JP2020111574A - シリコーン組成物を架橋させるためのタイプii光開始剤系の使用 - Google Patents
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Abstract
Description
− 少なくとも1種の光開始剤Aと;
− ケイ素原子に結合した少なくとも1個の水素原子を含む化合物から選択される少なくとも1種の共開始剤Bと;
− 少なくとも1個の(メタ)アクリレート基を含む少なくとも1種のオルガノポリシロキサンDと
を含む、200nm〜450nmの波長の放射線への暴露によって架橋可能であるシリコーン組成物Cにおいて、共開始剤Bが、共開始剤Bの100g当たり少なくとも0.05モルのSi−H官能基を含む組成物Cに関する。
本発明によれば、使用される共開始剤Bは、ケイ素原子に結合した少なくとも1個の水素原子を含む化合物である。
(i) 式(H1):
HdLeSiO(4−(d+e))/2 (H1)
(式中:
○ Lは、水素原子とは異なる一価ラジカルを表し、
○ Hは、水素原子を表し、
○ dおよびeは、整数を表し、ここで、dは、1または2であり、eは、0、1または2であり、(d+e)は、1、2または3である)
の少なくとも2つの単位と;
(ii) 任意選択的に式(H2):
LfSiO(4−f)/2 (H2)
(式中:
○ Lは、上記と同じ意味を有し、
○ fは、0、1、2または3に等しい整数を表す)
の他の単位と
を含む。
− 式HLSiO2/2(D’単位とも言われる)およびL2SiO2/2の単位から選択されるシロキシル「D」単位、ならびに
− 式HL2SiO1/2(M’単位とも言われる)およびL3SiO2/2の単位から選択されるシロキシル「M」単位
(式中、記号Lは、上記と同じ意味を有し、記号Hは、水素原子を意味する)
からなってもよい。
− ヒドロゲノジメチルシリル末端のポリジメチルシロキサン;
− トリメチルシリル末端のポリ(ジメチルシロキサン−co−ヒドロゲノメチルシロキサン);
− ヒドロゲノジメチルシリル末端のポリ(ジメチルシロキサン−co−ヒドロゲノメチルシロキサン);
− トリメチルシリル末端のポリヒドロゲノメチルシロキサン;および
− 環状ヒドロゲノメチルポリシロキサン
である。
− 式HSiO3/2およびLSiO3/2の単位から選択されるシロキシル「T」単位;
− 式SiO4/2のシロキシル単位「Q」
(式中、記号Hは、水素原子を表し、Lは、上記と同じ意味を有する)
を含んでもよい。
本発明によれば、使用される光開始剤は、ラジカル光開始剤Aである。
の化合物が挙げられてもよく、
式中、Rは、
− H;
− Si(R1)3基[同一であるかもしくは異なる、R1基は、(C1〜C6)アルキル基である];および
− 基OR2[式中、R2は、下式(V):
に相当する]
で任意選択的に置換された、(C1〜C20)アルキル基;
− −C(=O)−R3基[式中、ラジカルR3は、線状もしくは分岐(C1〜C20)アルキル基である];
− −A−CH=CH2基[式中、ラジカルAは、
○ 共有結合、
○ −C(=O)−基、または
○ 下式(VI):
(ここで、iは、0または1であり、A1は、好ましくは線状の、(C1〜C20)アルキレンラジカルを表す)
の基
から選択される]
の中から選択される。
本発明によれば、本発明による架橋性シリコーン組成物Cは、少なくとも1個の(メタ)アクリレート基を含む少なくとも1種のオルガノポリシロキサンDを含む。
a1)下式(I):
RaZbSiO(4−a−b)/2 (I)
[式中:
− 同一であるかもしくは異なる、記号Rは、好ましくはハロゲン原子で、任意選択的に置換された、線状もしくは分岐C1〜C18アルキル基、C6〜C12アリールもしくはアラルキル基、またはアルコキシ−OR4ラジカル(ここで、R4は、水素原子もしくは1〜10個の炭素原子を含む炭化水素ラジカルである)をそれぞれ表し;
− 記号Zは、式−y−(Y’)n(ここで:
○ yは、ヒドロキシルラジカルで任意選択的に置換された二価のC1〜C4オキシアルキレンもしくはポリオキシアルキレンラジカルで任意選択的に延長させられた線状もしくは分岐C1〜C18アルキレン多価ラジカルを表し、
○ Y’は、一価のアルケニルカルボニルオキシラジカルを表し、
○ nは、1、2または3である)
の一価ラジカルであり、
− aは、0、1または2に等しい整数であり、そして一方、bは、1または2に等しい整数であり、合計a+b=1、2または3である]
の少なくとも1つの単位と;
a2)任意選択的に、式(II):
RaSiO(4−a)/2 (II)
[式中:
− 同一であるかもしくは異なる、記号Rは、好ましくはハロゲン原子で、任意選択的に置換された、線状もしくは分岐C1〜C18アルキル基、C6〜C12アリールもしくはアラルキル基をそれぞれ表し、
− aは、0、1、2または3に等しい整数である]
の単位と
を含む。
− 式R2SiO2/2、RZSiO2/2およびZ2SiO2/2の単位から選択されるシロキシル「D」単位;
− 式R3SiO1/2、R2ZSiO1/2、RZ2SiO1/2およびZ3SiO1/2の単位から選択されるシロキシル「M」単位
からなってもよく;
− 記号RおよびZは、式(I)において上で定義されたとおりである。
−CH2−;
−(CH2)2−;
−(CH2)3−;
−CH2−CH(CH3)−CH2−;
−(CH2)3−NH−CH2−CH2−;
−(CH2)3−OCH2−;
−(CH2)3−[O−CH2−CH(CH3)−]−;
−(CH2)3−O−CH2−CH(OH)(−CH2−);
−(CH2)3−O−CH2−C(CH2−CH3)[−(CH2)2−]2;および
−(CH2)2−C6H9(OH)−
が挙げられてもよい。
[式中:
− 同一であっても異なってもよい、記号R1は、好ましくはハロゲン原子で、任意選択的に置換された、線状もしくは分岐C1〜C18アルキル基、C6〜C12アリールもしくはアラルキル基、またはアルコキシ−OR4ラジカル(ここで、R4は、水素原子もしくは1〜10個の炭素原子を含む炭化水素ラジカルである)をそれぞれ表し、
− 同一であるかもしくは異なる、記号R2およびR3は、ラジカルR1か、または式Z=−w−(Y’)n(ここで:
○ wは、ヒドロキシルラジカルで任意選択的に置換されたC1〜C4二価オキシアルキレンもしくはポリオキシアルキレンラジカルで任意選択的に延長させられた線状もしくは分岐C1〜C18アルキレン多価ラジカルを表し、
○ Y’は、一価のアルケニルカルボニルオキシラジカルを表し、
○ nは、1、2または3である)
の一価ラジカルかのどちらかをそれぞれ表し、
− 式中、a=0〜1000、b=0〜500、c=0〜500、d=0〜500、そしてa+b+c+d=0〜2500であり、
− ただし、少なくとも1つの記号R2またはR3は、式Zの一価ラジカルを表す]
を有する。
− c=0、d=0、a=1〜1000、b=1〜250であり、式中、記号R2は、式Zの一価ラジカルを表し、そして一方、記号R1およびR3は、上記と同じ意味を有する。
− c=0、d=0、a=1〜500、b=1〜100であり、式中、記号R2は、式Zの一価ラジカルを表し、記号R1およびR3は、上記と同じ意味を有する。
(i) 有機(メタ)メタクリレート誘導体、および
(ii) (メタ)アクリレート官能基を持ったシリコーン
から選択される、シリコーン/接着剤界面のノンスティック力を制御するための少なくとも1つの添加物が、組成物中に含められてもよい。
− 上で定義されたような架橋性組成物Cの基材への塗布
− 200nm〜450nmの波長の放射線への暴露による組成物Cの架橋
を含む、コーティングを基材上に製造する方法に関する。
40.4ミリモル(6.67g)のブロモヘキサンおよび20.2ミリモル(2.79g)の炭酸カリウムを、100mlの2口フラスコ中10mlのアセトニトリルに導入する。溶液を次に沸騰させ、その後30mlのアセトニトリル中の10.1ミリモル(2g)の4−ヒドロキシベンゾフェノンの溶液を滴加する。溶液は、無色から黄色に変わる。反応は、溶液が再び無色になったときに完了する。
固体の水酸化カリウム(1ヒドロキシル官能基当たり4当量)を、無水ジメチルスルホキシド(DMSO)(1ヒドロキシル官能基の1ミリモル当たり2mL)に添加する。5分間攪拌した後、5ミリモルの4−ヒドロキシベンゾフェノンおよび各化合物について異なるハロゲン化化合物(1ヒドロキシル官能基当たり2当量)を反応混合物に滴加する。混合物を次に、攪拌しながらアルゴン下に周囲温度で一晩そのままにする。混合物に次に20mlの水を添加し、ジクロロメタン(1抽出当たり20ml)で3回抽出する。有機相を次に、水(1洗浄当たり10ml)で10 5回洗浄する。有機相をMgSO4上で乾燥させる。溶媒を次に、ロータリーエバポレーターで、次に羽根型ポンプ真空下で蒸発させる。
− 化合物(5)は、89%の収率で、4−ヒドロキシベンゾフェノンおよびブロモデカンから得られ;
− 化合物(6)は、71%の収率で、4−ヒドロキシベンゾフェノンおよびブロモドデカンから得られ;
− 化合物(7)は、63%の収率で、4−ヒドロキシベンゾフェノンおよび1,5−ジブロモペンタンから得られ;
− 化合物(7a)は、40%の収率で、4−ヒドロキシベンゾフェノンおよび1,10−ジブロモデカンから得られ;
− 化合物(8)は、67%の収率で、5ミリモルの4−ヒドロキシベンゾフェノンおよびブロモメタンから得られた。
0.25ミリモルの臭化マグネシウムのジエチルエーテラートを、5ミリモルのアルコールと3ミリモルのヘキサメチルジシラザンとの混合物に添加する。反応混合物を周囲温度で4時間攪拌する。
0.1ミリモルのルテニウム触媒(RuH2(CO)(P(C6H5)3)3)を10mlのトルエンに添加する。反応混合物を、還流下でArの不活性雰囲気下に135℃で15分間(触媒を活性化するための、そして溶液の色が赤色になるための時間)攪拌する。5ミリモルのチオキサントンおよび10ミリモルのトリメチルビニルシランを反応混合物に添加する。反応混合物を、Ar下に135℃で72h攪拌し続ける。化合物(2)を回収し、シリカカラム上のクロマトグラフィー(9:1シクロヘキサン/酢酸エチル溶離剤)によって精製する。収率は90%超である。
化合物(15)、BP−OHexa−アクリレートは、以下に記載されるように2工程で合成する。
12mlのCH2Cl2を含有する100mlの2口フラスコに0℃で、24.85ミリモルのトリエチルアミンおよび触媒量のDMAP(4−(ジメチルアミノ)ピリジン)とともに16.57ミリモルの6−ブロモヘキサン−1−オールを添加する。滴加漏斗に、2mLのジクロロメタンとともに18.22ミリモルのアクリレートクロリドを添加する。この後者の混合物を、フラスコ中で調製された溶液に滴加する。全体を1週間そのままにして反応させる。
反応:
手順
100mLの単口フラスコに、12ミリモルの純K2CO3とともに30mLのアセトン中の8.26ミリモルの4−ヒドロキシベンゾフェノンを導入する。混合物に、8.20ミリモルのBr−Hex−アクリレート(工程1)を攪拌しながら添加する。混合物を24時間攪拌しながら60℃にする。
12mLの無水ジクロロメタン中の15ミリモル(3g)の4−ヒドロキシ−ベンゾフェノン、22.5ミリモル(4.29g)のネオデカン酸クロリドを含有する0℃での溶液に、22.5ミリモル(2.27g)のトリエチルアミン、触媒量のDMAPを添加し、1晩攪拌しながら周囲温度で反応させる。反応が完了するとすぐに、反応媒体を20mlのジエチルエーテルに希釈し、有機相を引き続いて、HClの2N溶液、水、および塩水で洗浄し、その後無水硫酸マグネシウム上で乾燥させる。有機相を次にロータリーエバポレーターで濃縮する。得られた生成物を次に、90/10のシクロヘキサンエーテル溶離剤を使ってシリカのカラムによって精製する。収率は66%である。
100mLの1口フラスコに、50mLのDMSO中の24.6ミリモル(4.876g)の4−ヒドロキシベンゾフェノンを添加し、次に98.4ミリモル(5.520g)の水酸化カリウムを導入する。8.20ミリモル(2g)の1,6−ジブロモヘキサンを次に、攪拌しながら、アルゴン下で滴々導入する。反応物を6日間反応させる。
この実施例は、アクリルシリコーン(上の表3に記載される、A1およびA2)の重合を開始させるために、ベンゾフェノン光開始剤との併用で共開始剤としてのH3オイル(上の表2を参照されたい)の使用に関する。
次の表(表4)は、2gのA1またはA2樹脂をベースとして製造された混合物を表す。データは重量%で表す。この手順は、積層下に実施した。
次の表(表5)は、2gのA1またはA2樹脂をベースとして製造された混合物を表す。データは重量%で表す。これらの手順は、空気下に行った。
ベンゾフェノンをベンゾフェノン誘導体またはイソプロピルチオキサントン誘導体と置き換えることによって実施例1を再現する。
重合試験は、共開始剤の種類を変更したが、実施例1の条件と同じ条件下に実施した。この実施例では、オルガノ水素ポリシロキサンオイルを、表2に記載されるS1、S2またはS3から選択されるシランで置き換えた。
堆積:ケイ素のX線蛍光分析(Oxford Lab−X 3000)による表面上にコートされるシリコーン堆積物の制御。X線管がケイ素原子の電子層を励起し、それは、励起ケイ素の量に比例したX線放出を引き起こす。パスのこの値または数は、(較正線を用いる)計算によってケイ素の量に変換される。
− 平坦な、剛体表面上に試験されるべきシリコーン被覆支持体試料を置き;
− 適度に、しかし明らかに押し付けることによって指先でトレースを作り;そして
− 好ましくは低角度の光で、このように作られたトレースを肉眼で検討する。
我々はこのようにして、表面の光沢の相違によって(たとえ非常にわずかでも)トレースの存在を見ることができる。
A:非常に良好、指のトレースはまったくなし
B:少し悪い、辛うじて見えるトレース
C:明らかなトレース
D:表面の非常に明らかなトレースおよび油のような外観、辛うじて重合した生成物、
すなわち、AからDまでの、最良の結果から最悪の結果までの格付け。
− 平坦な、剛体表面上に試験されるべきシリコーン被覆支持体試料を置き、ここでシリコーンは上面上にあり;
− 適度に、しかし明らかに押し付けながら(約10センチメートル長さの)指先での前後に10回の移動を行い;
− 擦り減りの出現を肉眼で検討する。擦り減りは、指下に転がる微細な白色粉末または小さなボールを出現させる。
・ 10:非常に良好、10回のA−R後に擦り減りの出現はまったくなし
・ 1:非常に悪い、第1パスから擦り減り。
すなわち、1〜10の評点、最悪の結果から最良の結果まで。
− 巻き戻しの方向(縦方向)に採取された、試験されるべきシリコーン被覆紙の約20×5cmの試料を選択し;
− 約15cmの長さの接着テープを切り取り、次にそれを、しわなしに、試験されるべき紙上に接着剤側で置き、接着テープ(3M Scotchテープ、参照番号610、幅:25mm)の長さに沿って指を滑らせることによって10回圧力をかけ;
− 接着テープを取り除き、それを平坦な、接着剤側を上にして置き;
− テープの接着剤側上に、(使い捨ての)綿棒を使って、約10cm長さのインク(表面張力=約30ダイン/cmおよび粘度 2〜4mPa/sのSHERMANまたはFERARINIおよびBENELI銘柄インク)のトレースを設置する。直ちにストップウォッチを始動させ;
− 我々は、インク・ストロ−クが外観を変えるときにディウェッティング現象の段階が始まると考え;そのときタイマーを停止し;
− テープの接着剤側からのインクの除去は、シリコーンコーティング後2分以内に達成されなければならず;
− 得られる結果が10秒未満である場合、接着剤上でシリコーン移行があると、そして重合は完全ではないと推定され;
− 0〜10の格付けは、ディウェッティング現象の観察前に秒単位で経過する時間に応じて与えられ;
− 得られる結果が10秒である場合、重合は完全であると推定される。この場合には、結果が非常に良好であることを意味する10の評点が与えられ;
− 得られた格付けおよび使用されたインク(名前、銘柄、表面張力、粘度)に留意されたい。
重合中に形成されたネットワークにグラフトされていないシリコーンの量の測定。これらのシリコーンを、最低24時間MIBK中への機械出口からの試料の浸漬によってフィルムから抽出する。これをフレーム吸光分析によって測定する。
多層物品を形成するために、標準化接着剤被覆支持体TESA7475(支持体=PET−接着剤=アクリル)を、上で製造されたシリコーンライナー(=UV下の架橋によって得られたシリコーンコーティングでコートされた支持体)上で複合化する。熟成前後の剥離力ならびにその後の接着およびループタック値を測定するために、けん引力試験を実施する。これらの試験は、以下に記載する。
その後の接着(または「SubAd」)
当業者に公知のFINAT 11(FTM 11)試験に従ってシリコーンコーティングと接触していた接着剤(TESA 7475)の接着性の保持を検証するための測定。この試験では、対照検体はPETであり、接着剤は、70℃で1日間および70℃で7日間試験されるべきシリコーン表面と接触したままである。
(式中:
Fm2=20時間シリコーン支持体と接触後の平均テープノンスティック力であり;
Fm1=シリコーン支持体との平均(非接触)テープノンスティック力である)
で表される。
この実施例では、ベンゾフェノンを光開始剤として、および共開始剤として、化合物H9(表2を参照されたい)を使用した。様々な調合物を下の表11に記載する。タイプI光開始剤系、すなわち、エチル(1,4,6−トリエチルベンゾイル)フェニルホスフィネート(PA I)をまた試験した。
− 線速度:50m/分 − UVランプ:100W/cmでのHoenle
− コロナ:1000W − ランプ下の残留O2:20ppm未満。
この実施例では、コーティング組成物中のSi−Hのモル含有量および光開始剤のモル含有量をコーティング組成物において変えた。このために、対照としてタイプI PA I光開始剤系を使って、3つのモル濃度の異なるSi−H官能基(シリコーン組成物の100g当たり0.001−0.002および0.003モル)ならびに、それぞれについて、4つのモル濃度の光開始剤(シリコーン組成物の100g当たり0.0017−0.0033−0.0064および0.0129モル)を使用した。使用される光開始剤は、Genocure(登録商標)LBPである。
− 線速度:50m/分 − UVランプ:200W/cmでのHoenle
− コロナ:1000W − ランプ下の残留O2:20ppm未満。
この実施例では、出発組成物中のSi−H官能基の一定濃度で、しかし可変のSi−H官能基含有量のオルガノ水素ポリシロキサンオイルを使用して試験を実施した。オイルH4、H9、H8およびH5を使用した(表2を参照されたい)。一定濃度のGenocure(登録商標)LBP光開始剤を使用した。
− 線速度:50m/分 − UVランプ:200W/cmでのHoenle
− コロナ:1000W − ランプ下の残留O2:20ppm未満。
この実施例は、共開始剤の種類および、特に、Si−H単位の位置(鎖の末端、鎖中、または両方)の重合への影響の研究に関する。
− 線速度:50m/分 − UVランプ:200W/cmでのHoenle
− コロナ:1000W − ランプ下の残留O2:20ppm未満。
この実施例では、オルガノポリシロキサン官能化アクリレートの混合物を使用した。Genocure(登録商標)LBPを光開始剤として、およびH9オイルを共開始剤として使用した。
− 線速度:50m/分 − UVランプ:200W/cmでのHoenle
− コロナ:1000W − ランプ下の残留O2:20ppm未満。
新しいシリーズの試験を、シリコーン組成物中のより低い濃度の光開始剤および共開始剤を試験するために実施した。Genocure(登録商標)LBPおよびGenocure(登録商標)LBP−2を光開始剤として、およびH9オイルを共開始剤として使用した。
− 線速度:50m/分 − UVランプ:100W/cmでのHoenle
− コロナ:1000W − ランプ下の残留O2:20ppm未満。
この実施例では、修飾ベンゾフェノンを光開始剤として、および共開始剤として、化合物H9(表2を参照されたい)を使用した。異なる調合物を次の表15に記載する。ベンゾフェノンGenocure LBPおよびエチル(1,4,6−トリエチルベンゾイル)フェニルホスフィネート(PA I)であるタイプI光開始剤系をまた試験した。
− 線速度:50m/分 − UVランプ:200W/cmでのHoenle
− ランプ下の残留O2:20ppm未満。
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JP2022106747A (ja) * | 2015-12-22 | 2022-07-20 | エルケム・シリコーンズ・フランス・エスアエス | シリコーン組成物を架橋させるためのタイプii光開始剤系の使用 |
Families Citing this family (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6567159B2 (ja) * | 2015-07-06 | 2019-08-28 | エルケム・シリコーンズ・フランス・エスアエスELKEM SILICONES France SAS | 自己接着性多層物品およびそれを製造する方法 |
KR102240076B1 (ko) * | 2017-11-10 | 2021-04-14 | 주식회사 엘지화학 | 이형 조성물 및 이의 경화물을 포함하는 이형층을 포함하는 이형 필름 |
IL257535B (en) * | 2018-02-14 | 2020-01-30 | N3 Coat Ltd | Benzophenone compounds as light catalysts for polyolefins |
KR20210110342A (ko) * | 2018-12-28 | 2021-09-07 | 아이지엠 레진스 이탈리아 에스.알.엘. | 광개시제 |
KR102498354B1 (ko) * | 2019-10-23 | 2023-02-08 | 주식회사 엘지화학 | 실리콘계 이형제 조성물, 이로부터 경화된 이형층을 구비하는 이형필름 및 그 제조방법 |
EP4067442A4 (en) * | 2019-11-27 | 2023-12-06 | ThreeBond Co., Ltd. | PRIMER COMPOSITION |
US20240141210A1 (en) * | 2020-05-07 | 2024-05-02 | Dow Silicones Corporation | Silicone hybrid pressure sensitive adhesive and methods for its preparation and use on uneven surfaces |
JP7411500B2 (ja) * | 2020-05-11 | 2024-01-11 | 信越化学工業株式会社 | 光硬化性シリコーン組成物、接着剤、シリコーン硬化物 |
EP4274856A1 (fr) | 2021-01-08 | 2023-11-15 | Elkem Silicones France SAS | Composition silicone réticulable par irradiation comprenant un modulateur d'adhérence |
KR20230173661A (ko) * | 2021-03-10 | 2023-12-27 | 엘켐 실리콘즈 프랑스 에스에이에스 | 실리콘 조성물 경화용 유형i 광개시제 |
CN113173851B (zh) * | 2021-04-13 | 2023-02-14 | 华南理工大学 | 一种uv交联单体及其制备方法与在制备含氟丙烯酸酯乳液中的应用 |
CN113651904B (zh) * | 2021-08-12 | 2023-05-12 | 管和平 | 一种可光聚合单组分硫杂蒽酮类光引发剂 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5061486A (ja) * | 1973-09-28 | 1975-05-27 | ||
JPS5845259A (ja) * | 1981-06-15 | 1983-03-16 | ロ−ン−プ−ラン・スペシヤリテス・シミク | 光重合性液体オルガノポリシロキサン組成物 |
JPH09296113A (ja) * | 1996-04-26 | 1997-11-18 | Toray Dow Corning Silicone Co Ltd | 導電性シリコーンゴム組成物、半導体装置の製造方法およびその半導体装置 |
JP2013203794A (ja) * | 2012-03-27 | 2013-10-07 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | オルガノポリシロキサン組成物、該オルガノポリシロキサン組成物の硬化方法、及び発光ダイオード |
JP2013543032A (ja) * | 2010-10-19 | 2013-11-28 | ヒンターワルドナー コンサルティング アンド パートナー | 不粘着性コーティング製造用組成物 |
JP2014001342A (ja) * | 2012-06-20 | 2014-01-09 | Momentive Performance Materials Inc | 紫外線硬化型シリコーン樹脂組成物、及びそれを用いた画像表示装置 |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4558082A (en) * | 1984-05-10 | 1985-12-10 | General Electric Company | Acrylated polymers |
US4585669A (en) * | 1984-09-28 | 1986-04-29 | General Electric Company | Novel dual cure silicone compositions |
CA1256239A (en) * | 1984-09-28 | 1989-06-20 | Richard P. Eckberg | Dual cure silicone compositions |
DE4003079A1 (de) * | 1990-02-02 | 1991-08-08 | Bayer Ag | Benzophenonderivate und polymere mit phenolischen hydroxylgruppen |
JP2000509089A (ja) * | 1996-04-19 | 2000-07-18 | ミネソタ・マイニング・アンド・マニュファクチャリング・カンパニー | ポリマを放射線架橋する方法及び放射線架橋性組成物 |
US6254802B1 (en) * | 1997-05-16 | 2001-07-03 | Cryovac, Inc. | Low migratory photoinitiators for oxygen-scavenging compositions |
ES2208421T3 (es) * | 1999-07-27 | 2004-06-16 | PIRELLI & C. S.P.A. | Cable, en particular para el transporte o distribucion de energia electrica y composicion de aislamiento. |
BR112014003900A2 (pt) * | 2011-09-01 | 2017-03-14 | 3M Innovative Properties Co | métodos para produção de uma camada ao menos parcialmente curada |
FR3015508B1 (fr) * | 2013-12-20 | 2016-02-05 | Bluestar Silicones France | Nouveau systeme d'inhibition d'hydrosilylation photoactivable |
TWI738684B (zh) * | 2015-12-09 | 2021-09-11 | 德商漢高智慧財產控股公司 | 可脫黏組合物 |
FR3045641B1 (fr) | 2015-12-22 | 2021-04-30 | Bluestar Silicones France | Utilisation d'un systeme photoamorceur de type ii pour la reticulation de compositions silicones |
-
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Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5061486A (ja) * | 1973-09-28 | 1975-05-27 | ||
JPS5845259A (ja) * | 1981-06-15 | 1983-03-16 | ロ−ン−プ−ラン・スペシヤリテス・シミク | 光重合性液体オルガノポリシロキサン組成物 |
JPH09296113A (ja) * | 1996-04-26 | 1997-11-18 | Toray Dow Corning Silicone Co Ltd | 導電性シリコーンゴム組成物、半導体装置の製造方法およびその半導体装置 |
JP2013543032A (ja) * | 2010-10-19 | 2013-11-28 | ヒンターワルドナー コンサルティング アンド パートナー | 不粘着性コーティング製造用組成物 |
JP2013203794A (ja) * | 2012-03-27 | 2013-10-07 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | オルガノポリシロキサン組成物、該オルガノポリシロキサン組成物の硬化方法、及び発光ダイオード |
JP2014001342A (ja) * | 2012-06-20 | 2014-01-09 | Momentive Performance Materials Inc | 紫外線硬化型シリコーン樹脂組成物、及びそれを用いた画像表示装置 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2022106747A (ja) * | 2015-12-22 | 2022-07-20 | エルケム・シリコーンズ・フランス・エスアエス | シリコーン組成物を架橋させるためのタイプii光開始剤系の使用 |
JP7496579B2 (ja) | 2015-12-22 | 2024-06-07 | エルケム・シリコーンズ・フランス・エスアエス | シリコーン組成物を架橋させるためのタイプii光開始剤系の使用 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
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