EP3408340A1 - Utilisation d'un système photoamorceur de type ii pour la réticulation de compositions silicones - Google Patents

Utilisation d'un système photoamorceur de type ii pour la réticulation de compositions silicones

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Publication number
EP3408340A1
EP3408340A1 EP16819932.1A EP16819932A EP3408340A1 EP 3408340 A1 EP3408340 A1 EP 3408340A1 EP 16819932 A EP16819932 A EP 16819932A EP 3408340 A1 EP3408340 A1 EP 3408340A1
Authority
EP
European Patent Office
Prior art keywords
composition
initiator
radical
silicone
photoinitiator
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
EP16819932.1A
Other languages
German (de)
English (en)
Inventor
Guillaume PIBRE
Jean-Marc Frances
Xavier Allonas
Perrine Theil
Ahmad IBRAHIM
Christian Maliverney
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Universite de Haute Alsace
Elkem Silicones France SAS
Original Assignee
Universite de Haute Alsace
Elkem Silicones France SAS
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Universite de Haute Alsace, Elkem Silicones France SAS filed Critical Universite de Haute Alsace
Publication of EP3408340A1 publication Critical patent/EP3408340A1/fr
Pending legal-status Critical Current

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    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D183/00—Coating compositions based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon, with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Coating compositions based on derivatives of such polymers
    • C09D183/04—Polysiloxanes
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
    • C08G77/04—Polysiloxanes
    • C08G77/06—Preparatory processes
    • C08G77/08—Preparatory processes characterised by the catalysts used
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
    • C08G77/42—Block-or graft-polymers containing polysiloxane sequences
    • C08G77/44—Block-or graft-polymers containing polysiloxane sequences containing only polysiloxane sequences
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00—Use of organic ingredients
    • C08K5/0008—Organic ingredients according to more than one of the "one dot" groups of C08K5/01 - C08K5/59
    • C08K5/0025—Crosslinking or vulcanising agents; including accelerators
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
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    • C08K5/00—Use of organic ingredients
    • C08K5/04—Oxygen-containing compounds
    • C08K5/07—Aldehydes; Ketones
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    • C08K5/00—Use of organic ingredients
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    • C08K5/45—Heterocyclic compounds having sulfur in the ring
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    • C08L83/04—Polysiloxanes
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    • C08G77/12—Polysiloxanes containing silicon bound to hydrogen
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    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
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    • C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L2312/00—Crosslinking
    • C08L2312/06—Crosslinking by radiation

Definitions

  • the subject of the present invention is the use of a type II photoinitiator system for the radical crosslinking of silicone compositions, in particular of acrylic silicone compositions.
  • plastic films as support materials for the coating of silicone coatings in order to create release coatings requires appropriate technology. Indeed, most of these plastic films are heat-sensitive. Thus, a dimensional deformation of the film occurs during the coating and drying in thermal furnaces of the silicone layer under the combined effect of the tensile forces and the temperature imposed on the films.
  • the crosslinking technology for functional silicone oils under ultraviolet (UV) radiation makes it possible to dispense with the use of high temperatures and thus to crosslink non-stick layers without impacting the supports. In addition, this technology has the advantage of achieving high productivity without being energy-consuming and without using solvents.
  • Plastic substrates are materials of choice for many applications and their use is constantly growing. Also, an effort of research and innovations is essential in the field of the crosslinking under UV of thin films of silicone.
  • the silicone compositions are generally crosslinked under UV or visible radiation emitted by doped or non-doped mercury vapor lamps whose emission spectrum extends from 200 nm to 450 nm.
  • Light sources such as light-emitting diodes, better known by the acronym "LED” (Light-Emitting Diodes) which deliver a specific UV or visible light can also be used.
  • the crosslinking under irradiation is promoted by a photoinitiator molecule.
  • a large literature describes photoinitiators and their uses.
  • type I photoinitiators In the field of the radical polymerization of acrylic silicone compositions, the photoinitiator molecules commonly used are so-called type I photoinitiators. Under irradiation, these molecules split and produce free radicals. These radicals induce the polymerization initiation reaction which results in the curing of the compositions. Many efforts have been made to ensure that Type I photoinitiators have characteristics allowing their use in acrylic silicone formulations to obtain release coatings.
  • the term "type I photoinitiators” means compounds well known to those skilled in the art, capable of generating free radical initiators of polymerization under UV excitation by intramolecular homolytic fragmentation.
  • type II photoinitiator systems including a radical photoinitiator and a co-initiator.
  • the photoinitiators used are capable of generating polymerization initiator free radicals by reaction with another compound called co-initiator, said reaction causing the transfer of a hydrogen from the co-initiator to said photoinitiator.
  • the photoinitiators used in type II photoinitiator systems are referred to as "type II photoinitiators".
  • the object of the present invention is to provide a radically polymerizable or crosslinkable silicone composition comprising a type II photoinitiator system suitable for crosslinking silicone compositions, in particular by exposure to radiation.
  • the present invention also aims to provide a radically polymerizable or crosslinkable silicone composition comprising a type II photoinitiator system adapted for the crosslinking of silicone compositions, in particular by exposure to radiation, miscible in the silicone composition and having good properties. absorption of light radiation at the wavelengths considered for the application, namely between 200 nm and 450 nm.
  • the present invention also aims to provide a method for preparing a film or a coating on a substrate from the radical-polymerizable silicone composition according to the invention.
  • the present invention also aims to provide a substrate coated with a film or a coating obtained from the radical-polymerizable silicone composition according to the invention.
  • Another object of the present invention is to provide silicone compositions which make it possible to obtain non-stick coatings which crosslink under radiation, and in particular under UV radiation, from organopolysiloxanes.
  • organopolysiloxanes comprising (meth) acrylate groups, especially (meth) acrylic ester groups or epoxy acrylates or polyether acrylates.
  • the present invention relates to a silicone composition C crosslinkable by exposure to a wavelength of radiation between 200 nm and
  • At least one radical photoinitiator A at least one radical photoinitiator A
  • At least one co-initiator B chosen from compounds comprising at least one hydrogen atom bonded to a silicon atom;
  • At least one organopolysiloxane D comprising at least one group
  • co-initiator B comprises at least 0.05 moles of Si-H functional groups per 100 g of co-initiator B.
  • a hydrogen atom bonded to a silicon atom is understood to mean an Si function -H or a Si-H bond.
  • the present invention is therefore based on the use of a specific type II photoinitiator system comprising the combination of a radical photoinitiator A and a co-initiator B chosen from compounds comprising at least one hydrogen atom bound to a silicon atom.
  • crosslinking is understood to mean the hardening of the composition by polymerization reactions of the meth (acrylate) functions.
  • crosslinkable silicone composition by exposure to radiation means a composition comprising at least one organopolysiloxane capable of curing by exposure to radiation of wavelength between 200 nm and 450 nm, in particular UV radiation.
  • the composition comprises a type II photoinitiator system which, under the effect of the absorption of the incident light energy, releases free radicals into the medium.
  • These radicals act as initiators of radical polymerization of (meth) acrylic functions. Since it is the motor of the hardening of the composition, the photoinitiator system is an essential key of this application.
  • the type II photoinitiator system according to the invention comprising a photoinitiator molecule A in combination with a co-initiator molecule B comprising at least one hydrogen atom bonded to a silicon atom, introduced into a silicone composition C, comprising at least an organopolysiloxane D with (meth) acrylic functions makes it possible to obtain crosslinked films under irradiation, in particular with anti-adhesion properties.
  • the co-initiator B used is a compound comprising at least one hydrogen atom bonded to a silicon atom.
  • the co-initiator B is preferably an organosilicon compound comprising at least one hydrogen atom bonded to a silicon atom.
  • the silicone compositions C according to the invention comprise a mixture of co-initiators.
  • organosilicon compounds comprising at least one hydrogen atom bonded to a silicon atom
  • the groups R can also represent radicals -SiR ' 3 , the groups R', which are identical or different, being chosen from the radicals (CrC 10 ) alkyls and the radicals (C 6 -C 10 ) aryls.
  • R may represent a phenyl group or an alkyl group, especially methyl, ethyl or octadecyl.
  • R can also represent a group -SiMe 3 .
  • silanes S that may be used as co-initiators B according to the invention, mention may be made of 2-triethylsilane, dimethylphenylsilane, diphenylsilane, triphenylsilane and tris (trimethylsilyl) silane.
  • silanes S mention may also be made of N, N-diethyl-1,1-dimethylsilylamine, 1,1,3,3-tetramethyldisilazane,
  • the co-initiator B according to the invention is chosen from the group consisting of tris (trimethylsilyl) silane (TTMSS), triphenylsilane (TPSi) and octadecylsilane (OctaSi).
  • the co-initiator B according to the invention comprises at least one siloxane bond and at least one hydrogen atom bonded to a silicon atom.
  • siloxane bond is meant a ⁇ Si-O-Si ⁇ bond.
  • the co-initiator B according to the invention is chosen from organohydrogenpolysiloxanes H.
  • the organohydrogenpolysiloxane H comprises at least two, and preferably three, hydrogen atoms each bonded to different silicon atoms.
  • the organohydrogenpolysiloxane H comprises:
  • L represents a monovalent radical different from a hydrogen atom
  • H represents the hydrogen atom
  • d and e represent integers, d being 1 or 2, e being 0, 1 or 2 and (d + e) being 1, 2 or 3;
  • f represents an integer equal to 0, 1, 2 or 3.
  • L may preferably represent a monovalent radical selected from the group consisting of an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, optionally substituted by at least one atom halogen, and a aryl group. L may advantageously represent a monovalent radical chosen from the group consisting of methyl, ethyl, propyl, 3,3,3-trifluoropropyl, xylyl, tolyl and phenyl. Examples of units of formula (H1) are as follows:
  • the organohydrogenpolysiloxane H can have a linear, branched, cyclic or network structure.
  • linear organohydrogenpolysiloxanes these can essentially consist of:
  • siloxyl units "M” selected from units of formulas HL 2 Si0 1/2 (also called pattern M ') and L 3 Si0 2/2,
  • These linear organohydrogenpolysiloxanes H may be oils having a dynamic viscosity at 25 ° C of between 1 mPa.s and 100 000 mPa.s, preferably between 1 mPa.s and 5000 mPa.s, and even more preferably between 1 mPa. s and 2,000 mPa.s.
  • cyclic organohydrogenpolysiloxanes may consist of "D" siloxyl units selected from the units of formulas HLSiO 2/2 and L 2 SiO 2/2 , or of siloxyl units of formula HLSiO 2 / 2 only.
  • the units of formula L 2 SiO 2/2 may especially be dialkylsiloxy or alkylarylsiloxy.
  • These cyclic organohydrogenpolysiloxanes may have a dynamic viscosity at 25.degree. C. of between 1 mPa.s and 5000 mPa.s.
  • organohydrogenpolysiloxane H examples are:
  • polysimethylsiloxane-co-hydrogenomethylsiloxane with hydrogenodimethylsilyl ends
  • polyhydromethylsiloxanes with trimethylsilyl ends
  • cyclic hydrogen methylpolysiloxanes
  • organohydrogenpolysiloxanes H these may furthermore comprise:
  • siloxyl "T" units chosen from the units of formulas HSi0 3/2 and LSi0 3/2 ;
  • co-initiator B comprises at least 0.08 mol of Si-H functions per 100 g of co-initiator B, more preferably between 0.08 mol and 2.5 mol of Si-H functions for 100 g co-initiator B, and even more preferably between 0.08 mole and 1.8 moles, of Si-H functions per 100 g co-initiator B.
  • the co-initiator B is an organohydrogenpolysiloxane polymer H comprising at least 0.05 mol of Si-H functions per 100 g of polymer, preferably at least 0.08 mol of Si-H functions per 100 g. of polymer, more preferably between 0.08 mole and 2.5 moles of Si-H functions per 100 g of polymer, and still more preferably between 0.08 mole and 1.8 moles, of Si-H functions per 100 g of polymer.
  • the concentration of Si-H functions is less than or equal to 0.01 mol / 100 g of composition C, preferably less than 0.006 mol / 100 g of composition C, and more preferably less than 0.005 mol / 100 g of composition C.
  • the crosslinkable silicone compositions C according to the invention comprise between 0.0001 mole and 0.01 mole of Si-H functions per 100 g of composition C, especially between 0.0002 mole and 0.01 mole of functions
  • Si-H per 100 g of composition C and preferably between 0.0002 mole and 0.006 mole of Si-H functions per 100 g of composition C.
  • the photoinitiator used is a radical photoinitiator A.
  • a radical photoinitiator A capable of being used in a type II photoinitiator system, absorbing the luminous radiations of length wavelength between 200 nm and 450 nm.
  • the radical photoinitiator A is chosen from the group consisting of benzophenone and its derivatives, thioxanthone and its derivatives, anthraquinone and its derivatives, benzoylate formate esters, camphorquinone, benzil, phenanthrenequinone , coumarines and cetocoumarines and their mixtures.
  • Benzophenone derivatives are substituted benzophenones and polymeric versions of benzophenone.
  • thioxanthone derivatives By thioxanthone derivatives is meant thioxanthones substituted and anthraquinone derivatives, denotes substituted anthraquinones, especially anthraquinone sulfonic acids and acrylamido-substituted anthraquinones.
  • methyl benzoylformate optionally bifunctional.
  • free-radical photoinitiators A mention may be made in particular of the following products: isopropylthioxanthone; benzophenone; camphorquinone; 9- xanthenone; anthraquinone; 1-4 dihydroxyanthraquinone; 2-methylanthraquinone;
  • radical photoinitiators A examples include benzophenone derivatives, Esacure TZT ® products, Speedcure ® MBP Omnipol ® BP and from derivatives of thioxanthone, Irgacure the products ® 907, Omnipol ® TX and Genopol ® TX-1.
  • the radical photoinitiator A according to the invention is chosen from the group consisting of: benzophenone, substituted benzophenones, thioxanthone, substituted thioxanthones, and mixtures thereof.
  • R is selected from:
  • a 1 represents a (C 1 -C 20 ) alkylene radical, preferably linear.
