CN110551980B - 可变孔径坩埚和oled成膜系统 - Google Patents

可变孔径坩埚和oled成膜系统 Download PDF

Info

Publication number
CN110551980B
CN110551980B CN201910995115.1A CN201910995115A CN110551980B CN 110551980 B CN110551980 B CN 110551980B CN 201910995115 A CN201910995115 A CN 201910995115A CN 110551980 B CN110551980 B CN 110551980B
Authority
CN
China
Prior art keywords
crucible
dispersing plate
dispersion plate
plate
dispersing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201910995115.1A
Other languages
English (en)
Other versions
CN110551980A (zh
Inventor
张冲森
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dongguan Nengte Automation Technology Co ltd
Original Assignee
Dongguan Nengte Automation Technology Co ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dongguan Nengte Automation Technology Co ltd filed Critical Dongguan Nengte Automation Technology Co ltd
Priority to CN201910995115.1A priority Critical patent/CN110551980B/zh
Publication of CN110551980A publication Critical patent/CN110551980A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN110551980B publication Critical patent/CN110551980B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24Vacuum evaporation
    • C23C14/243Crucibles for source material
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)

Abstract

本发明的实施例提供了一种可变孔径坩埚和OLED成膜系统,涉及显示技术领域。该可变孔径坩埚包括坩埚本体、分散板组和移动组件,坩埚本体具有容置腔室和与容置腔室连通的蒸镀孔,分散板组可活动地设置于坩埚本体,并用于遮盖蒸镀孔,移动组件与分散板组传动连接,用于带动分散板组运动,以调节分散板组遮挡蒸镀孔的面积。上述的可变孔径坩埚和OLED成膜系统具有结构简单和使用方便的特点,能够适用于不同成膜材料成膜厚度和成膜速度,平衡蒸镀速率稳定性和均匀性。

Description

可变孔径坩埚和OLED成膜系统
技术领域
本发明涉及显示技术领域,具体而言,涉及一种可变孔径坩埚和OLED成膜系统。
背景技术
OLED作为具有超薄、响应度高、对比度高、功耗低等优势。在OLED成膜系统中,蒸镀技术是目前产业的主流技术,在现有的OLED point source坩埚蒸发系统中,现有的OLED加热方式有:1.热传导式电阻加热:从外向内传导热量、加热均匀;升降温慢、使用金属与非金属材料。2.交频涡流加热:从内至外加热,加热速度快,加热较为均匀,适用加热金属材料。3.辐射加热:加热均匀、无材料限制等特点。
从OLED器件结构、各功能层载流子迁移率看,各种成膜材料成膜厚度、成膜速度不尽相同。为了平衡蒸镀速率稳定性和均匀性,同一坩埚需要配合不同孔径的坩埚盖子以配合蒸镀速率的调整用来满足以下需求:1.在特定速率下,获得较高的蒸镀均匀性;2.在蒸镀均匀性保障的前提下,获得稳定的高蒸发率速率;3.在保证速率稳定性及均匀性的前提下,减少塞孔发生几率。
但同时也存在零部件种类过多、操作复杂和各零部件之间的兼容性问题。
发明内容
本发明的目的包括,例如,提供了一种可变孔径坩埚和OLED成膜系统,其具有结构简单和使用方便的特点,能够适用于不同成膜材料成膜厚度和成膜速度,平衡蒸镀速率稳定性和均匀性。
本发明的实施例可以这样实现:
第一方面,本发明实施例提供一种可变孔径坩埚,包括坩埚本体、分散板组和移动组件,所述坩埚本体具有容置腔室和与所述容置腔室连通的蒸镀孔,所述分散板组可活动地设置于所述坩埚本体,并用于遮盖所述蒸镀孔,所述移动组件与所述分散板组传动连接,用于带动所述分散板组运动,以调节所述分散板组遮挡所述蒸镀孔的面积。
在可选的实施方式中,所述分散板组包括第一分散板和第二分散板,所述第一分散板和所述第二分散板均设置于所述坩埚本体,且所述第一分散板和所述第二分散板之间具有与所述蒸镀孔连通的调节空间,所述移动组件至少与所述第一分散板和所述第二分散板中的一者传动连接,用于调节所述调节空间的大小。
在可选的实施方式中,所述第一分散板与所述移动组件传动连接,所述第二分散板固定于所述坩埚本体,所述移动组件用于带动所述第一分散板靠近或远离所述第二分散板,以调节所述调节空间的大小。
在可选的实施方式中,所述第一分散板上设置有朝向所述第二分散板的凸起,所述第二分散板上设置有滑槽,所述凸起与所述滑槽围成所述调节空间,且所述凸起能够沿所述滑槽滑动。
在可选的实施方式中,所述坩埚本体上设置有滑轨,所述第一分散板和所述第二分散板中的至少一者可滑动地设置于所述滑轨上,并与所述移动组件传动连接。
在可选的实施方式中,所述移动组件包括滑动件和连杆机构,所述坩埚本体设置有与所述滑动件滑动配合的滑动部,所述连杆机构的一端与所述滑动件转动连接,另一端与所述分散板组转动连接。
在可选的实施方式中,所述连杆机构包括相互转动连接的第一连杆和第二连杆,所述第一连杆与所述滑动件转动连接,所述第二连杆与所述分散板组转动连接。
在可选的实施方式中,所述坩埚本体具有相对的第一端部和第二端部,所述蒸镀孔设置于所述第一端部或所述第二端部,所述分散板组设置于所述蒸镀孔所在所述第一端部或所述第二端部。
在可选的实施方式中,所述可变孔径坩埚还包括加热件,所述加热件设置于所述容置腔室内。
第二方面,本发明实施例提供一种OLED成膜系统,包括如前述实施方式中任一项所述的可变孔径坩埚。
本发明实施例的有益效果包括,例如:本发明提供的可变径坩埚和OLED成膜系统:坩埚本体用于形成容置腔室并用于加热,该坩埚本体还设置有与容置腔室连通的蒸镀孔,分散板组可活动地设置在蒸镀孔附近,在移动组件的带动下,分散板组能够相对该蒸镀孔运动,分散板组覆盖或遮挡蒸镀孔的面积不同,蒸镀孔用于供气流通过的空间也不同,即通过移动组件能够使该坩埚适用于不同成膜材料的成膜厚度和成膜速度,平衡蒸镀速率的稳定性和均匀性。同时,相较于现有技术,本发明提供的可变径坩埚能够实现气流通道的孔径大小。并且避免了现有技术中零部件种类过多、操作复杂和各零部件之间的兼容性问题。在本发明实施例中,坩埚能够适应不同材料、不同膜层蒸镀需要,减少了零部件,提高了坩埚通用性,降低了OLED产线备品备件成本,也提高了生产效率。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案,下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍,应当理解,以下附图仅示出了本发明的某些实施例,因此不应被看作是对范围的限定,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他相关的附图。
图1为本发明实施例所述的可变孔径坩埚的结构示意图;
图2为图1中移动组件和分散板组相互配合的结构示意图;
图3为图2中移动组件和分散板组进一步配合的结构示意图;
