CN114690580A - 照明系统、光刻机以及照明均匀性补偿方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种照明系统、光刻机以及照明均匀性补偿方法。所述光照单元用于提供具第一光照。所述匀光单元用于均匀所述第一光照并将所述第一光照转换为第二光照。所述补偿单元包括至少一个具有多种光透过率的光学平板。所述补偿单元可以沿与所述第二光照的光线传播方向相同或相反的方向移动。所述第二光照穿过所述光学平板以对应形成第三光照。所述第三光照的照度均匀度大于所述第二照度均匀度。因此，本发明通过设置具有多种光透过率的补偿单元来补偿所述匀光单元的匀光效果，从而使得第二光照经具有不同光透过率的所述补偿单元的调整，以获得照度均匀度较大的，均匀性更好的所述第三光照，有利于提高光刻机设备的曝光效果，进而提高产品性能。

Description

照明系统、光刻机以及照明均匀性补偿方法

技术领域

本发明涉及半导体制造中的微光刻技术领域，特别涉及一种照明系统、光刻机以及照明均匀性补偿方法。

背景技术

半导体制造中的微光刻技术就是利用照明系统把掩模版上的图形精确地投影曝光到涂有光刻胶的硅片上。在曝光工艺中，照明均匀性是影响曝光效果的主要因素。但随着光刻机的使用时间的增加，其照明系统性能会随之衰减，无法保证光照的均匀性，不均匀的光照会严重影响曝光的效果进而影响到半导体器件的性能及良率。

因此，需要一种新的照明系统及照明均匀性补偿方法，来保障光照的均匀性，增强曝光效果，提高产品性能及良率。

发明内容

本发明的目的在于提供一种照明系统、光刻机以及照明均匀性补偿方法，以解决曝光工艺中，光照不均匀性的问题。

为解决上述技术问题，本发明提供一种照明系统，所述照明系统包括：光照单元、匀光单元和补偿单元；

所述光照单元用于提供具有多个光线传播方向的第一光照；

所述匀光单元用于均匀所述第一光照并将所述第一光照转换为具有一个光线传播方向的第二光照；

所述补偿单元包括至少一个具有多种光透过率的光学平板；所述光学平板可以沿与所述第二光照的光线传播方向相同或相反的方向移动；

所述第二光照穿过所述光学平板以对应形成第三光照；其中，所述第三光照的照度均匀度大于所述第二光照的照度均匀度。

可选的，在所述的照明系统中，所述光学平板具有第一表面和相对的第二表面，在所述第一表面和\或所述第二表面的光透过率不同。

可选的，所述的照明系统，所述第一表面和\或所述第二表面的光透过率不同，可以在所述第一表面和\或所述第二表面上镀有至少一种增透膜。

可选的，在所述的照明系统中，所述第一表面和\或所述第二表面的光透过率不同，可以在第一表面和\或所述第二表面上镀有铬层，且所述铬层以点状方式形成。

可选的，在所述的照明系统中，所述照明系统还包括中继镜组，所述中继镜组用于将所述第二光照传递至所述补偿单元，或者将所述第三光照传递至待处理基板上。

可选的，在所述的照明系统中，所述补偿单元可移动地设置于所述中继镜组与所述待处理基板之间，或者可移动地设置于所述中继镜组与所述匀光单元之间。

可选的，在所述的照明系统中，所述补偿单元的移动方向与所述第二光照的光线传播方向相同。

可选的，在所述的照明系统中，所述补偿单元与所述中继镜组之间的距离小于或等于所述中继镜组的焦距。

可选的，在所述的照明系统中，所述补偿单元包括一个所述光学平板，或者沿着所述第二光照的光线传播方向布置的多个所述光学平板。

可选的，在所述的照明系统中，所述光照单元包括发光器和椭球反射镜；所述发光器设置于所述椭球反射镜的一个焦点上，且所述发光器提供所述第一光照，所述第一光照经所述椭球反射镜的作用汇聚于所述椭球反射镜的另一焦点上并发射出。

可选的，在所述的照明系统中，所述光照单元包括激光发射器，所述激光发射器用于提供所述第一光照。

可选的，在所述的照明系统中，所述匀光单元包括至少一个石英棒；所述石英棒沿所述第二光照的光线传播方向布置。

可选的，在所述的照明系统中，所述匀光单元包括第一透镜组和第二透镜组；所述第一光照依次经过所述第一透镜组和所述第二透镜组以转换为所述第二光照；其中，所述第一透镜组用于汇聚所述第一光照，所述第二透镜组用于调整所述第一光照的照度均匀度。

