CN107012431A - 一种蒸镀源、蒸镀装置及蒸镀方法 - Google Patents

Abstract

本发明实施例提供一种蒸镀源、蒸镀装置及蒸镀方法，涉及真空蒸发镀膜领域，能够解决现有的掺杂蒸镀过程中，无法对同一膜层的多种蒸镀材料蒸发速率实时控制以实现膜层梯度掺杂的问题。包括至少两个相邻设置的子蒸镀源，每一个子蒸镀源包括有蒸镀坩埚以及设置在蒸镀坩埚上的蒸镀出口，在至少一个子蒸镀源的蒸镀出口覆盖有速率调节部件。速率调节部件包括透过区域，移动速率调节部件可调节透过区域与蒸镀出口的重合面积。

Description

一种蒸镀源、蒸镀装置及蒸镀方法

技术领域

本发明涉及真空蒸发镀膜领域，尤其涉及一种蒸镀源、蒸镀装置及蒸镀方法。

背景技术

真空蒸发镀膜是指在真空环境中，将待成膜物质加热蒸发或升华后，使其在低温工件或基片表面凝结或沉积，以形成镀层的工艺。待成膜物质在蒸镀坩埚内部加热蒸发或升华后，上升并通过蒸镀坩埚上方的蒸镀出口发出，待蒸镀基板匀速通过蒸镀出口处的位置，蒸发出的待成膜物质离开蒸镀坩埚后的加热后逐渐降温，蒸发运动的速度也逐渐降低，最终在待蒸镀基板的表面沉积形成膜层。

蒸镀装置的蒸镀源，根据蒸镀出口的设置数量和排列方式来划分，可以分为点蒸镀源、线蒸镀源和面蒸镀源。点蒸镀源是在蒸镀坩埚上方仅有一个蒸镀出口，成膜区域为以该蒸镀出口为中心的一个较小范围，通常应用于对尺寸较小的膜层的蒸镀成膜。线蒸镀源指的是在蒸镀坩埚上方呈线性排列多个蒸镀出口，在待蒸镀基板静止或者在待蒸镀基板匀速直线运动的情况下，通过线蒸镀源在待蒸镀基板上形成膜层的区域也为一条直线的形状。面蒸镀源指的是在蒸镀坩埚上方呈整面排布多个蒸镀出口，以使得形成膜层的区域为与整面的蒸镀出口相对应的整面区域。

对于有机显示器件，例如有机电致发光显示器件(Organic Light-EmittingDiode，OLED)，在OLED功能层以及发光层采用梯度掺杂材料制备，能够提高载流子从正、负电极处的平衡注入能力，提高激子利用率，从而提高显示器件的发光效率。

在现有的真空蒸发镀膜技术中，可以采用掺杂蒸镀的方式来蒸镀同一膜层，即采用至少两个具有不同蒸镀材料的蒸镀源，同时对待蒸镀基板进行蒸镀。但是，现有的掺杂蒸镀方式在设定各个蒸镀源的蒸镀速率后即进行掺杂蒸镀，同一膜层的掺杂蒸镀过程中，无法对各个蒸镀源中蒸镀材料的蒸发速率进行实时的调整，从而无法在同一膜层上通过改变或调节各蒸镀材料的掺杂比例实现梯度掺杂蒸镀。

发明内容

本发明实施例提供一种蒸镀源、蒸镀装置及蒸镀方法，能够解决现有的掺杂蒸镀过程中，无法对同一膜层的多种蒸镀材料蒸发速率实时控制以实现膜层梯度掺杂的问题。

为达到上述目的，本发明的实施例采用如下技术方案：

本发明实施例的一方面，提供一种蒸镀源，包括至少两个相邻设置的子蒸镀源，每一个子蒸镀源包括有蒸镀坩埚以及设置在蒸镀坩埚上的蒸镀出口，在至少一个子蒸镀源的蒸镀出口覆盖有速率调节部件。速率调节部件包括透过区域，移动速率调节部件可调节透过区域与蒸镀出口的重合面积。

进一步的，速率调节部件包括上调节板，上调节板上设置有至少一个透过孔，透过孔的孔径小于等于蒸镀出口的孔径。

进一步的，速率调节部件还包括层叠设置在上调节板下表面的下调节板，在下调节板上设置有至少一个透过孔，其中，下调节板上透过孔的设置位置、形状及孔径与上调节板上的透过孔相同。移动上调节板或下调节板以调节对应蒸镀出口的上调节板上透过孔与下调节板上透过孔的重叠面积。

