JP5497553B2 - 微粒子の皮膜形成方法及びその装置 - Google Patents
微粒子の皮膜形成方法及びその装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5497553B2 JP5497553B2 JP2010146862A JP2010146862A JP5497553B2 JP 5497553 B2 JP5497553 B2 JP 5497553B2 JP 2010146862 A JP2010146862 A JP 2010146862A JP 2010146862 A JP2010146862 A JP 2010146862A JP 5497553 B2 JP5497553 B2 JP 5497553B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- fine particles
- rotating disk
- film
- processing container
- angle
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
2 蒸着源
3 処理容器
4 微粒子
4a 皮膜
6 回転盤
6a 回転盤表面
7 バケット
8 底壁
9 周壁
10 天井壁
11 仕切壁
11a 仕切壁の基端部
12 水平面
13 回転駆動手段
14 回転盤表面に直交する軸線
15 仕切壁の基端部を通過する回転盤の直径線
R 処理容器の回転方向
α 容器角度
β 仕切壁角度
Claims (4)
- 真空チャンバ内に蒸着源及びこれと一定の位置関係に保持された処理容器を配置して、処理容器内において微粒子にこれを運動させつつ物理的蒸着により皮膜を形成するようにした微粒子の皮膜形成装置において、処理容器を、これが回転盤の外周部に複数のバケットを周方向に並列配置してなるものとし、これらバケット群が、回転盤表面に連なる環状の底壁とその外周縁部から立ち上がる筒状の周壁とその端縁部から底壁に平行して延びる環状の天井壁とこれらによって囲繞形成される環状空間を周方向に分割する複数の仕切壁とで構成されており、各バケットが、隣接する仕切壁間に形成される空間で構成されており、回転盤表面の水平面に対する角度αが1°〜75°となる傾斜状態で当該回転盤表面に直交する軸線回りで一定方向に回転させることにより、上方へと回行したバケットから回転盤表面上に放出された微粒子が当該表面上を転動しつつ流下して下方に位置するバケットに流入するようにして、微粒子に、これが回転盤表面上を転動,流下する間において、物理的蒸着による皮膜を形成するように構成したことを特徴とする微粒子の皮膜形成装置。
- 処理容器が蒸着源との位置関係を保持しつつ傾動可能であり、回転盤表面の水平面に対する角度αを1°〜75°の範囲で調整しうるように構成されていることを特徴とする、請求項1に記載する微粒子の皮膜形成装置。
- 各仕切壁が、その基端部を通過する回転盤の直径線に対して、処理容器の回転方向に0°〜45°の角度βをなすものであることを特徴とする、請求項1又は請求項2に記載する微粒子の皮膜形成装置。
- 各仕切壁がその基端部を中心として揺動可能に構成されており、上記角度βを0°〜45°の範囲で調整できるように構成されていることを特徴とする、請求項3に記載する微粒子の皮膜形成装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010146862A JP5497553B2 (ja) | 2010-06-28 | 2010-06-28 | 微粒子の皮膜形成方法及びその装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010146862A JP5497553B2 (ja) | 2010-06-28 | 2010-06-28 | 微粒子の皮膜形成方法及びその装置 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012007230A JP2012007230A (ja) | 2012-01-12 |
JP2012007230A5 JP2012007230A5 (ja) | 2013-01-24 |
JP5497553B2 true JP5497553B2 (ja) | 2014-05-21 |
Family
ID=45538089
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010146862A Active JP5497553B2 (ja) | 2010-06-28 | 2010-06-28 | 微粒子の皮膜形成方法及びその装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5497553B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6301053B2 (ja) * | 2012-08-29 | 2018-03-28 | 日立化成株式会社 | ドラムスパッタ装置 |
WO2023162503A1 (ja) * | 2022-02-22 | 2023-08-31 | 芝浦機械株式会社 | 表面処理装置 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0187065U (ja) * | 1987-11-30 | 1989-06-08 | ||
JPH0823069B2 (ja) * | 1992-06-25 | 1996-03-06 | 双葉電子工業株式会社 | 粉体攪拌器 |
JP3456562B2 (ja) * | 1996-11-11 | 2003-10-14 | 株式会社安川電機 | 固体潤滑膜の製造方法およびその装置 |
JPH10204613A (ja) * | 1997-01-21 | 1998-08-04 | Shibafu Eng Kk | 複合粉末製造装置 |
JP2007204784A (ja) * | 2006-01-31 | 2007-08-16 | Bridgestone Corp | 粒子コーティング方法及び粒子コーティング装置 |
-
2010
- 2010-06-28 JP JP2010146862A patent/JP5497553B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2012007230A (ja) | 2012-01-12 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN107429385B (zh) | 成膜装置以及成膜工件制造方法 | |
JP2020186473A (ja) | 粉末コーティング装置 | |
JP6106266B2 (ja) | 球形部品にコーティングを施すための方法およびテーブルアセンブリ | |
JP5497553B2 (ja) | 微粒子の皮膜形成方法及びその装置 | |
KR102219583B1 (ko) | 파우더 원자층 증착 장치 | |
KR102199328B1 (ko) | 분말코팅장치 | |
JPS59500304A (ja) | 発泡化されゼラチン化されたデンプン製品を製造する方法 | |
CN106661721B (zh) | 用于制造涂层的方法以及具有涂层的光电子半导体部件 | |
JP2007204784A (ja) | 粒子コーティング方法及び粒子コーティング装置 | |
JP2012007230A5 (ja) | ||
JP2009518484A5 (ja) | ||
CN104952772A (zh) | 基板处理装置及基板处理方法 | |
KR20080084140A (ko) | 진공 처리 장치 및 이를 이용한 분체의 진공 처리 방법 | |
JP2010209443A (ja) | 蒸着装置と蒸着方法 | |
JP2010153474A (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 | |
JP7136540B2 (ja) | 粉末の攪拌方法及び粉末コーティング装置 | |
JP2018035384A (ja) | 粉末コーティング装置及びその使用方法 | |
KR20170014431A (ko) | 분말코팅장치 | |
CN208033021U (zh) | 一种精细化工震动筛分装置 | |
JP6612198B2 (ja) | 粉末コーティング装置及びその使用方法 | |
JP6865071B2 (ja) | 粉末コーティング装置及びその使用方法 | |
CN206244867U (zh) | 蒸镀设备 | |
WO2017018350A1 (ja) | 粉末コーティング装置及びその使用方法 | |
JP6715003B2 (ja) | 粉末コーティング装置 | |
RU2767099C1 (ru) | Устройство для нанесения покрытий на порошковые материалы |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20121205 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20121205 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130920 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20131001 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140304 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140306 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5497553 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |