルホンを結晶化させることを含んでもよい。結晶化させる工程は、スルホンの洗浄および抽出の後に行われてもよい。結晶化させる工程によって、純度が約95%より高いスルホンが生じ得る。いくつかの実施形態では、結晶化させる工程によって、純度が約99%より高いスルホンが生じる。たとえば、結晶化させる工程によって、純度が約99.9%より高いスルホンが生じ得る。
いくつかの実施形態では、本開示の本方法の第1の工程は、無水条件下で行われる。具体的には、第1の生成物混合物における水の濃度は、約10重量%未満、約5重量%未満、約1重量%未満または約0.5重量%未満であってもよい。あるいくつかの実施形態では、第1の生成物混合物における水の濃度は、水が約10重量%未満である。
本開示のもうひとつの態様は、第1の工程が、約30℃〜約100℃、約40℃〜約100℃、約50℃〜約100℃、約60℃〜約100℃、約30℃〜約90℃、約40℃〜約90℃、約50℃〜約90℃、約60℃〜約90℃、約30℃〜約80℃、約40℃〜約80℃、約50℃〜約80℃、約60℃〜約80℃、約30℃〜約75℃、約40℃〜約75℃、約50℃〜約75℃または約60℃〜約75℃のスルホン化温度で行われてもよいものである。いくつかの実施形態では、第1の工程は、外からの冷却なしで行われる。
ここで、図1を参照する。クロロベンゼンスルホン酸からジクロロジフェニルスルホンを製造する方法を図1に示す。このプロセスは、カップリング工程および精製ステップを含む。
カップリング工程は、最初にクロロベンゼンスルホン酸と、モノクロロベンゼン(本明細書ではクロロベンゼンとも呼ぶ)と、ホウ酸とを、DCDPS反応器で合わせる(ステップ1)ことを含む。クロロベンゼンスルホン酸、モノクロロベンゼン、ホウ酸をDCDPS反応器で合わせた後、モノクロロベンゼンを添加(ステップ2)しながら、湿ったモノクロロベンゼンを取り除く(ステップ3)。このカップリング工程により、粗ジクロロジフェニルスルホン混合物が得られる。
精製ステップは、粗ジクロロジフェニルスルホン混合物を、ディーン・スターク管を取り付けた別の容器に移すステップ(ステップ4)を含む。粗ジクロロジフェニルスルホン混合物に水を添加(ステップ5)しながら、湿ったモノクロロベンゼンを取り除く(ステップ6)。濾過によりジクロロフェニルスルホンを得る(ステップ7)。蒸発によりクロロベンゼンスルホン酸を回収する(ステップ8)。
好都合なことに、本開示の方法は、以下の実施例でさらに示されるように、副生物の形成を最小限に抑えつつ、4,4’−ジクロロジフェニルスルホンを高収率かつ高い選択性で効率的に提供する。
Figure 2021042221
比較例1(CE−1):米国特許第4,983,773号(1991年1月8日)、実施例2の手順に従ってホウ酸を用いた4,4’−ジクロロジフェニルスルホンの調製
以下で説明するような米国特許第4,983,773号の方法を繰り返したところ、同明細書に報告されているのと同じ方法では精製することができなかった混合物を得た。また、米国特許第4,983,773号の方法を繰り返したところ、得られた収率と選択性はいずれも、同明細書に報告されているよりも著しく低かった。
クロロベンゼン用の添加ポンプ、逆流調節装置、冷却器を取り付けた0.5Lのオートクレーブに、濃硫酸50g、クロロベンゼン100g、ホウ酸触媒1.5gを入れた。逆流調節装置を65psiに設定し、オートクレーブの内容物を180℃まで加熱した。この時点で、凝縮物が冷却器から滴下しはじめた。流量1.5mL/分でクロロベンゼンの添加を開始し、反応器が240℃に達するまで(およそ1時間)加熱を継続した。クロロベンゼンの添加を合計16時間継続しつつ、過剰なクロロベンゼンと反応時に生じるすべての水を留去した。反応器を120℃まで冷却し、オートクレーブを開くと、未反応のクロロベンゼンに黒色のタールが69g含まれていることがわかった。これを分析したところ、4,4’−ジクロロジフェニルスルホンが、他のジクロロジフェニルスルホン異性体に対するものとして60.5%含まれる(表1参照)が、他にも特定できない多くの副生物が存在することが明らかになった。タール中の4.4’−ジクロロジフェニルスルホンの量は、反応したクロロベンゼンに対し収率で14%相当であった。所望の物質を副生物から分離しようとしたが失敗した。これには、タール状の反応粗生成物を水に注ぎ、水層をトルエン、クロロベンゼンまたは2−メチルテトラヒドロフランで抽出することが含まれていた。抽出しようとする試みではいずれも黒色のエマルションが生じ、それがゆえに有機成分と水成分とを分離することができなかった。また、この試みには、反応粗生成物を水蒸気蒸留して揮発性物質を除去することも含まれていたが、濾過できない黒色のエマルションが生じた。
実施例1:ホウ酸触媒を用いて4,4’−ジクロロジフェニルスルホンを調製するための改良された方法
クロロベンゼン145gを入れた500mLの丸底フラスコを、外からの冷却なしで反応容器の内部温度を75℃以下に維持するようにして3時間かけて気体状の三酸化硫黄42gで処理した。得られた溶液を分析したところ、53.4%の4−クロロベンゼンスルホン酸、5.8%の4,4’−ジクロロジフェニルスルホン、40.8%のクロロベンゼンが含まれていることが明らかになった。この溶液(173g)とホウ酸1.5gを実施例1のオートクレーブに入れた。逆流調節装置を45psiに設定し、オートクレーブの内容物を180℃まで加熱した。この時点で、凝縮物が冷却器から滴下しはじめた。流量1.5mL/分でクロロベンゼンの添加を開始し、反応器の温度が240℃に達するまで(およそ30分間)加熱を継続した。クロロベンゼンの添加を合計10時間継続しつつ、同時に、冷却器を介して湿ったクロロベンゼンを除去した。添加終了時、オートクレーブには、クロロベンゼン50g、4−クロロベンゼンスルホン酸29.3g、4,4’−ジクロロジフェニルスルホン102gならびに、関連の異性体が入っていた(未反応のクロロベンゼンスルホン酸の分を調整し、不要な異性体を引いた収率で85%)。オートクレーブの内容物を、ディーン・スターク管を取り付けた丸底フラスコに移した。次に、残りのクロロベンゼンを混合物から水蒸気蒸留しながら、水をフラスコに戻した。得られた灰色のスラリーを60℃まで冷却し、トルエンで2回抽出した。合わせた有機層を水で1回洗浄し、合わせた水性抽出物を脱水したところ、未反応の4−クロロベンゼンスルホン酸29.3gが得られた。トルエン抽出物の分析により、他のジクロロジフェニルスルホン異性体に対するものとして、4,4’−ジクロロジフェニルスルホンは87.3%であると決定された(表1参照)。琥珀色の有機層を濃縮して結晶化させたところ、純度99.9%の4,4’−ジクロロジフェニルスルホン69gが無色の針状晶として結晶化させた(未反応のクロロベンゼンスルホン酸の分を調整した収率で73%)。
実施例2:ホウ酸触媒および購入した4−クロロベンゼンスルホン酸を用いて4,4’−ジクロロジフェニルスルホンを調製するための改良された方法
