JPS5965039A - 2,4−ジヒドロキシアセトフエノンの製造方法 - Google Patents

2,4−ジヒドロキシアセトフエノンの製造方法

Info

Publication number
JPS5965039A
JPS5965039A JP57176828A JP17682882A JPS5965039A JP S5965039 A JPS5965039 A JP S5965039A JP 57176828 A JP57176828 A JP 57176828A JP 17682882 A JP17682882 A JP 17682882A JP S5965039 A JPS5965039 A JP S5965039A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
dihydroxyacetophenone
acetic acid
resorcinol
reaction
zinc chloride
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP57176828A
Other languages
English (en)
Inventor
Hirokazu Hosaka
宏和 保坂
Yuji Ueda
裕治 植田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Chemical Co Ltd filed Critical Sumitomo Chemical Co Ltd
Priority to JP57176828A priority Critical patent/JPS5965039A/ja
Publication of JPS5965039A publication Critical patent/JPS5965039A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/52Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts

Landscapes

  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、2.4−ジヒドロキシアセトフェノンの製造
法の改良に関するものである6 2゜4−ジヒドロキシ
アセトフェノンが、レゾルシンと酢酸を塩化亜鉛の存在
下で反応せしめることにより合成しうろことは、従来か
ら知られている( 0RGANIC8YNTHE8E8
 0o11ec−tive Vol、 8. 761頁
)が、公知の方法では高品質の2.4−ジヒドロキシア
セトフェノンを得ることが困難であった。例えば、前述
したORG・ 8YN・の方法では、酢酸と塩化亜鉛の
混合物を140℃まで加熱溶解し、これにレゾルシンを
加えて、159℃まで加熱して反応させ、その後、反応
混合物を塩酸水で分解して結晶を析出させ、濾過しtコ
後、得られた結晶を、乾燥後減圧蒸留して2.4−ジヒ
ドロキシアセトフェノンを得ている。しかしこの方法で
は、減圧蒸留をしない限り、着色の少い高品質の2.4
−ジヒドロキシアセトフェノンを得ることができない。
ところが、2.4−ジヒドロキシアセトフェノンは、高
沸点物質であり、又、昇華性も高く、工業的に2,4−
ジヒドロキシアセトフェノンを蒸留で精製するためには
、これらの問題に対応した蒸留装置を備える必要があり
、装置の複雑さは避けられず、蒸留で2.4−ジヒドロ
キシアセトフェノンを有利に精製することは困難である
。一方、反応後の粗製2゜4−ジヒドロキシアセトフェ
ノンを再結晶精製゛することも当然考えられるが、公知
の方法で得られた粗製2.4−ジヒドロキシアセトフェ
ノンは、再結晶を何回も繰り返えさなければ、着色の少
い高品質の2.4−ジヒドロキシアセトフェノンは得ら
れず、2.4−ジヒドロキシアセトフェノンの回収率は
著しく低下してしまう。
本発明者らは、従来の方法では無着色もしくは無色のj
PP高品質の2.4−ジヒドロキシアセトフェノンを工
業的には容易に製造できないという問題を克服するため