图4为图3中移动组件和分散板组进一步配合的结构示意图。
图标:100-可变孔径坩埚;110-坩埚本体;112-容置腔室;113-蒸镀孔;114-坩埚盖子;115-滑轨;116-滑动部;120-分散板组;121-第一分散板;1211-凸起;122-第二分散板;1221-滑槽;123-调节空间;130-移动组件;131-滑动件;132-连杆机构;1321-第一连杆;1322-第二连杆;140-加热件。
具体实施方式
为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和示出的本发明实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。
因此,以下对在附图中提供的本发明的实施例的详细描述并非旨在限制要求保护的本发明的范围,而是仅仅表示本发明的选定实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
应注意到:相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项,因此,一旦某一项在一个附图中被定义,则在随后的附图中不需要对其进行进一步定义和解释。
在本发明的描述中,需要说明的是,若出现术语“上”、“下”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,或者是该发明产品使用时惯常摆放的方位或位置关系,仅是为了便于描述本发明和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本发明的限制。
此外,若出现术语“第一”、“第二”等仅用于区分描述,而不能理解为指示或暗示相对重要性。
需要说明的是,在不冲突的情况下,本发明的实施例中的特征可以相互结合。
请参考图1和图2,本实施例提供了一种可变孔径坩埚100,用于OLED成膜系统。该可变孔径坩埚100具有结构简单和使用方便的特点,能够适用于不同成膜材料成膜厚度和成膜速度,平衡蒸镀速率稳定性和均匀性。
在本发明实施例中,该可变孔径坩埚100包括坩埚本体110、分散板组120和移动组件130,坩埚本体110具有容置腔室112和与容置腔室112连通的蒸镀孔113,分散板组120可活动地设置于坩埚本体110,并用于遮盖蒸镀孔113,移动组件130与分散板组120传动连接,用于带动分散板组120运动,以调节分散板组120遮挡蒸镀孔113的面积。
需要说明的是,本发明提供的可变径坩埚能够改变坩埚孔径的大小,其中,坩埚本体110用于形成容置腔室112并用于加热,该坩埚本体110还设置有与容置腔室112连通的蒸镀孔113,分散板组120可活动地设置在蒸镀孔113附近,在移动组件130的带动下,分散板组120能够相对该蒸镀孔113运动,分散板组120覆盖或遮挡蒸镀孔113的面积不同,蒸镀孔113用于供气流通过的空间也不同,即通过移动组件130能够使该坩埚适用于不同成膜材料的成膜厚度和成膜速度,平衡蒸镀速率的稳定性和均匀性。
同时,也需要说明的是,相较于现有技术,本发明提供的可变径坩埚能够实现气流通道的孔径大小。在现有技术中,坩埚通常配备具有不同孔径大小的盖子,通过更换不同的盖子适应不同成膜材料的成膜厚度和成膜速度。现有技术中,需要配备多个坩埚杆子,并且这些坩埚杆子均能够与坩埚进行配合,存在零部件种类过多、操作复杂和各零部件之间的兼容性问题。在本发明实施例中,坩埚能够适应不同材料、不同膜层蒸镀需要,减少了零部件,提高了坩埚通用性,降低了OLED产线备品备件成本,也提高了生产效率。
在可选的实施方式中,分散板组120包括第一分散板121和第二分散板122,第一分散板121和第二分散板122均设置于坩埚本体110,且第一分散板121和第二分散板122之间具有与蒸镀孔113连通的调节空间123,移动组件130至少与第一分散板121和第二分散板122中的一者传动连接,用于调节调节空间123的大小。
请结合参考图2至图3,也就是说,上述的第一分散板121和第二分散板122中至少一个是相对坩埚本体110运动的,移动组件130用于带动其运动。比如在某些实施例中,第一分散板121和第二分散板122均与坩埚本体110活动连接,移动组件130分别与第一分散板121和第二分散板122配合并用于带动第一分散板121和第二分散板122运动。第一分散板121和第二分散板122相互配合,并用于调整该调节空间123的大小。
可选地,第一分散板121与移动组件130传动连接,第二分散板122固定于坩埚本体110,移动组件130用于带动第一分散板121靠近或远离第二分散板122,以调节调节空间123的大小。
通过固定第二分散板122并使第一分散板121与坩埚本体110活动连接能够调整第一分散板121和第二分散板122之间的距离,同时,只需要调整第一分散板121就可以实现对调节空间123大小的调整,也简化了调整步骤,使得操作更加简便。