実施例1のオートクレーブに、4−クロロベンゼンスルホン酸(テクニカルグレード、87.4重量%、0.47モル)104.1gとホウ酸1.5gを入れた。逆流調節装置を45psiに設定し、オートクレーブの内容物を180℃まで加熱した。この時点で、凝縮物が冷却器から滴下しはじめた。流量1.5mL/分でクロロベンゼンの添加を開始し、反応器の温度が240℃に達するまで(およそ30分間)加熱を継続した。クロロベンゼンの添加を合計10時間継続しつつ、同時に、冷却器を介して湿ったクロロベンゼンを除去した。オートクレーブの内容物を、ディーン・スターク管を取り付けて水280gを入れた丸底フラスコに移した。残りの65gのクロロベンゼンを水蒸気蒸留によって除去し、得られた灰色のスラリーを冷却して濾過した。濾液を脱水し、未反応の4−クロロベンゼンスルホン酸28.3gを得た。濾過後の灰色の固体を乾燥させたところ、4,4’−ジクロロジフェニルスルホン95.4gが異性体純度86.7%で得られた(未反応のクロロベンゼンスルホン酸の分を調整した収率で89%)。
実施例3:酸化第二鉄触媒を用いた4,4’−ジクロロジフェニルスルホンの調製
ホウ酸に代えて酸化第二鉄0.40gを使用し、クロロベンゼンの添加速度1.0mL/分、反応時間を7.4時間としたこと以外は、実施例2の手順と同様にした。未反応の4−クロロベンゼンスルホン酸28.3gが単離され、4,4’−ジクロロジフェニルスルホン82.3gが異性体純度88.6%で得られた(未反応のクロロベンゼンスルホン酸の分を調整した収率で88%)。
実施例4:酸化第二スズ触媒を用いた4,4’−ジクロロジフェニルスルホンの調製
ホウ酸に代えて酸化第二スズ3.66gを使用し、〆クロロベンゼンの添加速度1.0mL/分、反応時間を7.4時間としたこと以外は、実施例3の手順と同様にした。未反応の4−クロロベンゼンスルホン酸24.4gが単離され、4,4’−ジクロロジフェニルスルホン84.5gが異性体純度88.6%で得られた(未反応のクロロベンゼンスルホン酸の分を調整した収率で85%)。
実施例5:硫酸チタン触媒を用いた4,4’−ジクロロジフェニルスルホンの調製
ホウ酸に代えて硫酸チタン7.3gを使用し、クロロベンゼンの添加速度1.0mL/分、反応時間を7.4時間としたこと以外は、実施例3の手順と同様にした。未反応の4−クロロベンゼンスルホン酸27.4gが単離され、4,4’−ジクロロジフェニルスルホン87.5gが異性体純度86.4%で得られた(未反応のクロロベンゼンスルホン酸の分を調整した収率で89%)。
実施例6:ヨウ素触媒を用いた4,4’−ジクロロジフェニルスルホンの調製
ホウ酸に代えてヨウ素3.16gを使用し、クロロベンゼンの添加速度1.0mL/分、反応時間を12時間としたこと以外は、実施例3の手順と同様にした。未反応の4−クロロベンゼンスルホン酸27.6gが単離され、4,4’−ジクロロジフェニルスルホン91.8gが異性体純度86.7%で得られた(未反応のクロロベンゼンスルホン酸の分を調整した収率で87%)。
実施例7:4,4’−ジクロロジフェニルスルホンの調製
ホウ酸に代えてヨウ化リチウム4.0gを使用し、クロロベンゼンの添加速度1.0mL/分、反応時間を7.4時間としたこと以外は、実施例3の手順と同様にした。未反応の4−クロロベンゼンスルホン酸44.1gが単離され、4,4’−ジクロロジフェニルスルホン59.7gが異性体純度82.1%で得られた(未反応のクロロベンゼンスルホン酸の分を調整した収率で81%)。
実施例8:ホウ酸触媒(B400−07)を用いて4,4’−ジクロロジフェニルスルホンを調製するための改良された方法
モノクロロベンゼン100g、クロロベンゼンスルホン酸95.20g、ホウ酸1.5g(0.05当量)の溶液を、実施例1のオートクレーブに入れた。この溶液は、水7.27gを含有していた。逆流調節装置を45psiに設定し、オートクレーブの内容物を180℃まで加熱した。この時点で、凝縮物が冷却器から滴下しはじめた。流量1mL/分でクロロベンゼンの添加を開始して、クロロベンゼン454.40gが添加されるまでこれを続け、反応器の温度が240℃に達するまで加熱を継続した。クロロベンゼンの添加を継続しつつ、同時に、冷却器を介して湿ったクロロベンゼンを除去した。添加終了時、オートクレーブには、クロロベンゼン56.00g、4−クロロベンゼンスルホン酸35.68g、4,4’−ジクロロジフェニルスルホン82.30gならびに、関連の異性体が入っていた(未反応のクロロベンゼンスルホン酸の分を調整した収率で58.0%)。オートクレーブの内容物を、ディーン・スターク管を取り付けた丸底フラスコに移した。次に、残りのクロロベンゼンを混合物から水蒸気蒸留しながら、水をフラスコに戻した。得られた灰色のスラリーを60℃まで冷却し、トルエンで2回抽出した。合わせた有機層を水で1回洗浄し、合わせた水性抽出物を脱水したところ、未反応の4−クロロベンゼンスルホン酸35.68gが得られた。トルエン抽出物の分析により、各々他のジクロロジフェニルスルホン異性体と比較して、4,4’−ジクロロジフェニルスルホン85.8%、2,4’−ジクロロジフェニルスルホン8.5%、3,4’−ジクロロジフェニルスルホン5.7%であると決定された。
実施例9:酸化第二鉄触媒(B400−08)を用いて4,4’−ジクロロジフェニルスルホンを調製するための調製するための改良された方法
モノクロロベンゼン100g、クロロベンゼンスルホン酸95.75g、Fe(0.025当量)0.40gの溶液を、実施例1のオートクレーブに入れた。この溶液は、水7.32gを含有していた。逆流調節装置を45psiに設定し、オートクレーブの内容物を180℃まで加熱した。この時点で、凝縮物が冷却器から滴下しはじめた。流量1mL/分でクロロベンゼンの添加を開始して、クロロベンゼン452.20gが添加されるまでこれを続け、反応器の温度が240℃に達するまで加熱を継続した。クロロベンゼンの添加を継続しつつ、同時に、冷却器を介して湿ったクロロベンゼンを除去した。添加終了時、オートクレーブには、クロロベンゼン39.00g、4−クロロベンゼンスルホン酸36.17g、4,4’−ジクロロジフェニルスルホン82.29gならびに、関連の異性体が入っていた(未反応のクロロベンゼンスルホン酸の分を調整した収率で57.6%)。オートクレーブの内容物を、ディーン・スターク管を取り付けた丸底フラスコに移した。次に、残りのクロロベンゼンを混合物から水蒸気蒸留しながら、水をフラスコに戻した。得られた灰色のスラリーを60℃まで冷却し、トルエンで2回抽出した。合わせた有機層を水で1回洗浄し、合わせた水性抽出物を脱水したところ、未反応の4−クロロベンゼンスルホン酸36.17gが得られた。トルエン抽出物の分析により、各々他のジクロロジフェニルスルホン異性体と比較して、4,4’−ジクロロジフェニルスルホン88.6%、2,4’−ジクロロジフェニルスルホン8.0%、3,4’−ジクロロジフェニルスルホン3.4%であると決定された。