各種の検討を行なった結果、レゾルシンと酢酸、塩化亜
鉛との好ましい反応条件を選択することにより、反応後
簡単な再結晶操作を行うだけで、無着色もしくは着色の
少い2.4−ジヒドロキシアセトフェノンが製造できる
ことを見い出し本1発明を完成した。又、本発明によれ
ば、着色について高品質の2.4−ジヒドロキシアセト
フェノンカ得うれるだけでなく、レゾルシンから2.4
−ジヒドロキシアセトフェノンへの選択率も著しく向上
し、より有利に、2.4−ジヒドロキシアセトフェノン
を製造することが可能となり1こ。
本発明の特徴は、レゾルシンと酢酸の反応を、塩化亜鉛
の存在下に100℃から180℃で実施することにある
。具体的には、レゾルシン、酢酸および塩化亜鉛の混合
物を、100℃から180℃に加熱して反応させるもの
である。前述したORG、8YN、の方法等公知の方法
では、反応温度を140℃以上と設定しているが、本発
明は、100℃から180℃という低温領域で反応を行
うことを特徴としているものである。
以下、具体的に本発明の詳細な説明する。反応に供する
酢酸、塩化亜鉛およびレゾルシンは、いづれも実質的に
無水であることが必要である。
酢酸の使用量は、レゾルシンに対し、当モルから10倍
モルである。実施例7〜10に記載しtこ如く、酢酸使
用量は、2.4−ジヒドロキシアセトフェノンの品質、
収率、選択率にはほとんど影響を及ぼさない。酢酸を多
く使用すれば、塩化亜鉛、レゾルシンが溶解しやすいと
いう点で攪拌等操作上の利点はあるが、反応後未反応の
酢酸を回収しリサイクル使用する際、酢酸を水と完全に
分離し無水で回収することが必要であり、この処理は工
業的には煩雑であるので、むしろ、酢酸は、レゾルシン
に対して当モルか62倍モル使用し、未反応の、酢酸を
回収しない方法が、工業的製造プロ士スとしては簡単で
ある5塩化亜鉛は、レゾルシンに対して0.5倍モルか
ら3倍モル使用するが、当モルから、1.5倍モルの使
用が好ましい。レゾルシン、酢酸および塩化亜鉛の仕込
み方法(順序)については、何ら制約を受けない。低温
状態で、レゾルシン、酢酸および塩化亜鉛を混合してお
いて昇温しでも良いし、又、酢酸および塩化亜鉛を昇温
しておいて、所定温度で、レゾルシンを供給しても差し
つかえない。必要な反応時間は、100℃から180℃
で、1時間から8時間である。本発明では、低温領域で
反応させることを特徴としているが、反応初期において
は、塩化亜鉛が、・完全に溶解しないことがある。この
様に塩化亜鉛が完全に溶解していなくても反応は、進行
し、反応の進行に伴い未溶解の塩化亜鉛も順次溶解して
来るので、反応上は何ら障害となるもので粗2.4−ジ
ヒドロキシア士トフェノンを結晶として析出せしめる。
濾過して得られた粗2゜4−ジヒドロキシアセトフェノ
ンは、必要に応じて水もしくは塩酸水で洗浄した後、水
を加えて加熱、溶解し□、次いで冷却して結晶化させ、
沖別・乾燥して精製2.4−ジヒドロキシアセトフェノ
ンを得ろう通常、1回のみの水再結晶操作で、・無着色
もしくは着色の少い高品質の2.4−ジヒドロキシアセ
トフェノンが得られるが・、より高品質のものが必要で
ある場合には、さらに再結晶を行えば良い。
本発明の一連の操作で得られる精製2.4−ジヒドロキ
シアセトフェノンの収率は、原料のレゾルシンに対して
70%程度であるが、反応終了後での反応したレゾルシ
ンから、2.4−ジヒドロキシアセトフェノンへの選択
率は97%以上である。従って、結晶を戸別したt液中
に残存している未反応のレゾルシンおよび2゜4−ジヒ
ドロキシアセトフェノンを回収しリサイクルすることが
できれば、97%以上の選択率に対応する高収率が可能
である。前述したURG、  SYN、の条件では、反
応後の2.4−ジヒドロキシアセトフェノンの選択率(
反応したレゾルシン番ζ対して)は、′70%(比較例
1)であるから、本発明の方法は、着色の少い高品質の
2.4−ジヒドロキシアセトフェノンを与えるだけでな
く、高収率で、2 * 4−シヒト。
キシアセトフェノンを得ることを可能とするものである
。後述する実施例8〜5および比較例2では、温度条件
