CN110265579A - 一种显示面板及其制作方法、显示装置 - Google Patents
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Abstract
本发明提供了一种显示面板及其制作方法、显示装置，涉及显示技术领域。本发明通过将衬底基板划分为显示区和围绕显示区的非显示区，衬底基板的非显示区内设置有至少一个阻隔坝，阻隔坝远离衬底基板的一面具有起伏结构，且阻隔坝远离衬底基板的一侧设置有封装层。通过将阻隔坝远离衬底基板的一面设置成起伏结构，使得形成的封装层的有效长度得到延长，则延长了水氧侵蚀的路径，降低了水氧沿着封装层进入显示区内的几率，提高了显示面板的寿命。
Description
技术领域
本发明涉及显示技术领域，特别是涉及一种显示面板及其制作方法、显示装置。
背景技术
随着显示技术的不断发展，OLED(Organic Light Emitting Diode，有机发光二极管)显示面板由于其具有的低能耗、生产成本低、自发光、宽视角及响应速度快等优点，得到了人们广泛的关注。
在制作OLED显示面板时，首先需要在衬底基板的非显示区内制作阻隔坝，用于防止在显示区内打印有机发光材料时，有机发光材料从显示区溢出，然后，制作覆盖阻隔坝的封装层，用于防止水氧侵蚀至显示区内。
但是，水氧易沿着封装层进入显示区内，进而影响显示面板的寿命。
发明内容
本发明提供一种显示面板及其制作方法、显示装置，能够在一定程度上减少水氧易沿着封装层进入显示区内，影响显示面板的寿命的问题。
本发明公开了一种显示面板，包括：衬底基板，所述衬底基板划分为显示区和围绕所述显示区的非显示区，所述衬底基板的非显示区内设置有至少一个阻隔坝；
所述阻隔坝远离所述衬底基板的一面具有起伏结构，且所述阻隔坝远离所述衬底基板的一侧设置有封装层。
可选的，所述起伏结构为至少一个凹陷结构和/或凸起结构。
可选的，所述阻隔坝沿平行所述衬底基板的方向延伸，沿所述阻隔坝的延伸方向上，所述起伏结构呈曲线型或直线型。
可选的，所述阻隔坝包括像素界定层和设置在所述像素界定层远离所述衬底基板一侧的支撑层；
所述支撑层包括远离所述衬底基板的第一面以及靠近所述衬底基板的第二面，所述起伏结构设置于所述支撑层的第一面。
可选的，所述支撑层的侧壁在靠近所述第一面处形成有预设坡度角，且所述第一面在所述衬底基板上的正投影位于所述第二面在所述衬底基板上的正投影所在的区域内。
可选的，在垂直所述衬底基板的方向上，所述支撑层的厚度为1.5μm至2μm。
可选的，所述至少一个阻隔坝包括第一阻隔坝和第二阻隔坝，所述第一阻隔坝位于所述第二阻隔坝与所述显示区之间；
所述衬底基板包括远离所述阻隔坝的第一表面，在垂直所述衬底基板的方向上，所述第一阻隔坝的支撑层的第一面与所述衬底基板的第一表面之间的距离，小于所述第二阻隔坝的支撑层的第一面与所述衬底基板的第一表面之间的距离。
可选的，所述衬底基板包括第一基板、设置在所述第一基板上的层间介质层以及同层设置在所述层间介质层远离所述第一基板一侧的金属层和平坦层，所述衬底基板还包括设置在所述金属层远离所述第一基板一侧且部分覆盖所述平坦层的阳极；
所述第一阻隔坝的像素界定层位于所述阳极远离所述第一基板的一侧，所述第二阻隔坝的像素界定层位于所述平坦层和所述阳极远离所述第一基板的一侧。
可选的，所述衬底基板的非显示区设置有多个阻隔坝时，任意两个阻隔坝的起伏结构的形状相同。
可选的，所述起伏结构包括多个凹陷结构和多个凸起结构，任意相邻两个凹陷结构之间的间隔相同，任意相邻的两个凸起结构之间的间隔也相同；且任意两个凹陷结构的形状相同，任意两个凸起结构的形状也相同。
可选的，所述封装层包括至少一层无机膜层。
本发明还公开了一种显示面板的制作方法，包括：
提供一衬底基板，所述衬底基板划分为显示区和围绕所述显示区的非显示区；
在所述衬底基板的非显示区内形成至少一个阻隔坝；
在所述阻隔坝远离所述衬底基板的一侧形成封装层；
其中，所述阻隔坝远离所述衬底基板的一面具有起伏结构。