実施例10:酸化第二スズ触媒(B400−24)を用いて4,4’−ジクロロジフェニルスルホンを調製するための改良された方法
モノクロロベンゼン100g、クロロベンゼンスルホン酸95.80g、SnO(0.05当量)3.66gの溶液を、実施例1のオートクレーブに入れた。この溶液は、水7.32gを含有していた。逆流調節装置を45psiに設定し、オートクレーブの内容物を180℃まで加熱した。この時点で、凝縮物が冷却器から滴下しはじめた。流量1mL/分でクロロベンゼンの添加を開始して、クロロベンゼン482.20gが添加されるまでこれを続け、反応器の温度が240℃に達するまで加熱を継続した。クロロベンゼンの添加を継続しつつ、同時に、冷却器を介して湿ったクロロベンゼンを除去した。添加終了時、オートクレーブには、クロロベンゼン47.00g、4−クロロベンゼンスルホン酸34.45g、4,4’−ジクロロジフェニルスルホン84.50gならびに、関連の異性体が入っていた(未反応のクロロベンゼンスルホン酸の分を調整した収率で59.2%)。オートクレーブの内容物を、ディーン・スターク管を取り付けた丸底フラスコに移した。次に、残りのクロロベンゼンを混合物から水蒸気蒸留しながら、水をフラスコに戻した。得られた灰色のスラリーを60℃まで冷却し、トルエンで2回抽出した。合わせた有機層を水で1回洗浄し、合わせた水性抽出物を脱水したところ、未反応の4−クロロベンゼンスルホン酸34.45gが得られた。トルエン抽出物の分析により、各々他のジクロロジフェニルスルホン異性体と比較して、4,4’−ジクロロジフェニルスルホン86.0%、2,4’−ジクロロジフェニルスルホン10.0%、3,4’−ジクロロジフェニルスルホン4.0%であると決定された。
実施例11:硫酸チタン触媒(B400−29)を用いて4,4’−ジクロロジフェニルスルホンを調製するための改良された方法
モノクロロベンゼン100g、クロロベンゼンスルホン酸95.80g、TiSOを1.5gの溶液を、実施例1のオートクレーブに入れた。この溶液は、水7.32gを含有していた。逆流調節装置を45psiに設定し、オートクレーブの内容物を180℃まで加熱した。この時点で、凝縮物が冷却器から滴下しはじめた。流量1mL/分でクロロベンゼンの添加を開始して、クロロベンゼン473.70gが添加されるまでこれを続け、反応器の温度が240℃に達するまで加熱を継続した。クロロベンゼンの添加を継続しつつ、同時に、冷却器を介して湿ったクロロベンゼンを除去した。添加終了時、オートクレーブには、クロロベンゼン49.00g、4−クロロベンゼンスルホン酸37.36g、4,4’−ジクロロジフェニルスルホン87.50gならびに、関連の異性体が入っていた(未反応のクロロベンゼンスルホン酸の分を調整した収率で61.3%)。オートクレーブの内容物を、ディーン・スターク管を取り付けた丸底フラスコに移した。次に、残りのクロロベンゼンを混合物から水蒸気蒸留しながら、水をフラスコに戻した。得られた灰色のスラリーを60℃まで冷却し、トルエンで2回抽出した。合わせた有機層を水で1回洗浄し、合わせた水性抽出物を脱水したところ、未反応の4−クロロベンゼンスルホン酸37.36gが得られた。トルエン抽出物の分析により、各々他のジクロロジフェニルスルホン異性体と比較して、4,4’−ジクロロジフェニルスルホン86.4%、2,4’−ジクロロジフェニルスルホン8.4%、3,4’−ジクロロジフェニルスルホン5.2%であると決定された。
実施例12:ヨウ素触媒(B400−36)を用いて4,4’−ジクロロジフェニルスルホンを調製するための改良された方法
モノクロロベンゼン74.77g、クロロベンゼンスルホン酸89.41g、Iを1.5gの溶液を、実施例1のオートクレーブに入れた。この溶液は、水0.1gとジクロロジフェニルスルホン7.74gを含有していた。逆流調節装置を45psiに設定し、オートクレーブの内容物を180℃まで加熱した。この時点で、凝縮物が冷却器から滴下しはじめた。流量1mL/分でクロロベンゼンの添加を開始して、クロロベンゼン760.84gが添加されるまでこれを続け、反応器の温度が240℃に達するまで加熱を継続した。クロロベンゼンの添加を継続しつつ、同時に、冷却器を介して湿ったクロロベンゼンを除去した。添加終了時、オートクレーブには、クロロベンゼン48.00g、4−クロロベンゼンスルホン酸28.90g、4,4’−ジクロロジフェニルスルホン91.80gならびに、関連の異性体が入っていた(未反応のクロロベンゼンスルホン酸の分を調整した収率で68.9%)。オートクレーブの内容物を、ディーン・スターク管を取り付けた丸底フラスコに移した。次に、残りのクロロベンゼンを混合物から水蒸気蒸留しながら、水をフラスコに戻した。得られた灰色のスラリーを60℃まで冷却し、トルエンで2回抽出した。合わせた有機層を水で1回洗浄し、合わせた水性抽出物を脱水したところ、未反応の4−クロロベンゼンスルホン酸28.90gが得られた。トルエン抽出物の分析により、各々他のジクロロジフェニルスルホン異性体と比較して、4,4’−ジクロロジフェニルスルホン86.7%、2,4’−ジクロロジフェニルスルホン8.2%、3,4’−ジクロロジフェニルスルホン5.1%であると決定された。
実施例13:ヨウ化リチウム触媒(B400−40)を用いて4,4’−ジクロロジフェニルスルホンを調製するための改良された方法
モノクロロベンゼン105.00g、クロロベンゼンスルホン酸96.70g、LiI1.5gの溶液を、実施例1のオートクレーブに入れた。この溶液は、水7.39gを含有していた。逆流調節装置を45psiに設定し、オートクレーブの内容物を180℃まで加熱した。この時点で、凝縮物が冷却器から滴下しはじめた。流量1mL/分でクロロベンゼンの添加を開始して、クロロベンゼン487.70gが添加されるまでこれを続け、応器の温度が240℃に達するまで加熱を継続した。クロロベンゼンの添加を継続しつつ、同時に、冷却器を介して湿ったクロロベンゼンを除去した。添加終了時、オートクレーブには、クロロベンゼン35.00g、4−クロロベンゼンスルホン酸44.10g、4,4’−ジクロロジフェニルスルホン59.73gならびに、関連の異性体が入っていた(未反応のクロロベンゼンスルホン酸の分を調整した収率で41.4%)。オートクレーブの内容物を、ディーン・スターク管を取り付けた丸底フラスコに移した。次に、残りのクロロベンゼンを混合物から水蒸気蒸留しながら、水をフラスコに戻した。得られた灰色のスラリーを60℃まで冷却し、トルエンで2回抽出した。合わせた有機層を水で1回洗浄し、合わせた水性抽出物を脱水したところ、未反応の4−クロロベンゼンスルホン酸44.10gが得られた。トルエン抽出物の分析により、各々他のジクロロジフェニルスルホン異性体と比較して、4,4’−ジクロロジフェニルスルホン82.1%、2,4’−ジクロロジフェニルスルホン10.1%、3,4’−ジクロロジフェニルスルホン7.8%であると決定された。
実施例14:触媒の調査
以下の一般的な手順を用いて、DCDPSの生成について一連の触媒を調査した。