のみを100℃から140℃まで変え、製品品質および
選択率がどの様に変化するかを比較した。100℃から
180℃まででは、製品の着色は無いもしくはごくわず
かはかりであるのに対して、140℃になるとかなり着
色してくる。又、反応したレゾルシンから、2.4−ジ
ヒドロキシアセトフェノンへの選択率も、100℃から
180℃の範囲では98%以上あるのに140℃になる
と87.5%と著しく低下してしまう。単なる温度条件
の変化ではあるが、その効果は顕著である。すなわら本
発明は、品質および収率の両面で、公知の方法を大巾に
改善したものであり、工業的意義は大きい。
この様にして得られた2、4−ジヒドロキシアセトフェ
ノンは、ファインケミカル中間体として、医薬、農薬、
感光材料、香料、樹脂の原料として重要な物質である。
以下実施例において具体的に説明する。
比較例1 攪拌装置、温度計、冷却管を装着したlI!4つロフラ
スコに酢酸165 Pr (2,75mol)、塩化亜
鉛165Pr (1,2mol )  lz仕込み、1
40℃まで昇温して、この温度でレゾルシンl 10.
 l Pr (1mol ) 全仕込む。 ソノ後15
9℃まで昇温し、反応を終了した。反応液は100℃ま
で冷却し18g6塩酸水5001rを加えて分解し5℃
丈で冷却する。析出した結晶を沖過し、7g6塩酸水2
00 Prで洗浄する。得られた粗2.4−ジヒドロキ
シアセトフェノンを水500 Pr中に仕込み95〜1
00℃で溶解し20℃まで冷却・再結晶−ろ過して乾燥
させると赤褐色の結晶89.2 Pr(収率58.6%
、仕込みレゾルシンに対して)を得た。反応での選択率
(反応したレゾルシンb>ら2.4−ジヒドロキシアセ
トフェノンへの)は70%でありた。
得られた2、4−ジヒドロキシアセトフェノンの純度は
97〜98%で融点は14.2℃〜144℃であった。
実施例−1 攪拌装置、温度針、冷却管を装着したlI!4つ目フラ
スコに酢酸90 Pr (1,5mol )、塩化匝鉛
152.I S’r (1,1mol )およびレゾル
シン110.I Pr (1,0mol ) lk仕込
み、120℃まで昇温しその温度で1時間保温する。反
応終了後18%塩酸水500 Prを加えて分解し20
℃まで冷却するっ析出した結晶を沖過し、7%塩酸水2
00 Prで洗浄する。得られた粗2,4−ジヒドロキ
シアセトフェノンを水500 y−r中に仕込み 95
〜100℃で溶解し20℃まで冷却・再結晶・ろ過して
乾燥させると、淡黄色から白色の2.4−ジヒドロキシ
アセトフェノン110Pr(収率72.8%(仕込みレ
ゾルシンに対して))を得た。反応での選択率(反応し
たレゾルシンから2.4−ジヒドロキシアセトフェノン
への)は98%であった。
得られた2、4−ジヒドロキシアセトフェノンの純度は
、99%以上で融点145℃〜146℃であった。
実施例2 実施例−1と同様の装置に酢酸90 Yr (1,5m
ol ) 、塩化亜鉛162.1 %r (1,,1m
ol)を仕込み60℃〜80℃まで昇温し、レゾルシン
110.1 Pr (1,0ntol ) 5e仕込み
、再び昇温して1201℃で1時間保温する。
1i: Ii’、;・終了後は実施例−1と同様な操作
を行なイ、淡黄色から白色の2.4−ジヒドロキシア゛
I!1−フェノン112y−r(収率7g、e*(仕込
みレゾルシンに対して))を得た。反応での選択率(反
応したレゾルシンから2.4−ジヒドロキシアセトフェ
ノン/\の)は98.5%であった。得られた2、4−
ジヒドロキシアセトフェノンの純度は99%以上で融点
145〜146℃であったっ 実L57例−3〜5  比較例2 a−1に示す条件以外は実施例−1と同じ反応条件で反
応を行なった。
中1=仕込みレゾルシンに対して得られた2、4−ジヒ
ドロキシアセトフェノンの収率 中2:反応したレゾルシンに対して、反応後の2.4−
ジヒドロキシアセトフェノンの選択率 実施例7〜lO 表−2に示す条件以外は実施例−1と同じ反応条件で反
応を行なった。
表−2 ◆lニレゾルシン1molに対する酢酸のmol数辱2
:表−1の傘lと同じ 中3=表−1の−2と同じ