可选地,第一分散板121上设置有朝向第二分散板122的凸起1211,第二分散板122上设置有滑槽1221,凸起1211与滑槽1221围成调节空间123,且凸起1211能够沿滑槽1221滑动。
应当理解的是,上述的在第一分散板121上设置凸起1211,而在第二分散板122上设置与之对应的滑槽1221的方案,也可以为在第一分散板121上设置滑槽1221,而在第二分散板122上设置与之对应的凸起1211,该滑槽1221和凸起1211的配合滑动能够实现对调节空间123的调整,即通过调整凸起1211与滑槽1221之间的位置,满足不同材料、不同膜层蒸镀的需要,提高坩埚通用性,也提高了生产效率。
进一步地,坩埚本体110上可以设置有滑轨115,第一分散板121和第二分散板122中的至少一者可滑动地设置于滑轨115上,并与移动组件130传动连接。
也就是说,第一分散板121和第二分散板122可以通过滑动的方式与坩埚本体110连接。当然,并不仅限于此,在其他实施例中,也可以通过其他的方式实现第一挡板和第二挡板之间位置的调整。
在可选的实施方式中,移动组件130包括滑动件131和连杆机构132,坩埚本体110设置有与滑动件131滑动配合的滑动部116,连杆机构132的一端与滑动件131转动连接,另一端与分散板组120转动连接。
应当理解的是,该滑动件131用于沿着坩埚本体110上的滑动部116滑动,并带动连杆机构132运动,从而通过连杆机构132带动与之连接的分散板组120运动。
结合上述第一分散板121与坩埚本体110活动连接,第二分散板122与坩埚本体110固定连接的方案,连杆机构132可以与第一分散板121传动连接。进一步地,结合上述的在坩埚本体110上设置滑轨115的方案,连杆机构132能够使第一分散板121在滑轨115上来回滑动,从而调整第一分散板121和第二分散板122之间的距离,即调整调节空间123的大小,从而适应不同材料的成膜厚度和成膜速度的要求。
可选地,连杆机构132包括相互转动连接的第一连杆1321和第二连杆1322,第一连杆1321与滑动件131转动连接,第二连杆1322与分散板组120转动连接。
需要说明的是,上述的转动连接可以为铰接,或者其他的结构形式。在图2至图4中,第一连杆1321和第二连杆1322相互之间以及与滑动件131和分散板组120之间均是通过铰接的结构形式实现转动连接的。
可选地,坩埚本体110具有相对的第一端部和第二端部,蒸镀孔113设置于第一端部或第二端部,分散板组120设置于蒸镀孔113所在第一端部或第二端部。
进一步地,在第一端部或第二端部上可以设置坩埚盖子114,坩埚盖子114上可具有通孔,该通孔可以理解为上述的蒸镀孔113,该通孔的孔径可以设置为较大,通过调整第一分散板121和第二分散板122之间的距离。
在可选的实施方式中,可变孔径坩埚100还可以包括加热件140,加热件140设置于容置腔室112内。该加热件140可以为加热丝、加热管等用于加热的部件,本发明实施例中,对于加热件140的具体结构形式不做具体限定。
可选地,上述的加热件140成环状布置在容置腔室112内,其设置方式可以参考图1。当然,加热件140的布置方式也并不仅限于图1中的形式,在其他可能的实施例中,加热件140也可以为其他的布置形式。进一步地,上述的加热件140可以均匀间隔地布置在容置腔室112内,以使得加热更加均匀。
第二方面,本发明实施例提供一种OLED成膜系统,包括如前述实施方式中任一项的可变孔径坩埚100。
请结合参考图1至图4,本发明提供的可变径坩埚和OLED成膜系统:坩埚本体110用于形成容置腔室112并用于加热,该坩埚本体110还设置有与容置腔室112连通的蒸镀孔113,分散板组120可活动地设置在蒸镀孔113附近,在移动组件130的带动下,分散板组120能够相对该蒸镀孔113运动,分散板组120覆盖或遮挡蒸镀孔113的面积不同,蒸镀孔113用于供气流通过的空间也不同,即通过移动组件130能够使该坩埚适用于不同成膜材料的成膜厚度和成膜速度,平衡蒸镀速率的稳定性和均匀性。同时,相较于现有技术,本发明提供的可变径坩埚能够实现气流通道的孔径大小。并且避免了现有技术中零部件种类过多、操作复杂和各零部件之间的兼容性问题。在本发明实施例中,坩埚能够适应不同材料、不同膜层蒸镀需要,减少了零部件,提高了坩埚通用性,降低了OLED产线备品备件成本,也提高了生产效率。
以上所述,仅为本发明的具体实施方式,但本发明的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内,可轻易想到的变化或替换,都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此,本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

