JP2020532043A5 - - Google Patents

Claims (16)

1. 表示基板であって、
   表示領域及び前記表示領域の周囲に位置する非表示領域を含む下地と、
   前記非表示領域の前記下地に設置される少なくとも１つの突起と、
   前記下地に設置される封止層と、を含み、
   前記突起は前記下地と前記封止層との間に位置し、前記封止層は少なくとも部分的に前記突起を被覆することを特徴とする表示基板。
2. 前記突起と前記下地との間に設置される絶縁層をさらに含み、且つ前記突起は前記絶縁層と前記封止層との間に位置することを特徴とする請求項１に記載の表示基板。
3. 前記絶縁層はパッシベーション層であり、前記突起が前記パッシベーション層に接し、また、
   前記絶縁層は層間絶縁層であり、前記突起が前記層間絶縁層に接することを特徴とする、
   請求項２に記載の表示基板。
4. 前記表示領域の前記下地は複数の画素領域を含み、各前記画素領域の前記下地に少なくとも１つの有機発光素子が設置され、前記有機発光素子が前記絶縁層と前記封止層との間に位置し、
   前記表示基板は、前記下地に設置される画素画定層をさらに含み、
   前記有機発光素子は、前記画素画定層が限定した領域内に設置され、
   前記突起の少なくとも一部は、前記画素画定層と同層に配置され、且つ同一の材料で製造されることを特徴とする、
   請求項２又は３に記載の表示基板。
5. 各前記突起は、少なくとも第１突起層と第２突起層の積層を含むように配置され、前記第１突起層は前記第２突起層と前記下地との間に位置し、
   前記第１突起層は前記画素画定層と同層に配置され、且つ同一の材料で製造され、
   前記第２突起層の製造材料は、フォトレジスト材料であることを特徴とする、
   請求項４に記載の表示基板。
6. 前記突起の製造材料は、フォトレジスト材料を含むことを特徴とする、
   請求項２〜５のいずれか一項に記載の表示基板。
7. 前記絶縁層の前記下地から離れた一方側に設置される平坦層をさらに含み、
   前記平坦層は前記突起と前記絶縁層との間に位置し、
   前記突起の前記下地における正投影は、前記平坦層の前記下地における正投影内に位置し、
   前記突起の少なくとも一部は、前記平坦層と同層に配置され、且つ同一の材料で製造されることを特徴とする、
   請求項４に記載の表示基板。
8. 各前記突起は、少なくとも第１突起層、第２突起層、第３突起層の積層を含むように配置され、
   前記第１突起層は、前記第２突起層と前記下地との間に位置し、
   前記第３突起層は、前記第１突起層と前記下地との間に位置し、
   前記第１突起層は、前記画素画定層と同層に配置され、且つ同一の材料で製造され、
   前記第３突起層は、前記平坦層と同層に配置され、且つ同一の材料で製造され、
   前記第２突起層の製造材料はフォトレジスト材料であることを特徴とする、
   請求項７に記載の表示基板。
9. 前記突起は、環状構造として前記表示領域を囲むように設置され、
   各前記突起は、一体化した閉環状構造として設置され、又は
   各前記突起は、互いに離間した少なくとも２つの突起段を含むように設置されることを特徴とする、
   請求項１〜８のいずれか一項に記載の表示基板。
10. 前記表示基板の同じ側に、前記突起段の長さと前記表示基板の辺長との比が１／３以上であることを特徴とする、
    請求項９に記載の表示基板。
11. 前記突起は、少なくとも、前記表示領域を囲んで順に配列された第１突起及び第２突起を含み、
    前記第１突起は、前記第２突起と隣接して設置され、
    且つ前記第１突起は、前記第２突起の内側に位置し、
    前記下地が位置する面に垂直な方向において、前記第２突起の高さは、前記第１突起の高さより大きくなることを特徴とする、
    請求項１〜１０のいずれか一項に記載の表示基板。
12. 前記第２突起の高さと前記第１突起の高さとの差が、０．５〜３ミクロンであることを特徴とする、
    請求項１１に記載の表示基板。
13. 前記突起の高さは、２〜１５ミクロンであり、及び／又は
    前記下地が位置する面に平行な方向において、前記突起の幅は、３０〜１００ミクロンであり、及び／又は
    前記下地が位置する面に平行な方向において、前記第１突起と前記第２突起の間隔は、３０〜１００ミクロンであることを特徴とする、
    請求項１１又は１２に記載の表示基板。
14. 前記封止層は、前記下地に順に設置される第１封止層、第２封止層及び第３封止層の積層を含むように配置され、
    前記第１封止層と前記第３封止層の製造材料は無機材料を含み、前記第２封止層の製造材料は有機材料を含み、
    前記第１封止層と前記第３封止層は、前記突起を被覆するように配置され、
    前記突起の前記下地における正投影は、前記第２封止層の前記下地における正投影外に位置することを特徴とする、
    請求項１〜１３のいずれか一項に記載の表示基板。
15. 請求項１〜１４のいずれか一項に記載の表示基板を含むことを特徴とする表示装置。
16. 表示基板の製造方法であって、
    表示領域及び前記表示領域の周囲に位置する非表示領域を含む下地を提供するステップと、
    前記下地の前記非表示領域に少なくとも１つの突起を形成するステップと、
    前記下地に封止層を形成するステップと、を含み、
    前記突起は前記下地と前記封止層との間に形成され、前記封止層は少なくとも部分的に前記突起を被覆することを特徴とする製造方法。