CN111118454A - 一种真空蒸镀设备 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种真空蒸镀设备，包括壳体，壳体上设置真空腔体底座和真空腔体罩，真空腔体底座和真空腔体罩围成真空腔体，真空腔体座上设有安装架，安装架上设有蒸镀台，真空腔体座上设有能够转动的遮挡板，真空腔体座上设置有转轴，遮挡板包括上下贴合设置的上挡板和下挡板，各挡板转动均转动安装于转轴上且各挡板与转轴之间依靠摩擦力能够随转轴同步转动，安装架上设置有与各挡板限位挡止配合的限位结构，上、下挡板具有转动后相互配合对蒸镀坩埚进行遮挡的遮挡位，上、下挡板还具有反向转动后避开下方蒸镀坩埚的让开位。与现有技术相比，上述结构的蒸镀设备可以减小真空腔体的体积，进而减小整个蒸镀设备的体积与重量，节省了生产成本。
Description
技术领域
本发明涉及蒸镀技术领域，具体涉及一种真空蒸镀设备。
背景技术
真空蒸镀，简称蒸镀，是指在真空条件下，采用一定的加热蒸发方式蒸发镀膜材料（或称膜料）并使之气化，粒子飞至基片表面凝聚成膜的工艺方法。蒸镀是使用较早、用途较广泛的气相沉积技术，具有成膜方法简单、薄膜纯度和致密性高、膜结构和性能独特等优点。
现有的真空蒸镀设备一般具有真空腔体，腔体中设置有蒸镀台，蒸镀台下方设置有蒸镀坩埚和对蒸镀坩埚进行加热的加热装置，蒸镀坩埚中放置膜料。由于蒸镀开始时，膜料温度低，膜料气化效果差，蒸镀效果也较差，此时一般会在蒸镀件和蒸镀坩埚之间设置可以转动的遮挡件，当膜料温度代达到设定温度并稳定后再异开遮挡件进行至蒸镀。但是现有遮挡件都是整块板，由于遮挡件需要转动遮挡或让开蒸镀坩埚，导致真空腔体的体积需要足够大才能满足遮挡件的转动，导致整个真空蒸镀设备的体积也较大，不仅增加了生产成本，而且整个设备比较笨重。
发明内容
本发明的目的是提供一种体积小、生产成本低的真空蒸镀设备。
为实现上述目的，本发明的一种真空蒸镀设备采用如下技术方案：一种真空蒸镀设备，包括壳体，壳体上设置真空腔体底座和真空腔体罩，真空腔体底座和真空腔体罩围成真空腔体，真空腔体座上设置有安装架，安装架上设置有供蒸镀件安装的蒸镀台，真空腔体座上还设置有蒸镀坩埚和对蒸镀坩埚加热的加热结构，真空腔体座上于蒸镀坩埚与蒸镀台之间设置有能够转动的遮挡板，所述真空腔体座上设置有转轴，遮挡板包括上下贴合设置的上挡板和下挡板，各挡板转动均转动安装于转轴上且各挡板与转轴之间依靠摩擦力能够随转轴同步转动，安装架上设置有与各挡板限位挡止配合的限位结构，上、下挡板具有转动后相互配合对蒸镀坩埚进行遮挡的遮挡位，上、下挡板还具有反向转动后避开下方蒸镀坩埚的让开位。
所述限位结构包括设置于安装架上的限位挡板，下挡板上设有其位于遮挡位时与限位挡板限位挡止配合的第一凸起，下挡板上还设置有其位于让开位时与限位挡板限位挡止配合的第二凸起，上挡板上设有其位于遮挡位时与限位挡板限位挡止配合的第三凸起，上挡板上还设置有其位于让开位时与限位挡板限位挡止配合的第四凸起。
所述蒸镀台转动安装于安装架上，转轴上设置有第一齿轮，蒸镀台上设置有与第一齿轮啮合传动的第二齿轮以带动蒸镀台转动。
所述安装架上设置有安装孔，安装架上沿安装孔的孔沿周向间隔设置有三个以上的限位轮，蒸镀台包括与限位轮的外周面滚动配合的转动配合柱，第二齿轮设置于转动配合柱上。
所述转轴上同轴线传动安装有传动件，传动件具有供各挡板转动安装的安装段和形成上述第一齿轮的齿轮段。
所述安装架包括竖向支架和横向支架，蒸镀台设置于横向支架上，横向支架通过上下调节结构安装于竖向支架上。