可选的，所述阻隔坝包括像素界定层和支撑层，所述在所述衬底基板的非显示区内形成至少一个阻隔坝的步骤，包括：
在所述衬底基板的非显示区内形成像素界定层；
在所述像素界定层远离所述衬底基板一侧形成支撑层；
其中，所述支撑层包括远离所述衬底基板的第一面以及靠近所述衬底基板的第二面，所述起伏结构设置于所述支撑层的第一面。
可选的，所述在所述像素界定层远离所述衬底基板一侧形成支撑层的步骤，包括：
在所述像素界定层远离所述衬底基板一侧形成支撑层薄膜；
采用半色调掩膜板对所述支撑层薄膜进行图案化处理，得到所述支撑层；
其中，所述支撑层的侧壁在靠近所述第一面处形成有预设坡度角，且所述第一面在所述衬底基板上的正投影位于所述第二面在所述衬底基板上的正投影所在的区域内。
本发明另外公开了一种显示装置，包括上述的显示面板。
本发明实施例将衬底基板划分为显示区和围绕显示区的非显示区，衬底基板的非显示区内设置有至少一个阻隔坝，阻隔坝远离衬底基板的一面具有起伏结构，且阻隔坝远离衬底基板的一侧设置有封装层。通过将阻隔坝远离衬底基板的一面设置成起伏结构，使得形成的封装层的有效长度得到延长，则延长了水氧侵蚀的路径，降低了水氧沿着封装层进入显示区内的几率，提高了显示面板的寿命。
附图说明
图1示出了本发明实施例的一种显示面板的结构示意图；
图2示出了图1所示的显示面板中的支撑层的局部放大示意图；
图3示出了本发明实施例的另一种显示面板的结构示意图；
图4示出了本发明实施例的一种显示面板的制作方法的流程图；
图5示出了本发明实施例提供的衬底基板的结构示意图；
图6示出了本发明实施例在衬底基板的非显示区内形成像素界定层的结构示意图。
图7示出了本发明实施例在像素界定层上形成的一种支撑层结构示意图；
图8示出了本发明实施例在像素界定层上形成的另一种支撑层结构示意图。
具体实施方式
为使本发明的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步详细的说明。
实施例一
参照图1，示出了本发明实施例的一种显示面板的结构示意图，图2示出了图1所示的显示面板中的支撑层的局部放大示意图，图3示出了本发明实施例的另一种显示面板的结构示意图。
本发明实施例提供了一种显示面板，包括：衬底基板11，衬底基板11划分为显示区和围绕显示区的非显示区，衬底基板11的非显示区内设置有至少一个阻隔坝12；阻隔坝12远离衬底基板11的一面具有起伏结构，且阻隔坝12远离衬底基板11的一侧设置有封装层13。
需要说明的是，图1和图3仅示出了显示面板在非显示区内的结构示意图，显示面板的显示区主要设置有阵列排布的多个像素单元和用于驱动该像素单元进行显示的像素驱动电路，每个像素单元包括阳极、阴极和位于阳极和阴极之间的有机发光层，且像素驱动电路与像素单元中的阳极进行连接，关于显示面板的显示区的结构本发明实施例对此不再详述。
由于通常会采用打印工艺在显示区内打印液态的有机发光材料以形成有机发光层，为了防止液态的有机发光材料从显示区溢出，需要在衬底基板11的非显示区内形成至少一个阻隔坝12。
将阻隔坝12远离衬底基板11的一面设置成起伏结构，相对于现有的平面结构，本发明实施例中的阻隔坝12远离衬底基板11的一面的实际长度大于现有的显示面板的阻隔坝远离衬底基板的一面的实际长度，则在阻隔坝12远离衬底基板11的一侧形成的封装层13，其有效长度也得到延长，因此，延长了水氧侵蚀的路径，降低了水氧沿着封装层13进入显示区内的几率，提高了显示面板的寿命。
其中，阻隔坝12包括像素界定层121和设置在像素界定层121远离衬底基板11一侧的支撑层122，如图2所示，支撑层122包括远离衬底基板11的第一面A以及靠近衬底基板11的第二面B，起伏结构设置于支撑层122的第一面A。
在本发明实施例中，起伏结构为至少一个凹陷结构和/或凸起结构。
如图1和图2所示，将阻隔坝12远离衬底基板11的一面设置起伏结构，也就是将支撑层122远离衬底基板11的第一面A设置成起伏结构，第一面A的起伏结构包括多个间隔设置的凹陷结构1221和凸起结构1222，如图3所示，第一面A的起伏结构为一个凹陷结构；当然，还可将第一面A的起伏结构设置成多个凹陷结构，或者，将第一面A的起伏结构设置成一个或多个凸起结构等。