  • the radical photoinitiator A is chosen from the group consisting of: benzophenone, 2-methylbenzophenone, 3-methylbenzophenone, 2,5-dimethylbenzophenone, 3,4-dimethylbenzophenone, 2,4-dimethyl benzophenone, 4-isopropylbenzophenone and 2-trimethylsilyloxy benzophenone and mixtures thereof.
  • the ratio between the number of moles of photoinitiator A and the number of moles of functions Si-H of co-initiator B is greater than or equal to 0.5, preferably between 0 , 5 and 20, and even more preferably between 1 and 10. According to a preferred embodiment, in the composition C, the ratio between the number of moles of photoinitiator A and the number of moles of Si-H functions of the co-initiator B is between 1 and 5.
  • the crosslinkable silicone compositions C according to the invention comprise at least 0.0003 moles of radical photoinitiator A, per 100 g of composition C, and preferably at least 0.0005 moles of radical photoinitiator A, per 100 g of composition C.
  • the mole content of radical photoinitiator A in the compositions C of the invention is between 0.0003 and 0.015 mole per 100 g of composition C, and even more preferentially between 0.0005 and 0.015 mole per 100 g of composition C.
  • the crosslinkable silicone compositions C according to the invention comprise at least one organopolysiloxane D comprising at least one (meth) acrylate group.
  • (meth) acrylate functional groups carried by silicone and particularly suitable for the invention mention may be made more particularly of acrylate, methacrylate and ether derivatives of (meth) acrylates and esters of (meth) acrylates linked to the chain. polysiloxane via an Si-C bond.
  • the organopolysiloxane D comprises:
  • R identical or different, each represent a linear or branched C 18 to C 18 alkyl group, a C 6 to C 12 aryl or aralkyl group, optionally substituted, preferably with halogen atoms, or a radical alkoxy -OR 4 with R 4 being a hydrogen atom or a hydrocarbon radical comprising from 1 to 10 carbon atoms,
  • Z are monovalent radicals of formula -y- (Y ') n in which:
  • Y is a linear or branched C 1 -C 18 alkylene radical optionally extended by divalent oxyalkylene or polyoxyalkylene d-C 4 radicals optionally substituted with a hydroxy radical
  • ⁇ Y ' represents a monovalent alkenylcarbonyloxy radical
  • R represents an alkyl group Ci-Ci 8 linear or branched, aryl or aralkyl group C 6 to C 2, optionally substituted, preferably by halogen atoms, and
  • - - a is an integer equal to 0, 1, 2 or 3.
  • R may advantageously represent a monovalent radical chosen from the group consisting of: methyl, ethyl, propyl, 3,3,3-trifluoropropyl, xylyl, tolyl and phenyl.
  • the organopolysiloxane D can have a linear, branched, cyclic or network structure.
  • linear organopolysiloxanes these can essentially consist of:
  • siloxy units "D" selected from the units of formula R 2 Si0 2/2, 2/2 RZSi0 and Z 2 Si0 2/2;
  • siloxy units "M” selected from units of the formulas R 3 SiO / 2, R 2 ZSiOi / 2, RZ SiO 2 / SiO 2 and Z 3/2, and
  • the organopolysiloxane D has the following formula (III):
  • R 1 which are identical or different, each represent a linear or branched C 18 to C 18 alkyl group, a C 6 to C 12 aryl or aralkyl group, optionally substituted, preferably with halogen atoms, or alkoxy radical -OR 4 with R 4 being a hydrogen atom or a hydrocarbon radical comprising from 1 to 10 carbon atoms,
  • W represents a C 1 -C 8 linear or branched C 1 -C 8 alkylene polyvalent radical optionally extended by bivalent oxyalkylene or C 1 -C 4 polyoxyalkylene radicals optionally substituted with a hydroxyl radical,
  • Y ' represents a monovalent alkenylcarbonyloxy radical
  • N is equal to 1, 2 or 3
  • R 2 represents the monovalent radical of formula Z and the symbols R 1 and R 3 have the same meaning as above.
  • the organopolysiloxane D according to the invention has the following formula:
  • x is between 1 and 1000;
  • n is between 1 and 100.
  • the crosslinkable silicone compositions C according to the invention may also comprise at least one additive.
  • at least one additive for controlling the release force of a silicone / adhesive interface can be included in the composition which is chosen from:
  • Suitable organic (meth) acrylate derivatives are epoxidized (meth) acrylates, (meth) acryloglyceropolyesters, (meth) acrylureaganes, (meth) acrylopolyethers, (meth) acrylopolyesters, and (meth) acryloacrylic compounds. More particularly preferred are trimethylolpropane triacrylate, tripropylene glycol diacrylate and pentaerythritol tetraacrylate. According to a preferred variant of the invention, the additive used is a silicone with (meth) acrylate function (s).
  • (meth) acrylate functional groups carried by silicone and particularly suitable for the invention mention may be made more particularly of acrylate, methacrylate and meth (meth) acrylate derivatives and meth (acrylate) esters linked to the chain. polysiloxane via an Si-C bond.
  • Such acrylate derivatives are in particular described in patents EP 0 281 718, FR 2 632 960 and EP 0 940 458.
  • additives such as thiols or aromatic amines can be added to accelerate the crosslinking of the composition.
  • the composition C does not include platinum.
  • the present invention also relates to the use of the composition C according to the invention, for the preparation of silicone films with anti-adherent properties.
  • compositions C as defined above are used, in which the ratio between the number of moles of photoinitiator A and the number of moles of Si-H functions of co-initiator B is included. between 0.5 and 20, preferably between 1 and 5, said co-initiator B preferably comprising at least 0.08 mol, preferably between 0.1 mol and 2.5 mol, of Si-H functions per 100 g.
  • the present invention also relates to a silicone elastomer obtained by crosslinking a crosslinkable composition C as defined above.
  • the present invention also relates to a process for preparing silicone films with anti-adhesive properties, comprising a step of crosslinking a crosslinkable composition C as defined above.
  • compositions C as defined above, in which the ratio between the number of moles of radical photoinitiator A and the number of moles of Si-H functions of the co-initiator, are used.
  • B is between 0.5 and 20, preferably between 1 and 5, said co-initiator B preferably comprising at least 0.08 mol, preferably between 0.1 mol and 2.5 mol, of Si-H functions for 100 g of co-initiator B.
  • the crosslinking step is carried out under air or under an inert atmosphere.
  • this crosslinking step is carried out under an inert atmosphere.
  • the crosslinking step of the process according to the invention is carried out by radiation with a wavelength of between 200 nm and 450 nm, preferably under an inert atmosphere.
  • the present invention also relates to a process for preparing a coating on a substrate, comprising the following steps:
  • the UV radiation can be emitted by doped or non-doped mercury vapor lamps whose emission spectrum extends from 200 nm to 450 nm.
  • Light sources such as light-emitting diodes, better known by the acronym "LED” (Light-Emitting Diodes) which deliver a specific UV or visible light can also be used.
  • the radiation is ultraviolet light with a wavelength of less than 400 nanometers.
  • the radiation is ultraviolet light having a wavelength greater than 200 nanometers.
  • the irradiation time can be short and is generally less than 1 second and is of the order of a few hundredths of a second for the low coating thicknesses.
  • the crosslinking obtained is excellent even in the absence of any heating.
  • the crosslinking step is carried out at a temperature of between 10 ° C. and 50 ° C., preferably between 15 ° C. and 35 ° C.
  • composition C according to the invention without solvent that is to say undiluted, can be applied using devices able to deposit, in a uniform manner, small amounts of liquid.
  • the device called “sliding helio" comprising in particular two superimposed cylinders: the role of the lowest placed cylinder, immersed in the coating tank where the compositions are located, is to impregnate into one very thin layer the cylinder placed highest, the role of the latter is then to deposit on the paper the desired quantities of the compositions which it is impregnated, such a dosage is obtained by adjusting the respective speed of the two cylinders which rotate in direction reverse one another.
  • composition C deposited on the supports are variable and generally range from 0.1 to 5 g / m 2 of treated surface. These amounts depend on the nature of the supports and the desired anti-adherent properties. They are most often between 0.5 and 1.5 g / m 2 for non-porous supports.
  • This method is particularly suitable for preparing a non-stick silicone coating on a substrate which is a flexible support in textile, paper, polyvinyl chloride, polyester, polypropylene, polyamide, polyethylene, polyethylene terephthalate, polyurethane or non-woven fiberglass.
  • These coatings are particularly suitable for their use in the field of anti-adhesion.
  • the present invention therefore also relates to a coated substrate capable of being obtained according to the process as defined above.
  • the substrate may be a flexible support of textile, paper, polyvinyl chloride, polyester, polypropylene, polyamide, polyethylene, polyethylene terephthalate, polyurethane or nonwoven glass fibers.
  • the coated substrates have an anti-adherent, water-repellent, or improved surface properties such as slipperiness, stain resistance or softness.
  • Another subject of the invention relates to the following compounds (2), (4), (5), (6), (7), (7a), (9), (15), (16) and (17). :
  • the invention also relates to the use of the compounds (2), (4), (5), (6), (7), (7a), (9), (15), (16) and (17) described above as radical photoinitiators, and preferably the use of compounds (2), (4), (5), (6), (7), (7a), (9), (15), (16) and (17) described above as radical photoinitiators for the crosslinking of silicone compositions.
  • the mixture is filtered through Celite TM, and the filtrate is concentrated on a rotary evaporator.
  • the product is then purified on a silica column with a 90/10 cyclohexane / ethyl acetate eluent.
  • the product is left under vacuum for 2 days to remove traces of bromohexane.
  • the product obtained is a white crystalline solid with a yield of 70.7%
  • the solid hydroxide hydroxide (4 equivalents per hydroxyl function) is added to anhydrous dimethylsulfoxide (DMSO) (2mL per mmol of hydroxyl function). After stirring for 5 minutes, 5 mmol of 4-hydroxybenzophenone and the Different halogenated compounds for each compound (2 equivalents per hydroxyl function) are added dropwise to the reaction mixture. The mixture is then left overnight at room temperature with stirring and under argon. The mixture is then added with 20 ml of water and extracted three times with dichloromethane (20 ml per extraction). The organic phases are then washed five times with water (10 ml per wash). The organic phase is dried over MgSO4. The solvent is then evaporated on a rotary evaporator and then under a pallet pump vacuum.
  • DMSO dimethylsulfoxide
  • the compound (5) was obtained from 4-hydroxybenzophenone and bromodecane, with a yield of 89%;
  • the compound (6) was obtained from 4-hydroxybenzophenone and bromododecane, with a yield of 71%;
  • the compound (7) was obtained from 4-hydroxybenzophenone and 1,5-dibromopentane, with a yield of 63%;
  • reaction medium is supplemented with 10 ml of water and extracted three times with diethyl ether (10 ml by extraction).
  • diethyl ether 10 ml by extraction.
  • the combined ethereal phases are then washed with water and then dried over MgSO 4 .
  • the solvent is evaporated on a rotary evaporator and then under a pallet pump vacuum.
  • This compound was obtained with a yield of 20% from 5 mmol of 4-hydroxybenzophenone.
  • reaction medium is extracted with CH 2 Cl 2 and then washed with 1 N of HCl, water and brine before being dried over anhydrous magnesium sulphate.
  • the organic phase is then concentrated on a rotary evaporator.
  • the product obtained is then purified by column of silica with a 90/10 cyclohexane ether eluent. The yield is 65%.
  • Step 2 Synthesis of BP-0 Hexa-Acrylate
  • step 1 In a 100 mL single-neck flask, introduce 8.26 mmol of 4-hydroxybenzophenone in 30 mL of acetone with 12 mmol of pure K 2 CO 3 . To the mixture, 8.20 mmol of Br-Hex-acrylate (step 1) is added with stirring. The mixture is brought to 60 ° C with stirring for 24 hours.
  • reaction When the reaction is complete, 100 ml of water are introduced. The reaction mixture is then extracted with 3 times 40 ml of dichloromethane and then washed with water. The organic phase is then dried over sodium sulfate before being evaporated.
  • Compounds S1, S2 and S3 are silanes.
  • the compounds H1 to H10 are linear methylhydrogensiloxanes in which the Si-H functions can be found in the silicone chain, at the end of the silicone chain.
  • Compound H1 1 is a resin comprising siloxyl units "Q” of formula Si0 4/2 and siloxyl units "M” of formula H (CH 3 ) 2 SiOi / 2 .
  • Acrylic silicones (Table 3)
  • the acrylic silicones used A1 and A2 have the above-mentioned formula (III) in which:
  • This example relates to the use of the H3 oil (see Table 2 above) as a co-initiator in combination with the benzophenone photoinitiator in order to initiate the polymerization of acrylic silicones (A1 and A2, described in Table 3 below). -above).
  • Irgacure ® 1 173 (CAS nr: 7473-98-5) with the following structure:
  • the preparations are carried out as follows: The benzophenone was weighed and introduced into the A1 or A2 resin, and the mixture was stirred until a homogeneous product (-30 minutes) was obtained.
  • organohydrogenpolysiloxane H3 was introduced.
  • the preparations thus obtained were then crosslinked under UV radiation with a Mercure-Xenon lamp with a reflector at 365 nm.
  • the power of the UV lamp was set at 510 mW.cm "2 .
  • the manipulations were carried out under air or laminate in order to overcome any action of inhibition of the reactive species with oxygen.
  • the manipulations are made of laminate, the formulation is placed between two sheets of polypropylene, then between two pellets of CaF 2 .
  • RT-FTIR Real-Time Fourier Transform Infra-Red
  • Table 4 expresses mixtures made on a basis of 2 g of A1 or A2 resin. The data are expressed in% weight. These manipulations were carried out in laminate.
  • the combination of the two elements to constitute the type II photoinitiator system according to the invention is effective (test 5 vs 3C & 4C and test 10 vs 8C & 9C).
  • Table 5 expresses mixtures made on a basis of 2 g of A1 or A2 resin. The data are expressed in% weight. These manipulations were performed under air.
  • Examples denoted C correspond to comparative examples and Examples 12 and 14 correspond to compositions according to the invention.
  • Example 1 is reproduced by replacing the benzophenone with a benzophenone derivative or an isopropylthioxanthone derivative.
  • the co-initiator is H1 oil (see Table 2).