所述上下调节结构包括设置于竖向支架上的导向柱，横向支架上设置有与导向柱上下导向移动配合的导向孔，横向支架上设置有当其调节至设定高度时对其固定的固定螺钉。
本发明的有益效果：将遮挡板做成上、下贴合的分体挡板，上、下两个挡板转动安装于转轴上，各挡板与转轴之间依靠摩擦力可以在挡板不受外力时能够随转轴一起同步转动，各挡板与转轴之间摩擦力较小，在各挡板转动过程中与限位结构限位挡止时，转轴可以继续转动，此时相应挡板不能转动。通过转轴的正转和反转可以实现上、下两个挡板在遮挡位和让开位之间进行切换。上述结构的真空蒸镀设备的真空腔体相比于现有技术，可以减小真空腔体的体积，进而减小整个蒸镀设备的体积与重量，节省了生产成本。
附图说明
图1是本发明的一种真空蒸镀设备的一个实施例中的结构示意图；
图2是图1中真空腔体内部的结构示意图一；
图3是图1中真空腔体内部的结构示意图一；
图4是转轴与蒸镀台之间的传动关系的结构示意图；
图5是上挡板、下挡板与限位结构之间的配合结构示意图；
图6是上挡板的结构示意图；
图7是下挡板的结构示意图。
具体实施方式
本发明的一种真空蒸镀设备的实施例，如图1-图7所示，包括壳体1，壳体1上设置真空腔体底座2和真空腔体罩3，真空腔体底座2和真空腔体罩3围成真空腔体，真空腔体底座2设置有抽真空接头。真空腔体内部于真空腔体座2上设置有安装架4，安装架4上设置有供蒸镀件安装的蒸镀台，本实施例中蒸镀件安装于蒸镀台的下侧面上，并通过压片进行固定。真空腔体座2上还设置有蒸镀坩埚11和对蒸镀坩埚加热的加热结构，本实施例中加热结构为钨丝12。真空腔体座2上于蒸镀坩埚11与蒸镀台之间设置有能够转动的遮挡板。真空腔体座上设置有转轴7和驱动转轴转动的驱动电机13。遮挡板包括上下贴合设置的上挡板13和下挡板14。各挡板转动均转动安装于转轴上且各挡板与转轴之间依靠摩擦力能够随转轴同步转动。安装架4上设置有与各挡板限位挡止配合的限位结构，上、下挡板具有转动后相互配合对蒸镀坩埚进行遮挡的遮挡位，上、下挡板还具有反向转动后避开下方蒸镀坩埚的让开位。
限位结构包括设置于安装架上的限位挡板19，下挡板14上设有其位于遮挡位时与限位挡板限位挡止配合的第一凸起17，下挡板上还设置有其位于让开位时与限位挡板限位挡止配合的第二凸起18，上挡板13上设有其位于遮挡位时与限位挡板限位挡止配合的第三凸起15，上挡板上还设置有其位于让开位时与限位挡板限位挡止配合的第四凸起16。具体来讲，如图4所示，转轴逆时针转动时，依靠摩擦力同时带动第一挡板和第二挡板逆时针转动，当上挡板上的第三凸起与限位挡板接触时上挡板停止转动，下挡板上的第一凸起与限位挡板接触时下挡板停止转动，此时上、下挡板位于让开位。需要遮挡蒸镀坩埚时，顺时针转动转轴，依靠摩擦力同时带动第一挡板和第二挡板顺时针转动，当上挡板上的第四凸起与限位挡板接触时上挡板停止转动，下挡板上的第二凸起与限位挡板接触时下挡板停止转动，此时上、下挡板位于遮挡位。上、下挡板由让开位转至遮挡位时，上挡板的第四凸起先与限位挡板接触，上挡板先停止转动，下挡板继续转动，而后下挡板的第二凸起与限位挡板接触，下挡板停止转动，此时下挡板与上挡板上下贴合形成一个较大的遮挡板。由遮挡位转至让开位时，同样上挡板的第三凸起先与限位挡板接触，上挡板先停止转动，下挡板继续转动，而后下挡板的第一凸起与限位挡板接触，下档板再停止转动，此时上、下挡板上下部分重合。