需要说明的是，当凹陷结构和/或凸起结构的数量越多时，支撑层122远离衬底基板11的第一面A的实际长度越长，形成的封装层13的有效长度也越长，则水氧沿着封装层13进入显示区内的几率也越低。
在本发明实施例中，阻隔坝12沿平行衬底基板11的方向延伸，沿阻隔坝12的延伸方向上，起伏结构呈曲线型或直线型；其中，曲线型可以为如图1和图2所示的波浪形、如图3所示的弧形或者其他形状，直线型可以为锯齿形或其他形状；当然，沿阻隔坝12的延伸方向上，起伏结构也可以为曲线型和直线型的组合结构。
如图1和图2所示，支撑层122的侧壁C在靠近第一面A处(即图2中的位置1223处)形成有预设坡度角θ，且第一面A在衬底基板11上的正投影位于第二面B在衬底基板11上的正投影所在的区域内，也就是说，第一面A的尺寸d1小于第二面B的尺寸d2。
其中，通过将第一面A的尺寸d1小于第二面B的尺寸d2，可以使得预设坡度角θ小于90°，现有显示面板中的支撑层的第一面与侧壁之间为直角结构，使得阻隔坝与衬底基板之间的高度差较大，后续形成的覆盖阻隔坝的封装层会具有较大的应力，在外力作用下易导致封装层破裂；而本发明实施例通过将支撑层122的侧壁C在靠近第一面A处设置成具有一定预设坡度角θ的曲面结构，预设坡度角θ处形成的封装层13的应力较小，且阻隔坝12中的支撑层122从预设坡度角处至衬底基板11之间的高度差会减小，进一步降低了形成的封装层13的应力，防止封装层13因应力太大而破裂。
如图1和图3所示，衬底基板11的非显示区设置有多个阻隔坝12，任意两个阻隔坝12的起伏结构的形状相同。
任意两个阻隔坝12的起伏结构的形状相同，指的是任意两个阻隔坝12的起伏结构中的凹陷结构和/或凸起结构的尺寸相同，且起伏结构中任意相邻的两个凹陷结构的间隔相同，和/或任意相邻的两个凸起结构的间隔也相同。
如图2所示，起伏结构包括多个凹陷结构1121和多个凸起结构1122，任意相邻两个凹陷结构1121之间的间隔d3相同，任意相邻的两个凸起结构1122之间的间隔d4也相同；且任意两个凹陷结构1121的形状相同，任意两个凸起结构1122的形状也相同。
在本发明实施例中，在垂直衬底基板11的方向上，像素界定层121的厚度为1.5μm至2μm，支撑层122的厚度为1.5μm至2μm；像素界定层121和支撑层122的材料为PI(Polyimide，聚酰亚胺)。
如图1和图3所示，至少一个阻隔坝12包括第一阻隔坝和第二阻隔坝，第一阻隔坝位于第二阻隔坝与显示区之间；衬底基板11包括远离阻隔坝12的第一表面，在垂直衬底基板11的方向上，第一阻隔坝的支撑层122的第一面A与衬底基板11的第一表面之间的距离h1，小于第二阻隔坝的支撑层122的第一面A与衬底基板11的第一表面之间的距离h2。
需要说明的是，第一阻隔坝为图1和图3中右侧所示的阻隔坝12，第二阻隔坝为图1和图3中左侧所示的阻隔坝12，显示区则位于第一阻隔坝远离第二阻隔坝的一侧，通过将距离h2设置成大于距离h1，当在显示区内打印液态的有机发光材料时，即使有机发光材料溢出第一阻隔坝，第二阻隔坝也会对有机发光材料进行阻挡，进一步避免有机发光材料从显示区溢出来。
具体的，衬底基板11包括第一基板111、设置在第一基板111上的层间介质层112以及同层设置在层间介质层112远离第一基板111一侧的金属层113和平坦层114，衬底基板11还包括设置在金属层113远离第一基板111一侧且部分覆盖平坦层114的阳极115；第一阻隔坝的像素界定层121位于阳极115远离第一基板111的一侧，第二阻隔坝的像素界定层121位于平坦层114和阳极115远离第一基板111的一侧。
第一基板111可以为玻璃基板或PI基板，层间介质层112的材料可以为氧化硅(SiOx)、氮化硅(SiNx)、氮氧化硅(SiON)、氧化铝(AlOx)、氧化铪(HfOx)或氧化钽(TaOx)等，金属层113的材料可以为Ti/Al/Ti，平坦层114的材料为聚酰亚胺，阳极115的材料为ITO/Ag/ITO，阳极115为底层ITO(Indium Tin Oxide，氧化铟锡)膜、外层ITO膜和中层Ag膜的结构。