优选的，上调节板与蒸镀出口的相对位置固定，下调节板相对于上调节板水平移动。

优选的，透过孔的孔径在5mm-10mm之间。

进一步的，速率调节部件设置在子蒸镀源的蒸镀坩埚内。

优选的，在每一个子蒸镀源的蒸镀出口均设置有速率调节部件。

优选的，在每一个子蒸镀源的蒸镀出口外侧均设置有速率检测传感器。在设置有速率调节部件的子蒸镀源的蒸镀坩埚内，还设置有温度调控组件，温度调控组件包括速率检测传感器和温度调节器，根据速率检测传感器的检测结果，通过温度调节器调节蒸镀坩埚内的温度。

本发明实施例的另一方面，提供一种蒸镀装置，包括上述任一项的蒸镀源。

本发明实施例的再一方面，提供一种蒸镀方法，应用于上述的蒸镀装置，包括，分别加热每一个子蒸镀源的蒸镀坩埚，使蒸镀坩埚内的蒸镀材料受热气化。分别移动每一个速率调节部件，以调节每一个速率调节部件的透过区域与对应的子蒸镀源的蒸镀出口的重叠面积。

本发明实施例提供一种蒸镀源、蒸镀装置及蒸镀方法，包括至少两个相邻设置的子蒸镀源，每一个子蒸镀源包括有蒸镀坩埚以及设置在蒸镀坩埚上的蒸镀出口，在至少一个子蒸镀源的蒸镀出口覆盖有速率调节部件。速率调节部件包括透过区域，移动速率调节部件可调节透过区域与蒸镀出口的重合面积。对待蒸镀基板进行梯度掺杂蒸镀时，蒸镀源包括有相邻设置的至少两个子蒸镀源，每一个子蒸镀源内的蒸镀材料不同，在至少一个子蒸镀源的蒸镀出口覆盖有可移动的速率调节部件，通过移动速率调节部件，改变速率调节部件上透过区域与蒸镀出口之间的重合面积，以对对应的子蒸镀源的蒸镀材料蒸发速率进行调节控制。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明实施例提供的一种蒸镀源的结构示意图；

图2为图1中区域X的俯视图之一；

图3为图1中区域X的主视图之一；

图4为图1中区域X的俯视图之二；

图5为图1中区域X的主视图之二；

图6为本发明实施例提供的一种蒸镀源中速率调节部件设置在蒸镀坩埚内的结构示意图；

图7为本发明实施例提供的一种蒸镀源中每一个子蒸镀源的蒸镀出口均设置有速率调节部件的结构示意图；

图8为本发明实施例提供的一种蒸镀源中每一个子蒸镀源的蒸镀出口外侧均设置有速率检测传感器的结构示意图；

图9为本发明实施例提供的一种蒸镀方法的流程图。

附图标记：

10-子蒸镀源；11-蒸镀坩埚；20-速率调节部件；21-透过区域；22-上调节板；23-透过孔；24-下调节板；30-待蒸镀基板；40-温度调控组件；41-速率检测传感器；42-温度调节器；X-局部放大区域；R1-蒸镀出口的孔径；R2-透过孔的孔径；a-蒸镀出口。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

本发明实施例提供一种蒸镀源，如图1所示，包括至少两个相邻设置的子蒸镀源10，每一个子蒸镀源10包括有蒸镀坩埚11以及设置在蒸镀坩埚11上的蒸镀出口a，在至少一个子蒸镀源10的蒸镀出口11覆盖有速率调节部件20。速率调节部件20包括透过区域21，移动速率调节部件20可调节透过区域21与蒸镀出口a的重合面积。

需要说明的是，第一，如图1所示，相邻设置的至少两个子蒸镀源10朝向同一块待蒸镀基板30进行掺杂蒸镀。本发明实施例的蒸镀源对于每一个子蒸镀源10的蒸镀出口a蒸镀材料的蒸出方向不做具体限定，通常情况下，如图1所示，在进行掺杂蒸镀时，至少两个设置有不同蒸镀材料的子蒸镀源10的蒸镀出口a的蒸镀方向相同。