蒸镀台转动安装于安装架上，转轴7上设置有第一齿轮9，蒸镀台上设置有与第一齿轮9啮合传动的第二齿轮22以带动蒸镀台转动。安装架4上设置有安装孔，安装架上沿安装孔的孔沿周向间隔设置有三个以上的限位轮10，蒸镀台包括与限位轮的外周面滚动配合的转动配合柱8，第二齿轮22设置于转动配合柱8上，本实施例中转动配合柱8和第二齿轮22通过螺钉连接。转轴7上同轴线传动安装有传动件，传动件具有供各挡板转动安装的安装段20和形成上述第一齿轮9的齿轮段。转轴7为六方轴结构，即横截面为六边形，传动件具有与转轴7配合的六方孔。安装架包括竖向支架5和横向支架6，蒸镀台设置于横向支架6上，限位挡板19设置于横向支架6上。本实施例中转轴不仅可以实现带动上、下挡板转动，而且还可以一直带动蒸镀台转动实现蒸镀件的均匀蒸镀，提高蒸镀件的蒸镀效果，只用一个电机就可实现上、下遮挡板的转动以及蒸镀件的转动，可以进一步缩小整个蒸镀设备的体积，同时也节省了成本。
横向支架6通过上下调节结构安装于竖向支架上。上下调节结构包括设置于竖向支架上的导向柱14，横向支架6上设置有与导向柱14上下导向移动配合的导向孔，横向支架上设置有当其调节至设定高度时对其固定的固定螺钉21。
在使用时，将蒸镀件固定于蒸镀台的下侧面上，在刚开始阶段由于蒸镀坩埚中膜料温度未达到设定温度，蒸镀效果差，通过驱动电机驱动转轴转动，使上、下挡板位于遮挡位。当蒸镀坩埚中膜料温度达到设定温度并稳定后，此时蒸镀效果好，由驱动电机带动转轴反转，使上、下挡板位于让开位进行蒸镀。采用分体式且上下贴合的两个挡板代替现有技术中的整个遮挡板，可以减小真空腔体的体积，进而减小整个蒸镀设备的体积与重量，节省了生产成本。而且，用一个电机就可实现上、下遮挡板的转动以及蒸镀件的转动，可以进一步缩小整个蒸镀设备的体积，节省成本。该结构的真空腔体及其内部结构也同样适用于溅射镀膜设备中。
在本发明的其他实施例中，在满足使用要求的前提下，横向支架和竖向支架也可以固定设置，不可进行上下高度调节；转动配合柱和第二齿轮也可以为整体加工结构；限位结构也可以由设置于安装架上的限位螺钉代替，此时限位螺钉的数量可以为四个，且用于与下挡板限位挡止的限位螺钉下上延伸的长度大于与上挡板限位挡止的限位螺钉向下延伸的长度。
Claims (7)
1.一种真空蒸镀设备，包括壳体，壳体上设置真空腔体底座和真空腔体罩，真空腔体底座和真空腔体罩围成真空腔体，真空腔体座上设置有安装架，安装架上设置有供蒸镀件安装的蒸镀台，真空腔体座上还设置有蒸镀坩埚和对蒸镀坩埚加热的加热结构，真空腔体座上于蒸镀坩埚与蒸镀台之间设置有能够转动的遮挡板，其特征在于：所述真空腔体座上设置有转轴，遮挡板包括上下贴合设置的上挡板和下挡板，各挡板均转动安装于转轴上且各挡板与转轴之间依靠摩擦力能够随转轴同步转动，安装架上设置有与各挡板限位挡止配合的限位结构，上、下挡板具有转动后相互配合对蒸镀坩埚进行遮挡的遮挡位，上、下挡板还具有反向转动后避开下方蒸镀坩埚的让开位。
2.根据权利要求1所述的真空蒸镀设备，其特征在于：所述限位结构包括设置于安装架上的限位挡板，下挡板上设有其位于遮挡位时与限位挡板限位挡止配合的第一凸起，下挡板上还设置有其位于让开位时与限位挡板限位挡止配合的第二凸起，上挡板上设有其位于遮挡位时与限位挡板限位挡止配合的第三凸起，上挡板上还设置有其位于让开位时与限位挡板限位挡止配合的第四凸起。
3.根据权利要求1或2所述的真空蒸镀设备，其特征在于：所述蒸镀台转动安装于安装架上，转轴上设置有第一齿轮，蒸镀台上设置有与第一齿轮啮合传动的第二齿轮以带动蒸镀台转动。
4.根据权利要求3所述的真空蒸镀设备，其特征在于：所述安装架上设置有安装孔，安装架上沿安装孔的孔沿周向间隔设置有三个以上的限位轮，蒸镀台包括与限位轮的外周面滚动配合的转动配合柱，第二齿轮设置于转动配合柱上。
5.根据权利要求3所述的真空蒸镀设备，其特征在于：所述转轴上同轴线传动安装有传动件，传动件具有供各挡板转动安装的安装段和形成上述第一齿轮的齿轮段。
6.根据权利要求1所述的真空蒸镀设备，其特征在于：所述安装架包括竖向支架和横向支架，蒸镀台设置于横向支架上，横向支架通过上下调节结构安装于竖向支架上。
7.根据权利要求6所述的真空蒸镀设备，其特征在于：所述上下调节结构包括设置于竖向支架上的导向柱，横向支架上设置有与导向柱上下导向移动配合的导向孔，横向支架上设置有当其调节至设定高度时对其固定的固定螺钉。
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Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN106435484A (zh) * | 2016-12-21 | 2017-02-22 | 京东方科技集团股份有限公司 | 蒸镀设备 |
| CN109371369A (zh) * | 2018-12-05 | 2019-02-22 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | 蒸镀腔结构及遮挡板结构 |
| CN109689924A (zh) * | 2016-07-13 | 2019-04-26 | 依视路国际公司 | 遮板及其使用方法 |
| CN110184569A (zh) * | 2019-07-03 | 2019-08-30 | 江苏万新光学有限公司 | 一种带可调节电子枪挡板的镀膜机 |
| CN110578116A (zh) * | 2018-06-07 | 2019-12-17 | 佳能特机株式会社 | 蒸镀装置、蒸镀方法以及电子设备的制造方法 |
| CN211522307U (zh) * | 2020-03-18 | 2020-09-18 | 郑州科探仪器设备有限公司 | 真空蒸镀设备 |
-
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Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN109689924A (zh) * | 2016-07-13 | 2019-04-26 | 依视路国际公司 | 遮板及其使用方法 |
| CN106435484A (zh) * | 2016-12-21 | 2017-02-22 | 京东方科技集团股份有限公司 | 蒸镀设备 |
| CN110578116A (zh) * | 2018-06-07 | 2019-12-17 | 佳能特机株式会社 | 蒸镀装置、蒸镀方法以及电子设备的制造方法 |
| CN109371369A (zh) * | 2018-12-05 | 2019-02-22 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | 蒸镀腔结构及遮挡板结构 |
| CN110184569A (zh) * | 2019-07-03 | 2019-08-30 | 江苏万新光学有限公司 | 一种带可调节电子枪挡板的镀膜机 |
| CN211522307U (zh) * | 2020-03-18 | 2020-09-18 | 郑州科探仪器设备有限公司 | 真空蒸镀设备 |
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