CN101760720A - 真空腔体遮挡装置 - Google Patents

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cavity body
shielding device
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杨明生
刘惠森
范继良
叶宗锋
王曼媛
王勇
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东莞宏威数码机械有限公司
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Abstract

本发明提供了一种真空腔体遮挡装置,包括支撑座、驱动机构、转动轴以及挡板,所述驱动机构包括马达、主动齿轮和从动齿轮,所述马达固定在所述支撑座上,所述马达的输出轴与所述主动齿轮枢接,所述从动齿轮与所述主动齿轮啮合,所述转动轴的一端与所述从动齿轮枢接,另一端密封地穿入所述真空腔体的腔壁并与所述挡板垂直固定连接,所述挡板容置于所述真空腔体内且位于所述真空腔体内的所述蒸发源与所述处理板之间,所述驱动机构驱动所述转动轴,所述转动轴带动所述挡板隔离或开通所述蒸发源与所述处理板的空间连接。本发明的真空腔体遮挡装置的结构简单、蒸镀的效率高且可延长蒸发源的使用寿命。

Description

真空腔体遮挡装置

技术领域

[0001] 本发明涉及一种有机发光二极管的遮挡装置,尤其涉及一种适应于有机发光二极

管的真空镀膜处理艺中对蒸发源进行遮挡的遮挡装置。 背景技术

[0002] OLED,即有机发光二极管(Organic Light-Emitting Diode),又称为有机电激光 显示(Organic Electroluminesence Display,OELD)。因为具备轻薄、省电等特性,因此在 数码产品的显示屏上得到了广泛应用,并且具有较大的市场潜力,目前世界上对OLED的应 用都聚焦在平板显示器上,因为OLED是唯一在应用上能和TFT-LCD相提并论的技术,OLED 是目前所有显示技术中,唯一可制作大尺寸、高亮度、高分辨率软屏的显示技术,可以做成 和纸张一样的厚度。其中,在OLED的制作流程中,真空镀膜工艺是OLED制作流程中一个很 重要的工艺。真空镀膜是指在真空腔体中把蒸发源加热蒸发或用加速离子轰击溅射,沉积 到基片表面形成单层或多层薄膜。因为它是关系到OLED的品质高低及寿命长短的最重要 因素之一,所以应用于真空镀膜工艺上的各种设备必须满足真空镀膜工艺的精度要求。 [0003] 现有的镀膜设备中通常是在蒸发源和处理板之间设置挡板,并通过控制机构来控 制挡板的打开和关闭,从而实现隔离蒸发源和处理板。然而,现有的控制机构都具有结构比 较复杂且生产成本高等缺点,因此,急需要一种结构简单、蒸镀效率高且能延长蒸发源寿命 的真空腔体遮挡装置。

发明内容

[0004] 本发明的目的在于提供一种结构简单、蒸镀效率高且能延长蒸发源寿命的真空腔 体遮挡装置。

[0005] 为实现上述目的,本发明的技术方案为:提供一种真空腔体遮挡装置,适用于对提 供真空镀膜的真空腔体内的蒸发源和处理板进行遮挡。所述真空腔体遮挡装置包括支撑 座、驱动机构、转动轴以及挡板,所述驱动机构包括马达、主动齿轮和从动齿轮,所述马达固 定在所述支撑座上,所述马达的输出轴与所述主动齿轮连接,所述从动齿轮与所述主动齿 轮啮合,所述转动轴的一端与所述从动齿轮枢接,另一端密封地穿入所述真空腔体的腔壁 并与所述挡板垂直固定连接,所述挡板容置于所述真空腔体内且位于所述真空腔体内的所 述蒸发源与所述处理板之间,所述驱动机构驱动所述转动轴,所述转动轴带动所述挡板隔 离或开通所述蒸发源与所述处理板的空间连接。

[0006] 较佳地,所述真空腔体遮挡装置还包括固定在所述真空腔体外壁上的磁流体,所 述转动轴的一端枢接地穿过所述磁流体并伸入所述真空腔体内。所述磁流体能有效密封所 述转动轴与所述真空腔体底部的空隙,以确保所述真空腔体具有优异的真空环境,从而满 足真空镀膜的要求。