反応容器にクロロベンゼン113gと触媒(触媒とその使用量については表2を参照のこと)を入れた。SOの緩やかな流れを、総量で41.5gのSOが反応容器に供給されるまで反応容器に導入した。この間に、反応容器の内部温度は最大75℃に達した。混合物を200℃まで加熱し、溶媒の大部分を留去した。この熱い残留物を、4時間にわたってシリンジポンプを用いてクロロベンゼン275gで処理しながら、過剰なクロロベンゼンと形成される水を強制的に除去した。4時間の終わりに、反応物を水(125mL)でクエンチし、得られた固体を濾過し、3〜4時間風乾して粗DCDPSを灰色の固体として得た。
Figure 2021042221

Claims (82)


  1. Figure 2021042221
    (式中、XおよびXは独立に、H、ハロゲン、C〜Cアルキル、C〜C10アリール、−C〜Cアルキル−(C〜C10アリール)、−OC〜Cアルキルまたは−OC〜C10アリールであり、C〜Cアルキル、C〜C10アリール、−C〜Cアルキル−(C〜C10アリール)、−OC〜Cアルキルまたは−OC〜C10アリールにおける各々の水素原子は独立に、ハロゲン、C〜Cアルキル、C〜C10アリール、−C〜Cアルキル−(C〜C10アリール)、−OC〜Cアルキルまたは−OC〜C10アリールで任意に置換されていてもよい)で表されるスルホンを調製するための方法であって、
    a.式
    Figure 2021042221
    で表されるスルホン酸と、式
    Figure 2021042221
    で表されるアリール化合物とを、触媒の存在下で接触させることを含むカップリング工程を含み、生成する水は、カップリング工程において除去される、スルホンの調製方法。
  2. およびXはClである、請求項1に記載の方法。
  3. 前記カップリング工程の粗収率は、前記スルホン酸に対する前記スルホンの割合で決定して、約50%〜約100%、約55%〜約100%、約60%〜約100%、約65%〜約100%、約70%〜約100%、約75%〜約100%、約80%〜約100%、約85%〜約100%、約50%〜約95%、約55%〜約95%、約60%〜約95%、約65%〜約95%、約70%〜約95%、約75%〜約95%、約80%〜約95%、約85%〜約95%、約50%〜約90%、約55%〜約90%、約60%〜約90%、約65%〜約90%、約70%〜約90%、約75%〜約90%、約80%〜約90%または約85%〜約90%である、請求項1または2に記載の方法。
  4. 前記カップリング工程の粗収率は、前記スルホン酸に対する前記スルホンの割合で決定して、約60%〜約95%である、請求項1から3のいずれか1項に記載の方法。
  5. 前記カップリング工程の粗収率は、前記スルホン酸に対する前記スルホンの割合で決定して、約82%〜約93%である、請求項1から4のいずれか1項に記載の方法。
  6. 前記カップリング工程の精製収率は、前記スルホン酸に対する前記スルホンの割合で決定して、約40%〜約95%、約45%〜約95%、約50%〜約95%、約55%〜約95%、約60%〜約95%、約65%〜約95%、約70%〜約95%、約75%〜約95%、約80%〜約95%、40%〜約90%、約45%〜約90%、約50%〜約90%、約55%〜約90%、約60%〜約90%、約65%〜約90%、約70%〜約90%、約75%〜約90%、約80%〜約90%、40%〜約85%、約45%〜約85%、約50%〜約85%、約55%〜約85%、約60%〜約85%、約65%〜約85%、約70%〜約85%、約75%〜約85%、または約80%〜約85%である、請求項1から5のいずれか1項に記載の方法。
  7. 前記カップリング工程の精製収率は、前記スルホン酸に対する前記スルホンの割合で決定して、約50%〜約85%である、請求項1から6のいずれか1項に記載の方法。
  8. 前記カップリング工程の精製収率は、前記スルホン酸に対する前記スルホンの割合で決定して、約70%〜約75%である、請求項1から7のいずれか1項に記載の方法。
  9. 前記カップリング工程は、無水条件下で開始される、請求項1から8のいずれか1項に記載の方法。
  10. 前記カップリング工程は、水が約10重量%未満、水が約5重量%未満、水が約1重量%未満または水が約0.5重量%未満の状態で開始される、請求項1から9のいずれか1項に記載の方法。
  11. 前記カップリング工程は、水が約10重量%未満の状態で開始される、請求項1から10のいずれか1項に記載の方法。
  12. 前記生成する水は、前記カップリング工程において連続して除去される、請求項1から11のいずれか1項に記載の方法。
  13. 前記生成する水は、蒸留によって除去される、請求項1から12のいずれか1項に記載の方法。
  14. 前記カップリング工程全体での水の濃度は、約10重量%未満、約5重量%未満、約1重量%未満または約0.5重量%未満である、請求項1から13のいずれか1項に記載の方法。
  15. 前記カップリング工程全体での水の濃度は、約10重量%未満である、請求項1から14のいずれか1項に記載の方法。
  16. 前記カップリング工程は、脱水試薬なしで行われる、請求項1から15のいずれか1項に記載の方法。
  17. 前記カップリング工程の全成分に対する前記触媒の濃度は、前記カップリング工程の開始時に、約0.1重量%〜約10重量%、約0.1重量%〜約5重量%、約0.5重量%〜約2重量%、約0.7重量%〜約1.1重量%または約0.9重量%である、請求項1から16のいずれか1項に記載の方法。
  18. 前記カップリング工程の全成分に対する前記触媒の濃度は、前記カップリング工程の開始時に、約0.1重量%〜約5重量%である、請求項1から17のいずれか1項に記載の方法。
  19. 前記カップリング工程の全成分に対する前記触媒の濃度は、前記カップリング工程の開始時に、約0.7重量%〜約1.1重量%である、請求項1から18のいずれか1項に記載の方法。
  20. 前記スルホン酸に対する前記触媒の量は、前記カップリング工程の開始時に、約0.01当量〜約1当量、約0.01当量〜約0.5当量、約0.01当量〜約0.1当量、約0.01〜約0.075当量、約0.02当量〜約1当量、約0.02当量〜約0.5当量、約0.02当量〜約0.1当量、約0.02〜約0.075当量、約0.025当量または約0.05当量である、請求項1から19のいずれか1項に記載の方法。
  21. 前記スルホン酸に対する前記触媒の濃度は、前記カップリング工程の開始時に、約0.01当量〜約0.1当量である、請求項1から20のいずれか1項に記載の方法。
  22. 前記スルホン酸に対する前記触媒の濃度は、前記カップリング工程の開始時に、約0.025当量〜約0.05当量である、請求項1から21のいずれか1項に記載の方法。
  23. 前記触媒は、ホウ素触媒、鉄触媒、亜鉛触媒、スズ触媒、チタン触媒、ジルコニウム触媒、ビスマス触媒、アンチモン触媒、シリカ触媒、金属硫酸塩触媒、金属酸化物触媒、スルホン酸触媒、ヨウ素触媒またはこれらの組み合わせからなる群から選択される、請求項1から22のいずれか1項に記載の方法。
