CN106435484A - 蒸镀设备 - Google Patents

Abstract

本发明涉及显示器制备技术领域，公开了一种蒸镀设备，用以减少遮挡板上的有机材料进入蒸发源和坩埚内现象的发生，提高蒸发源的使用寿命和坩埚内材料的品质。蒸镀设备，包括：蒸镀腔室，位于蒸镀腔室内的蒸发源，位于蒸发源内的坩埚，位于蒸镀腔室内、且可绕自身轴线旋转的转轴，与转轴固定连接的遮挡板，遮挡板可旋转至蒸发源的上方；还包括：位于遮挡板朝向坩埚的一侧的棘轮机构，棘轮机构中的棘爪与转轴固定连接，棘轮机构中的棘轮盘枢装于转轴；与棘轮机构的棘轮盘固定连接的托盘。

Description

蒸镀设备

技术领域

本发明涉及显示器制备技术领域，特别涉及一种蒸镀设备。

背景技术

目前的有机电激光显示(Organic Light-Emitting Diode，OLED)在制备时，一般采用真空蒸镀技术形成膜层，即利用蒸镀机，在真空环境下，升温加热材料，使材料熔化挥发或者升华，在玻璃基板上沉积一层层有机材料，形成OLED器件。

在蒸镀有机材料时需要控制蒸镀速度，以控制形成的蒸镀层的厚度，在点源式蒸镀腔体中，点源的加热丝和坩埚之间存在一定的缝隙，在对有机材料的速率进行控制时，遮挡板需要往复摆动，以防止蒸发材料蒸镀到玻璃基板上，这样，蒸发材料会蒸到遮挡板上，随着材料的不断生长，材料累积变多，在重力和遮挡板反复摆动产生震动的影响下，蒸镀到遮挡板上的材料会掉到点源内以及坩埚内，这样就会对点源和坩埚产生污染，影响点源的寿命和坩埚内材料的品质。

发明内容

本发明提供了一种坩埚和蒸镀设备，用以减少遮挡板上的有机材料进入蒸发源和坩埚内现象的发生，提高蒸发源的使用寿命和坩埚内材料的品质。

为达到上述目的，本发明提供以下技术方案：

本发明提供了一种蒸镀设备，包括：蒸镀腔室，位于所述蒸镀腔室内的蒸发源，位于所述蒸发源内的坩埚，位于所述蒸镀腔室内、且可绕自身轴线旋转的转轴，与所述转轴固定连接的遮挡板，所述遮挡板可旋转至所述蒸发源的上方；还包括：

位于所述遮挡板朝向所述坩埚的一侧的棘轮机构，所述棘轮机构中的棘爪与所述转轴固定连接，所述棘轮机构中的棘轮盘枢装于所述转轴；

与所述棘轮机构的棘轮盘固定连接的托盘。

本发明提供的蒸镀设备，通过设置的托盘可以收集遮挡板上蒸镀的有机材料，遮挡板在设定的角度内往复摆动，通过设置的棘轮机构，使得遮挡板逆时针旋转时，棘爪会推动棘轮盘逆时针旋转，托盘会随着慢慢转动，而遮挡板顺时针旋转时，棘爪在棘轮盘上滑动，棘轮盘不会旋转，托盘也不会旋转，当遮挡板摆动后，托盘会位于遮挡板运动区域内的下方，遮挡板反复运动会产生振动，此时遮挡板上蒸镀的有机材料会被振落到托盘上，减少遮挡板上的有机材料被振动到蒸发源和坩埚内现象的发生，待遮挡板再反复摆动几次后，托盘会继续逆时针旋转，旋转过坩埚的上方，这样就可以在基板上镀膜。

故，本发明提供的蒸镀设备，可以减少遮挡板上的有机材料进入蒸发源和坩埚内现象的发生，提高蒸发源的使用寿命和坩埚内材料的品质。

在一些可选的实施方式中，所述托盘为具有凹槽的扇形托盘。凹槽的边缘会阻挡托盘接到的有机材料滑落。

在一些可选的实施方式中，所述托盘的底面与所述遮挡板朝向所述坩埚的一面之间的距离大于等于50毫米。这样可以防止遮挡板上蒸镀的有机材料较厚时，与下方的托盘产生干扰，影响托盘旋转。

在一些可选的实施方式中，所述遮挡板为圆形遮挡板。

在一些可选的实施方式中，所述遮挡板在所述托盘的底面所在的平面内的正投影的第一中心线相对所述托盘在其底面所在的平面内的正投影的第一边逆时针旋转的角度大于等于0度小于等于所述遮挡板最大摆动角度的一半，其中所述第一中心线与所述转轴的轴线相交，所述第一边靠近所述遮挡板在所述托盘的底面所在的平面内的正投影。这样在遮挡板在一次往复摆动完成后回到初始位置时，托盘便可以在遮挡板沿第一方向的长度(即遮挡板远离托盘的一侧和靠近托盘的一侧之间的距离)上覆盖遮挡板在其上的投影。