其中，封装层13包括至少一层无机膜层，如图1和图3所示，封装层13包括两层无机膜层，分别为第一无机膜层131和第二无机膜层132，第一无机膜层131覆盖衬底基板11和阻隔坝12，第二无机膜层132覆盖在第一无机膜层131上；封装层13中的无机膜层的数量不局限于两层，还可以为三层等。
无机膜层的材料为氮化硅、氧化硅或氧化铝等，可采用化学气相沉积工艺形成覆盖衬底基板11和阻隔坝12的无机膜层。
在本发明实施例中，通过将衬底基板划分为显示区和围绕显示区的非显示区，衬底基板的非显示区内设置有至少一个阻隔坝，阻隔坝远离衬底基板的一面具有起伏结构，且阻隔坝远离衬底基板的一侧设置有封装层。通过将阻隔坝远离衬底基板的一面设置成起伏结构，使得形成的封装层的有效长度得到延长，则延长了水氧侵蚀的路径，降低了水氧沿着封装层进入显示区内的几率，提高了显示面板的寿命。
实施例二
参照图4，示出了本发明实施例的一种显示面板的制作方法的流程图，具体可以包括如下步骤：
步骤401，提供一衬底基板，所述衬底基板划分为显示区和围绕所述显示区的非显示区。
在本发明实施例中，在制作显示面板时，首先需要提供一衬底基板11，如图5所示，衬底基板11包括第一基板111、设置在第一基板111上的层间介质层112以及同层设置在层间介质层112远离第一基板111一侧的金属层113和平坦层114，衬底基板11还包括设置在金属层113远离第一基板111一侧且部分覆盖平坦层114的阳极115。
具体的，首先在第一基板111上采用CVD(Chemical Vapor Deposition，化学气相沉积)或其他工艺形成层间介质层112，然后，采用溅射等工艺在层间介质层112远离第一基板111一侧形成金属层113，接着，在层间介质层112远离第一基板111一侧涂覆聚酰亚胺薄膜，采用曝光、显影等工艺在层间介质层112远离第一基板111一侧形成平坦层114，最后，采用溅射等工艺形成阳极115，阳极115设置在金属层113远离第一基板111一侧且部分覆盖平坦层114。
当然，衬底基板划分为显示区和围绕显示区的非显示区，图5所示的衬底基板主要包括的是非显示区的膜层结构，在显示区内还包括其他膜层，如栅极层等。
步骤402，在所述衬底基板的非显示区内形成至少一个阻隔坝。
在本发明实施例中，在衬底基板11的非显示区内形成至少一个阻隔坝12，阻隔坝12远离衬底基板11的一面具有起伏结构，则提高了阻隔坝12远离衬底基板11的一面的实际长度。
其中，阻隔坝12包括像素界定层121和设置在像素界定层121远离衬底基板11一侧的支撑层122。
步骤402具体包括：在所述衬底基板的非显示区内形成像素界定层；在所述像素界定层远离所述衬底基板一侧形成支撑层；其中，所述支撑层包括远离所述衬底基板的第一面以及靠近所述衬底基板的第二面，所述起伏结构设置于所述支撑层的第一面。
如图6所示，在衬底基板11的非显示区内涂覆像素界定层薄膜，具体的，是在衬底基板11的平坦层114和阳极115上涂覆像素界定层薄膜，然后，采用曝光、显影等工艺形成像素界定层121。
如图7和图8所示，在像素界定层121远离衬底基板11一侧形成支撑层122，像素界定层121和支撑层122共同组成了阻隔坝12，且阻隔坝12的起伏结构具体位于支撑层122远离衬底基板11的第一面A。
具体的，在所述像素界定层远离所述衬底基板一侧形成支撑层薄膜；采用半色调掩膜板对所述支撑层薄膜进行图案化处理，得到所述支撑层；其中，所述支撑层的侧壁在靠近所述第一面处形成有预设坡度角，且所述第一面在所述衬底基板上的正投影位于所述第二面在所述衬底基板上的正投影所在的区域内。
首先，在像素界定层121上涂覆支撑层薄膜，然后，采用半色调掩膜板对支撑层薄膜进行曝光，曝光后进行显影，最后，清除残留的杂质，得到支撑层122。
半色调掩膜板不同位置处的透过率不同，则可以保证支撑层122的第一面A形成如图7或图8所示的起伏结构。
