JP2019218623A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2019218623A5
JP2019218623A5 JP2018221606A JP2018221606A JP2019218623A5 JP 2019218623 A5 JP2019218623 A5 JP 2019218623A5 JP 2018221606 A JP2018221606 A JP 2018221606A JP 2018221606 A JP2018221606 A JP 2018221606A JP 2019218623 A5 JP2019218623 A5 JP 2019218623A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
film forming
forming apparatus
evaporation
evaporation sources
crucible
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2018221606A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP7262212B2 (ja
JP2019218623A (ja
Filing date
Publication date
Priority claimed from KR1020180068493A external-priority patent/KR101965102B1/ko
Application filed filed Critical
Publication of JP2019218623A publication Critical patent/JP2019218623A/ja
Publication of JP2019218623A5 publication Critical patent/JP2019218623A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP7262212B2 publication Critical patent/JP7262212B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

JP2018221606A 2018-06-15 2018-11-27 成膜装置、成膜方法および電子デバイスを製造する方法 Active JP7262212B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020180068493A KR101965102B1 (ko) 2018-06-15 2018-06-15 성막장치, 성막방법 및 전자 디바이스 제조방법
KR10-2018-0068493 2018-06-15

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2019218623A JP2019218623A (ja) 2019-12-26
JP2019218623A5 true JP2019218623A5 (enExample) 2022-01-06
JP7262212B2 JP7262212B2 (ja) 2023-04-21

Family

ID=66166997

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2018221606A Active JP7262212B2 (ja) 2018-06-15 2018-11-27 成膜装置、成膜方法および電子デバイスを製造する方法

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JP7262212B2 (enExample)
KR (1) KR101965102B1 (enExample)
CN (1) CN110607504B (enExample)

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111676454B (zh) * 2020-08-04 2023-09-05 光驰科技(上海)有限公司 一种节省真空镀膜室内空间的蒸发源配置结构及其设计方法
CN112538605B (zh) * 2020-12-03 2024-05-14 福建华佳彩有限公司 一种蒸镀设备
CN112626462B (zh) * 2020-12-11 2023-05-30 江苏集萃有机光电技术研究所有限公司 一种蒸镀源供料装置及蒸镀源供料方法
JP7314210B2 (ja) 2021-06-30 2023-07-25 キヤノントッキ株式会社 成膜装置、成膜方法及び蒸発源ユニット
JP7755400B2 (ja) 2021-06-30 2025-10-16 キヤノントッキ株式会社 成膜装置及び成膜方法
JP7314209B2 (ja) 2021-06-30 2023-07-25 キヤノントッキ株式会社 成膜装置、成膜方法及び蒸発源ユニット
JP7734023B2 (ja) 2021-09-01 2025-09-04 キヤノントッキ株式会社 成膜装置、成膜方法及び電子デバイスの製造方法
CN114150273A (zh) * 2021-12-06 2022-03-08 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 蒸镀装置及蒸镀方法
CN115110037B (zh) * 2022-06-23 2024-01-12 北海惠科半导体科技有限公司 蒸发镀膜装置的镀膜方法和蒸发镀膜装置
JP2024080102A (ja) 2022-12-01 2024-06-13 キヤノントッキ株式会社 蒸発源ユニット、成膜装置及び成膜方法

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4177021B2 (ja) 2002-04-25 2008-11-05 東北パイオニア株式会社 蒸着装置の制御方法及び蒸着装置
JP2005029895A (ja) * 2003-07-04 2005-02-03 Agfa Gevaert Nv 蒸着装置
KR100671673B1 (ko) 2005-03-09 2007-01-19 삼성에스디아이 주식회사 다중 진공증착장치 및 제어방법
JP4762763B2 (ja) 2006-03-10 2011-08-31 富士フイルム株式会社 真空蒸着装置
KR101323029B1 (ko) * 2006-12-26 2013-10-29 엘지디스플레이 주식회사 리볼버를 포함하는 증착 장치
KR101104802B1 (ko) * 2009-05-06 2012-01-12 (주)알파플러스 하향식 노즐형 진공 증발원 장치 및 이를 이용한 하향식 노즐형 진공 증착 장치
JP5346268B2 (ja) 2009-10-09 2013-11-20 株式会社アルバック 蒸着装置及び蒸着方法
KR20130045432A (ko) * 2011-10-26 2013-05-06 주식회사 탑 엔지니어링 회전식 증착 장치
CN103305803B (zh) * 2013-05-23 2015-05-20 四川虹视显示技术有限公司 基于温度控制系统的oled有机层蒸镀温度控制方法
CN103526164B (zh) * 2013-10-23 2015-09-09 京东方科技集团股份有限公司 一种蒸镀设备
KR101562275B1 (ko) * 2014-05-30 2015-10-22 주식회사 선익시스템 증착장치
CN107002232A (zh) * 2014-11-26 2017-08-01 应用材料公司 用于蒸发目的的坩锅组件
JP2017088976A (ja) * 2015-11-13 2017-05-25 神港精機株式会社 多元系被膜形成装置および多元系被膜形成方法
CN107177821B (zh) * 2017-06-12 2019-04-23 京东方科技集团股份有限公司 坩埚装置
CN107604317B (zh) * 2017-09-21 2019-11-26 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 一种蒸镀坩埚以及蒸镀装置
CN107815648B (zh) * 2017-09-26 2019-11-05 上海升翕光电科技有限公司 一种线性蒸发源装置及蒸镀设备

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2019218623A5 (enExample)
JP6502555B2 (ja) 蒸着用マスクの整列方法
CN103993266B (zh) 真空蒸镀设备
ES2727323T3 (es) Aparato de procesamiento PVD y método de procesamiento PVD
CN107012431A (zh) 一种蒸镀源、蒸镀装置及蒸镀方法
CN105154831B (zh) 一种真空蒸发源装置及真空蒸镀设备
JP2010248629A5 (enExample)
CN106868457B (zh) 一种蒸镀组件及蒸镀设备
TW201403911A (zh) 沈積設備
WO2016065767A1 (zh) 用于升华型oled材料蒸镀的坩埚
TW201945565A (zh) 用於真空沈積之材料沈積配置
CN106399931A (zh) 沉积装置
KR20170102615A (ko) 플렉서블 oled 소자 패턴 제작용 면증발 증착기
KR20160002524A (ko) 증착막 균일도 개선을 위한 박막 증착장치
KR20140061808A (ko) 유기물 증착 장치
JP2017115246A5 (enExample)
JP4478113B2 (ja) 加熱容器支持台及びそれを備えた蒸着装置
CN1769513B (zh) 沉积方法及设备
JP2009127074A (ja) 真空蒸着装置および真空蒸着方法ならびに蒸着物品
CN106435484A (zh) 蒸镀设备
KR102228228B1 (ko) 고해상도 ｏｌｅｄ소자 제작용 회전형 면증발원
JP2008224922A5 (enExample)
WO2016165553A1 (zh) 蒸镀方法和蒸镀装置
KR102021073B1 (ko) 초고해상도 amoled 소자의 유기박막 증착용 패턴드 벨트면 증발원장치
CN108977764A (zh) 蒸镀膜层记录装置及其方法、掩模板组件和蒸镀设备