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 塩化亜鉛の存在下、レゾルシンと酢酸を反応させて2.
    4−ジヒドロキシアセトフェノンを製造する方法におい
    て、反応温度を、1 o o℃から180℃で行うこと
    を特徴とする2、4−ジヒドロキシアセトフェノンの製
    造方法つ
JP57176828A 1982-10-06 1982-10-06 2,4−ジヒドロキシアセトフエノンの製造方法 Pending JPS5965039A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP57176828A JPS5965039A (ja) 1982-10-06 1982-10-06 2,4−ジヒドロキシアセトフエノンの製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP57176828A JPS5965039A (ja) 1982-10-06 1982-10-06 2,4−ジヒドロキシアセトフエノンの製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS5965039A true JPS5965039A (ja) 1984-04-13

Family

ID=16020546

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP57176828A Pending JPS5965039A (ja) 1982-10-06 1982-10-06 2,4−ジヒドロキシアセトフエノンの製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS5965039A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4777298A (en) * 1987-06-19 1988-10-11 Eli Lilly And Company Process for intermediates to leukotriene antagonists
US4777299A (en) * 1987-06-19 1988-10-11 Eli Lilly And Company Process for leukotriene antagonists
CN103159608A (zh) * 2011-12-14 2013-06-19 南京华狮化工有限公司 一种间苯二酚烷基酮的制备方法

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
CHEMICAL ABSTRACTS=1982 *

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4777298A (en) * 1987-06-19 1988-10-11 Eli Lilly And Company Process for intermediates to leukotriene antagonists
US4777299A (en) * 1987-06-19 1988-10-11 Eli Lilly And Company Process for leukotriene antagonists
CN103159608A (zh) * 2011-12-14 2013-06-19 南京华狮化工有限公司 一种间苯二酚烷基酮的制备方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO1991014673A1 (en) Novel process for producing benzoic acid derivative
JPS63316748A (ja) テトラブロムビスフエノ−ルaの製造方法
JPS5965039A (ja) 2,4−ジヒドロキシアセトフエノンの製造方法
JP2018516952A (ja) ジアリールスルホンを製造するための改良された方法
JPH06145087A (ja) 9,9−ビス−(4−ヒドロキシフエニル−)フルオレンの製造方法
JP3938413B2 (ja) 有機りん化合物の製造方法
JPH03218331A (ja) ジフエノール
JPH0475224B2 (ja)
JPS61180738A (ja) アルキル(ジヒドロキシフエニル)ケトンの製造法
JPH0597782A (ja) 塩酸ベバントロールの製造方法
JPH05500813A (ja) アルキル―〔3クロロフェニル〕―スルホンの製造方法
JPH0140832B2 (ja)
JP2872444B2 (ja) 銅化合物含有ビス(4−アミノフェニル)スルホン系化合物の精製方法
JPH0140836B2 (ja)
JPS60209552A (ja) 4,4’−ビス(カルボアルコキシメチレンアミノ)ジフエニルメタンの製造法
JPS58167551A (ja) カルバクロ−ル誘導体の製法
JPS59130832A (ja) 4−ハロゲノ−2−クロロ−3−フエニルクロトンアルデヒド
JP2560431B2 (ja) 2,4−ジヒドロキシアセトフェノンの製造法
JPH0464549B2 (ja)
JPH0816075B2 (ja) p,p’‐ビフェノールの製造方法
JPH0665200A (ja) フタルイミド化合物の製造法
KR910009233B1 (ko) 4,4'-메틸렌 비스아닐린과 그 유도체의 제조방법
JP4032825B2 (ja) 3,4−ジヒドロキシベンゾニトリルを製造する方法
JPS62108855A (ja) ビス(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフエニル)スルホンの製造方法
JPS62234089A (ja) ホスフインの製造方法