可选的，在所述的照明系统中，所述照明系统还包括第三透镜组，所述第三透镜组用于将由所述光照单元提供的所述第一光照耦合至所述匀光单元中。

基于同一发明构思，本发明还提供一种光刻机，包括所述的照明系统。

基于同一发明构思，本发明还提供一种照明均匀性补偿方法，包括：

光照单元提供第一光照；

图像探测器获取经匀光单元射出的第二光照的光强分布；

根据获取的所述光强分布设置光学平板，所述第二光照穿过所述光学平板以对应形成第三光照；

其中，所述光学平板具有多种光透过率，以使所述第三光照的照度均匀度大于所述第二照度均匀度。

可选的，在所述的照明均匀性补偿方法中，在根据获取的所述光强分布设置光学平板中包括：将所述光学平板沿与所述第二光照传播方向相同或相反的方向移动，以使所述第三光照的照度均匀度达到预设要求。

综上所述，本发明提供一种照明系统、光刻机以及照明均匀性补偿方法。所述照明系统，包括：光照单元、匀光单元和补偿单元。所述光照单元用于提供具有多个光线传播方向的第一光照。所述匀光单元用于均匀所述第一光照并将所述第一光照转换为具有一个光线传播方向的第二光照。所述补偿单元包括至少一个具有多种光透过率的光学平板；其中，所述补偿单元可以沿与所述第二光照的光线传播方向相同或相反的方向移动。所述第二光照穿过所述光学平板以对应形成第三光照，且所述第三光照的照度均匀度大于所述第二光照的照度均匀度。因此，本发明通过设置具有多种光透过率的所述补偿单元来补偿所述匀光单元的匀光效果，从而使得第二光照经具有不同光透过率的所述补偿单元的调整，以获得照度均匀度较大的，均匀性更好的所述第三光照，有利于提高光刻机设备的曝光效果，进而提高产品性能。

附图说明

图1是本发明实施例的一种照明系统结构示意图；

图2是本发明实施例的一种镀有铬层的光学平板结构示意图；

图3是本发明实施例的一种镀有铬层的光学平板局部放大示意图；

图4是本发明实施例的一种镀有增透膜的光学平板结构示意图；

图5是本发明实施例的一种镀有增透膜的光学平板结构示意图；

图6是本发明实施例的一种镀有增透膜的光学平板结构示意图；

图7是本发明实施例的一种照明系统结构示意图；

图8是本发明实施例的第一光场光强照度分布示意图；

图9是本发明实施例的第一光场中静态不均匀性和积分不均匀性与移动距离的折线图；

图10是本发明实施例的第一光场中积分照度与移动距离的折线图；

图11是本发明实施例的第二光场光强照度分布示意图；

图12是本发明实施例的第二光场中静态不均匀性和积分不均匀性与移动距离的折线图；

图13是本发明实施例的第二光场中积分照度与移动距离的折线图；

图14是本发明实施例的第三光场光强照度分布示意图；

图15是本发明实施例的第三光场中静态不均匀性和积分不均匀性与移动距离的折线图；

图16是本发明实施例的第三光场中积分照度与移动距离的折线图；

图17是本发明实施例的第四光场光强照度分布示意图；

图18是本发明实施例的第四光场中静态不均匀性和积分不均匀性与移动距离的折线图；

图19是本发明实施例的第四光场中积分照度与移动距离的折线图；

其中，附图标记说明：

100-光照单元；101-椭球反射镜；102-发光器；

200-匀光单元；300-补偿单元；第一表面-300a；第二表面-300b；

400-耦合镜组；500-中继镜组；600-准直镜组；M-待处理基板；A-第一光场；B-第二光场；D-第三光场；E-第四光场。

具体实施方式

以下结合附图和具体实施例对本发明提出的一种照明系统、光刻机以及照明均匀性补偿方法作进一步详细说明。根据下面说明，本发明的优点和特征将更清楚。需说明的是，附图均采用非常简化的形式且均使用非精准的比例，仅用以方便、明晰地辅助说明本发明实施例的目的。此外，附图所展示的结构往往是实际结构的一部分。特别的，各附图需要展示的侧重点不同，有时会采用不同的比例。