  • the photoinitiators tested are BP-OH, BP-OMe, BP-OHexa, BP-OTMeSi, TX-TMVSi, BP-Acrylate, BP-OHexa-Acrylate, BP-O-CO-Neodeca and BP-0-C 6 H 12. -0- BP whose structures are described in Table 1.
  • Example 2 Polymerization tests were carried out under the same conditions as those of Example 1, modifying the nature of the co-initiator.
  • the organohydrogenpolysiloxane oil was replaced by a silane selected from S1, S2 or S3 described in Table 2.
  • the photoinitiator used is benzophenone (BP), as in example 1, or isopropylthioxanthone (ITX).
  • the silanes tested also allow, in combination with benzophenone or with isoproprylthioxanthone, to polymerize the acrylic silicones tested.
  • silicone compositions according to the invention were coated and crosslinked by exposure to radiation on flexible supports. The anti-adhesion performance of the supports thus obtained were evaluated.
  • the formulations are prepared by mixing the various components described in Examples 5 to 9, and then coated with a Rotomec coating pilot on different supports under the conditions described in the various examples.
  • Smear Qualitative control of surface polymerization by the fingerprint method which consists of:
  • the scrub is the appearance of a fine white powder or small balls that roll under the finger.
  • the assessment is qualitative.
  • the scrub is quantified with the following notations:
  • the note is the number of round trips (from 1 to 10) from which a scrub appears.
  • Dewetting Assessment of the degree of polymerization of the silicone layer by evaluating the transfer of silicone onto an adhesive contacted with the coating using a standard surface tensioning ink. The method is as follows:
  • Extractables Measurement of the amount of silicone that is not grafted to the network formed during the polymerization. These silicones are extracted from the film by immersing sample from the machine exit in the MIBK for a minimum of 24 hours. This is measured by flame absorption spectroscopy.
  • TESA 7475 adhesive adhesion preservative verification measure having been in contact with the silicone coating according to the FINAT 11 test (FTM 11) known to those skilled in the art.
  • FTM 11 FINAT 11 test
  • the reference specimen is PET and the adhesives remained in contact with the silicone surface to be tested 1 day at 70 ° C. and 7 days at 70 ° C.
  • Fm2 average tensile strength tape after contact 20 h with silicone support
  • Loop-tack The loop-tack test consists of determining the force required to separate, at 300 mm / min, a loop of adhesive (TESA 7475) placed in contact and without pressure with a standard material. The ratio of the result between a clean adhesive and an adhesive complexed for 1 day at 23 ° C. makes it possible to assess the loss of adhesiveness according to the FINAT 9 test (FTM9) known to those skilled in the art.
  • the peel force is expressed in cN / inch and is measured with a dynamometer, after pressurizing the samples either at room temperature (23 ° C) or at a higher temperature for accelerated aging tests ( in general 70 ° C).
  • benzophenone was used as photoinitiator and, as co-initiator, compound H9 (see Table 2).
  • the different formulations are described in the following Table 1 1.
  • a type I photoinitiator system which is ethyl (1, 4,6-triethylbenzoyl) phenylphosphinate (PA I) was also tested.
  • the coating medium is LDPE of 87 g / m 2 .
  • the coating is carried out on the face out of the support.
  • the target deposit is between 0.8 and 1.0 g / m 2 .
  • the molar content of Si-H in the coating composition was varied in the coating composition the molar content of Si-H in the coating composition and the molar content of photoinitiator.
  • 3 molar concentrations of different Si-H functions were used (0.001 - 0.002 and 0.003 mol / 100 g of silicone composition) and, for each, 4 molar concentrations of photoinitiator (0.0017 - 0.0033 - 0.0064 and 0.0129 mol / 100g of silicone composition), with as a control the photoinitiator system type I PA I.
  • the photoinitiator used is the Genocure® LBP.
  • the coating medium is LDPE of 23 g / m 2 of the coating is carried out on its face OUT.
  • the target deposit is between 0.8 and 1.0 g / m 2 .
  • EXAMPLE 6 Influence of the Si-H Function Content of the Co-Initiators
  • the tests were carried out at a constant concentration of Si-H functions in the starting composition but using organohydrogenpolysiloxane oils with Si-H functional content. variable.
  • the oils H4, H9, H8 and H5 were used (see Table 2).
  • a constant concentration of Genocure® LBP photoinitiator was used. These formulations were tested at low coating speed and high lamp power.
  • the coating medium is LDPE of 23 g / m 2 .
  • the coating is carried out on its face OUT.
  • the target deposit is between 0.8 and 1.0 g / m 2 (0.90 ⁇ 0.10).
  • Table 1 1 summarizes the compositions used and the results obtained following the aforementioned tests.
  • the H8 (Ex 03) oil with an Si-H function content of 0.0646 mol / 100 g has a higher extractability level of 24% than those obtained with the co-initiators H4 and H9 (Ex 01 and 02) and release values increase sharply after 1 and 7 days at 70 ° C.
  • This example therefore shows that it is preferable to use as co-initiator an organohydrogenpolysiloxane comprising at least 0.05 mole of Si-H functions per 100 g, and preferably at least 0.08 mole of Si-H functions per 100 boy Wut.
  • This example concerns the study of the impact on the polymerization of the nature of the co-initiators and in particular the position of the Si-H units (end of chain, in the chain or both).
  • the coating medium is white LDPE GLD3 28 g / m 2.
  • the coating is carried out on its face OUT.
  • the target deposit is between 0.8 g / m 2 and 1.0 g / m 2 .
  • Genocure® LBP As a photoinitiator, Genocure® LBP was used (Table 1). The co-initiator is selected from different oils or resins with different structures and content of Si-H functions (see Table 2).
  • the Smear is rated A-B to A for the entire series.
  • the rub-off is between 9 and 10.
  • the dewetting is 10.
  • the polymerization of the coated compositions is therefore good for all the formulations and is not significantly affected by the nature of the co-initiator used nor by the positioning of the patterns.
  • Example 8 Coating Tests with a Mixture of A1 and A2
  • the coating medium is PET 30,01 / 30 Transparent 30 g / m 2 of TORAY.
  • the coating is carried out on its face OUT.
  • the target deposit is between 0.8 g / m 2 and 1.0 g / m 2 .
  • Table 13 summarizes the different compositions used as well as the results obtained following the aforementioned tests.
  • the coating medium is LDPE.
  • the coating is carried out on its face OUT.
  • the target deposit is between 0.8 g / m 2 and 1.0 g / m 2 .
  • modified benzophenones were used as photoinitiators and, as a co-initiator, compound H9 (see Table 2).
  • the different formulations are described in the following table.
  • the benzophenone Genocure LBP and a type I photoinitiator system which is ethyl (1, 4,6-triethylbenzoyl) phenylphosphinate (PA I) were also tested.
  • the coating medium is glassine.
  • the coating is carried out on the face out of the support.
  • the target deposit is between 0.8 and 1.0 g / m 2 .

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Abstract

La présente invention concerne une composition silicone C réticulable par exposition à un rayonnement de longueur d'onde comprise entre 200 nm et 450 nm, comprenant : - au moins un photoamorceur radicalaire A; et - au moins un co-amorceur B choisi parmi les composés comprenant au moins un atome d'hydrogène lié à un atome de silicium.

Description

UTILISATION D'UN SYSTÈME PHOTOAMORCEUR DE TYPE II POUR LA RETICULATION DE COMPOSITIONS SILICONES La présente invention a pour objet l'utilisation d'un système photoamorceur de type II pour la réticulation radicalaire de compositions silicones, notamment de compositions silicones acryliques.
L'utilisation de films plastiques comme matériaux supports pour l'enduction de revêtements silicones afin de créer des revêtements anti-adhérents (en anglais release coating) requiert une technologie adaptée. En effet, la plupart de ces films plastiques sont thermosensibles. Ainsi, une déformation dimensionnelle du film se produit lors de l'enduction et du séchage en fours thermiques de la couche silicone sous l'effet combiné des forces de traction et de la température imposées aux films. La technologie de réticulation d'huiles silicones fonctionnelles sous rayonnement ultra-violet (UV) permet de s'affranchir de l'utilisation de températures élevées et donc de réticuler des couches anti-adhérentes sans impacter les supports. De plus, cette technologie présente l'intérêt d'atteindre une productivité élevée sans être énergivore et sans utiliser de solvants. Les supports plastiques sont des matériaux de choix pour de nombreuses applications et leur utilisation est en constante croissance. Aussi, un effort de recherche et d'innovations est indispensable dans le domaine de la réticulation sous UV de films minces de silicone.
Les compositions silicones sont généralement réticulées sous rayonnement UV ou visible émis par des lampes à vapeur de mercure dopées ou non dont le spectre d'émission s'étend de 200 nm à 450 nm. Des sources lumineuses telles que des diodes électroluminescentes, plus connues sous l'acronyme « LED » (Light- Emitting Diodes) qui délivrent une lumière UV ou visible ponctuelle peuvent aussi être employées.
D'un point de vue général, la réticulation sous irradiation est promue par une molécule photoamorceur. Une importante littérature décrit les photoamorceurs et leurs utilisations. Dans le domaine de la polymérisation radicalaire des compositions silicones acryliques, les molécules photoamorceurs communément utilisées sont les photoamorceurs dits de type I. Sous irradiation, ces molécules se scindent et produisent des radicaux libres. Ces radicaux induisent la réaction d'amorçage de polymérisation qui aboutit au durcissement des compositions. De nombreux efforts ont été réalisés afin que des photoamorceurs de type I possèdent des caractéristiques permettant leur utilisation dans des formulations silicones acryliques pour obtenir des revêtements anti-adhérents. Pour l'ensemble de la demande, par l'expression «photoamorceurs de type I», on entend des composés bien connus de l'homme du métier, capables de générer des radicaux libres amorceurs de polymérisation sous excitation U.V. par fragmentation homolytique intramoléculaire.
Il existe également des systèmes photoamorceurs de type II comprenant un photoamorceur radicalaire et un co-amorceur. Dans les systèmes photoamorceurs de type II, les photoamorceurs mis en œuvre sont capables de générer des radicaux libres amorceurs de polymérisation par réaction avec un autre composé appelé co- amorceur, ladite réaction provoquant le transfert d'un hydrogène du co-amorceur vers ledit photoamorceur. Les photoamorceurs mis en œuvre dans les systèmes photoamorceurs de type II sont désignés par l'expression « photoamorceurs de type Il ».
A ce jour, il n'existe pas de système photoamorceur de type II, comprenant un photoamorceur radicalaire et un co-amorceur, efficace pour la polymérisation de compositions silicones acryliques. La présente invention a pour but de fournir une composition silicone polymérisable ou réticulable par voie radicalaire comprenant un système photoamorceur de type II adapté à la réticulation de compositions silicones, notamment par exposition à un rayonnement.
La présente invention a également pour but de fournir une composition silicone polymérisable ou réticulable par voie radicalaire comprenant un système photoamorceur de type II adapté à la réticulation de compositions silicones, notamment par exposition à un rayonnement, miscible dans la composition silicone et présentant de bonnes propriétés d'absorption de rayonnement lumineux aux longueurs d'ondes considérées pour l'application, à savoir entre 200 nm et 450 nm.
La présente invention a également pour objet de fournir un procédé de préparation d'un film ou d'un revêtement sur un substrat à partir de la composition silicone polymérisable par voie radicalaire selon l'invention.
La présente invention a également pour objet de fournir un substrat revêtu par un film ou un revêtement obtenu à partir de la composition silicone polymérisable par voie radicalaire selon l'invention.
La présente invention a également pour but de fournir des compositions silicones permettant d'obtenir des revêtements anti-adhérents qui réticulent sous rayonnement, et notamment sous rayonnement UV, à partir d'organopolysiloxanes comprenant des groupes (méth)acrylates, notamment des groupes esters (méth)acryliques ou encore des époxy acrylates ou polyéther acrylates.
Ainsi, la présente invention concerne une composition silicone C réticulable par exposition à un rayonnement de longueur d'onde comprise entre 200 nm et
450 nm, comprenant :
- au moins un photoamorceur radicalaire A ;
- au moins un co-amorceur B choisi parmi les composés comprenant au moins un atome d'hydrogène lié à un atome de silicium ; et
- au moins un organopolysiloxane D comportant au moins un groupe
(méth)acrylate ;
dans laquelle le co-amorceur B comprend au moins 0,05 mole de fonctions Si-H pour 100 g de co-amorceur B. Par l'expression, un atome d'hydrogène lié à un atome de silicium, on entend une fonction Si-H ou une liaison Si-H. Selon l'invention, pour définir les co- amorceurs B on utilise indifféremment les expressions « composés comprenant au moins un atome d'hydrogène lié à un atome de silicium » ou «composés comprenant au moins une liaison Si-H» ou «composés comprenant au moins une fonction hydrogénosilyle » ou «composés comprenant au moins une fonction Si-H ».
La présente invention est donc basée sur l'utilisation d'un système photoamorceur de type II spécifique comprenant la combinaison d'un photoamorceur radicalaire A et d'un co-amorceur B choisi parmi les composés comprenant au moins un atome d'hydrogène lié à un atome de silicium.
Pour l'ensemble de la demande, on entend par « réticulation » le durcissement de la composition par des réactions de polymérisation des fonctions méth(acrylates).
Le terme "composition silicone réticulable par exposition à un rayonnement" désigne une composition comprenant au moins un organopolysiloxane capable de durcir par exposition à un rayonnement de longueur d'onde comprise entre 200 nm et 450 nm, notamment à un rayonnement UV.
Dans le but d'obtenir la photoréticulation sous rayonnement, la composition comprend un système photoamorceur de type II qui, sous l'effet de l'absorption de l'énergie lumineuse incidente, libère des radicaux libres dans le milieu. Ces radicaux jouent le rôle d'amorceurs de polymérisation radicalaire des fonctions (méth)acryliques. Puisqu'il est le moteur du durcissement de la composition, le système photoamorceur est une clé essentielle de cette application.
Le système photoamorceur de type II selon l'invention, comprenant une molécule photoamorceur A en combinaison avec une molécule co-amorceur B comprenant au moins un atome d'hydrogène lié à un atome de silicium, introduit dans une composition silicone C, comprenant au moins un organopolysiloxane D avec des fonctions (méth)acryliques, permet d'obtenir des films réticulés sous irradiation, notamment avec des propriétés d'anti-adhérence.