[0007] 较佳地,所述真空腔体遮挡装置还包括固定杆,所述固定杆一端固定在所述支撑 座上,另一端固定在所述真空腔体的底部。所述固定杆可进一步加强支撑座对所述真空腔体的支撑,以稳固所述真空腔体。

[0008] 较佳地,所述挡板具有以惰性材料制成的表面。当所述挡板处于隔离状态时,所述 挡板直接面对所述蒸发源,杂质、待蒸镀及气化的蒸发材料会粘附于所述挡板的表面上,所 述挡板具有惰性材质的表面可防止杂质、待蒸镀或者气化的蒸发材料与所述挡板上的材料 发生化学反应,保证了真空腔体内的洁净状态,从而保障了待蒸镀膜层不会发生污染及变 质。

[0009] 与现有技术相比,一方面,由于驱动挡板的驱动机构仅包括马达、主动齿轮与从动 齿轮组成的齿轮组以及转动轴,从而使得本发明真空腔体遮挡装置的结构简单,因而可节 省生产成本。另一方面,由于本发明真空腔体遮挡装置的挡板一端与转动轴连接并由转动 轴驱动转动,在对处理板进行批量蒸镀时,在更换处理板的过程中,只要控制挡板遮挡或不

遮挡蒸发源就可隔离或开通蒸发源与处理板的空间连接,因而使蒸发源始终处于恒定的工 作状态,从而提高了蒸镀的效率,延长了蒸发源的使用寿命。

附图说明

[0010] 图1是本发明真空腔体遮挡装置安装在真空腔体中且处于遮挡状态的结构示意图。

[0011] 图2是图1所示真空腔体遮挡装置的挡板与转动轴连接的结构示意图。

[0012] 图3是本发明真空腔体遮挡装置安装在真空腔体中且处于非遮挡状态的结构示意图。

具体实施方式

[0013] 为了详细说明本发明真空腔体遮挡装置的技术内容、构造特征,以下结合实施方 式并配合附图作进一步说明。

[0014] 请参阅图1及图2。在图1及图2中,真空腔体10由左侧壁11、右侧壁12、底壁 13以及顶壁14围成中空密封结构,所述蒸发源30设于所述真空腔体10内的右下方,与所 述处理板40设置于所述真空腔体10内且位于所述蒸发源30上方。本发明的真空腔体遮 挡装置适用于对提供真空镀膜的真空腔体10内的蒸发源30和处理板40进行遮挡,且包括 支撑座20、驱动机构21、固定杆22、转动轴23、磁流体24以及挡板25。所述固定杆22固 定在所述支撑座20的一端,以加强对所述真空腔体10的支撑,从而稳固所述真空腔体10。 所述驱动机构21包括马达211、主动齿轮212及从动齿轮213。所述马达211固定在所述 支撑座20的另一端,且所述马达211的输出轴枢接在所述主动齿轮212中。所述从动齿轮 213与所述主动齿轮212啮合。所述转动轴23的一端与所述从动齿轮213枢接,另一端依 次枢接地穿过所述磁流体24和所述真空腔体10的底壁13伸入到所述真空腔体10内并与 所述挡板25垂直固定连接。所述挡板25呈等腰梯形状且容置于所述真空腔体10内并位 于所述真空腔体10内的所述蒸发源30与所述处理板40之间。所述驱动机构21驱动所述 转动轴23,所述转动轴23带动所述挡板25隔离或开通所述蒸发源30与所述处理板40的 空间连接。可理解地,由于所述磁流体24具有优异的密封性能,从而可有效密封所述转动 轴23与所述真空腔体10的底壁13之间的空隙,进而确保所述真空腔体10具有优异的真 空环境,满足真空镀膜的要求。

4[0015] 较佳地,所述挡板25具有以惰性材料制成的表面。当所述挡板25处于隔离状态 时,所述挡板25直接面对所述蒸发源30,杂质、待蒸镀及气化的蒸发材料会粘附于所述挡 板25的表面上,所述挡板25具有惰性材质的表面可防止杂质、待蒸镀或者气化的蒸发材料 与所述挡板25上的材料发生化学反应,保证了所述真空腔体10内的洁净状态,从而保障了 待蒸镀膜层不会发生污染及变质。