  24. 前記触媒は、酸化アルミニウム、酸化アンチモン、酸化ジルコニウム、酸化ビスマス、無水ホウ酸、ホウ酸、酸化第二鉄、酸化第二スズ、酸化チタン、硫酸チタン、酸化亜鉛、ヨウ素、ヨウ化リチウム、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、シリカおよびジメチルスルフェートからなる群から選択される、請求項1から23のいずれか1項に記載の方法。
  25. 前記触媒は酸化アルミニウムである、請求項1から24のいずれか1項に記載の方法。
  26. 前記カップリング工程によって、式
    Figure 2021042221
    (式中、XおよびXは独立に、H、ハロゲン、C〜Cアルキル、C〜C10アリール、−C〜Cアルキル−(C〜C10アリール)、−OC〜Cアルキルまたは−OC〜C10アリールであり、C〜Cアルキル、C〜C10アリール、−C〜Cアルキル−(C〜C10アリール)、−OC〜Cアルキルまたは−OC〜C10アリールにおける各々の水素原子は独立に、ハロゲン、C〜Cアルキル、C〜C10アリール、−C〜Cアルキル−(C〜C10アリール)、−OC〜Cアルキルまたは−OC〜C10アリールで任意に置換されていてもよい)で表される2,4’異性体は、全スルホン生成物に対する2,4’異性体の割合で決定して、20%未満の量しか生じない、請求項1または3〜25のいずれか1項に記載の方法。
  27. 前記カップリング工程によって、式
    Figure 2021042221
    (式中、XおよびXは独立に、H、ハロゲン、C〜Cアルキル、C〜C10アリール、−C〜Cアルキル−(C〜C10アリール)、−OC〜Cアルキルまたは−OC〜C10アリールであり、C〜Cアルキル、C〜C10アリール、−C〜Cアルキル−(C〜C10アリール)、−OC〜Cアルキルまたは−OC〜C10アリールにおける各々の水素原子は独立に、ハロゲン、C〜Cアルキル、C〜C10アリール、−C〜Cアルキル−(C〜C10アリール)、−OC〜Cアルキルまたは−OC〜C10アリールで任意に置換されていてもよい)で表される2,4’異性体は、全スルホン生成物に対する2,4’異性体の割合で決定して10%未満の量しか生じない、請求項1または3〜26のいずれか1項に記載の方法。
  28. 前記カップリング工程によって、式
    Figure 2021042221
    (式中、XおよびXは独立に、H、ハロゲン、C〜Cアルキル、C〜C10アリール、−C〜Cアルキル−(C〜C10アリール)、−OC〜Cアルキルまたは−OC〜C10アリールであり、C〜Cアルキル、C〜C10アリール、−C〜Cアルキル−(C〜C10アリール)、−OC〜Cアルキルまたは−OC〜C10アリールにおける各々の水素原子は独立に、ハロゲン、C〜Cアルキル、C〜C10アリール、−C〜Cアルキル−(C〜C10アリール)、−OC〜Cアルキルまたは−OC〜C10アリールで任意に置換されていてもよい)で表される3,4’異性体は、全スルホン生成物に対する3,4’異性体の割合で決定して20%未満の量しか生じない、請求項1または3〜27のいずれか1項に記載の方法。
  29. 前記カップリング工程によって、式
    Figure 2021042221
    (式中、XおよびXは独立に、H、ハロゲン、C〜Cアルキル、C〜C10アリール、−C〜Cアルキル−(C〜C10アリール)、−OC〜Cアルキルまたは−OC〜C10アリールであり、C〜Cアルキル、C〜C10アリール、−C〜Cアルキル−(C〜C10アリール)、−OC〜Cアルキルまたは−OC〜C10アリールにおける各々の水素原子は独立に、ハロゲン、C〜Cアルキル、C〜C10アリール、−C〜Cアルキル−(C〜C10アリール)、−OC〜Cアルキルまたは−OC〜C10アリールで任意に置換されていてもよい)で表される3,4’異性体は、全スルホン生成物に対する3,4’異性体の割合で決定して10%未満の量しか生じない、請求項1または3〜28のいずれか1項に記載の方法。
  30. およびXはClである、請求項26から29のいずれか1項に記載の方法。
  31. 前記アリール化合物は、前記カップリング工程において連続して前記スルホン酸に添加される、請求項1から30のいずれか1項に記載の方法。
  32. 前記アリール化合物は、約0.5時間〜約20時間、約1時間〜約20時間、約2時間〜約20時間、約7時間〜約20時間、約9時間〜約20時間、約10時間〜約20時間、約0.5時間〜約15時間、約1時間〜約15時間、約2時間〜約15時間、約7時間〜約15時間、約9時間〜約15時間、約10時間〜約15時間、約0.5時間〜約13時間、約1時間〜約13時間、約2時間〜約13時間、約7時間〜約13時間、約9時間〜約13時間、約10時間〜約13時間、約0.5時間〜約12時間、約1時間〜約12時間、約2時間〜約12時間、約7時間〜約12時間、約9時間〜約12時間、約10時間〜約12時間または約10時間かけて、連続して前記スルホン酸に添加される、請求項1から31のいずれか1項に記載の方法。
  33. 前記アリール化合物は、約7時間〜約13時間かけて連続して前記スルホン酸に添加される、請求項1から32のいずれか1項に記載の方法。
  34. 前記アリール化合物は、約9時間〜約12時間かけて連続して前記スルホン酸に添加される、請求項1から33のいずれか1項に記載の方法。
  35. 前記アリール化合物は、約10時間かけて連続して前記スルホン酸に添加される、請求項1から34のいずれか1項に記載の方法。
  36. 前記アリール化合物は、水が前記スルホン酸から連続して除去されるのと同時に連続して前記スルホン酸に添加される、請求項1から35のいずれか1項に記載の方法。
  37. 前記アリール化合物は、クロロベンゼンが前記スルホン酸から連続して除去されるのと同時に連続して前記スルホン酸に添加される、請求項1から36のいずれか1項に記載の方法。
  38. 前記アリール化合物は、約0.1mL/分〜約10mL/分、約0.5mL/分〜約5mL/分、約0.5mL/分〜約3mL/分または約1.5mL/分の流量で添加される、請求項1から37のいずれか1項に記載の方法。
  39. 前記アリール化合物は、約1.5mL/分の流量で添加される、請求項1から38のいずれか1項に記載の方法。
  40. 前記カップリング工程は、約150℃〜約280℃、約160℃〜約280℃、約170℃〜約280℃、約180℃〜約280℃、約150℃〜約260℃、約160℃〜約260℃、約170℃〜約260℃、約180℃〜約260℃、約150℃〜約240℃、約160℃〜約240℃、約170℃〜約240℃または約180℃〜約240℃のカップリング温度で行われる、請求項1から39のいずれか1項に記載の方法。
  41. 前記カップリング工程は、約180℃〜約240℃のカップリング温度で行われる、請求項1から40のいずれか1項に記載の方法。
  42. 前記カップリング工程の間に、前記カップリング温度を高めることをさらに含む、請求項40または41に記載の方法。
  43. 前記カップリング工程の間に、前記カップリング温度を約180℃から約240℃に高めることをさらに含む、請求項40から42のいずれか1項に記載の方法。
  44. 前記カップリング温度は、約5分間〜約120分間、約15分間〜約120分間、約30分間〜約120分間、約45分間〜約120分間、約60分間〜約120分間、約90分間〜約120分間、約5分間〜約90分間、約15分間〜約90分間、約30分間〜約90分間、約45分間〜約90分間、約60分間〜約90分間、約5分間〜約60分間、約15分間〜約60分間、約30分間〜約60分間、約45分間〜約60分間、約5分間〜約45分間、約15分間〜約45分間、約30分間〜約45分間、約5分間〜約30分間、約15分間〜約30分間または約5分間〜約15分間かけて連続して高められる、請求項42または43に記載の方法。
  45. 前記カップリング温度は、約15分間〜約45分間かけて連続して高められる、請求項42から44のいずれか1項に記載の方法。
  46. 前記カップリング温度は、約30分間かけて連続して高められる、請求項42から45のいずれか1項に記載の方法。
  47. 前記アリール化合物は、前記カップリング温度が高められるのと同時に連続して添加される、請求項42から46のいずれか1項に記載の方法。
  48. 前記アリール化合物は、前記カップリング工程の溶媒である、請求項1から47のいずれか1項に記載の方法。
  49. 前記カップリング工程は、約15psi〜約100psi、約30psi〜約100psi、約40psi〜約100psi、約15psi〜約75psi、約30psi〜約75psi、約40psi〜約75psi、約15psi〜約60psi、約30psi〜約60psi、約40psi〜約60psi、約15psi〜約50psi、約30psi〜約50psi、約40psi〜約50psiまたは約45psiの圧力で行われる、請求項1から48のいずれか1項に記載の方法。
  50. 前記カップリング工程は、約30psi〜約60psiの圧力で行われる、請求項1から49のいずれか1項に記載の方法。
  51. 前記カップリング工程は、約45psiの圧力で行われる、請求項1から50のいずれか1項に記載の方法。
  52. 前記カップリング工程の後に、前記スルホンから前記アリール化合物を除去することをさらに含む、請求項1から51のいずれか1項に記載の方法。
  53. 前記カップリング工程の後に、蒸留によって前記スルホンから前記アリール化合物を除去することをさらに含む、請求項1から52のいずれか1項に記載の方法。
  54. 前記スルホンを約50℃〜約70℃のクエンチ温度まで冷却することをさらに含む、請求項1から53のいずれか1項に記載の方法。
  55. 前記スルホンを約60℃のクエンチ温度まで冷却することをさらに含む、請求項1から54のいずれか1項に記載の方法。
  56. 前記カップリング工程の後に、前記スルホンを抽出することをさらに含む、請求項1から55のいずれか1項に記載の方法。
  57. 前記カップリング工程の後に、前記スルホンを芳香族溶媒で抽出することをさらに含む、請求項1から56のいずれか1項に記載の方法。
  58. 前記カップリング工程の後に、前記スルホンをトルエンで抽出することをさらに含む、請求項1から57のいずれか1項に記載の方法。
  59. 前記抽出する工程は、前記スルホンから前記アリール化合物を除去した後に行われる、請求項56から58のいずれか1項に記載の方法。
  60. 前記抽出する工程によって、前記スルホンを含む琥珀色の溶液が生じる、請求項56から59のいずれか1項に記載の方法。
  61. 前記スルホンを水で洗浄することをさらに含む、請求項1から60のいずれか1項に記載の方法。
  62. 前記洗浄する工程は、前記スルホンを抽出した後に行われる、請求項61に記載の方法。
  63. 前記洗浄する工程によって、前記スルホン酸を実質的に含まない前記スルホンが生じる、請求項61または62に記載の方法。
  64. 前記スルホンを結晶化させることをさらに含む、請求項1から63のいずれか1項に記載の方法。
  65. 前記結晶化させる工程は、前記スルホンの洗浄および抽出の後に行われる、請求項64に記載の方法。
  66. 前記結晶化させる工程によって、純度が約95%より高い前記スルホンが生じる、請求項64または65に記載の方法。
  67. 前記結晶化させる工程によって、純度が約99%より高い前記スルホンが生じる、請求項64から66のいずれか1項に記載の方法。
  68. 前記結晶化させる工程によって、純度が約99.9%より高い前記スルホンが生じる、請求項64から67のいずれか1項に記載の方法。

  69. Figure 2021042221
    (式中、Xは、H、ハロゲン、C〜Cアルキル、C〜C10アリール、−C〜Cアルキル−(C〜C10アリール)、−OC〜Cアルキルまたは−OC〜C10アリールであり、C〜Cアルキル、C〜C10アリール、−C〜Cアルキル−(C〜C10アリール)、−OC〜Cアルキルまたは−OC〜C10アリールにおける各々の水素原子は独立に、ハロゲン、C〜Cアルキル、C〜C10アリール、−C〜Cアルキル−(C〜C10アリール)、−OC〜Cアルキルまたは−OC〜C10アリールで任意に置換されていてもよい)で表される反応物と、三酸化硫黄とを接触させ、スルホン酸を含む第1の生成物混合物を準備することを含む第1の工程をさらに含む、請求項1から68のいずれか1項に記載の方法。
  70. はClである、請求項69に記載の方法。
  71. 前記第1の工程は、無水条件下で行われる、請求項69または70に記載の方法。
  72. 前記第1の生成物混合物における水の濃度は、約10重量%未満、約5重量%未満、約1重量%未満または約0.5重量%未満である、請求項69から71のいずれか1項に記載の方法。
  73. 前記第1の生成物混合物における水の濃度は、約10重量%未満である、請求項69から72のいずれか1項に記載の方法。
  74. 前記第1の工程は、第1の反応容器において行われ、前記第1の生成物混合物は、前記カップリング工程に使用するために前記第1の工程の後で第2の反応容器に移される、請求項69から73のいずれか1項に記載の方法。
  75. 前記第1の工程は、約30℃〜約100℃、約40℃〜約100℃、約50℃〜約100℃、約60℃〜約100℃、約30℃〜約90℃、約40℃〜約90℃、約50℃〜約90℃、約60℃〜約90℃、約30℃〜約80℃、約40℃〜約80℃、約50℃〜約80℃、約60℃〜約80℃、約30℃〜約75℃、約40℃〜約75℃、約50℃〜約75℃または約60℃〜約75℃のスルホン化温度で行われる、請求項69から74のいずれか1項に記載の方法。
  76. 前記第1の工程は、外からの冷却なしで行われる、請求項69から75のいずれか1項に記載の方法。
  77. 前記第1の生成物混合物は、スルホン酸、ハロゲン化アリール、及びスルホンを含む、請求項69から76のいずれか1項に記載の方法。
  78. 前記第1の生成物混合物は、前記スルホン酸を約53%、前記ハロゲン化アリールを約6%、前記スルホンを約41%含む、請求項69から77のいずれか1項に記載の方法。
  79. 前記カップリング工程は、前記第1の生成物混合物に前記触媒を添加することを含む、請求項69から78のいずれか1項に記載の方法。
  80. 前記カップリング工程は、前記第1の生成物混合物にホウ酸を添加することを含む、請求項69から79のいずれか1項に記載の方法。
  81. 前記第1の工程および前記カップリング工程は、バッチ処理である、請求項69から80のいずれか1項に記載の方法。
  82. 前記第1の工程はバッチ処理であり、前記カップリング工程は連続処理である、請求項69から80のいずれか1項に記載の方法。
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Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CA3020328A1 (en) * 2016-04-06 2017-10-12 Emerge Print Management, Llc Apparatus and method for metering and monitoring printer related data on non-networked printers
EP3441393B1 (en) * 2017-08-07 2020-03-18 Rhodia Operations New cycloadduct precursors of dihalodiphenylsulfones and preparations thereof
WO2021037797A1 (en) * 2019-08-27 2021-03-04 Basf Se (c)crystal composition (cc) comprising 4,4'-dichlorodiphenylsulfone crystals (c)
JP2023503250A (ja) 2019-11-13 2023-01-27 ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア 不純物として4,4’-ジクロロジフェニルスルホキシドおよび/または4,4’-ジクロロジフェニルスルホンを含有する水を処理する方法

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5785363A (en) * 1980-11-18 1982-05-28 Mitsui Toatsu Chem Inc Preparation of diaryl sulfone
JPS6368556A (ja) * 1986-09-09 1988-03-28 New Japan Chem Co Ltd ジアリ−ルスルホン類の製造方法
US4937387A (en) * 1986-09-05 1990-06-26 Amoco Corporation Processes for preparing diaryl sulfones
US4983773A (en) * 1988-10-19 1991-01-08 Basf Aktiengesellschaft Preparation of bis-(4-chlorophenyl) sulfone
JPH04221336A (ja) * 1990-04-04 1992-08-11 Imperial Chem Ind Plc <Ici> 芳香族化合物の製造方法
JPH1017542A (ja) * 1996-06-28 1998-01-20 New Japan Chem Co Ltd ジアリールスルホン類の製造方法
JP2015500312A (ja) * 2011-12-15 2015-01-05 ソルベイ スペシャルティ ポリマーズ ユーエスエー, エルエルシー ジハロジアリールスルホンの異性体の混合物からハロアリール化合物を製造する方法

Family Cites Families (31)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2971985A (en) 1958-07-05 1961-02-14 Roussel Uclaf Process for the preparation of 4, 4'-dichlorodiphenylsulfone
GB895464A (en) * 1958-07-05 1962-05-02 U C L A F Improvements in or relating to sulphones
US3309409A (en) 1964-04-10 1967-03-14 Stauffer Chemical Co Purification of acidic chlorophenylsulfones
US3355497A (en) 1965-02-01 1967-11-28 Plains Chemical Dev Co Manufacture of 4, 4'-dichlorodiphenyl sulfone
CH497396A (de) 1968-11-06 1970-10-15 Inventa Ag Verfahren zum Reinigen von Halogendiphenylsulfonen
US3855312A (en) 1970-02-06 1974-12-17 Ici Ltd Production of di-4-chlorophenyl sulphone
JPS5182237A (en) 1975-01-16 1976-07-19 Nippon Soda Co 4*4** jikurofuenirusurupponnoseizojiniokeru jimechiruryusannokaishuhoho
JPS5188938A (en) 1975-01-31 1976-08-04 Kojundo 4*4** jikurorujifuenirusurupponnobunrihoho
US4778932A (en) 1986-07-16 1988-10-18 New Japan Chemical Co., Ltd. Process for preparing diarylsulfones
DE3704932A1 (de) 1987-02-17 1988-09-01 Basf Ag Verfahren zur herstellung von 4,4'-dichlordiphenylsulfon
US4822916A (en) * 1987-09-21 1989-04-18 Akzo America Inc. Preparation of diaryl sulfones
US4876390A (en) 1988-08-19 1989-10-24 Uop Process for separating dichlorodiphenylsulfone isomers
DE3902894A1 (de) 1989-02-01 1990-08-02 Basf Ag Verfahren zur herstellung von bis-(4-chlorphenyl)-sulfon
DE3902890A1 (de) 1989-02-01 1990-08-02 Basf Ag Verfahren zur herstellung von bis-(4-chlorphenyl)-sulfon
JPH06116231A (ja) * 1992-10-06 1994-04-26 Ube Ind Ltd 4,4’−ジクロロジフェニルスルホンの精製法
JPH09143150A (ja) 1995-11-28 1997-06-03 Tokuyama Corp 芳香族スルホンの製造方法
JPH09157246A (ja) 1995-12-13 1997-06-17 Tokuyama Corp 4,4’−ジクロロジフェニルスルホンの単離方法
JPH09165366A (ja) 1995-12-15 1997-06-24 Tokuyama Corp 芳香族スルホンの製造方法
JP3188173B2 (ja) 1996-01-10 2001-07-16 株式会社トクヤマ 芳香族スルホンの製造方法
RO113981B1 (ro) 1998-01-30 1998-12-30 Inst Cercetari Chim Procedeu de obținere a 4,4' -diclor
CN1623982A (zh) 2003-12-02 2005-06-08 马炳荣 4,4’-二氯二苯砜的制备方法
JP4221336B2 (ja) 2004-06-14 2009-02-12 Nec液晶テクノロジー株式会社 液晶表示装置の製造方法
GB0921069D0 (en) 2009-12-01 2010-01-13 Bandodkar Hemant R Process for the production of a sulfone polymer
CN102791679A (zh) 2010-03-05 2012-11-21 巴斯夫欧洲公司 制备4-氯苯磺酸和4,4’-二氯二苯砜的方法
EP2383256A1 (de) 2010-04-22 2011-11-02 Basf Se Verfahren zur Herstellung von 4,4'-Dichlordiphenylsulfon
EP2383257A1 (de) 2010-04-22 2011-11-02 Basf Se Verfahren zur Herstellung von 4,4'-Dichlordiphenylsulfon
US20110263903A1 (en) 2010-04-22 2011-10-27 Basf Se Process for preparing 4,4'-dichlorodiphenyl sulfone
US20110263902A1 (en) 2010-04-22 2011-10-27 Basf Se Process for preparing 4,4'-dichlorodiphenyl sulfone
EP2699542B1 (en) * 2011-04-18 2016-10-12 Solvay Specialty Polymers USA, LLC. Process for the manufacture of dihalodiphenylsulfones
CN102351759A (zh) 2011-08-25 2012-02-15 吴江市北厍盛源纺织品助剂厂 改进的制备4.4-二氯二苯砜的三氧化硫方法
US9120717B2 (en) 2012-04-12 2015-09-01 Hemant Ratanakar Bandodkar Process for the conversion of isomeric mixture of dichlorodiphenyl sulfones to chlorobenzene

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5785363A (en) * 1980-11-18 1982-05-28 Mitsui Toatsu Chem Inc Preparation of diaryl sulfone
US4937387A (en) * 1986-09-05 1990-06-26 Amoco Corporation Processes for preparing diaryl sulfones
JPS6368556A (ja) * 1986-09-09 1988-03-28 New Japan Chem Co Ltd ジアリ−ルスルホン類の製造方法
US4983773A (en) * 1988-10-19 1991-01-08 Basf Aktiengesellschaft Preparation of bis-(4-chlorophenyl) sulfone
JPH04221336A (ja) * 1990-04-04 1992-08-11 Imperial Chem Ind Plc <Ici> 芳香族化合物の製造方法
JPH1017542A (ja) * 1996-06-28 1998-01-20 New Japan Chem Co Ltd ジアリールスルホン類の製造方法
JP2015500312A (ja) * 2011-12-15 2015-01-05 ソルベイ スペシャルティ ポリマーズ ユーエスエー, エルエルシー ジハロジアリールスルホンの異性体の混合物からハロアリール化合物を製造する方法

Non-Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
CHEMICAL COMMUNICATIONS (CAMBRIDGE, UNITED KINGDOM), vol. (17), JPN6020015651, 2001, pages 1696 - 1697, ISSN: 0004683058 *
JOURNAL OF THE IRANIAN CHEMICAL SOCIETY, vol. 2(1), JPN6020015656, 2005, pages 47 - 53, ISSN: 0004683061 *
PHOSPHORUS, SULFUR AND SILICON AND THE RELATED ELEMENTS, vol. 180(9), JPN6020015654, 2005, pages 2029 - 2034, ISSN: 0004683060 *
SYNTHESIS, vol. (4), JPN6020015652, 1984, pages 323 - 5, ISSN: 0004683059 *

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