第二，速率调节部件20包括有透过区域21。本发明实施例中对于该透过区域21的设置方式不做具体限定，只要能够通过透过区域21使蒸镀材料透过即可。例如，可以在速率调节部件20中设置的特定形状的镂空区域，作为透过区域21。此外，本发明实施例中对于速率调节部件20的材质也不做具体限制，由于在蒸镀操作进行的过程中，蒸镀装置内部处于高温真空的特殊环境，因此，考虑到速率调节部件20的使用寿命，优选的，速率调节部件20可以采用耐高温的金属材料制作。

第三，速率调节部件20设置在蒸镀坩埚11的蒸镀出口a处，移动速率调节部件20可以改变速率调节部件20上的透过区域21与其所覆盖的蒸镀坩埚11的蒸镀出口a之间的重合面积。如图1中箭头所示，透过区域21与蒸镀出口a之间重合的部分才能够使蒸镀材料透过，改变透过区域21与蒸镀出口a之间重合的面积就能够对蒸镀材料的透过速率进行调节。

第四，速率调节部件20可以在任意一个子蒸镀源10的蒸镀出口a处覆盖设置，用于调节该子蒸镀源10的蒸镀速率，也可以在每一个子蒸镀源10的蒸镀出口a处均覆盖设置，以分别对对应的子蒸镀源10的蒸镀速率进行调节，本发明实施例中对速率调节部件20的设置数量不做具体限定。

本发明实施例提供一种蒸镀源、蒸镀装置及蒸镀方法，包括至少两个相邻设置的子蒸镀源，每一个子蒸镀源包括有蒸镀坩埚以及设置在蒸镀坩埚上的蒸镀出口，在至少一个子蒸镀源的蒸镀出口覆盖有速率调节部件。速率调节部件包括透过区域，移动速率调节部件可调节透过区域与蒸镀出口的重合面积。对待蒸镀基板进行梯度掺杂蒸镀时，蒸镀源包括有相邻设置的至少两个子蒸镀源，每一个子蒸镀源内的蒸镀材料不同，在至少一个子蒸镀源的蒸镀出口覆盖有可移动的速率调节部件，通过移动速率调节部件，改变速率调节部件上透过区域与蒸镀出口之间的重合面积，以对对应的子蒸镀源的蒸镀材料蒸发速率进行调节控制。

进一步的，如图2所示，速率调节部件20包括上调节板22，上调节板22上设置有至少一个透过孔23，如图3所示，透过孔23的孔径R2小于等于蒸镀出口a的孔径R1。

这样一来，在蒸镀出口a所包括的范围内，包括有至少一个透过孔23。如图2所示，在对应蒸镀出口a的范围内包括有多个透过孔23，移动速率调节部件20的上调节板22，能够使得对应蒸镀出口a的范围内的透过孔23的数量以及蒸镀出口a与透过孔23重叠部分的面积发生改变，从而改变由蒸镀出口a通过速率调节部件20后蒸出的蒸镀材料的速率。

需要说明的是，本发明实施例的速率调节部件20中，上调节板22上设置的透过孔23的大小、形状及分布不限于如图2中所示的方式，其中，透过孔23的大小可以不相同，透过孔23的形状也不限于如图2中所示的圆孔，透过孔23在上调节板22上可以均布设置，也可以设置相邻两个透过孔23之间的距离不相同，当相邻两个透过孔23之间的距离不相同时，向不同方向移动速率调节部件20能够对蒸镀材料的透过速率进行不同大小和比例的调节。

进一步的，如图5所示，速率调节部件20还包括层叠设置在上调节板22下表面的下调节板24，在下调节板24上设置有至少一个透过孔23，其中，如图4所示，下调节板24上透过孔23的设置位置、形状及孔径与上调节板22上的透过孔23相同。移动上调节板22或下调节板24以调节对应蒸镀出口a的上调节板22上透过孔23与下调节板24上透过孔23的重叠面积。

这样一来，通过移动上调节板22或下调节板24，使得上调节板22与下调节板24之间产生相对移动，就能够对上调节板22上的透过孔23和下调节板24上的透过孔23之间的重叠面积进行调节。当速率调节部件20还包括层叠设置在上调节板22下表面的下调节板24时，只有上调节板22上的透过孔23和下调节板24上的透过孔23以及蒸镀坩埚11的蒸镀出口a三者重合的部分才能够使蒸镀材料透过，如图5中虚线包围区域的箭头所示。其中，如图4所示，下调节板24上透过孔23的设置位置、形状及孔径与上调节板22上的透过孔23相同，能够便于计算速率调节部件20中上调节板22与下调节板24之间的相对移动距离与蒸镀材料透过率之间的比例关系，从而对蒸镀材料透过率的调节更为准确。

优选的，上调节板22与蒸镀出口a的相对位置固定，下调节板24相对于上调节板22水平移动。

如图5中的双向箭头所示，下调节板24相对于上调节板22水平移动以对蒸镀坩埚11内的蒸镀材料的透过率进行调节。这样一来，当下调节板24在水平方向上相对于上调节板22移动时，由于下调节板24上的透过孔23的孔径R2小于等于蒸镀出口a的孔径R1，被下调节板24阻挡的蒸镀材料会通过蒸镀出口a掉落回蒸镀坩埚11内。从而避免当上调节板22在水平方向上相对于下调节板24移动时，被上调节板22阻挡的蒸镀材料容易堵塞在上调节板22与下调节板24之间而影响蒸镀速率的准确性的问题。

优选的，透过孔23的孔径R2设置在5mm-10mm之间。

考虑到通常情况下的蒸镀出口a的孔径R1，设置在上调节板22和/或下调节板24上的透过孔23的孔径R2设置在5mm-10mm之间。若透过孔23的孔径R2小于5mm，一方面增大了加工难度，且难以保证加工的透过孔23在误差范围之内，另一方面，孔径过小更容易导致蒸镀材料塞孔的现象发生，导致需要频繁的清理或更换速率调节部件20。若透过孔23的孔径R2大于10mm，难以保证在蒸镀出口a的范围内至少包括一个透过孔23，这样一来，对上调节板22和/或下调节板24进行微小范围的移动，就会导致蒸镀材料透过率发生一个较大的变化，难以通过速率调节部件20在较小的数值范围内对蒸镀材料透过率进行相应的调整。

进一步的，如图6所示，速率调节部件20设置在子蒸镀源10的蒸镀坩埚11内。

如图6所示，速率调节部件20设置在子蒸镀源10的蒸镀坩埚11内部对应蒸镀出口a的位置处，以对由蒸镀出口a蒸出的蒸镀材料的蒸镀速率进行控制和调节。这样能够进一步降低蒸镀材料沉积在蒸镀出口a内部的风险，从而降低蒸镀出口a发生塞孔的情况发生。

需要说明的是，设置在子蒸镀源10的蒸镀坩埚11内的速率调节部件20，与如图5所示的速率调节部件20相类似的，也可以为上调节板22与下调节板24相结合的结构，通过使上调节板22和下调节板24之间发生相对位置的移动，以对蒸镀速率进行调节。在此基础上，如图6所示，较为优选的，是使上调节板22与蒸镀出口a之间的相对位置固定，下调节板23相对于上调节板22进行相对移动，这样能够在降低蒸镀出口a由于蒸镀材料沉积发生塞孔的情况的同时，同样降低蒸镀材料沉积在上调节板22内或者沉积在上调节板22与下调节板24之间而导致速率调节部件20发生塞孔的情况。当下调节板24相对移动的过程中，被阻挡的蒸镀材料在下调节板24的下表面累积到一定量时会自行掉落回蒸镀坩埚11内部。

优选的，如图7所示，在每一个子蒸镀源10的蒸镀出口a均设置有速率调节部件20。

在对待蒸镀基板30进行多种材料的掺杂蒸镀时，蒸镀装置中通常包括有一个客体子蒸镀源10和至少一个主体子蒸镀源10，其中，客体子蒸镀源10设置在中间，至少一个主体子蒸镀源10设置在客体子蒸镀源10的邻边，客体子蒸镀源10的蒸镀坩埚11内与每一个主体子蒸镀源10的蒸镀坩埚11内均设置不同的蒸镀材料，开始对待蒸镀基板30进行蒸镀操作时，客体子蒸镀源10和至少一个主体子蒸镀源10均加热使得蒸镀材料升华或蒸发并通过蒸镀出口a向待蒸镀基板30沉积。对于不同的蒸镀产品，需要待蒸镀基板30上蒸镀成型的膜层中不同蒸镀材料保持特定的掺杂比例，因此，如图7所示，在每一个子蒸镀源10的蒸镀出口a均设置速率调节部件20，根据每一个子蒸镀源10内的蒸镀材料在掺杂蒸镀中所需的掺杂比例，通过设置的速率调节部件20对其蒸镀速率进行相应的调节，从而对掺杂蒸镀过程中的每一种蒸镀材料的掺杂比例进行控制可调节，提高掺杂蒸镀的膜层中每种蒸镀材料的掺杂比例的准确性，提高掺杂蒸镀的蒸镀效果。

优选的，如图8所示，在每一个子蒸镀源10的蒸镀出口a外侧均设置有速率检测传感器41。在设置有速率调节部件20的子蒸镀源10的蒸镀坩埚11内，还设置有温度调控组件40，温度调控组件40包括速率检测传感器41和温度调节器42，根据速率检测传感器41的检测结果，通过温度调节器42调节蒸镀坩埚11内的温度。

需要说明的是，第一，蒸镀材料在待蒸镀基板30上沉积的速率，一方面受到蒸镀出口a的开口大小的影响，蒸镀出口a的开口越大，单位时间内能够蒸发出的蒸镀材料的量越大；另一方面，也取决于蒸镀坩埚11内的加热温度。同等条件下提高蒸镀坩埚11内的加热温度，能够使得蒸镀坩埚11内的蒸镀材料的蒸发速率得到提高。同理，降低蒸镀坩埚11内的加热温度，能够降低蒸镀材料的蒸发速率。但是，如果通过改变蒸镀坩埚11内的温度以对蒸镀坩埚11内的蒸镀材料的蒸镀速率进行调节，一方面，对蒸镀速率控制的精度较低，另一方面，从改变蒸镀坩埚11内的温度到使通过蒸镀出口a的蒸镀材料的速率改变之间需要经过一个较长的反馈时间段，在这个反馈时间段内通过蒸镀出口a蒸发的蒸镀材料的速率无法控制。因此，在本发明实施例所述的梯度掺杂过程中，通常是使蒸镀坩埚11内的温度恒定，以保证蒸镀材料在蒸镀坩埚11内部的蒸发速率恒定，然后通过调节速率调节部件20来实现连续蒸镀过程中的梯度掺杂。

如图8所示，在每一个子蒸镀源10的蒸镀出口a外侧均设置有速率检测传感器41，通过速率检测传感器41对每一个子蒸镀源10的蒸镀出口a外侧的蒸镀材料速率进行检测，便于对每一个子蒸镀源10的蒸镀出口a处的蒸镀材料速率进行监控。

第二，速率检测传感器41在子蒸镀源10的蒸镀出口a外侧的具体设置位置不限于如图8所示的位置，只要尽量避免设置在蒸镀出口a的正上方而对蒸镀材料向待蒸镀基板30上的沉积造成影响即可。速率检测传感器41在如图8中虚线所示的蒸镀范围内的具体设置位置与其检测数值和在待蒸镀基板30上的实际蒸镀速率之间呈正比例关系，即，无论速率检测传感器41在如图8中虚线所示的蒸镀范围内具体设置在哪里，速率检测传感器41检测到的速率数值均与蒸镀材料在待蒸镀基板30上沉积的实际速率数值之间具有一个一一对应的比例关系，通过速率检测传感器41的设置位置以及其检测数值即可得到蒸镀材料在待蒸镀基板30上沉积的实际速率值。该对应关系可以根据在长期的生产工艺过程中得到经验数值中查表得出，也可以为根据其对应关系形成的计算公式计算得到。

如图8所示，在设置有速率调节部件20的子蒸镀源10的蒸镀坩埚11内，还设置有温度调控组件40，以对设置有速率调节部件20的子蒸镀源10的蒸镀材料蒸发速度进行反馈调节。其中，温度调控组件40包括速率检测传感器41和温度调节器42，根据速率检测传感器41检测到的结果，对温度调节器42进行反馈控制，蒸镀材料蒸发速度过快时，通过温度调节器42降低蒸镀坩埚11内的温度，从而降低蒸镀材料的蒸发速度，相反的，若蒸镀材料的蒸发速度过慢，则通过温度调节器42提高蒸镀坩埚11内的温度，从而提高蒸镀材料的蒸发速度。

此外，在设置有包括速率检测传感器41和温度调节器42的温度调控组件40的子蒸镀源10内，还可以进一步设置控制器(图8中未示出)，控制器分别与速率检测传感器41和温度调节器42之间电连接，控制器中预先设置有蒸镀材料所需的蒸发速率，当蒸镀坩埚11内通过祖率检测传感器41检测到的蒸发速率偏离预先设定的标准数值时，控制器直接根据预设条件控制温度调节器42进行相应的温度调节。

本发明实施例的另一方面，提供一种蒸镀装置，包括上述任一项的蒸镀源。

通过本发明实施例的蒸镀装置，能够在对待蒸镀基板30实施掺杂蒸镀时，通过调节速率调节部件20对子蒸镀源10的蒸镀速率进行相应的调整，从而改变(提高或者降低)待蒸镀基板30上掺杂蒸镀的同一膜层内一种或多种掺杂材料的掺杂比例。在上述对蒸镀源的结构以及工作过程的详细描述中，已经对蒸镀装置进行掺杂蒸镀的过程进行了具体的说明，此处不再赘述。

本发明实施例的再一方面，提供一种蒸镀方法，应用于上述的蒸镀装置，如图9所示，包括，S101、分别加热每一个子蒸镀源10的蒸镀坩埚11，使蒸镀坩埚11内的蒸镀材料受热气化。S102、分别移动每一个速率调节部件20，以调节每一个速率调节部件20的透过区域21与对应的子蒸镀源10的蒸镀出口a的重叠面积。

首先，分别加热每一个子蒸镀源10的蒸镀坩埚11，使每一个蒸镀坩埚11内的蒸镀材料受热气化，并通过蒸镀出口a向外蒸发。然后，根据掺杂蒸镀中对于每种蒸镀材料所需的掺杂比例，移动对应子蒸镀源10的蒸镀出口a处的速率调节部件20，改变速率调节部件20上的透过区域21与对应子蒸镀源10的蒸镀出口a的重叠面积，二者的重叠面积越多，蒸镀速率越大，反之，二者的重叠面积越少，蒸镀速率越小。从而实现通过移动速率调节部件20对子蒸镀源10内的蒸镀材料的蒸镀速率进行相应的调节。

在上述对于蒸镀源以及蒸镀装置的原理以及工作过程的说明中，已经对设置有速率调节部件20子蒸镀源10的蒸镀速率调节方法进行了详细的描述，此处不再赘述。

以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

Claims (10)

1.一种蒸镀源，其特征在于，包括：

至少两个相邻设置的子蒸镀源，每一个所述子蒸镀源包括有蒸镀坩埚以及设置在所述蒸镀坩埚上的蒸镀出口，在至少一个所述子蒸镀源的蒸镀出口覆盖有速率调节部件；

所述速率调节部件包括透过区域，移动所述速率调节部件可调节所述透过区域与所述蒸镀出口的重合面积。

2.根据权利要求1所述的蒸镀源，其特征在于，所述速率调节部件包括上调节板，所述上调节板上设置有至少一个透过孔，所述透过孔的孔径小于等于所述蒸镀出口的孔径。

3.根据权利要求2所述的蒸镀源，其特征在于，所述速率调节部件还包括层叠设置在所述上调节板下表面的下调节板，在所述下调节板上设置有至少一个透过孔，其中，所述下调节板上透过孔的设置位置、形状及孔径与所述上调节板上的透过孔相同；

移动所述上调节板或所述下调节板以调节对应所述蒸镀出口的所述上调节板上透过孔与所述下调节板上透过孔的重叠面积。

4.根据权利要求3所述的蒸镀源，其特征在于，所述上调节板与所述蒸镀出口的相对位置固定，所述下调节板相对于所述上调节板水平移动。

5.根据权利要求3所述的蒸镀源，其特征在于，所述透过孔的孔径在5mm-10mm之间。

6.根据权利要求1所述的蒸镀源，其特征在于，所述速率调节部件设置在所述子蒸镀源的蒸镀坩埚内。

7.根据权利要求1所述的蒸镀源，其特征在于，在每一个所述子蒸镀源的蒸镀出口均设置有速率调节部件。

8.根据权利要求1所述的蒸镀源，其特征在于，在每一个所述子蒸镀源的蒸镀出口外侧均设置有速率检测传感器；

在设置有速率调节部件的子蒸镀源的蒸镀坩埚内，还设置有温度调控组件，所述温度调控组件包括速率检测传感器和温度调节器，根据所述速率检测传感器的检测结果，通过所述温度调节器调节所述蒸镀坩埚内的温度。

9.一种蒸镀装置，其特征在于，包括权利要求1-8任一项所述的蒸镀源。

10.一种蒸镀方法，应用于权利要求9所述的蒸镀装置，其特征在于，包括，

分别加热每一个子蒸镀源的蒸镀坩埚，使所述蒸镀坩埚内的蒸镀材料受热气化；

分别移动每一个速率调节部件，以调节每一个所述速率调节部件的透过区域与对应的子蒸镀源的蒸镀出口的重叠面积。