步骤403，在所述阻隔坝远离所述衬底基板的一侧形成封装层。
在本发明实施例中，在阻隔坝12远离衬底基板11的一侧形成封装层13，封装层13包括至少一层无机膜层，得到如图1或图3所示的显示面板，由于阻隔坝12远离衬底基板11的一面具有起伏结构，提高了阻隔坝12远离衬底基板11的一面的实际长度，则阻隔坝12远离衬底基板11的一侧形成的封装层13的有效长度也得到提高。
需要说明的是，在图7所示的阻隔坝12远离衬底基板11的一侧形成封装层13，可得到如图1所示的显示面板，在图8所示的阻隔坝12远离衬底基板11的一侧形成封装层13，可得到如图3所示的显示面板。
在本发明实施例中，通过提供一衬底基板，衬底基板划分为显示区和围绕显示区的非显示区，在衬底基板的非显示区内形成至少一个阻隔坝，在阻隔坝远离衬底基板的一侧形成封装层，其中，阻隔坝远离衬底基板的一面具有起伏结构。通过将阻隔坝远离衬底基板的一面设置成起伏结构，使得形成的封装层的有效长度得到延长，则延长了水氧侵蚀的路径，降低了水氧沿着封装层进入显示区内的几率，提高了显示面板的寿命。
实施例三
本发明实施例还提供了一种显示装置，包括上述的显示面板。
该显示装置为OLED显示装置，该OLED显示装置可应用在手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、导航仪等任何具有显示功能的显示装置中。
此外，关于显示面板的具体描述可以参照实施例一和实施例二的描述，本发明实施例对此不再赘述。
在本发明实施例中，显示装置包括显示面板，显示面板包括衬底基板，通过将衬底基板划分为显示区和围绕显示区的非显示区，衬底基板的非显示区内设置有至少一个阻隔坝，阻隔坝远离衬底基板的一面具有起伏结构，且阻隔坝远离衬底基板的一侧设置有封装层。通过将阻隔坝远离衬底基板的一面设置成起伏结构，使得形成的封装层的有效长度得到延长，则延长了水氧侵蚀的路径，降低了水氧沿着封装层进入显示区内的几率，提高了显示面板的寿命。
对于前述的方法实施例，为了简单描述，故将其都表述为一系列的动作组合，但是本领域技术人员应该知悉，本发明并不受所描述的动作顺序的限制，因为依据本发明，某些步骤可以采用其他顺序或者同时进行。其次，本领域技术人员也应该知悉，说明书中所描述的实施例均属于优选实施例，所涉及的动作和模块并不一定是本发明所必须的。
本说明书中的各个实施例均采用递进的方式描述，每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处，各个实施例之间相同相似的部分互相参见即可。
最后，还需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、商品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、商品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括一个……”限定的要素，并不排除在包括所述要素的过程、方法、商品或者设备中还存在另外的相同要素。
以上对本发明所提供的一种显示面板及其制作方法、显示装置，进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本发明的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的方法及其核心思想；同时，对于本领域的一般技术人员，依据本发明的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处，综上所述，本说明书内容不应理解为对本发明的限制。
Claims (15)
1.一种显示面板，其特征在于，包括：衬底基板，所述衬底基板划分为显示区和围绕所述显示区的非显示区，所述衬底基板的非显示区内设置有至少一个阻隔坝；
所述阻隔坝远离所述衬底基板的一面具有起伏结构，且所述阻隔坝远离所述衬底基板的一侧设置有封装层。
2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述起伏结构为至少一个凹陷结构和/或凸起结构。
3.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述阻隔坝沿平行所述衬底基板的方向延伸，沿所述阻隔坝的延伸方向上，所述起伏结构呈曲线型或直线型。
4.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述阻隔坝包括像素界定层和设置在所述像素界定层远离所述衬底基板一侧的支撑层；
所述支撑层包括远离所述衬底基板的第一面以及靠近所述衬底基板的第二面，所述起伏结构设置于所述支撑层的第一面。
5.根据权利要求4所述的显示面板，其特征在于，所述支撑层的侧壁在靠近所述第一面处形成有预设坡度角，且所述第一面在所述衬底基板上的正投影位于所述第二面在所述衬底基板上的正投影所在的区域内。
6.根据权利要求4所述的显示面板，其特征在于，在垂直所述衬底基板的方向上，所述支撑层的厚度为1.5μm至2μm。
7.根据权利要求5所述的显示面板，其特征在于，所述至少一个阻隔坝包括第一阻隔坝和第二阻隔坝，所述第一阻隔坝位于所述第二阻隔坝与所述显示区之间；
所述衬底基板包括远离所述阻隔坝的第一表面，在垂直所述衬底基板的方向上，所述第一阻隔坝的支撑层的第一面与所述衬底基板的第一表面之间的距离，小于所述第二阻隔坝的支撑层的第一面与所述衬底基板的第一表面之间的距离。
8.根据权利要求7所述的显示面板，其特征在于，所述衬底基板包括第一基板、设置在所述第一基板上的层间介质层以及同层设置在所述层间介质层远离所述第一基板一侧的金属层和平坦层，所述衬底基板还包括设置在所述金属层远离所述第一基板一侧且部分覆盖所述平坦层的阳极；
所述第一阻隔坝的像素界定层位于所述阳极远离所述第一基板的一侧，所述第二阻隔坝的像素界定层位于所述平坦层和所述阳极远离所述第一基板的一侧。
9.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述衬底基板的非显示区设置有多个阻隔坝，任意两个阻隔坝的起伏结构的形状相同。
10.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述起伏结构包括多个凹陷结构和多个凸起结构，任意相邻两个凹陷结构之间的间隔相同，任意相邻的两个凸起结构之间的间隔也相同；且任意两个凹陷结构的形状相同，任意两个凸起结构的形状也相同。
11.根据权利要求1-10中任一项所述的显示面板，其特征在于，所述封装层包括至少一层无机膜层。
12.一种显示面板的制作方法，其特征在于，包括：
提供一衬底基板，所述衬底基板划分为显示区和围绕所述显示区的非显示区；
在所述衬底基板的非显示区内形成至少一个阻隔坝；
在所述阻隔坝远离所述衬底基板的一侧形成封装层；
其中，所述阻隔坝远离所述衬底基板的一面具有起伏结构。
13.根据权利要求12所述的方法，其特征在于，所述阻隔坝包括像素界定层和支撑层，所述在所述衬底基板的非显示区内形成至少一个阻隔坝的步骤，包括：
在所述衬底基板的非显示区内形成像素界定层；
在所述像素界定层远离所述衬底基板一侧形成支撑层；
其中，所述支撑层包括远离所述衬底基板的第一面以及靠近所述衬底基板的第二面，所述起伏结构设置于所述支撑层的第一面。
14.根据权利要求13所述的方法，其特征在于，所述在所述像素界定层远离所述衬底基板一侧形成支撑层的步骤，包括：
在所述像素界定层远离所述衬底基板一侧形成支撑层薄膜；
采用半色调掩膜板对所述支撑层薄膜进行图案化处理，得到所述支撑层；
其中，所述支撑层的侧壁在靠近所述第一面处形成有预设坡度角，且所述第一面在所述衬底基板上的正投影位于所述第二面在所述衬底基板上的正投影所在的区域内。
15.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1-11中任一项所述的显示面板。
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