[0016] 请参阅图3,图3为本发明真空腔体遮挡装置在所述真空腔体10中处于非遮挡状 态的结构示意图。所述挡板25由所述转动轴23控制从图1中的位置旋转一百八十度到图 3所示的位置,即从所述真空腔体10的右边旋转一百八十度到所述真空腔体10的左边,使 所述蒸发源30处于未遮挡状态,这时所述蒸发源30可对所述处理板40进行蒸镀。 [0017] 下面结合图1-3对本发明真空腔体遮挡装置的工作原理作一详细说明:初始状态 时,不需要对处理板40蒸镀,蒸发源30处于打开状态,挡板25位于处理板40和蒸发源30 之间且将蒸发源30完全遮挡,使蒸发源30不能对处理板40进行蒸镀。当需要对处理板40 进行蒸镀时,马达211开启,马达211的输出轴带动与其连接的主动齿轮212旋转,而主动 齿轮212则带动与其啮合的从动齿轮213也旋转,从动齿轮213带动枢接在从动齿轮213 中的旋转轴23旋转,从而最终带动与旋转轴23固定连接的挡板25旋转,使挡板25从遮挡 蒸发源30的状态旋转到未遮挡蒸发源30的状态。此时,蒸发源30即可对处理板40进行 蒸镀。可理解地,当一块处理板40完成蒸镀后,所述马达211则控制旋转轴23,旋转轴23 则控制挡板25旋转从未遮挡状态旋转到遮挡状态,此时,可进行更换处理板40的动作,而 在此过程中,蒸发源30—直处于工作状态。更换完处理板40后,可通过相同操作对更换后 的处理板40进行蒸镀。因而,通过重复的操作,从而完成对处理板40进行批量的蒸镀。 [0018] 可理解地, 一方面,由于驱动挡板25的驱动机构21仅包括马达211、主动齿轮212 与从动齿轮213组成的齿轮组以及转动轴23,从而使得本发明真空腔体遮挡装置的结构简 单,因而可节省生产成本。另一方面,由于本发明真空腔体遮挡装置的挡板25 —端与转动 轴23连接并由转动轴23驱动转动,在对处理板40进行批量蒸镀时,在更换处理板40的过 程中,只要控制挡板25遮挡或不遮挡蒸发源30就可隔离或开通蒸发源30与处理板40的 空间连接,因而使蒸发源30始终处于恒定的工作状态,从而提高了蒸镀的效率,延长了蒸 发源30的使用寿命。

[0019] 本发明真空腔体遮挡装置所涉及蒸发源30及处理板10的具体形状,以及伺服电 机的工作原理均为本领域普通技术人员根据实际需要所熟知的,在此不再做详细的说明。 [0020] 以上所揭露的仅为本发明的较佳实例而已,当然不能以此来限定本发明之权利范 围,因此依本发明申请专利范围所作的等同变化,仍属于本发明所涵盖的范围。

Claims (5)

  1. 一种真空腔体遮挡装置,适用于对提供真空镀膜的真空腔体内的蒸发源和处理板进行遮挡,其特征在于:所述真空腔体遮挡装置包括支撑座、驱动机构、转动轴以及挡板,所述驱动机构包括马达、主动齿轮和从动齿轮,所述马达固定在所述支撑座上,所述马达的输出轴与所述主动齿轮枢接,所述从动齿轮与所述主动齿轮啮合,所述转动轴的一端与所述从动齿轮枢接,另一端密封地穿入所述真空腔体的腔壁并与所述挡板垂直固定连接,所述挡板容置于所述真空腔体内且位于所述真空腔体内的所述蒸发源与所述处理板之间,所述驱动机构驱动所述转动轴,所述转动轴带动所述挡板隔离或开通所述蒸发源与所述处理板的空间连接。
  2. 2. 如权利要求1所述的真空腔体遮挡装置,其特征在于:所述真空镀腔体遮挡装置还 包括固定在所述真空腔体外壁上的磁流体,所述转动轴的一端枢接地穿过所述磁流体并伸 入所述真空腔体内。
  3. 3. 如权利要求1所述的真空腔体遮挡装置,其特征在于:所述真空腔体遮挡装置还包 括固定杆,所述固定杆一端固定在所述支撑座上,另一端固定在所述真空腔体的底部。
  4. 4. 如权利要求1所述的真空腔体遮挡装置,其特征在于:所述马达为伺服电机。
  5. 5. 如权利要求1所述的真空腔体遮挡装置,其特征在于:所述挡板具有以惰性材料制 成的表面。
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