为解决上述技术问题，本实施例提供一种照明系统，如图1所示，包括：光照单元100、匀光单元200和补偿单元300。其中，所述光照单元100用于具有多个光线传播方向的第一光照。所述匀光单元200用于均匀所述第一光照并将所述第一光照转换为具有一个光线传播方向的第二光照。所述补偿单元300包括至少一个具有多种光透过率的光学平板。所述光学平板可以沿与所述第二光照的光线传播方向相同或相反的方向移动。所述第二光照穿过所述光学平板以对应形成第三光照。其中，所述第三光照的照度均匀度大于所述第二光照的照度均匀度。

本实例通过增加所述补偿单元300以实现在所述第二光照存在光照不均匀性的情况下对其进行补偿。请参阅图2-6，所述补偿单元300可包括至少一个所述光学平板。所述光学平板沿着所述第二光照的光线传播方向布置。每个所述光学平板具有第一表面300a和相对的第二表面300b。为实现不同的透过率，可采用在所述光学平板的所述第一表面300a和\或所述第二表面300b上镀有至少一种增透膜，且同一种增透膜的各区域具有相同的光透过率，不同种所述增透膜的光透过率不同。即可以在所述第一表面300a和所述第二表面300b的不同区域内镀有同一种的增透膜，以实现所述光学平板上各区域的光透过率不同。或者，在所述第一表面300a和所述第二表面300b的不同区域内镀有不同种的增透膜，同样可以实现所述光学平板上各区域的光透过率不同。

此外，本实施例还提供一种所述光学平板，请参阅图2-3，所述光学平板的所述第一表面300a和\或所述第二表面300b上镀有铬层，且所述铬层以点状方式形成。所述铬层具有一定反光效果，当金属铬的浓度越高，所述铬层的光反射率越高，则对应的光透过率越低。因此，可以在所述第一表面300a和\或所述第二表面300b的不同区域分别镀有同一浓度的所述铬层，或者不同浓度的所述铬层，以实现所述光学平板上各区域的光透过率不同。

如所需的光透过率分布较为复杂，还可以设置多个所述光学平板，每个所述光学平板的各区域光透过率可以不同，各所述光学平板之间相互平行设置。当然，在镀增透膜或铬层时，可选在单个表面镀，也可以选在两个表面均镀。

其中，如图4所示，在所述第一表面300a部分区域上镀有第一种增透膜，以形成具有不同光透过率的两个区域。其中，镀有第一种增透膜的区域的光透过率为C1，未镀有第一种增透膜的区域的光透过率为C2。如图5所示，在所述第二表面300b的部分区域上镀有第二种增透膜，同样形成具有不同光透过率的两个区域，其中，镀有第二种增透膜的区域的光透过率为C3，未镀有第二种增透膜的区域的光透过率为C2。因所述光学平板上每一区域的光透过率等于所述第一表面300a对应区域处的光透过率和所述第二表面300b对应区域处的光透过率的乘积。故如图6所示，所述光学平板可形成3种不同的光透过率，分别为：C1*C3、C2*C2和C2*C3。同理，可以通过组合设计，获得所需的不同区域不同光透过率的光学平板。其中，每一光学平板上各区域的光透过率的设定是根据所述第二光照的不均匀性来确定的。例如，所述第二光照投射在所述光学平板的中心区域的光照较强，边缘区域较弱，则可以根据设定需要增加边缘区域的光透过率，降低中心区域的光透过率。

请继续参阅图1，所述光照单元100包括椭球反射镜101和发光器102。所述发光器102设置于所述椭球反射镜101的一个焦点上，且所述发光器102提供不同照射方向的光照，所述光照经所述椭球反射镜101的作用汇聚于所述椭球反射镜101的另一焦点后作为第一光照射出。优选的，所述发光器102包括但不限于为汞灯。通过所述椭球反射镜101的汇聚功能，能够实现不同光照角度的光传输至所述匀光单元200。优选的，所述匀光单200元包括至少一个石英棒。可选的，为一个或者多个所述石英棒。所述石英棒沿所述第二光照的光线传播方向布置。当为多个所述石英棒时，各所述石英棒可沿着所述第二光照的光线传播方向叠置。所述第一光照经所述石英棒，可实现对所述第一光照的照度均匀度进行初步调整，以形成光照方向相同的所述第二光照。