在一些可选的实施方式中，所述圆形遮挡板的直径小于等于所述托盘的半径。这样在遮挡板在一次往复摆动完成后回到初始位置时，托盘便可以在遮挡板的沿第二方向的长度(即遮挡板与转轴连接的一端到遮挡板远离转轴的一端之间的距离)上覆盖遮挡板在其上的投影。

在一些可选的实施方式中，所述托盘的角度大于等于n倍的所述遮挡板的最大摆动角度且小于等于第一设定角度，其中n大于等于2，所述第一设定角度等于360度与所述遮挡板最大摆动角度的差值。这样的设置可以使得遮挡板至少往复摆动两次时，遮挡板在托盘的底面所在的平面内的正投影完全位于托盘内。

在一些可选的实施方式中，所述托盘的角度为180度或270度。180度和270的扇形托盘便于制备。

在一些可选的实施方式中，所述托盘朝向所述坩埚的一面与所述坩埚朝向所述托盘的一面之间的距离大于20毫米。避免托盘在旋转时与坩埚的上表面发生磕碰磨损。

在一些可选的实施方式中，所述托盘为金属材料的托盘，且所述托盘的表面设于喷砂层。金属材料和喷砂层的设置可以防止收集的有机材料对托盘造成腐蚀，提高托盘的使用寿命。

附图说明

此处所说明的附图用来提供对本发明的进一步理解，构成本发明的一部分，本发明的示意性实施例及其说明用于解释本发明，并不构成对本发明的不当限定。在附图中：

图1为本发明实施例提供的蒸镀设备的一种状态示意图；

图2为本发明实施例提供的蒸镀设备内的棘轮机构的结构示意图；

图3为图1所示的蒸镀设备的A向结构示意图；

图4为本发明实施例提供的蒸镀设置的另一种结构示意图；

图5a和图5b为本发明实施例提供的遮挡板和托盘相对位置变化状态示意图。

图中：

1-蒸发源 2-坩埚

3-转轴 4-遮挡板

5-棘轮机构 51-棘轮盘

52-棘爪 6-托盘

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。

如图1、图2、图3、图4、图5a以及图5b所示，其中：图1为本发明实施例提供的蒸镀设备的一种状态示意图；图2为本发明实施例提供的蒸镀设备内的棘轮机构5的结构示意图；图3为图1所示的蒸镀设备的A向结构示意图；图4为本发明实施例提供的蒸镀设置的另一种结构示意图；图5a和图5b为本发明实施例提供的遮挡板和托盘相对位置变化状态示意图。

本发明提供了一种蒸镀设备，包括：蒸镀腔室，位于蒸镀腔室内的蒸发源1，位于蒸发源1内的坩埚2，位于蒸镀腔室内、且可绕自身轴线旋转的转轴3，与转轴3固定连接的遮挡板4，遮挡板4可旋转至蒸发源1的上方；还包括：

位于遮挡板4朝向坩埚2的一侧的棘轮机构5，棘轮机构5中的棘爪52与转轴3固定连接，棘轮机构5中的棘轮盘51枢装于转轴3；

与棘轮机构5的棘轮盘51固定连接的托盘6。

本发明提供的蒸镀设备，通过设置的托盘6可以收集遮挡板4上蒸镀的有机材料，遮挡板4在设定的角度内往复摆动，通过设置的棘轮机构5，使得遮挡板4逆时针旋转时，棘爪52会推动棘轮盘51逆时针旋转，托盘6会随着慢慢转动，而遮挡板4顺时针旋转时，棘爪52在棘轮盘51上滑动，棘轮盘不会旋转，托盘6也不会旋转，如图5a所示，当遮挡板4开始逆时针摆动时，托盘6也随着遮挡板4逆时针旋转，当遮挡板4往回摆动时，托盘6就开始收集遮挡板上的有机材料，如图5b所示，随着遮挡板4的不断摆动，托盘6会位于遮挡板4运动区域内的下方，遮挡板4反复运动会产生振动，此时遮挡板4上蒸镀的有机材料会被振落到托盘6上，减少遮挡板4上的有机材料被振动到蒸发源1和坩埚2内现象的发生，待遮挡板4再反复摆动几次后，托盘6会继续逆时针旋转，旋转过坩埚2的上方，这样就可以在基板上镀膜。

故，本发明提供的蒸镀设备，可以减少遮挡板4上的有机材料进入蒸发源1和坩埚2内现象的发生，提高蒸发源1的使用寿命和坩埚2内材料的品质。

棘轮机构(ratchet and pawl)，由棘轮和棘爪组成的一种单向间歇运动机构。棘轮轮齿通常用单向齿，棘爪铰接于摇杆上，当摇杆逆时针方向摆动时，驱动棘爪便插入棘轮齿以推动棘轮同向转动；当摇杆顺时针方向摆动时，棘爪在棘轮上滑过，棘轮停止转动。

上述托盘6的具体形状可以有多种，可选的，托盘6为具有凹槽扇形托盘6。扇形托盘6便于制备，且便于收集遮挡板4上的有机材料，凹槽的边缘会阻挡托盘接到的有机材料滑落。当然，托盘6的具体形状不限于扇形，也可以为矩形等，这里就不再一一赘述。

为了防止遮挡板4上蒸镀的有机材料较厚时，与下方的托盘6产生干扰，影响托盘6旋转，托盘6的底面与遮挡板4朝向坩埚2的一面之间的距离a大于等于50毫米。

本发明提供的一具体实施方式中，遮挡板4为圆形遮挡板4。

进一步的，如图3所示，当遮挡板和托盘均未旋转时，即均处于初始位置时，遮挡板4在托盘6的底面所在的平面内的正投影的第一中心线相对托盘6在其底面所在的平面内的正投影的第一边逆时针旋转的角度b大于等于0度小于等于所述遮挡板最大摆动角度的一半，其中第一中心线与转轴3的轴线相交，第一边靠近遮挡板4在托盘6的底面所在的平面内的正投影。将角度b如此设置，可以使得遮挡板4至少在第一次逆时针旋转时，托盘不会遮挡住蒸发源，即遮挡板可以收集不可以蒸镀在基板上的有机材料，当遮挡板再次摆动会初始位置时，托盘便可以在遮挡板沿第一方向x的长度(即遮挡板远离托盘的一侧和靠近托盘的一侧之间的距离)上覆盖遮挡板在其上的投影。

优选的，圆形遮挡板的直径小于等于托盘的半径，这样在遮挡板在一次往复摆动完后才能后回到初始位置时，托盘便可以在遮挡板的沿第二方向y的长度(即遮挡板与转轴连接的一端到遮挡板远离转轴的一端之间的距离)上覆盖遮挡板在其上的投影。

本发明实施例提供的托盘的角度大于等于n倍的遮挡板的最大摆动角度且小于等于第一设定角度，其中n大于等于2，第一设定角度等于360度与遮挡板最大摆动角度的差值。这样的设置可以使得遮挡板至少往复摆动两次时，遮挡板在托盘的底面所在的平面内的正投影完全位于托盘内。

本发明实施了提供的扇形托盘6的角度大于等于180度小于等于270度。这样的结构设置便于制备。

本发明提供的实施例中，为了避免托盘6在旋转时与坩埚2的上表面发生磕碰磨损，托盘6朝向坩埚2的一面与坩埚2朝向托盘6的一面之间的距离大于20毫米。

上述托盘6选用耐高温耐腐蚀的材料形状，可选的，托盘6为金属材料的托盘6，且托盘6的表面设于喷砂层。金属材料和喷砂层的设置可以防止收集的有机材料对托盘6造成腐蚀，提高托盘6的使用寿命。

显然，本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。

Claims (10)

1.一种蒸镀设备，包括：蒸镀腔室，位于所述蒸镀腔室内的蒸发源，位于所述蒸发源内的坩埚，位于所述蒸镀腔室内、且可绕自身轴线旋转的转轴，与所述转轴固定连接的遮挡板，所述遮挡板可旋转至所述蒸发源的上方；其特征在于，还包括：

位于所述遮挡板朝向所述坩埚的一侧的棘轮机构，所述棘轮机构中的棘爪与所述转轴固定连接，所述棘轮机构中的棘轮盘枢装于所述转轴；

与所述棘轮机构的棘轮盘固定连接的托盘。

2.根据权利要求1所述的蒸镀设备，其特征在于，所述托盘为具有凹槽的扇形托盘。

3.根据权利要求1所述的蒸镀设备，其特征在于，所述托盘的底面与所述遮挡板朝向所述坩埚的一面之间的距离大于等于50毫米。

4.根据权利要求2所述的蒸镀设备，其特征在于，所述遮挡板为圆形遮挡板。

5.根据权利要求4所述的蒸镀设备，其特征在于，所述遮挡板在所述托盘的底面所在的平面内的正投影的第一中心线相对所述托盘在其底面所在的平面内的正投影的第一边逆时针旋转的角度大于等于0度小于等于所述遮挡板最大摆动角度的一半，其中所述第一中心线与所述转轴的轴线相交，所述第一边靠近所述遮挡板在所述托盘的底面所在的平面内的正投影。

6.根据权利要求5所述的蒸镀设备，其特征在于，所述圆形遮挡板的直径小于等于所述托盘的半径。

7.根据权利要求5所述的蒸镀设备，其特征在于，所述托盘的角度大于等于n倍的所述遮挡板的最大摆动角度且小于等于第一设定角度，其中n大于等于2，所述第一设定角度等于360度与所述遮挡板最大摆动角度的差值。

8.根据权利要求5所述的蒸镀设备，其特征在于，所述托盘的角度为180度或270度。

9.根据权利要求1所述的蒸镀设备，其特征在于，所述托盘朝向所述坩埚的一面与所述坩埚朝向所述托盘的一面之间的距离大于20毫米。

10.根据权利要求1～9任一项所述的蒸镀设备，其特征在于，所述托盘为金属材料的托盘，且所述托盘的表面设有喷砂层。