JP2019511748A - 光強度調整方法 - Google Patents
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Abstract
【選択図】図3
Description
マスクを用いて実施される光強度調整方法であって、
1)照明系の錯乱円(CoC)関数、照明視野(FOV)の初期光強度分布及び照明FOVの目標光強度分布に基づいて、初期光強度分布を目標光強度分布に調整するための前記マスクの透過率分布を計算し、
2)前記目標光強度分布の所望の精度に応じて前記マスクをメッシュ構造にし、前記マスクの前記透過率分布と該透過率分布の所望の精度に基づくメッシュ構造によりもたらされる各セルの不透明ドットの分布を決定し、
3)前記不透明ドットの決定された分布に基づいて前記マスクを製造し、前記照明系に該マスクを設置する。
(K*N)×Fun=M
ここで、
Kは前記初期光強度分布を示し、
Mは前記目標光強度分布を示し、
Nは前記マスクの前記透過率分布を示し、
Funは、前記CoC関数を示し、
*は乗算演算を示し、
×は畳み込み演算を示す。
前記CoC関数は、以下である。
Rは前記マスク上の対応する1つの前記不透明ドットによって前記照明FOV内に形成される光スポットの半径を示し、
x及びyは前記照明FOV内のある点の座標を示し、
Lは前記マスクと前記照明FOVとの距離を示し、
θは前記照明系の発散角を示す。
前記マスクを最初にメッシュ構造にし、
隣接するセル間の光強度勾配のうち補間後の最大値が前記目標光強度分布の所望の精度よりも小さくなるように補間する。
前記セルの対応する1つの面積に対する前記不透明ドットの面積の比が前記目標光強度分布の所望の精度より大きくないという基準に基づいて、前記不透明ドットの面積を計算し、
前記マスクの前記透過率分布と前記不透明ドットの面積とに基づいて、前記セルの対応する1つにおいて、前記不透明ドットの数及び前記不透明ドットのピッチを適合させることによって決定する。
照明FOVの実際の光強度分布と照明FOVの目標光強度分布とに基づいて、マスクの所望の透過率分布を計算して、光強度分布調整を達成し;目標光強度分布の所望の精度に基づいて、マスクの透過率分布の精度値を計算するため、マスクの不透明ドットの分布が得られ;マスク製造プロセスによって製造されたマスクは、高い調整精度、広いFOVサイズへの適用性、光強度及び波長範囲及び確立された製造プロセスとの適合性の利点を有する。
(K*N)×Fun=M
ここで、
Kは初期光強度分布を示し、
Mは目標光強度分布を示し、
Nはマスク101の透過率分布を示し、
Funは、CoC関数を示し、
*は乗算演算を示しているため、K*Nは初期光強度分布Kの値とレチクル101の透過率分布Nの値との積であり、
×は畳み込み演算を示す。
Rはマスク101上のクロムドットによって照明FOV102内に形成される光スポットの半径を示し、
x及びyは照明FOV102内の任意の点に由来する座標系におけるある点の座標を示し、
Lはマスク101と照明FOV102との距離を示し、
θは照明系の発散角を示す。
Claims (7)
- マスクを用いて実施される光強度調整方法であって、
1)照明系の錯乱円(CoC)関数、照明視野(FOV)の初期光強度分布及び照明FOVの目標光強度分布に基づいて、初期光強度分布を目標光強度分布に調整するための前記マスクの透過率分布を計算し、
2)前記目標光強度分布の所望の精度に応じて前記マスクをメッシュ構造にし、前記マスクの前記透過率分布と該透過率分布の所望の精度に基づくメッシュ構造によりもたらされる各セルの不透明ドットの分布を決定し、
3)前記不透明ドットの決定された分布に基づいて前記マスクを製造し、前記照明系に該マスクを設置する。 - 請求項1に記載の光強度調整方法であって、
ステップ1)において、前記マスクの前記透過率分布は、以下の式に応じたデコンボリューションによって導出される。
(K*N)×Fun=M
ここで、
Kは前記初期光強度分布を示し、
Mは前記目標光強度分布を示し、
Nは前記マスクの前記透過率分布を示し、
Funは、前記CoC関数を示し、
*は乗算演算を示し、
×は畳み込み演算を示す。
前記CoC関数は、以下である。
Rは前記マスク上の対応する1つの前記不透明ドットによって前記照明FOV内に形成される光スポットの半径を示し、
x及びyは前記照明FOV内のある点の座標を示し、
Lは前記マスクと前記照明FOVとの距離を示し、
θは前記照明系の発散角を示す。 - 請求項1に記載の光強度調整方法であって、
ステップ2)における前記目標光強度分布の所望の精度に応じて前記マスクをメッシュ構造にすることは、
前記マスクを最初にメッシュ構造にし、
隣接するセル間の光強度勾配のうち補間後の最大値が前記目標光強度分布の所望の精度よりも小さくなるように補間する。 - 請求項1に記載の光強度調整方法であって、
ステップ2)において、前記マスクの前記透過率分布と該透過率分布の所望の精度とに基づいて、各セルの前記不透明ドットの分布を決定することは、
前記セルの対応する1つの面積に対する前記不透明ドットの面積の比が前記目標光強度分布の所望の精度より大きくないという基準に基づいて、前記不透明ドットの面積を計算し、
前記マスクの前記透過率分布と前記不透明ドットの面積とに基づいて、前記セルの対応する1つにおいて、前記不透明ドットの数及び前記不透明ドットのピッチを適合させることによって決定する。 - 請求項1に記載の光強度調整方法であって、
前記不透明ドットは、クロムドットとして実装される。 - 請求項1に記載の光強度調整方法であって、
ステップ3において、前記マスクは、マスク製造プロセスを用いて製造される。 - 請求項1に記載の光強度調整方法であって、
前記マスクは、溶融シリカから形成される。
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