此外，所述照明系统还包括第三镜组和中继镜组500。所述第三镜组在本实例中为一耦合镜组400。所述第一光照经所述耦合镜组400耦合作用后沿相同方向传播至所述匀光单元200。所述补偿单元300可移动地设置于所述中继镜组500与所述待处理基板M之间，或者可移动地设置于所述中继镜组500与所述匀光单元300之间。当所述补偿单元300可移动地设置于所述中继镜组500与所述待处理基板M之间时，所述中继镜组500能够将所述第二光照传递至所述补偿单元300。所述补偿单元300可移动地设置于所述中继镜组500与所述匀光单元300之间，所述中继镜组500能够将所述第三光照传递至所述待处理基板M。其中，所述补偿单元300的移动方向与所述第二光照的光线传播方向相同。进一步的，所述补偿单元300移动距离的不同，会产生不同的匀光效果。为获得更好的匀光效果，所述补偿单元300与所述中继镜组500之间的距离小于或等于所述中继镜组500的焦距。

除了上述的组合形式，所述照明系统还可以为另一种组合形式，以实现同样的匀光效果。如图7所示，所述光照单元100包括激光发射器，所述激光发射器用于提供所述第一光照。将所述光照单元100和所述匀光单元200之间的第三镜组，由所述耦合镜组400替换为准直镜组600。所述准直镜组600包括扩束器和衍射光学元件，用于实现对所述第一光照的光照方向进行调整，使得所述第一光照能够传播至所述匀光单元200中。所述衍射光学元件可以将经所述扩束器的所述第一光照衍射形成一定的角度分布后投射至所述匀光单元200。

其中，所述匀光单元200可以包括第一透镜组和第二透镜组。所述第一光照依次经过所述第一透镜组和所述第二透镜组以转换为所述第二光照。其中，所述第一透镜组用于汇聚所述第一光照，所述第二透镜组用于调整所述第一光照的照度均匀度。具体的，所述第一透镜组为汇聚镜组，所述第二透镜组为微透镜阵列，所述第一光照经分别经过所述汇聚镜组和所述微透镜阵列转换成沿同一方向平行照射的第二光照。所述汇聚镜组可选为傅里叶镜组。所述汇聚镜组和所述微透镜阵列的组合效果与所述石英棒的效果相同。同样，所述补偿单元300可移动地设置于所述匀光单元200和所述中继单元500之间或者可移动地设置于所述中继镜组500与所述待处理基板M之间。

进一步的，所述光照单元100、所述匀光单元200、所述补偿单元300、所述耦合镜组400、所述中继镜组500以及所述准直镜组600中的各元件的中心均在同一光轴上。

基于同一发明构思，本发明还提供一种光刻机，包括所述的照明系统。

基于同一发明构思，本实施例还提供一种照明均匀性补偿方法，包括：

步骤一：所述光照单元100提供第一光照。

所述第一光照依次经所述第三镜组、所述匀光单元200。

步骤二：图像探测器获取经匀光单元射出的所述第二光照的光强分布。

所述图像探测器检测所述第二光照形成的光场的照度均匀度情况，以确定整个所述光场需要光补偿的区域以及补偿的照度，再以此制备所述光学平板。具体的，通过不同增透膜或铬层的组合设计，获得所需的一个或多个光学平板。

步骤三：根据获取的所述光强分布设置所述光学平板，所述第二光照穿过所述光学平板以对应形成第三光照。

可选的，将一个或多个所述光学平板设置于所述匀光单元200和所述中继镜组500之间，或者设置于所述中继镜组500与所述待处理基板M之间。将所述光学平板沿与所述第二光照传播方向相同或相反的方向移动，以使所述第三光照的照度均匀度达到预设要求。其中，经补偿后的所述第三光照的照度均匀度大于所述第二照度均匀度。

进一步的，所述光照均匀度的补偿标准包括两个数量值，其一是从二维角度定义的静态不均匀性H₁，其二是从一维角度定义的积分不均匀性H₂。

所述静态不均匀性H₁计算公式如下：

其中，所述I_max为光场中光照强度最大值，I_min为光场中光照强度最小值。

所述积分不均匀性H₂计算公式如下：

其中，所述光场可分为第一方向和第二方向，所述第一方向和所述第二方向相互垂直。在所述第一方向(X轴方向)上取多个检测点，并对每一所述检测点沿所述第二方向(Y轴方向)上的所有光照强度值进行积分，以获得在所述第一方向(X轴方向)上每一所述检测点的光照强度值。所述I′_max为光场中所述第一方向(X轴方向)上各检测点中光照强度最大值，I′_min为光场中所述第一方向(X轴方向)上各检测点中光照强度最小值。

如下具体阐述所述光学平板的位移量与所述静态不均匀性H₁和所述积分不均匀性H₂之间的关系。请参阅图8-10，图8为第一光场A中光强照度分布的示意图，由图示8可知，靠近第一光场A中心的位置的光强照度低于第一光场A四周的光强照度。则中心位置的光透过率低于四周的光透过率。且以所述第一光场A的中心向四周辐射的方向上光透过率逐渐增大。如图9所示，所述第一光场A的所述静态不均匀性H₁接近5.00％，所述积分不均匀性H₂接近1.20％。当所述光学平板沿光轴的位移量逐渐增加时，对应的所述静态不均匀性H₁逐渐降低，而所述积分不均匀性H₂保持原来的数量，没有变化。请参阅图10，无论所述光学平板沿光轴的位移量为0毫米、10毫米、20毫米、30毫米、40毫米还是50毫米，整个第一光场A的积分照度均不改变(图示中不同位移量对应的积分照度值形成的曲线因积分照度数值未改变而重叠在一起)，则对应的所述积分不均匀性H₂也不会变化。

同样请参阅图11-13,图11为第二光场B中光强照度分布的示意图，由图示10可知，靠近第二光场B中心的位置的光强照度高于第二光场B四周的光强照度。则中心位置的光透过率高于四周的光透过率。且以所述第二光场B的中心向四周辐射的方向上光透过率逐渐减小。如图12所示，所述第二光场B中所述静态不均匀性H₁接近5.00％，所述积分不均匀性H₂接近1.20％。当所述光学平板沿光轴的位移量逐渐增加时，对应的所述静态不均匀性H₁逐渐降低，而所述积分不均匀性H₂保持原来的数量，没有变化。请参阅图13，无论所述光学平板沿光轴的位移量为0毫米、10毫米、20毫米、30毫米、40毫米还是50毫米，整个第二光场B的积分照度均不改变(图示中不同位移量对应的积分照度值形成的曲线因积分照度数值未改变而重叠在一起)，则对应的所述积分不均匀性H₂也不会变化。

因此，由上述可知，当光场的中心光透过率逐渐大于或小于沿所述中心向四周方向的区域的光透过率时，所述静态不均匀性H₁会随着所述光学平板沿光轴移动的距离的变化而变化，但对所述积分不均匀性H₂却没有直接影响。

请参阅图14-16，图14为第三光场D中光强照度分布的示意图，由图示14可知，所述第三光场D中在X轴坐标相同但Y轴坐标不同的各位置上的光强照度相同。但在X轴方向上，以所述第三光场D的中心点对应的X轴坐标为起始，向所述X轴的正方向以及负方向延伸所对应的所述光照强度逐渐变小。如图15所示，所述第三光场D的所述静态不均匀性H₁接近2.50％，所述积分不均匀性H₂接近1.80％。当所述光学平板沿光轴的位移量逐渐增加时，对应的所述静态不均匀性H₁逐渐降低，且所述积分不均匀性H₂也逐渐降低。请参阅图16，当所述光学平板沿光轴的位移量分为0毫米、10毫米、20毫米、30毫米、40毫米以及50毫米时，所述第三光场D中靠近中间部分的积分照度在逐渐增大，则对应的所述积分不均匀性H₂会随之减小。

请参阅图17-19，图17为第四光场E中光强照度分布的示意图，由图示17可知，所述第四光场E中在X轴坐标相同但Y轴坐标不同的各位置上的光强照度相同。但在X轴方向上，以所述第四光场E的中心点对应的X轴坐标为起始，向所述X轴的正方向以及负方向延伸所对应的所述光照强度逐渐增大。如图18所示，所述第四光场E的所述静态不均匀性H₁接近2.50％，所述积分不均匀性H₂接近1.80％。当所述光学平板沿光轴的位移量逐渐增加时，对应的所述静态不均匀性H₁逐渐降低，且所述积分不均匀性H₂也逐渐降低。请参阅图19，当所述光学平板沿光轴的位移量分为0毫米、10毫米、20毫米、30毫米、40毫米以及50毫米时，所述第四光场E中靠近四周的积分照度在逐渐增大，则对应的所述积分不均匀性H₂会随之减小。

因此，在第三光场D和所述第四光场E的光强照度分布情况下，所述静态不均匀性H₁和所述积分不均匀性H₂均能够随着所述光学平板沿光轴移动的距离的变化而变化。

综上所述，本实施例通过设置具有多种光透过率的所述补偿单元300来补偿所述匀光单元200的匀光效果，从而使得第二光照经具有不同光透过率的所述补偿单元300的调整，以获得照度均匀度较大的，均匀性更好的所述第三光照，有利于提高光刻机设备的曝光效果，进而提高产品性能。

上述描述仅是对本发明较佳实施例的描述，并非对本发明范围的任何限定，本发明领域的普通技术人员根据上述揭示内容做的任何变更、修饰，均属于权利要求书的保护范围。

Claims (16)

1.一种照明系统，其特征在于，所述照明系统包括：光照单元、匀光单元和补偿单元；

所述光照单元用于提供具有多个光线传播方向的第一光照；

所述匀光单元用于均匀所述第一光照并将所述第一光照转换为具有一个光线传播方向的第二光照；

所述补偿单元包括至少一个具有多种光透过率的光学平板；所述光学平板可以沿与所述第二光照的光线传播方向相同或相反的方向移动；

所述第二光照穿过所述光学平板以对应形成第三光照；其中，所述第三光照的照度均匀度大于所述第二光照的照度均匀度。

2.如权利要求1所述的照明系统，其特征在于，所述光学平板具有第一表面和相对的第二表面，所述第一表面和\或所述第二表面的光透过率不同。

3.如权利要求2所述的照明系统，其特征在于，所述第一表面和\或所述第二表面的光透过率不同，在所述第一表面和\或所述第二表面上镀有至少一种增透膜。

4.如权利要求2所述的照明系统，其特征在于，所述第一表面和\或所述第二表面的光透过率不同，在所述第一表面和\或所述第二表面上镀有铬层，且所述铬层以点状方式形成。

5.如权利要求1所述的照明系统，其特征在于，所述照明系统还包括中继镜组，所述中继镜组用于将所述第二光照传递至所述补偿单元，或者将所述第三光照传递至待处理基板。

6.如权利要求5所述的照明系统，其特征在于，所述补偿单元可移动地设置于所述中继镜组与所述待处理基板之间，或者可移动地设置于所述中继镜组与所述匀光单元之间。

7.如权利要求6所述的照明系统，其特征在于，所述补偿单元与所述中继镜组之间的距离小于或等于所述中继镜组的焦距。

8.如权利要求1所述的照明系统，其特征在于，所述补偿单元包括一个所述光学平板，或者沿着所述第二光照的光线传播方向布置的多个所述光学平板。

9.如权利要求1所述的照明系统，其特征在于，所述光照单元包括发光器和椭球反射镜；所述发光器设置于所述椭球反射镜的一个焦点上，且所述发光器提供所述第一光照，所述第一光照经所述椭球反射镜的作用汇聚于所述椭球反射镜的另一焦点上并发射出。

10.如权利要求1所述的照明系统，其特征在于，所述光照单元包括激光发射器，所述激光发射器用于提供所述第一光照。

11.如权利要求1所述的照明系统，其特征在于，所述匀光单元包括至少一个石英棒；所述石英棒沿所述第二光照的光线传播方向布置。

12.如权利要求1所述的照明系统，其特征在于，所述匀光单元包括第一透镜组和第二透镜组；所述第一光照依次经过所述第一透镜组和所述第二透镜组以转换为所述第二光照；其中，所述第一透镜组用于汇聚所述第一光照，所述第二透镜组用于调整所述第一光照的照度均匀度。

13.如权利要求1所述的照明系统，其特征在于，所述照明系统还包括第三透镜组，所述第三透镜组用于将由所述光照单元提供的所述第一光照耦合至所述匀光单元中。

14.一种光刻机，其特征在于，所述光刻机包括如权利要求1-13中任意一项所述的照明系统。

15.一种照明均匀性补偿方法，其特征在于，使用如权利要求1-13中任意一项所述的照明系统，所述照明均匀性补偿方法包括：

光照单元提供第一光照；

图像探测器获取经匀光单元射出的第二光照的光强分布；

根据获取的所述光强分布设置光学平板，所述第二光照穿过所述光学平板以对应形成第三光照；

其中，所述光学平板具有多种光透过率，以使所述第三光照的照度均匀度大于所述第二照度均匀度。

16.如权利要求15所述的照明均匀性补偿方法，其特征在于，在根据获取的所述光强分布设置光学平板中包括：将所述光学平板沿与所述第二光照传播方向相同或相反的方向移动，以使所述第三光照的照度均匀度达到预设要求。

Images