Claims (7)

1.一种可变孔径坩埚,其特征在于,包括坩埚本体、分散板组和移动组件,所述坩埚本体具有容置腔室和与所述容置腔室连通的蒸镀孔,所述分散板组可活动地设置于所述坩埚本体,并用于遮盖所述蒸镀孔,所述移动组件与所述分散板组传动连接,用于带动所述分散板组运动,以调节所述分散板组遮挡所述蒸镀孔的面积;
所述分散板组包括第一分散板和第二分散板,所述第一分散板和所述第二分散板均设置于所述坩埚本体,且所述第一分散板和所述第二分散板之间具有与所述蒸镀孔连通的调节空间,所述移动组件至少与所述第一分散板和所述第二分散板中的一者传动连接,用于调节所述调节空间的大小;
所述移动组件包括滑动件和连杆机构,所述坩埚本体设置有与所述滑动件滑动配合的滑动部,所述连杆机构的一端与所述滑动件转动连接,另一端与所述分散板组转动连接;
所述坩埚本体上设置有滑轨,所述第一分散板和所述第二分散板中的至少一者可滑动地设置于所述滑轨上,并与所述移动组件传动连接。
2.根据权利要求1所述的可变孔径坩埚,其特征在于,所述第一分散板与所述移动组件传动连接,所述第二分散板固定于所述坩埚本体,所述移动组件用于带动所述第一分散板靠近或远离所述第二分散板,以调节所述调节空间的大小。
3.根据权利要求1所述的可变孔径坩埚,其特征在于,所述第一分散板上设置有朝向所述第二分散板的凸起,所述第二分散板上设置有滑槽,所述凸起与所述滑槽围成所述调节空间,且所述凸起能够沿所述滑槽滑动。
4.根据权利要求1所述的可变孔径坩埚,其特征在于,所述连杆机构包括相互转动连接的第一连杆和第二连杆,所述第一连杆与所述滑动件转动连接,所述第二连杆与所述分散板组转动连接。
5.根据权利要求1-3中任一项所述的可变孔径坩埚,其特征在于,所述坩埚本体具有相对的第一端部和第二端部,所述蒸镀孔设置于所述第一端部或所述第二端部,所述分散板组设置于所述蒸镀孔所在所述第一端部或所述第二端部。
6.根据权利要求1-3中任一项所述的可变孔径坩埚,其特征在于,所述可变孔径坩埚还包括加热件,所述加热件设置于所述容置腔室内。
7.一种OLED成膜系统,其特征在于,包括如权利要求1-6中任一项所述的可变孔径坩埚。
CN201910995115.1A 2019-10-18 2019-10-18 可变孔径坩埚和oled成膜系统 Active CN110551980B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201910995115.1A CN110551980B (zh) 2019-10-18 2019-10-18 可变孔径坩埚和oled成膜系统

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201910995115.1A CN110551980B (zh) 2019-10-18 2019-10-18 可变孔径坩埚和oled成膜系统

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN110551980A CN110551980A (zh) 2019-12-10
CN110551980B true CN110551980B (zh) 2024-05-28

Family

ID=68743246

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201910995115.1A Active CN110551980B (zh) 2019-10-18 2019-10-18 可变孔径坩埚和oled成膜系统

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN110551980B (zh)

Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01127675A (ja) * 1987-11-12 1989-05-19 Mitsubishi Heavy Ind Ltd 真空蒸発装置の蒸発量制御方法
JP2003297565A (ja) * 2002-03-29 2003-10-17 Matsushita Electric Ind Co Ltd 蒸着装置
KR20070007463A (ko) * 2005-07-11 2007-01-16 엘지전자 주식회사 증착 장치
CN205329148U (zh) * 2016-02-18 2016-06-22 合肥鑫晟光电科技有限公司 一种真空蒸发源装置及真空蒸镀设备
CN107012431A (zh) * 2017-05-04 2017-08-04 京东方科技集团股份有限公司 一种蒸镀源、蒸镀装置及蒸镀方法
CN108048800A (zh) * 2018-01-26 2018-05-18 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 蒸镀坩埚和蒸镀设备
CN108193183A (zh) * 2018-03-07 2018-06-22 河北物华天宝镀膜科技有限公司 一种可调节阴极挡板
CN207716450U (zh) * 2017-11-29 2018-08-10 常州市湖塘热电有限公司 一种热电锅炉碳酸钙粉射入装置
CN208221545U (zh) * 2018-05-29 2018-12-11 江苏兴明机械制造有限公司 一种间距可调节的皮带轮
CN210683924U (zh) * 2019-10-18 2020-06-05 东莞市能特自动化科技有限公司 可变孔径坩埚和oled成膜系统