Co-amorceur
Selon l'invention, le co-amorceur B utilisé est un composé comprenant au moins un atome d'hydrogène lié à un atome de silicium.
Selon l'invention, le co-amorceur B est de préférence un composé organosilicié comprenant au moins un atome d'hydrogène lié à un atome de silicium.
Selon un mode de réalisation, les compositions silicones C selon l'invention comprennent un mélange de co-amorceurs.
Parmi les composés organosiliciés comprenant au moins un atome d'hydrogène lié à un atome de silicium, on peut citer les silanes S et les organohydrogénopolysiloxanes H.
Parmi les silanes S, on peut citer les composés de formule R3SiH, les groupes R, identiques ou différents, étant choisis dans le groupe constitué de H, des radicaux (Ci-C20)alkyles et des radicaux (C6-Ci0)aryles. Selon l'invention, les groupes R peuvent également représenter des radicaux -SiR'3, les groupes R', identiques ou différents, étant choisis parmi les radicaux (CrC10)alkyles et les radicaux (C6-C10)aryles.
En particulier, R peut représenter un groupe phényle ou un groupe alkyle, notamment méthyle, éthyle ou octadécyle. R peut également représenter un groupe -SiMe3.
Comme exemples de silanes S pouvant être utilisés à titre de co-amorceurs B selon l'invention, on peut citer le 2-triéthylsilane, le diméthylphénylsilane, le diphénylsilane, le triphénylsilane et le tris(triméthylsilyl)silane .
A titre de silanes S, on peut également citer le A/,/V-diéthyl-1 ,1 - diméthylsilylamine, le 1 ,1 ,3,3-tétraméthyldisilazane, le
butylsilanetriamine, le pentaméthyldisilane ou le chlorodiphénylsilane. Selon un mode de réalisation, le co-amorceur B selon l'invention est choisi dans le groupe constitué par le tris(triméthylsilyl)silane (TTMSS), le triphénylsilane (TPSi) et l'octadécylsilane (OctaSi).
Selon un mode de réalisation, le co-amorceur B selon l'invention comprend au moins une liaison siloxane et au moins un atome d'hydrogène lié à un atome de silicium. Par liaison siloxane, on entend une liaison ≡Si-0-Si≡. Selon un mode de réalisation, le co-amorceur B selon l'invention est choisi parmi les organohydrogénopolysiloxanes H.
Selon un mode de réalisation préférentiel, l'organohydrogénopolysiloxane H comprend au moins deux, et de préférence trois atomes d'hydrogène liés chacun à des atomes de silicium différents.
Selon un mode de réalisation préféré, l'organohydrogénopolysiloxane H comprend :
(i) au moins deux motifs de formule (H 1 ),
HdLeSiO(4-(d+e))/2 (H 1 )
dans laquelle :
- L représente un radical monovalent différent d'un atome d'hydrogène,
- H représente l'atome d'hydrogène,
- d et e représentent des nombres entiers, d valant 1 ou 2, e valant 0, 1 ou 2 et (d+e) valant 1 , 2 ou 3 ;
(ii) et éventuellement d'autres motifs de formule (H2) :
LfSiO(4-f)/2 (H2)
dans laquelle :
- L a la même signification que ci-dessus, et
- f représente un nombre entier valant 0, 1 , 2 ou 3.
Il est entendu dans les formules (H 1 ) et (H2) ci-dessus que si plusieurs groupes L sont présents, ils peuvent être identiques ou différents les uns des autres. Dans la formule (H 1 ), le symbole d peut préférentiellement valoir 1 . De plus, dans la formule (H 1 ) et dans la formule (H2), L peut représenter de préférence un radical monovalent choisi dans le groupe constitué par un groupe alkyle ayant 1 à 8 atomes de carbone, éventuellement substitué par au moins un atome d'halogène, et un groupe aryle. L peut avantageusement représenter un radical monovalent choisi dans le groupe constitué par méthyle, éthyle, propyle, 3,3,3-trifluoropropyle, xylyle, tolyle et phényle. Des exemples de motifs de formule (H1 ) sont les suivants :
H(CH3)2SiOi/2, H(CH3)Si02/2 et H(C6H5)Si02/2.
L'organohydrogénopolysiloxane H peut présenter une structure linéaire, ramifiée, cyclique ou en réseau. Lorsqu'il s'agit d'organohydrogénopolysiloxanes linéaires, ceux-ci peuvent être essentiellement constitués :
- de motifs siloxyles « D » choisis parmi les motifs de formules HLSi02/2 (nommé également motif D') et L2Si02/2 ; et
- de motifs siloxyles « M » choisis parmi les motifs de formules HL2Si01/2 (nommé également motif M') et L3Si02/2,
avec le symbole L ayant la même signification que ci-dessus et le symbole H désignant un atome d'hydrogène.
Ces organohydrogénopolysiloxanes H linéaires peuvent être des huiles ayant une viscosité dynamique à 25°C comprise entre 1 mPa.s et 100 000 mPa.s, préférentiellement entre 1 mPa.s et 5 000 mPa.s, et encore plus préférentiellement entre 1 mPa.s et 2 000 mPa.s.
Toutes les viscosités dont il est question dans le présent exposé correspondent à une grandeur de viscosité dynamique à 25°C dite "Newtonienne", c'est-à-dire la viscosité dynamique qui est mesurée, de manière connue en soi, avec un viscosimètre Brookfield à un gradient de vitesse de cisaillement suffisamment faible pour que la viscosité mesurée soit indépendante du gradient de vitesse
Lorsqu'il s'agit d'organohydrogénopolysiloxanes cycliques, ceux-ci peuvent être constitués de motifs siloxyles « D » choisis parmi les motifs de formules HLSi02/2 et L2Si02/2, ou de motifs siloxyles de formule HLSi02/2 uniquement. Les motifs de formule L2Si02/2 peuvent être notamment des dialkylsiloxy ou des alkylarylsiloxy. Ces organohydrogénopolysiloxanes cycliques peuvent avoir une viscosité dynamique à 25°C comprise entre 1 mPa.s et 5 000 mPa.s.
Des exemples d'organohydrogénopolysiloxane H sont :
- les polydiméthylsiloxanes à extrémités hydrogénodiméthylsilyles ;
- les poly(diméthylsiloxane-co-hydrogénométhylsiloxane) à extrémités triméthylsilyles ;
- les poly(diméthylsiloxane-co-hydrogénométhylsiloxane) à extrémités hydrogénodiméthylsilyles ; les polyhydrogénométhylsiloxanes à extrémités triméthylsilyles ; et les hydrogénométhylpolysiloxanes cycliques.
Lorsqu'il s'agit d'organohydrogénopolysiloxanes H ramifiés ou en réseaux, ceux-ci peuvent comprendre en outre :
- des motifs siloxyles « T » choisis parmi les motifs de formules HSi03/2 et LSi03/2 ;
- des motifs siloxyles « Q » de formule Si04/2,
avec le symbole H représentant un atome d'hydrogène et L ayant la même signification que ci-dessus.
Selon un mode de réalisation, le co-amorceur B comprend au moins 0,08 mol de fonctions Si-H pour 100 g de co-amorceur B, plus préférentiellement entre 0,08 mole et 2,5 moles de fonctions Si-H pour 100 g co-amorceur B, et encore plus préférentiellement entre 0,08 mole et 1 ,8 moles, de fonctions Si-H pour 100 g co- amorceur B.
Selon un mode de réalisation, le co-amorceur B est un polymère organohydrogénopolysiloxane H comprenant au moins 0,05 mole de fonctions Si-H pour 100 g de polymère, de préférence au moins 0,08 mol de fonctions Si-H pour 100 g de polymère, plus préférentiellement entre 0,08 mole et 2,5 moles de fonctions Si-H pour 100 g de polymère, et encore plus préférentiellement entre 0,08 mole et 1 ,8 moles, de fonctions Si-H pour 100 g de polymère.
Selon un mode de réalisation, dans les compositions silicones C réticulables selon l'invention, la concentration en fonctions Si-H est inférieure ou égale à 0,01 mol/100 g de composition C, de préférence inférieure à 0,006 mol/100 g de composition C, et plus préférentiellement inférieure à 0,005 mol/100 g de composition C.
Selon un mode de réalisation, les compositions silicones C réticulables selon l'invention comprennent entre 0,0001 mole et 0,01 mole de fonctions Si-H pour 100 g de composition C, notamment entre 0,0002 mole et 0,01 mole de fonctions
Si-H pour 100 g de composition C, et de préférence entre 0,0002 mole et 0,006 mole de fonctions Si-H pour 100 g de composition C.
Photoamorceur radicalaire A
Selon l'invention, le photoamorceur utilisé est un photoamorceur radicalaire A. Pour polymériser des organopolysiloxanes, de préférence fonctionnalisées par des groupements (méth)acrylates, l'homme du métier saura choisir un photoamorceur radicalaire A approprié, susceptible d'être mis en œuvre dans un système photoamorceur de type II, absorbant les radiations lumineuses de longueur d'onde comprise entre 200 nm et 450 nm.
Selon un mode de réalisation, le photoamorceur radicalaire A est choisi dans le groupe constitué par la benzophénone et ses dérivés, la thioxanthone et ses dérivés, l'anthraquinone et ses dérivés, les esters de benzoyle formate, la camphorquinone, le benzile, le phénanthrènequinone, les coumarines et cétocoumarines et leurs mélanges.
Par dérivés de benzophénones, on désigne les benzophénones substituées et les versions polymériques de benzophénone.
Par dérivés de thioxanthones, on désigne les thioxanthones substituées et par dérivés d'anthraquinones, on désigne les anthraquinones substituées, en particulier les acides anthraquinone sulfoniques et les anthraquinones acrylamido-substituées.
Selon l'invention, parmi les esters de benzoyle formate, on peut citer le méthyl benzoylformate, éventuellement bifonctionnel. A titre d'exemples de photoamorceurs radicalaires A, on citera notamment les produits suivants : isopropylthioxanthone ; benzophénone ; camphorquinone ; 9- xanthénone; anthraquinone ; 1 -4 dihydroxyanthraquinone ; 2-méthylanthraquinone ;
2,2'-bis(3-hydroxy-1 ,4-naphtoquinone) ; 2,6-dihydroxy-anthraquinone ; 1 - hydroxycyclohexylphénylcétone ; 1 ,5-dihydroxyanthraquinone ; 1 ,3-diphényl-1 ,3- propanedione ; 5,7-dihydroxyflavone ; dibenzoylperoxyde ; acide 2- benzoylbenzoique ; 2-hydroxy-2-méthylpropio-phénone ; 2-phénylacétophénone ;; anthrone ; 4,4'-diméthoxybenzoïne ; phénanthrènequinone ; 2-éthylanthra-quinone ;
2-méthylanthraquinone ; 2-éthylanthraquinone ; 1 ,8-dihydroxyanthraquinone ; dibenzoyl-peroxyde ; 2,2-diméthoxy-2-phényl-acétophénone ; benzoïne ; 2-hydroxy- 2-méthylpropiophénone ; benzaldéhyde ; 4-(2-hydroxyéthoxy)phényl-(2-hydroxy-2- méthylpropyl)cétone ; benzoylacétone ; éthyl(2,4,6-triméthylbenzoyl)phényl- phosphinate et leur mélanges.
A titre d'exemples de produits commerciaux de photoamorceurs radicalaires A selon l'invention, on peut citer, parmi les dérivés de benzophénone, les produits Esacure® TZT, Speedcure® MBP, Omnipol® BP et parmi les dérivés de thioxanthone, les produits Irgacure® 907, Omnipol® TX et Genopol® TX-1 . Selon un mode de réalisation, le photoamorceur radicalaire A selon l'invention est choisi dans le groupe constitué par : la benzophénone, les benzophénones substituées, la thioxanthone, les thioxanthones substituées, et leurs mélanges.
Parmi les thioxanthones, substituées ou non, on peut citer par exemple composés suivants :
Parmi les benzophénones substituées, on peut citer les benzophénones disubstituées (1 substitution sur chaque noyau aromatique) et les composés de formule (IV) suivante :
dans laquelle R est choisi parmi :
- H ;
- les groupes Si(R1)3, les groupes R1 , identiques ou différents étant des groupes (d- C6)alkyles ; et
- les groupes (Ci-C20)alkyles, éventuellement substitués par un groupe OR2, R2 répondant à la formule (V) ci-dessous :
- les groupes -C(=0)-R3, le radical R3 étant choisi parmi les groupes (CrC20)alkyles, linéaires ou ramifiés ;
- les groupes -A-CH=CH2, le radical A étant choisi parmi :
. une liaison covalente,
. un groupe -C(=0)-, ou . un groupe de formule VI) suivante :
dans laquelle i est 0 ou 1 et Ai représente un radical (Ci-C20)alkylène, de préférence linéaire.
Parmi les composés de formule (IV), on peut citer les composés (3) à (13) et (15) à (17) suivants :
(3) (4) (5)
(10) (1 1 )
(17)
Comme autre exemple de benzophénone utile selon l'invention, on peut citer le composé (14) :
(14)
Ce composé correspond au produit Ebecryl P36 (CAS : 85340-63-2).
De préférence, le photoamorceur radicalaire A est choisi parmi le groupe constitué par : la benzophénone, la 2-méthylbenzophénone, la 3- méthylbenzophénone, la 2,5-diméthylbenzophénone, la 3,4-diméthybenzophénone, la 2,4-diméthyl benzophénone, la 4-isopropylbenzophénone et la 2-triméthylsilyloxy benzophénone et leurs mélanges.
Selon un mode de réalisation, dans la composition C, le ratio entre le nombre de moles de photoamorceur A et le nombre de moles de fonctions Si-H du co- amorceur B est supérieur ou égal à 0,5, de préférence compris entre 0,5 et 20, et encore plus préférentiellement compris entre 1 et 10. Selon un mode de réalisation préféré, dans la composition C, le ratio entre le nombre de moles de photoamorceur A et le nombre de moles de fonctions Si-H du co-amorceur B est compris entre 1 et 5.
Selon un mode de réalisation, les compositions silicones C réticulables selon l'invention comprennent au moins 0,0003 mole de photoamorceur radicalaire A, pour 100 g de composition C, et de préférence au moins 0,0005 mole de photoamorceur radicalaire A, pour 100 g de composition C. De préférence, la teneur en moles de photoamorceur radicalaire A dans les compositions C de l'invention est comprise entre 0,0003 et 0,015 mole pour 100 g de composition C, et encore plus préférentiellement entre 0,0005 et 0,015 mole pour 100 g de composition C.
Organopolysiloxanes D
Selon l'invention, les compositions silicones C réticulables selon l'invention comprennent au moins un organopolysiloxane D comportant au moins un groupe (méth)acrylate.
A titre représentatif de fonctions (méth)acrylates portées par le silicone et convenant tout particulièrement à l'invention, on peut plus particulièrement citer les dérivés acrylates, méthacrylates, éthers de (méth)acrylates et esters de (méth)acrylates liés à la chaîne polysiloxane par une liaison Si-C.
Selon un mode de réalisation, l'organopolysiloxane D comprend :
a1 ) au moins un motif de formule (I) suivante :
RaZbSiO(4-a-b)/2 C)
formule dans laquelle :
- les symboles R, identiques ou différents, représentent chacun un groupe alkyle en d à C18 linéaire ou ramifié, un groupe aryle ou aralkyle en C6 à C12, éventuellement substitué, de préférence par des atomes d'halogène, ou un radical alkoxy -OR4 avec R4 étant un atome d'hydrogène ou un radical hydrocarboné comprenant de 1 à 10 atomes de carbone,
- les symboles Z sont des radicaux monovalents de formule -y-(Y')n dans laquelle :
• y représente un radical polyvalent alkylène linéaire ou ramifié en CrC18 éventuellement prolongé par des radicaux bivalents oxyalkylène ou polyoxyalkylène en d à C4 éventuellement substitué par un radical hydroxy, · Y' représente un radical monovalent alcénylcarbonyloxy, et
• n est égal à 1 , 2 ou 3, et - a est un nombre entier égal à 0, 1 ou 2, b est un nombre entier égal à 1 ou 2 et la somme a+b= 1 , 2 ou 3 ; et
a2) éventuellement des motifs de formule (II) suivante :
RaSiO(4-a)/2 (H)
formule dans laquelle :
- les symboles R, identiques ou différents, représentent chacun un groupe alkyle en Ci à Ci8 linéaire ou ramifié, un groupe aryle ou aralkyle en C6 à Ci2, éventuellement substitué, de préférence par des atomes d'halogène, et
- a est un nombre entier égal à 0, 1 , 2 ou 3.
Dans les formules (I) et (II) ci-dessus, le symbole R peut avantageusement représenter un radical monovalent choisi dans le groupe constitué par : méthyle, éthyle, propyle, 3,3,3-trifluoropropyle, xylyle, tolyle et phényle.
L'organopolysiloxane D peut présenter une structure linéaire, ramifiée, cyclique ou en réseau. Lorsqu'il s'agit d'organopolysiloxanes linéaires, ceux-ci peuvent être essentiellement constitués :
- de motifs siloxyles « D » choisis parmi les motifs de formules R2Si02/2, RZSi02/2 et Z2Si02/2;
- de motifs siloxyles « M » choisis parmi les motifs de formules R3SiOi/2, R2ZSiOi/2, RZ2SiOi/2 et Z3SiOi/2, et
- les symboles R et Z sont tels que définis ci-dessus dans la formule (I).
Selon un mode de réalisation, dans la formule (I) ci-dessus, parmi les radicaux Y alcénylcarbonyloxy susmentionnés, on peut citer l'acryloxy [CH2=CH-CO-0-] et les radicaux méthacryloxy : [(CH3)CH=CH-CO-0-] et [CH2=C(CH3)-CO-0-].
A titre d'illustration du symbole y dans les motifs de formule (I), on mentionnera les radicaux :
-CH2- ;
-(CH2)2- ;
-(CH2)3- ;
-CH2-CH(CH3)-CH2- ;
-(CH2)3-NH-CH2-CH2- ;
-(CH2)3-OCH2- ;
-(CH2)3-[0-CH2-CH(CH3)-]-; -(CH2)3-0-CH2_CH(OH)(-CH2-) ;
-(CH2)3-0-CH2-C(CH2-CH3)[-(CH2)2-]2 ; et
-(CH2)2-C6H9(OH)-.
De préférence, l'organopolysiloxane D répond à la formule (III) suivante :
formule dans laquelle :
- les symboles R1 , identiques ou différents, représentent chacun un groupe alkyle en d à C18 linéaire ou ramifié, un groupe aryle ou aralkyle en C6 à C12, éventuellement substitué, de préférence par des atomes d'halogène, ou un radical alkoxy -OR4 avec R4 étant un atome d'hydrogène ou un radical hydrocarboné comprenant de 1 à 10 atomes de carbone,
- les symboles R2 et R3, identiques ou différents, représentent chacun soit un radical R1 soit un radical monovalent de formule Z = -w-(Y')n dans laquelle :
• w représente un radical polyvalent alkylène linéaire ou ramifié en C Ci8 éventuellement prolongé par des radicaux bivalents oxyalkylène ou polyoxyalkylène en Ci à C4 éventuellement substitué par un radical hydroxy,
• Y' représente un radical monovalent alcénylcarbonyloxy, et
• n est égal à 1 , 2 ou 3, et
- avec a = 0 à 1000, b = 0 à 500, c = 0 à 500, d = 0 à 500 et a+b+c+d= 0 à 2500, et
- la condition qu'au moins un symbole R2 ou R3 représente le radical monovalent de formule Z.
Selon un mode de réalisation préféré, dans la formule (III) ci-dessus - c=0, d=0, a= 1 à 1000, b= 1 à 250, le symbole R2 représente le radical monovalent de formule Z et les symboles R1 et R3 ont la même signification que ci- dessus.
De manière encore plus préférentielle, dans la formule (III) ci-dessus :
- c=0, d=0, a= 1 à 500, b= 1 à 100, le symbole R2 représente le radical monovalent de formule Z et les symboles R1 et R3 ont la même signification que ci- dessus.
Selon un mode de réalisation, l'organopolysiloxane D selon l'invention répond à la formule suivante :
dans laquelle :
- x est compris entre 1 et 1000 ;
- n est compris entre 1 et 100.
Les compositions silicones réticulables C selon l'invention peuvent comprendre en outre au moins un additif. Comme additif, on peut inclure au moins un additif de régulation de la force de décollement d'une interface silicone/adhésif dans la composition qui est choisi parmi :
(i) les dérivés organiques (méth)acrylates, et
(ii) les silicones à fonction(s) (méth)acrylate(s).
Conviennent notamment comme dérivés organiques (méth)acrylates, les composés (méth)acrylates époxydés, (meth)acryloglycéropolyesters, (méth)acrylo- urétanes, (méth)acrylopolyéthers, (méth)acrylopolyesters, et (méth)acrylo- acryliques. Sont plus particulièrement préférés le triacrylate de triméthylolpropane, le diacrylate de tripropylène glycol et le tétraacrylate de pentaérythritol. Selon une variante préférée de l'invention, l'additif utilisé est un silicone à fonction(s) (méth)acrylate(s). A titre représentatif de fonctions (méth)acrylates portées par le silicone et convenant tout particulièrement à l'invention, on peut plus particulièrement citer les dérivés acrylates, méthacrylates, éthers de (méth)acrylates et esters de méth(acrylates) liés à la chaîne polysiloxane par une liaison Si-C. De tels dérivés acrylates sont notamment décrits dans les brevets EP 0 281 718, FR 2 632 960 et EP 0 940 458.
D'autres additifs tels que des thiols ou des aminés aromatiques peuvent être ajoutés pour accélérer la réticulation de la composition.
Selon un mode de réalisation, la composition C ne comprend pas de platine.
La présente invention concerne également l'utilisation de la composition C selon l'invention, pour la préparation de films silicones à propriétés anti-adhérentes.
De préférence, pour préparer ces films silicones, on utilise des compositions C telles que définies ci-dessus, dans lesquelles le ratio entre le nombre de moles de photoamorceur A et le nombre de moles de fonctions Si-H du co-amorceur B est compris entre 0,5 et 20, de préférence entre 1 et 5, ledit co-amorceur B comprenant préférentiellement au moins 0,08 mole, de préférence entre 0,1 mole et 2,5 moles, de fonctions Si-H pour 100 g.
La présente invention concerne également un élastomère de silicone obtenu par réticulation d'une composition C réticulable telle que définie ci-dessus.
La présente invention concerne également un procédé de préparation de films silicones à propriétés anti-adhérentes, comprenant une étape de réticulation d'une composition C réticulable telle que définie ci-dessus.
De préférence, dans le procédé selon l'invention, on utilise des compositions C telles que définies ci-dessus, dans lesquelles le ratio entre le nombre de moles de photoamorceur radicalaire A et le nombre de moles de fonctions Si-H du co- amorceur B est compris entre 0,5 et 20, de préférence entre 1 et 5, ledit co- amorceur B comprenant préférentiellement au moins 0,08 mole, de préférence entre 0,1 mole et 2,5 moles, de fonctions Si-H pour 100 g de co-amorceur B. Selon un mode de réalisation du procédé de l'invention, l'étape de réticulation est effectuée sous air ou sous atmosphère inerte. De préférence, cette étape de réticulation est effectuée sous atmosphère inerte.
Selon un mode de réalisation, l'étape de réticulation du procédé selon l'invention est effectuée par rayonnement de longueur d'onde comprise entre 200 nm et 450 nm, de préférence sous atmosphère inerte.
La présente invention concerne également un procédé de préparation d'un revêtement sur un substrat, comprenant les étapes suivantes :
- l'application d'une composition C réticulable telle que définie ci-dessus sur un substrat, et
- la réticulation de ladite composition C par exposition à un rayonnement de longueur d'onde comprise entre 200 nm et 450 nm.
Le rayonnement UV peut être émis par des lampes à vapeur de mercure dopées ou non dont le spectre d'émission s'étend de 200 nm à 450 nm. Des sources lumineuses telles que des diodes électroluminescentes, plus connues sous l'acronyme « LED » (Light-Emitting Diodes) qui délivrent une lumière UV ou visible ponctuelle peuvent aussi être employées.
Selon un mode préféré de l'invention, le rayonnement est de la lumière ultraviolette de longueur d'onde inférieure à 400 nanomètres.
Selon un mode préféré de l'invention, le rayonnement est de la lumière ultraviolette de longueur d'onde supérieure à 200 nanomètres.
La durée d'irradiation peut être courte et elle est généralement inférieure à 1 seconde et est de l'ordre de quelques centièmes de seconde pour les faibles épaisseurs de revêtement. La réticulation obtenue est excellente même en l'absence de tout chauffage.
Selon un mode de réalisation, l'étape de réticulation est effectuée à une température comprise entre 10°C et 50°C, de préférence entre 15°C et 35°C.
Bien entendu, on peut régler la vitesse de durcissement notamment, par le nombre de lampes U.V. utilisées, par la durée d'exposition aux U.V. et par la distance entre la composition et la lampe U.V. La composition C selon l'invention sans solvant, c'est-à-dire non diluée, peut- être appliquée à l'aide de dispositifs aptes à déposer, d'une façon uniforme, de faibles quantités de liquides. On peut utiliser à cet effet par exemple le dispositif nommé "Helio glissant" comportant en particulier deux cylindres superposés : le rôle du cylindre placé le plus bas, plongeant dans le bac d'enduction où se trouvent les compositions, est d'imprégner en une couche très mince le cylindre placé le plus haut, le rôle de ce dernier est alors de déposer sur le papier les quantités désirées des compositions dont il est imprégné, un tel dosage est obtenu par réglage de la vitesse respective des deux cylindres qui tournent en sens inverse l'un de l'autre.
Les quantités de composition C déposée sur les supports sont variables et s'échelonnent le plus souvent entre 0,1 et 5 g/m2 de surface traitée. Ces quantités dépendent de la nature des supports et des propriétés anti-adhérentes recherchées. Elles sont le plus souvent comprises entre 0,5 et 1 ,5 g/m2 pour des supports non poreux.
Ce procédé est particulièrement adapté pour préparer un revêtement silicone anti-adhérent sur un substrat qui est un support souple en textile, en papier, en polychlorure de vinyle, en polyester, en polypropylène, en polyamide, en polyéthylène, en polyéthylène téréphtalate, en polyuréthanne ou en fibres de verre non tissés.
Ces revêtements sont particulièrement adaptés pour leur utilisation dans le domaine de l'anti-adhérence.
La présente invention concerne donc également un substrat revêtu susceptible d'être obtenu selon le procédé tel que défini ci-dessus. Comme indiqué ci-dessus, le substrat peut être un support souple en textile, en papier, en polychlorure de vinyle, en polyester, en polypropylène, en polyamide, en polyéthylène, en polyéthylène téréphtalate, en polyuréthanne ou en fibres de verre non tissés. Les substrats revêtus ont un caractère anti-adhérant, hydrofugeant, ou permettant des propriétés de surface améliorées tels que le glissant, la résistance au tâchage ou la douceur.
Un autre objet de l'invention concerne les composés (2), (4), (5), (6), (7), (7bis), (9), (15), (16) et (17) suivants :
(15) (16)
L'invention concerne également l'utilisation des composés (2), (4), (5), (6), (7), (7bis), (9), (15), (16) et (17) décrits ci-dessus comme photoamorceurs radicalaires, et de préférence l'utilisation de des composés (2), (4), (5), (6), (7), (7bis), (9), (15), (16) et (17) décrits ci- dessus comme photoamorceurs radicalaires pour la réticulation de compositions silicones.
Les exemples ci-après sont donnés à titre illustratif et non limitatif. Ils permettent notamment de mieux comprendre l'invention et de faire ressortir tous ses avantages.
EXEMPLES
Dans les exemples ci-après, différents photoamorceurs, co-amorceurs et silicones acryliques ont été utilisés selon l'invention et leurs structures sont indiquées dans les tableaux ci-dessous.
Photoamorceurs tableau 1 )
Parmi ces photoamorceurs, les composés (2), (4), (8), (9), (15), (16) et (17) ont été synthétisés selon les protocoles explicités ci-après.
Synthèse du composé (4)
Dans un ballon bicol de 100 ml_ sont introduit 40,4 mmol (6,67 g) de bromohexane et 20,2 mmol (2,79 g) de carbonate de potassium, dans 10 ml_ d'acétonitrile. La solution est alors portée à ebullition avant d'ajouter goutte à goutte une solution de 10,1 mmol (2 g) de 4-hydroxybenzophénone dans 30 mL d'acétonitrile. La solution passe d'incolore à jaune. La réaction est terminée lorsque la solution est de nouveau incolore.
Lorsque la réaction est terminée le mélange est filtré sur Célite™, et le filtrat est concentré à l'évaporateur rotatif.
Le produit est alors purifié sur colonne de silice avec un éluant 90/10 cyclohexane/acétate d'éthyle. Le produit est laissé 2 jours sous vide de pompe à palette pour éliminer les traces de bromohexane.
Le produit obtenu est un solide cristallin blanc avec un rendement de 70,7%
Synthèse des composés (5,) (6), (7), (7bis), et (8).
L'hydroxyde de potasse solide (4 équivalents par fonction hydroxyle) est ajouté à du diméthylsulfoxyde (DMSO) anhydre (2mL par mmol de fonction hydroxyle). Après 5 minutes d'agitation, 5 mmol de 4-hydroxybenzophénone et le composé halogéné différent pour chaque composé (2 équivalents par fonction hydroxyle) sont ajoutés goutte à goutte au mélange réactionnel. Le mélange est ensuite laissé une nuit à température ambiante sous agitation et sous argon. Le mélange est ensuite additionné de 20 mL d'eau et extrait trois fois au dichlorométhane (20 mL par extraction). Les phases organiques sont ensuite lavées 10 cinq fois à l'eau (10 mL par lavage). La phase organique est séchée sur MgS04. Le solvant est ensuite évaporé à l'évaporateur rotatif puis sous vide de pompe à palette.
- le composé (5) a été obtenu à partir de 4-hydroxybenzophénone et de bromodécane, avec un rendement de 89% ;
- le composé (6) a été obtenu à partir de 4-hydroxybenzophénone et de bromododécane, avec un rendement de 71 % ;
- le composé (7) a été obtenu à partir de 4-hydroxybenzophénone et de 1 ,5- dibromopentane, avec un rendement de 63% ; et
- le composé (7bis) a été obtenu à partir de 4-hydroxybenzophénone et de
1 ,10-dibromodécane, avec un rendement de 40%.
- Le composé (8) a été obtenu à partir de 5 mmol de 4-hydroxybenzophénone et de bromométhane avec un rendement de 67%.
Synthèse du composé (9)
0,25 mmol de diéthyléthérate de bromure de magnésium est ajouté à un mélange de 5 mmol d'alcool et de 3 mmol d'hexaméthyldisilazane. Le mélange réactionnel est agité 4h à température ambiante.
Le milieu réactionnel est additionné de 10 mL d'eau et extrait trois fois au diéthyléther (10 mL par extraction). Les phases éthérées regroupées sont ensuite lavées à l'eau puis séchées sur MgS04. Le solvant est évaporé à l'évaporateur rotatif puis sous vide de pompe à palette.
Ce composé a été obtenu avec un rendement de 20% à partir de 5 mmol de 4-hydroxybenzophénone.
Synthèse du composé (2)
0,1 mmol du catalyseur ruthénium (RuH2(CO)(P(C6H5)3)3) est ajouté à 10 mL de toluène. Le mélange réactionnel est agité pendant 15 min (le temps d'activer le catalyseur et la couleur de la solution devient rouge) à 135°C sous une atmosphère inerte d'Ar dans un montage à reflux. 5 mmol de thioxanthone et 10 mmol de triméthylvinylsilane sont ajoutés au milieu reactionnel.Le mélange réactionnel est laissé sous agitation pendant 72 h à 135°C sous Ar. Le composé (2) est récupéré et purifié par chromatographie sur colonne de silice (éluant : cyclohexane/acétate d'éthyle 9:1 ). Le rendement est supérieur à 90%.
Synthèse du composé (15)
Le composé (15), BP-OHexa-Acrylate, est synthétisé en deux étapes comme décrit ci-dessous.
Etape 1 : Synthèse du Br-Hexa-acrylate
Dans un ballon bicol de 100 mL contenant 12 mlL de CH2CI2, ajouter à 0°C 16,57 mmol de 6-bromohexan-1 -ol avec 24,85 mmole de triéthylamine et une quantité catalytique de DMAP (4-(diméthylamino)pyridine). Dans une ampoule de coulée, mettre 18,22 mmoles de chloride d'acrylate avec 2 mL de dichlorométhane. Ce dernier mélange est ajouté goutte à goutte à la solution préparée dans le ballon. L'ensemble est laissé réagir pendant une semaine.
Une fois la réaction terminée, le milieu réactionnel est extrait au CH2CI2 puis lavé avec 1 N d'HCI, de l'eau, et une saumure avant d'être séché sur sulfate de magnésium anhydre. La phase organique est alors concentrée à l'évaporateur rotatif. Le produit obtenu est alors purifié par colonne de silice avec un éluant 90/10 cyclohexane éther. Le rendement est de 65%.
Réaction : Etape 2 : Synthèse du BP-0 Hexa-Acrylate
Protocole :
Dans un ballon monocol de 100 mL introduire 8.26 mmol de 4- hydroxybenzophénone dans 30 mL d'acétone avec 12 mmol de K2C03 pure. Au mélange, 8,20 mmol de Br-Hex-acrylate (étape 1 ) sont ajoutés sous-agitation. Le mélange est porté à 60°C sous agitation pendant 24 heures.
Lorsque la réaction est achevée, l'acétone est évaporée et le mélange réactionnel est lavé avec deux fois 30 mL d'une solution d'HCI à 2N, deux fois 30 mL d'une solution à 1 N de bicarbonate de soude et deux fois 30 mL d'eau. La phase organique est alors séchée sur sulfate de magnésium puis évaporée. Le produit obtenu est alors purifié par colonne de silice avec un éluant 90/10 cyclohexane éther. Le rendement en composé (15) BP-0 Hexa-Acrylate est de 25%.
Synthèse du composé (16)(BP-0-CO-Néodéca)
A une solution à 0°C contenant 15 mmol (3 g) de 4-hydroxybenzophénone, 22,5 mmol (4,29 g) de chlorure d'acide néodécanoïque dans 12 mL de dichlorométhane anhydre, 22,5 mmol (2,27 g) de triéthylamine, est ajoutée une quantité catalytique de DMAP et laissée à réagir à température ambiante sous agitation pendant 1 nuit. Une fois la réaction terminée, le milieu réactionnel est dilué dans 20 mL d'éther diéthylique, et la phase organique est lavée successivement avec une solution à 2N d'HCI, de l'eau, et une saumure avant d'être séchée sur sulfate de magnésium anhydre. La phase organique est alors concentrée à l'évaporateur rotatif. Le produit obtenu est alors purifié par colonne de silice avec un éluant 90/10 cyclohexane éther. Le rendement obtenu est de 66%.
Synthèse du composé (17)(BP-OCRHI?0-BP)
Dans un ballon monocol de 100 mL, introduire 24,6 mmol (4,876 g) de 4- hydroxybenzophénone dans 50 mL de DMSO puis introduire 98,4 mmol (5,520 g) de potasse. 8,20 mmol (2 g) de 1 ,6-dibromohexane est alors introduit goutte à goutte sous agitation et sous argon. La réaction est laissée à réagir pendant 6 j.
Lorsque la réaction est terminée, 100 mL d'eau sont introduits. Le mélange réactionnel est alors extrait avec 3 fois 40 mL de dichlorométhane, puis lavé à l'eau. La phase organique est alors séchée sur sulfate de sodium avant d'être évaporée.
Le produit obtenu est alors séché sous vide de pompe à palette pendant 2j pour donner le produit pur. C'est un solide blanc cristallin. Le rendement obtenu est de 94%. -amorceurs (tableau 2)
Les composés S1 , S2 et S3 sont des silanes.
Les composés H1 à H10 sont des méthylhydrogénosiloxanes linéaires où les fonctions Si-H peuvent se trouver dans la chaîne silicone, en bout de chaîne silicone
(extrémité des chaînes) ou les deux.
Le composé H1 1 est une résine comprenant des motifs siloxyles « Q » de formule Si04/2 et des motifs siloxyles « M' » de formule H(CH3)2SiOi/2. Silicones acryliques (tableau 3)
Les silicones acryliques utilisées A1 et A2 répondent à la formule (III) susmentionnée dans laquelle :
Exemple 1 : Suivi de la polymérisation des fonctions acryliques de silicones acryliques
Cet exemple concerne l'utilisation de l'huile H3 (cf. tableau 2 ci-dessus) comme co-amorceur en combinaison avec le photoamorceur benzophénone afin d'amorcer la polymérisation de silicones acryliques (A1 et A2, décrites dans le tableau 3 ci-dessus).
Par ailleurs, pour les essais comparatifs, un photoamorceur de type I a également été utilisé, à savoir l'Irgacure® 1 173 (n° CAS : 7473-98-5) de structure suivante :
Les préparations sont réalisées ainsi : On a pesé et introduit la benzophénone dans la résine A1 ou A2, et l'ensemble a été agité jusqu'à obtenir un produit homogène (-30 minutes).
Enfin, après pesée, l'organohydrogénopolysiloxane H3, a été introduite.
Les préparations ainsi obtenues ont ensuite été réticulées sous rayonnement UV avec une lampe Mercure-Xénon avec un réflecteur à 365 nm. La puissance de la lampe UV a été fixée à 510 mW.cm"2.
Les manipulations ont été réalisées sous air ou en laminé afin de s'affranchir de toute action d'inhibition des espèces réactives par l'oxygène. Lorsque les manipulations sont faites en laminé, la formulation est placée entre deux feuilles de polypropylène, puis entre deux pastilles de CaF2.
Le suivi de cinétique de polymérisation est réalisé par Infra-Rouge à Transformée de Fourrier en Temps Réel (RT-FTIR, Vertex 70 de Brucker Optik).
Cette technique spectroscopique consiste à exposer l'échantillon simultanément à la lumière et à un rayon infra-rouge afin de suivre les changements dans le spectre IR à 1636 cm"1 qui est une bande caractéristique de la liaison C=C des fonctions acryliques.
Le taux de conversion de C=C à C-C lors de la polymérisation est directement lié à la diminution de l'aire calculée sous le pic à 1636 cm"1 selon l'équation suivante : conversion (%)=(A0-At)/A0 χ 100 avec A0 l'aire sous le pic avant irradiation et At l'aire sous le pic à chaque instant t de l'irradiation.
Le tracé en fonction du temps permet d'accéder au taux de conversion final, mais aussi à d'autres paramètres importants, comme la vitesse maximale de conversion ((Rp/[M]0)x 100). Cette dernière est déterminée par la pente de la courbe Conversion(%)=f(t) à son point d'inflexion
Démonstration de l'efficacité d'amorçage du système de type II sur les silicones acryliques A1 et A2 en laminé.
Le tableau suivant (tableau 4) exprime les mélanges effectués sur une base de 2g de résine A1 ou A2. Les données sont exprimées en % poids. Ces manipulations ont été effectuées en laminé.
Tableau 4
Les exemples notés C correspondent à des exemples comparatifs et les autres exemples (5 et 10) correspondent à des compositions selon l'invention. Ces essais montrent clairement que le photoamorceur (benzophénone) ou le co-amorceur (H3) séparément ne sont pas efficaces en qualité d'amorceurs de polymérisation (essais 3C & 4C et essais 8C & 9C).
En revanche, la combinaison des deux éléments pour constituer le système photoamorceur de type II selon l'invention est efficace (essai 5 vs 3C & 4C et essai 10 vs 8C & 9C).
Les conversions obtenues sont tout à fait convaincantes en comparaison du photoamorceur de type I, Irgacure® 1 173 (essai 5 vs 2C et essai 10 vs 7C).
Démonstration de l'efficacité d'amorçage du système de type II sur les silicones acryliques A1 et A2 sous air.
Le tableau suivant (tableau 5) exprime les mélanges effectués sur une base de 2g de résine A1 ou A2. Les données sont exprimées en % poids. Ces manipulations ont été effectuées sous air.
Tableau 5 :
Les exemples notés C correspondent à des exemples comparatifs et les exemples 12 et 14 correspondent à des compositions selon l'invention.
Ces essais montrent que le système photoamorceur de type II selon l'invention permet aussi une polymérisation performante sous air en comparaison au système de type I connu comme étant des plus robustes (essai 1 1 C vs 12 et essai 13C vs 14). Exemple 2 : Utilisation d'autres photoamorceurs
L'exemple 1 est reproduit en remplaçant la benzophénone par un dérivé de benzophénone ou un dérivé d'isopropylthioxanthone.
Le co-amorceur est l'huile H1 (cf. tableau 2).
Les essais ont été effectués en utilisant 1 ,2.10 4 moles de photoamorceur et 8,05.10~5 moles de liaisons -Si-H.
Comme dans l'exemple 1 , on a utilisé 2g de silicone acrylique (A1 ).
Les photoamorceurs testés sont BP-OH, BP-OMe, BP-OHexa, BP-OTMeSi, TX-TMVSi, BP-Acrylate, BP-OHexa-Acrylate, BP-O-CO-Néodéca et BP-0-C6H12-0- BP dont les structures sont décrites dans le tableau 1 .
Les résultats obtenus sont indiqués dans le tableau 6 ci-dessous.
Tableau 6
On a donc pu constater que les photoamorceurs testés, autres que la benzophénone, permettent également, en association avec un organohydrogénopolysiloxane, de polymériser les silicones acryliques testées. Exemple 3 : Utilisation d'autres co-amorceurs silanes
Des essais de polymérisation ont été effectués dans les mêmes conditions que celles de l'exemple 1 , en modifiant la nature du co-amorceur. Ici, on a remplacé l'huile organohydrogénopolysiloxane par un silane choisi parmi S1 , S2 ou S3 décrits dans le tableau 2.
Le photoamorceur utilisé est la benzophénone (BP), comme dans l'exemple 1 , ou l'isopropylthioxanthone (ITX).
Les essais ont été effectués en utilisant 1 ,2.10 4 moles de co-amorceur et 8,05.10"5 moles de liaisons -Si-H, en laminé.
Comme dans l'exemple 1 , on a utilisé 2g de silicone acrylique (A1 ou A2).
Les résultats obtenus sont indiqués dans les tableaux 7 et 8 ci-dessous :
Tableau 7 : Avec la benzophénone
On a donc pu constater que les silanes testés permettent également, en association avec la benzophénone ou avec l'isoproprylthioxanthone, de polymériser les silicones acryliques testées. Dans les exemples suivants des compositions silicone selon l'invention ont été enduites puis réticulées par exposition à un rayonnement sur des supports souples. Les performances d'anti-adhérence des supports ainsi obtenus ont été évaluées. Pour ce faire, les formulations sont préparées par mélange des différents composants décrits dans les exemples 5 à 9, puis enduites à l'aide d'un pilote d'enduction Rotomec sur différents supports dans les conditions décrites dans les différents exemples.
Tests effectués sur les supports enduits de revêtements silicones antiadhérents
Dépôt : Contrôle du dépôt silicone enduit sur la surface par analyse par Fluorescence X du silicium (Lab-X 3000 d'Oxford). Un tube à rayon X excite la couche électronique des atomes de silicium, ce qui provoque une émission de rayons X proportionnelle à la quantité de silicium excité. Cette valeur ou nombre de coups est transformée par calcul (en utilisant la droite d'étalonnage) en quantité de silicone.
Smear : Contrôle qualitatif de la polymérisation de surface par la méthode de la trace au doigt qui consiste à :
- Disposer de l'échantillon de support enduit de silicone à contrôler sur une surface plane et rigide ;
- Faire une trace avec le bout du doigt en appuyant modérément mais nettement ; et
- Examiner à l'œil la trace ainsi faite, de préférence en lumière rasante. On peut voir ainsi la présence d'une trace même très légère par la différence de brillance de la surface.
L'appréciation est qualitative. On quantifie le « Smear » avec les notations suivantes :
A : très bon, pas de trace au doigt
B : un peu moins bon, trace à peine visible
C : trace nette
D : trace très nette et aspect huileux de la surface, produit à peine polymérisé. soit une note de A à D, du meilleur résultat au plus mauvais. Rub-off : Contrôle de l'aptitude du silicone à adhérer sur le support flexible par gommage en aller-retour au doigt qui consiste à :
- Disposer l'échantillon de support enduit de silicone à contrôler sur une surface plane et rigide, la silicone étant sur la face supérieure ;
- Faire 10 Aller et Retour avec le bout du doigt (sur une longueur de 10 cm environ) en appuyant modérément mais nettement ;
- Examiner à l'œil l'apparition du gommage. Le gommage correspond à l'apparition d'une fine poudre blanche ou des petites boulettes qui roulent sous le doigt.
L'appréciation est qualitative. On quantifie le gommage avec les notations suivantes :
• 10 : très bon, pas d'apparition de gommage au bout de 10 A-R
• 1 : très mauvais, gommage dès le premier aller
La note correspond au nombre d'aller-retour (de 1 à 10) à partir duquel un gommage apparaît.
Soit une note de 1 à 10, du plus faible au meilleur résultat.
Démouillage : Appréciation du degré de polymérisation de la couche silicone par évaluation du transfert de silicone sur un adhésif mis en contact avec l'enduction à l'aide d'une encre de tension de surface normée. La méthode est la suivante :
- Sélectionner un échantillon d'environ 20 x 5 cm du papier enduit silicone à caractériser, pris dans le sens du déroulement (sens machine) ;
- Découper une longueur de ~ 15 cm de ruban adhésif, puis le déposer côté adhésif sur le papier à contrôler, sans plis, en exerçant 10 fois une pression par glissement du doigt sur la longueur du ruban adhésif. (Ruban adhésif « Scotch » de
3 M, référence 610, largeur : 25 mm) ;
- Enlever le ruban adhésif et le déposer à plat, partie adhésivée vers le haut ;
- Déposer sur la partie adhésivée du ruban, avec un coton tige (à usage unique), une trace d'encre sur une longueur d'environ 10 cm (encres de marque SHERMAN ou FERARINI et BENELI de tension de surface = 30 dynes/cm et de viscosité 2 à 4 mPa/s). Déclencher immédiatement le chronomètre ;
- On considère que l'on entre dans la phase du phénomène de démouillage lorsque le trait d'encre change d'aspect, arrêter alors le chronomètre ;
- La dépose de l'encre sur la partie adhésivée du ruban doit se faire dans les 2 minutes suivant l'enduction silicone ; - Si le résultat obtenu est < 10 secondes, on estime qu'il y a migration de silicone sur l'adhésif, et que la polymérisation n'est pas complète ;
- On donnera une note de 0 à 10 correspondant au temps écoulé en secondes avant l'observation du phénomène de démouillage ;
- Si le résultat obtenu est 10 secondes, on estime que la polymérisation est complète. Dans ce cas, on donnera une note de 10 signifiant que le résultat est très bon ;
- Noter la note obtenue et l'encre utilisée (nom, marque, tension de surface, viscosité).
Extractibles : Mesure de la quantité de silicone qui n'est pas greffée au réseau formé lors de la polymérisation. Ces silicones sont extraits du film par immersion d'échantillon dès la sortie machine dans la MIBK durant 24h minimum. Ceci est mesuré par spectroscopie à absorption de flamme.
Préparation d'articles multicouches auto-adhésifs
Un support adhésivés normé TESA7475 (support = PET - adhésif = acrylique) est complexé sur le liner silicone produit ci-dessus (= support enduit d'un revêtement silicone obtenu par réticulation sous UV) afin de former un article multicouche. Des essais de tractions sont réalisés afin de déterminer les forces de décollement avant et après vieillissement ainsi que les valeurs d'adhésion subséquente et de loop-tack. Ces tests sont décrits ci-après.
Test effectué sur les articles multicouches obtenus
Adhésion subséquente ou « Subséquent adhésion » (ou « SubAd ») :
Mesure de vérification de la conservation d'adhésivité des adhésifs (TESA 7475) ayant été en contact avec le revêtement silicone selon le test FINAT 1 1 (FTM 1 1 ) connu de l'homme du métier. Ici l'éprouvette de référence est du PET et les adhésifs sont restés en contact avec la surface silicone à tester 1 jour à 70°C et 7 jours à 70°C.
Les résultats s'expriment en % de conservation de force adhésive du ruban de référence : CA = (Fm2/Fm1 ) x 100 en %
avec :
Fm2 = Moyenne forces décollement ruban après contact 20 h avec support siliconé ; et
Fm1 = Moyenne forces décollement ruban sans contact avec support siliconé. Loop-tack : Le test de loop-tack consiste en la détermination de la force nécessaire pour séparer, à 300 mm/min, une boucle d'adhésif (TESA 7475) mise en contact et sans pression avec un matériau standard. Le rapport de résultat entre un adhésif propre et un adhésif complexé 1 jour à 23°C permet d'apprécier la perte d'adhésivité selon le test FINAT 9 (FTM9) connu de l'homme du métier.
Le résultat final sera la moyenne des trois mesures exprimées en N/Inch (unité : 1 inch = 2,54 cm).
Release : Les mesures de forces de pelage ont été effectuées avec l'adhésif normé TESA 7475. Les éprouvettes de l'article multicouche (adhésif en contact avec surface silicone) ont été conservées 1 jour à 23°C, 1 jour à 70°C et 7 jours à 70°C dans les conditions de pression requises, puis testées à faible vitesse de pelage selon le test FINAT 3 (FTM 3) connu de l'homme du métier.
La force de décollement s'exprime en cN/inch et se mesure à l'aide d'un dynamomètre, après mise sous pression des échantillons soit à température ambiante (23°C) soit à plus haute température pour des tests de vieillissement accéléré (en général 70°C).
Exemple 4 :
Dans cet exemple, on a utilisé la benzophénone comme photoamorceur et, à titre de co-amorceur, le composé H9 (cf. tableau 2). Les différentes formulations sont décrites dans le tableau 1 1 suivant. Un système photoamorceur de type I qui est l'éthyl(1 ,4,6-triéthylbenzoyl)phénylphosphinate (PA I) a été testé également.
Conditions d'enduction :
- Vitesse de ligne : 50 m/min - Lampe UV : Honle à 100 W/cm
- Corona : 1000 W - 02 résiduel sous lampe : < 20 ppm
Le support d'enduction est du LDPE de 87 g/m2 . L'enduction est réalisée sur la face out du support. Le dépôt visé est compris entre 0,8 et 1 ,0 g/m2.
En sortie machine, les résultats des tests réalisés sont présentés dans le tableau 9 suivant : Tableau 9
Cet exemple montre que, pour les photoamorceurs de type II, les meilleurs résultats sont obtenus avec des faibles concentrations en fonctions Si-H dans la composition silicone (Exemples A1 et A2) comparables à ceux obtenus avec un photoamorceur de type I. L'exemple A3 où la composition silicone comprend 0,012 mol Si-H/100g conduit à un taux d'extractibles élevé, à une moins bonne performance au test de démouillage et à un release après 7 jours à 70°C élevé.
Exemple 5 : Influence de la concentration en photoamorceur et en co- amorceur.
Dans cet exemple, nous avons fait varier dans la composition d'enduction la teneur molaire en Si-H dans la composition d'enduction et la teneur molaire en photoamorceur. Pour cela, 3 concentrations molaires en fonctions Si-H différentes ont été utilisées (0,001 - 0,002 et 0,003 mol/100 g de composition silicone) et, pour chacune, 4 concentrations molaires en photoamorceur (0,0017 - 0,0033 - 0,0064 et 0,0129 mol/100g de composition silicone), avec pour témoin le système photoamorceur de type I PA I. Le photoamorceur mis en œuvre est le Genocure® LBP.
Conditions d'enduction :
- Vitesse de ligne : 50 m/min - Lampe UV : Honle à 200 W/cm
- Corona : 1000 W - 02 résiduel sous lampe : < 20 ppm
Le support d'enduction est du LDPE de 23 g/m2 de L'enduction est réalisée sur sa face OUT. Le dépôt visé est compris entre 0,8 et 1 ,0 g/m2.
Le tableau 10 suivant résume les différentes compositions silicones utilisées ainsi que les résultats obtenus aux tests susmentionnés.
Tableau 10
Tableau 10 (suite)
D'après le tableau 10 ci-dessus, on a observé que, pour tous ces essais, les résultats aux tests métiers et les mesures d'extractibles sont satisfaisants. On constate que lorsqu'on augmente la concentration en fonctions Si-H dans la composition, la teneur en extractibles augmente. Il a en particulier été constaté qu'il est particulièrement avantageux d'utiliser de faibles concentrations en fonctions Si-
H.
Exemple 6 : Influence de la teneur en fonctions Si-H des co-amorceurs Dans cet exemple, les essais ont été effectués à concentration constante en fonctions Si-H dans la composition de départ mais en utilisant des huiles organohydrogénopolysiloxanes à teneur fonctions Si-H variable. Les huiles H4, H9, H8 et H5 ont été utilisées (cf. tableau 2). Une concentration constante en photoamorceur Genocure® LBP a été utilisée. Ces formulations ont été testées à faible vitesse d'enduction et forte puissance de lampe.
Conditions d'enduction :
- Vitesse de ligne : 50 m/min - Lampe UV : Honle à 200 W/cm
- Corona : 1000 W - 02 résiduel sous lampe : < 20 ppm
Le support d'enduction est du LDPE de 23 g/m2. L'enduction est réalisée sur sa face OUT. Le dépôt visé est entre 0,8 et 1 ,0 g/m2 (0,90 ± 0,10).
Le tableau 1 1 suivant résume les compositions mises en œuvre et les résultats obtenus suite aux tests susmentionnés
Tableau 1 1
On observe que le démouillage est dégradé avec l'huile H5 (Ex 04) qui a la plus faible teneur en fonctions Si-H (0,0228 mol/100 g).
L'huile H8 (Ex 03) avec une teneur fonctions Si-H de 0,0646 mol/100g présente un taux d'extractibles supérieur de 24% à ceux obtenus avec les co- amorceurs H4 et H9 (Ex 01 et 02) et les valeurs de release augmentent fortement après 1 et 7 jours à 70°C.
Cet exemple montre donc qu'il est préférable d'utiliser comme co-amorceur un organohydrogénopolysiloxane comprenant au moins 0,05 mole de fonctions Si-H pour 100 g, et de préférence au moins 0,08 mole de fonctions Si-H pour 100 g.
Exemple 7 : Essais d'enduction avec différentes huiles selon la teneur en fonctions Si-H et la position des motifs Si-H
Cet exemple concerne l'étude de l'impact sur la polymérisation de la nature des co-amorceurs et notamment de la position des motifs Si-H (bout de chaîne, dans la chaîne ou les deux).
Conditions d'enduction :
- Vitesse de ligne : 50 m/min - Lampe UV : Honle à 200 W/cm
- Corona : 1000 W - 02 résiduel sous lampe : < 20 ppm
Le support d'enduction est du LDPE Blanc GLD3 28 g/m2.L'enduction est réalisée sur sa face OUT. Le dépôt visé est compris entre 0,8 g/m2 et 1 ,0 g/m2.
A titre de photoamorceur, on a utilisé le Genocure® LBP (tableau 1 ). Le co- amorceur est choisi parmi différentes huiles ou résines avec différentes structures et teneur en fonctions Si-H (cf. tableau 2).
Le tableau 12 suivant résume les différentes compositions utilisées ainsi que les résultats obtenus suite aux tests susmentionnés. Tableau 12
Le Smear est coté de A-B à A pour toute la série. Le Rub-off est compris entre 9 et 10. Le démouillage est à 10. La polymérisation des compositions enduites est donc bonne pour toutes les formulations et n'est pas significativement affectée par la nature du co-amorceur utilisé ni par le positionnement des motifs Si-H dans la chaîne. Toutes valeurs d'extractibles sont comprises entre 2,4% et 3,1 %. Ceci confirme le fait que la polymérisation est bonne quelle que soit la position des motifs Si-H.
Les résultats de la caractérisation de l'article multicouche et les valeurs de release sont tous satisfaisants également.
Cet exemple confirme également qu'on obtient de très bons résultats lorsque le co-amorceur a une teneur en Si-H supérieure ou égale à 0,05 mol/100 g. Exemple 8 : Essais d'enduction avec un mélange de A1 et A2
Dans cet exemple un mélange d'organopolysiloxanes fonctionnalisés acrylate a été mis en œuvre. Le Genocure® LBP a été utilisé comme photoamorceur et l'huile H9 comme co-amorceur.
Conditions d'enduction :
- Vitesse de ligne : 50 m/min - Lampe UV : Honle à 200 W/cm
- Corona : 1000 W - 02 résiduel sous lampe : < 20 ppm
Le support d'enduction est du PET 30,01/30 Transparent 30 g/m2 de TORAY. L'enduction est réalisée sur sa face OUT. Le dépôt visé est compris entre 0,8 g/m2 et 1 ,0 g/m2. Le tableau 13 suivant résume les différentes compositions utilisées ainsi que les résultats obtenus suite aux tests susmentionnés.
Tableau 13
Exemple 9 :
Une nouvelle série d'essais a été réalisée pour tester des concentrations plus faibles dans les compositions silicones de photoamorceur et co-amorceur. Le Genocure® LBP et le Genocure® LBP-2 ont été utilisés comme photoamorceurs et l'huile H9 comme co-amorceur. Conditions d'enduction :
- Vitesse de ligne : 50 m/min - Lampe UV : Honle à 100 W/cm
- Corona : 1000 W - 02 résiduel sous lampe : < 20 ppm
Le support d'enduction est du LDPE. L'enduction est réalisée sur sa face OUT. Le dépôt visé est compris entre 0,8 g/m2 et 1 ,0 g/m2.
Le tableau 14 suivant résume les différentes compositions utilisées ainsi que les résultats obtenus suite aux tests susmentionnés.
Tableau 14
Les résultats sont satisfaisants pour l'ensemble des compositions testées.
L'essai Ex F3 que des faibles concentrations en photoamorceur (0,0008 mol/100g de composition) et en co-amorceur (0,005 mol/100g de composition) permettent d'obtenir des résultats satisfaisants. Exemple 10 :
Dans cet exemple, on a utilisé les benzophénones modifiées comme photoamorceurs et, à titre de co-amorceur, le composé H9 (cf. tableau 2). Les différentes formulations sont décrites dans le tableau 15 suivant. La benzophénone Genocure LBP ainsi qu'un système photoamorceur de type I qui est l'éthyl(1 ,4,6- triéthylbenzoyl)phénylphosphinate (PA I) ont été testés également.
L'enduction ayant été réalisée en l'absence de corona, un additif d'accroché a été ajouté à toutes les formulations.
Conditions d'enduction :
- Vitesse de ligne : 50 m/min - Lampe UV : Honle à 200 W/cm
02 résiduel sous lampe : < 20 ppm
Le support d'enduction est de la glassine.
L'enduction est réalisée sur la face out du support. Le dépôt visé est compris entre 0,8 et 1 ,0 g/m2.
En sortie machine, les résultats des tests réalisés sont présentés dans le tableau 15 suivant :
Tableau 15
Comp. PA Invention Invention Invention
Composition
Type I Ex. G1 Ex. G2 Ex. G3
A1 (g) 70 70 70 70
Add. Accroche (g) 30 30 30 30
PA I (g) 1
Genocure LBP (g) 0,34
4-Benzoylphenyl acrylate (g) 0,40
Bzp-O-neo (g) 0,61
H9 (g) 0,31 0,30 0,30 mol PA II N.A. 0,0018 0,0016 0,0016 mol SiH N.A. 0,0078 0,0078 0,0078 ratio molaire PA II / SiH N.A. 2,2 2,2 2,2
Caractérisation du revêtement
Smear A A A A
Rub-off 10 10 10 10
Démouillage 10 10 10 10
Extractibles (100 cm2) dosage 1 ,98 4,22 6,15 4,14
Extractibles in line (100 cm2) % 2,8 6,1 8,5 5,9
Caractérisation de l'article multicouche TESA 7475
Subadhesion 1d@70°C (ref TESA 7475) 0,68 0,60 0,57 0,58
Subadhesion 1d@70°C (%) 103 91 87 88
Subadhesion 6d@70°C (ref TESA 7475) 0,63 0,64 0,62 0,66
Subadhesion 6d@70°C (%) 80 82 79 84
Release TESA 7475
1d@23°C 9,98 9,77 8,93 8,26
1d@70°C 14,46 14,04 12,87 12,51
6d@70°C 25,07 24,41 22,02 15,30

Claims

REVENDICATIONS
1. Composition silicone C réticulable par exposition à un rayonnement de longueur d'onde comprise entre 200 nm et 450 nm, comprenant :
- au moins un photoamorceur radicalaire A ;
- au moins un co-amorceur B choisi parmi les composés comprenant au moins un atome d'hydrogène lié à un atome de silicium ; et
- au moins un organopolysiloxane D comportant au moins un groupe (méth)acrylate ;
dans laquelle le co-amorceur B comprend au moins 0,05 mole de fonctions Si-H pour 100 g de co-amorceur B.
2. Composition C selon la revendication 1 , dans laquelle le co-amorceur B comprend au moins une liaison siloxane et au moins un atome d'hydrogène lié à un atome de silicium.
3. Composition selon la revendication 1 ou 2, dans laquelle le co-amorceur B est choisi parmi les organohydrogénopolysiloxanes.
4. Composition C selon l'une quelconque des revendications 1 à 3, dans laquelle le co-amorceur B comprend au moins 0,08 moles de fonctions Si-H pour 100 g de co-amorceur B.
5. Composition C selon l'une quelconque des revendications 1 à 4, dans laquelle le photoamorceur radicalaire A est choisi dans le groupe constitué par la benzophénone et ses dérivés, la thioxanthone et ses dérivés, l'anthraquinone et ses dérivés, les esters de benzoyle formate, la camphorquinone, le benzile, le phénanthrènequinone, les coumarines et cétocoumarines, et leurs mélanges.
6. Composition C selon l'une quelconque des revendications 1 à 5, dans laquelle le photoamorceur radicalaire A est la benzophénone.
7. Composition C selon l'une quelconque des revendications 1 à 6, dans laquelle l'organopolysiloxane D comprend :
a1 ) au moins un motif de formule (I) suivante :
RaZbSiO(4-a-b)/2 (I)
formule dans laquelle :
- les symboles R, identiques ou différents, représentent chacun un groupe alkyle en Ci à Ci8 linéaire ou ramifié, un groupe aryle ou aralkyle en C6 à Ci2, éventuellement substitué, de préférence par des atomes d'halogène, ou un radical alkoxy -OR4 avec R4 étant un atome d'hydrogène ou un radical hydrocarboné comprenant de 1 à 10 atomes de carbone,
- les symboles Z sont des radicaux monovalents de formule -y-(Y')n dans laquelle :
• y représente un radical polyvalent alkylène linéaire ou ramifié en CrC18 éventuellement prolongé par des radicaux bivalents oxyalkylène ou polyoxyalkylène en d à C4 éventuellement substitué par un radical hydroxy,
• Y' représente un radical monovalent alcénylcarbonyloxy, et
• n est égal à 1 , 2 ou 3, et
- a est un nombre entier égal à 0, 1 ou 2, b est un nombre entier égal à 1 ou 2 et la somme a+b= 1 , 2 ou 3 ; et
a2) éventuellement des motifs de formule (II) suivante :
RaSiO(4-a)/2 (H)
formule dans laquelle :
- les symboles R, identiques ou différents, représentent chacun un groupe alkyle en Ci à Ci8 linéaire ou ramifié, un groupe aryle ou aralkyle en C6 à Ci2, éventuellement substitué, de préférence par des atomes d'halogène, et
- a est un nombre entier égal à 0, 1 , 2 ou 3.
8. Composition C selon l'une quelconque des revendications 1 à 7, dans laquelle le ratio entre le nombre de moles de photoamorceur radicalaire A et le nombre de moles de fonctions Si-H du co-amorceur B est supérieur ou égal à 0,5, de préférence compris entre 0,5 et 20, et encore plus préférentiellement compris entre 1 et 10.
9. Composition C selon l'une quelconque des revendications 1 à 8, dans laquelle la concentration en fonctions Si-H est inférieure ou égale à 0,01 mole pour 100 g de composition C, et de préférence comprise entre 0,0002 et 0,01 mole pour 100 g de composition C.
10. Composition C selon l'une quelconque des revendications 1 à 9, dans laquelle la concentration en photoamorceur radicalaire A est comprise entre 0,0003 et 0,015 mole pour 100 g de composition C.
11. Utilisation de la composition C selon l'une quelconque des revendications 1 à 10, pour la préparation de films silicones à propriétés antiadhérentes.
12. Elastomère de silicone obtenu par réticulation d'une composition C selon l'une quelconque des revendications 1 à 10.
13. Procédé de préparation de films silicones à propriétés anti-adhérentes, comprenant une étape de réticulation d'une composition C selon l'une quelconque des revendications 1 à 10.
14. Procédé selon la revendication 13, dans laquelle l'étape de réticulation est effectuée sous air ou sous atmosphère inerte.
15. Procédé selon la revendication 13, dans laquelle l'étape de réticulation est effectuée par exposition à un rayonnement de longueur d'onde comprise entre 200 nm et 450 nm.
16. Procédé de préparation d'un revêtement sur un substrat, comprenant les étapes suivantes :
- l'application d'une composition C selon l'une quelconque des revendications 1 à 10 sur un substrat, et
- la réticulation de ladite composition par exposition à un rayonnement de longueur d'onde comprise entre 200 nm et 450 nm.
17. Substrat revêtu susceptible d'être obtenu selon le procédé selon la revendication 16.
18. Composés (2), (4), (5), (6), (7), (7bis), (9), (15), (16) et (17) de formules suivantes :
(2) (4)
(7bis)
19. Utilisation des composés selon la revendication 18 comme photoamorceurs radicalaires.
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Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP3320052A1 (fr) * 2015-07-06 2018-05-16 Bluestar Silicones France SAS Article multicouche auto-adhésif et son procédé de préparation
KR102240076B1 (ko) * 2017-11-10 2021-04-14 주식회사 엘지화학 이형 조성물 및 이의 경화물을 포함하는 이형층을 포함하는 이형 필름
IL257535B (en) * 2018-02-14 2020-01-30 N3 Coat Ltd Benzophenone compounds as light catalysts for polyolefins
EP3902878A1 (fr) * 2018-12-28 2021-11-03 IGM Resins Italia S.r.l. Photoinitiateurs
WO2021106485A1 (fr) * 2019-11-27 2021-06-03 株式会社スリーボンド Composition d'apprêt
JP7411500B2 (ja) * 2020-05-11 2024-01-11 信越化学工業株式会社 光硬化性シリコーン組成物、接着剤、シリコーン硬化物
CA3206866A1 (fr) 2021-01-08 2022-07-14 Elkem Silicones France Sas Composition silicone reticulable par irradiation comprenant un modulateur d'adherence
BR112023018154A2 (pt) * 2021-03-10 2024-01-16 Elkem Silicones France Sas Fotoiniciador tipo i para cura de composições de silicone
CN113173851B (zh) * 2021-04-13 2023-02-14 华南理工大学 一种uv交联单体及其制备方法与在制备含氟丙烯酸酯乳液中的应用
CN113651904B (zh) * 2021-08-12 2023-05-12 管和平 一种可光聚合单组分硫杂蒽酮类光引发剂

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4064027A (en) * 1973-09-28 1977-12-20 Dow Corning Corporation UV curable composition
FR2507608A1 (fr) * 1981-06-15 1982-12-17 Rhone Poulenc Spec Chim Compositions organopolysiloxaniques liquides photopolymerisables pour enduction de materiaux
US4558082A (en) 1984-05-10 1985-12-10 General Electric Company Acrylated polymers
CA1256239A (fr) * 1984-09-28 1989-06-20 Richard P. Eckberg Compositions de silicone a vulcanisation double
US4585669A (en) * 1984-09-28 1986-04-29 General Electric Company Novel dual cure silicone compositions
DE4003079A1 (de) * 1990-02-02 1991-08-08 Bayer Ag Benzophenonderivate und polymere mit phenolischen hydroxylgruppen
JP2000509089A (ja) * 1996-04-19 2000-07-18 ミネソタ・マイニング・アンド・マニュファクチャリング・カンパニー ポリマを放射線架橋する方法及び放射線架橋性組成物
JP3950493B2 (ja) * 1996-04-26 2007-08-01 東レ・ダウコーニング株式会社 導電性シリコーンゴム組成物、半導体装置の製造方法およびその半導体装置
US6254802B1 (en) * 1997-05-16 2001-07-03 Cryovac, Inc. Low migratory photoinitiators for oxygen-scavenging compositions
EP1208571B1 (fr) * 1999-07-27 2003-10-01 PIRELLI S.p.A. Cable destine notamment au transport ou a la distribution d'energie electrique et composition d'isolation
EP2444450A1 (fr) * 2010-10-19 2012-04-25 Hinterwaldner Consulting & Partner (Gbr) Compositions destinées à la fabrication de revêtements antiadhésifs
EP2750884A4 (fr) * 2011-09-01 2015-04-29 3M Innovative Properties Co Procédés de production d'une couche au moins partiellement durcie
JP5735446B2 (ja) * 2012-03-27 2015-06-17 信越化学工業株式会社 オルガノポリシロキサン組成物、該オルガノポリシロキサン組成物の硬化方法、及び発光ダイオード
JP2014001342A (ja) * 2012-06-20 2014-01-09 Momentive Performance Materials Inc 紫外線硬化型シリコーン樹脂組成物、及びそれを用いた画像表示装置
FR3015508B1 (fr) * 2013-12-20 2016-02-05 Bluestar Silicones France Nouveau systeme d'inhibition d'hydrosilylation photoactivable
TWI738684B (zh) * 2015-12-09 2021-09-11 德商漢高智慧財產控股公司 可脫黏組合物

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