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20070178225A1 (en) * 2005-12-14 2007-08-02 Keiji Takanosu Vapor deposition crucible, thin-film forming apparatus comprising the same, and method of producing display device

Patent Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01127675A (ja) * 1987-11-12 1989-05-19 Mitsubishi Heavy Ind Ltd 真空蒸発装置の蒸発量制御方法
JP2003297565A (ja) * 2002-03-29 2003-10-17 Matsushita Electric Ind Co Ltd 蒸着装置
KR20070007463A (ko) * 2005-07-11 2007-01-16 엘지전자 주식회사 증착 장치
CN205329148U (zh) * 2016-02-18 2016-06-22 合肥鑫晟光电科技有限公司 一种真空蒸发源装置及真空蒸镀设备
CN107012431A (zh) * 2017-05-04 2017-08-04 京东方科技集团股份有限公司 一种蒸镀源、蒸镀装置及蒸镀方法
CN207716450U (zh) * 2017-11-29 2018-08-10 常州市湖塘热电有限公司 一种热电锅炉碳酸钙粉射入装置
CN108048800A (zh) * 2018-01-26 2018-05-18 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 蒸镀坩埚和蒸镀设备
CN108193183A (zh) * 2018-03-07 2018-06-22 河北物华天宝镀膜科技有限公司 一种可调节阴极挡板
CN208221545U (zh) * 2018-05-29 2018-12-11 江苏兴明机械制造有限公司 一种间距可调节的皮带轮
CN210683924U (zh) * 2019-10-18 2020-06-05 东莞市能特自动化科技有限公司 可变孔径坩埚和oled成膜系统

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
水平气流下竖直孔内IPA蒸发速率的实验研究;杨康骏;丁国良;浦晖;朱禹;胡海涛;;上海交通大学学报;20100428(第04期);540-545 *

Also Published As

Publication number Publication date
CN110551980A (zh) 2019-12-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN102165090B (zh) 有机材料的蒸发器及蒸发有机材料的方法
EP3367023A1 (en) Refrigerator and air duct device thereof
KR20060085213A (ko) 진공 기상 증착 장치
US10316401B2 (en) Vacuum evaporation device
CN110551980B (zh) 可变孔径坩埚和oled成膜系统
CN106414795A (zh) 用于展开柔性基板的辊、用于对柔性基板进行处理的设备和其操作方法
CN108463572A (zh) 用于沉积有机材料的蒸发源、设备和方法
CN210683924U (zh) 可变孔径坩埚和oled成膜系统
KR101821176B1 (ko) 기판 프로세싱 시스템들에 사용하기 위한 윈도우 조립체
JP2000503351A (ja) 薄い酸化物コーティングの製造装置
EP3356573A1 (en) Cvd apparatus
JP2007224393A (ja) 蒸着源セル、薄膜の製造方法、絞り部材、及び蒸着源加熱ヒータ
CN113564564B (zh) 原子层沉积装置
CN109898066A (zh) 长条基板的处理装置和处理方法
CN109563607A (zh) 沉积设备
US20130340679A1 (en) Vacuum deposition device
CN109898058B (zh) 一种利用饱和蒸汽压提高蒸发束流稳定性的组合坩埚和具有该坩埚的源炉
AU2018303796A1 (en) Apparatus for conducting an assay
CN107002232A (zh) 用于蒸发目的的坩锅组件
CN108677148B (zh) 蒸镀源、蒸镀装置
TWI385260B (zh) A device for storing containers at temperature
CN100503881C (zh) 真空蒸汽沉积设备
CN207362324U (zh) 高频感应加热蒸发装置
CN107703177B (zh) 一种显微镜热台及显微熔点测量仪
CN108060397A (zh) 一种基于不规则源材的表面梯度薄膜制备装置

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant