JP2019125412A5 - - Google Patents
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Description
本発明の一態様は、１０枚以上の磁気ディスクを搭載するハードディスクドライブ装置内において、前記磁気ディスクに接するように設けられるリング状のスペーサである。 前記スペーサの外周端面の表面粗さＲｚは１．５μｍ以上である。
前記外周端面には、前記スペーサの外周に沿って延びる溝が形成されている、ことが好ましい。
前記溝の深さは、平均値で２０μｍ以下である、ことが好ましい。
前記溝の深さは、平均値で２０μｍ以下である、ことが好ましい。
前記外周端面のスキューネスは、１．２以下である、ことが好ましい。
前記スペーサは、ガラスで構成されている、ことが好ましい。
また、前記スペーサは、金属で構成されている、ことも好ましい。
前記スペーサの表面に導電膜が形成されている、ことが好ましい。
また、前記導電膜は、クロム、チタン、タンタル、タングステン、これらの金属を含む合金、またはニッケル合金のいずれかを含む、ことが好ましい。
前記磁気ディスクは、磁気ディスク用ガラス基板に少なくとも磁性膜を成膜したものである、ことが好ましい。
また、前記スペーサは、金属で構成されている、ことも好ましい。
前記スペーサの表面に導電膜が形成されている、ことが好ましい。
また、前記導電膜は、クロム、チタン、タンタル、タングステン、これらの金属を含む合金、またはニッケル合金のいずれかを含む、ことが好ましい。
前記磁気ディスクは、磁気ディスク用ガラス基板に少なくとも磁性膜を成膜したものである、ことが好ましい。
本発明の他の一態様は、前記スペーサを含むハードディスクドライブ装置である。
一実施形態によれば、スペーサ１の表面に金属膜等の導電膜が形成されていることが好ましい。特に、スペーサ１がガラスで構成されている場合、スペーサ１は絶縁体であるので、静電気が磁気ディスク５やスペーサ１に溜まり易い。磁気ディスク５やスペーサ１が帯電すると異物や微粒子を吸着し易くなるほか、溜まった静電気の磁気ヘッドへの放電によって、磁気ヘッドの記録素子や再生素子が破壊されることがあるので好ましくない。したがって、静電気を除去するため、スペーサ１に電気伝導性を付与するために、スペーサ１の表面に導電膜を形成することが好ましい。導電膜は、無電解メッキ等のメッキ処理に用いる浸漬法、蒸着法またはスパッタリング法などにより形成される。導電膜の成分は、例えばクロム、チタン、タンタル、タングステン、これらの金属を含む合金、ＮｉＰ（ニッケルリン）やＮｉＷ（ニッケルタングステン）などのニッケル合金、とすることができる。ニッケル合金は非磁性とすることが好ましい。
導電膜をスペーサ１に形成する場合、通常はスペーサ１の表面全体に形成するが、静電気をスピンドル１４（図３参照）を通して外部に逃がすことができれば、必ずしもスペーサ１の全体に設けなくてもよい。磁気ディスク５と接触するスペーサ１の上下の主表面４に形成されていれば、外周端面２と内周端面３については、上下の主表面４上の導電膜を導通できるように、例えば内周端面３にだけに形成することもできる。また、スペーサ１が金属や導電性のガラスまたはセラミックスから形成されているときには、直接スペーサ１を通して磁気ディスク５に帯電する静電気を外部に逃がすことができるので、導電膜は設けなくてもよい。
導電膜の厚さは上記静電気を外部に逃がすことができる電気伝導性を有する程度でよく、例えば０．０１〜１０μｍである。このような導電膜を外周端面２に形成した場合においても、膜厚が薄いため、外周端面２における導電膜の表面粗さＲｚ、スキューネスＳｋの数値範囲は上記範囲である。
導電膜をスペーサ１に形成する場合、通常はスペーサ１の表面全体に形成するが、静電気をスピンドル１４（図３参照）を通して外部に逃がすことができれば、必ずしもスペーサ１の全体に設けなくてもよい。磁気ディスク５と接触するスペーサ１の上下の主表面４に形成されていれば、外周端面２と内周端面３については、上下の主表面４上の導電膜を導通できるように、例えば内周端面３にだけに形成することもできる。また、スペーサ１が金属や導電性のガラスまたはセラミックスから形成されているときには、直接スペーサ１を通して磁気ディスク５に帯電する静電気を外部に逃がすことができるので、導電膜は設けなくてもよい。
導電膜の厚さは上記静電気を外部に逃がすことができる電気伝導性を有する程度でよく、例えば０．０１〜１０μｍである。このような導電膜を外周端面２に形成した場合においても、膜厚が薄いため、外周端面２における導電膜の表面粗さＲｚ、スキューネスＳｋの数値範囲は上記範囲である。
Claims (11)
- １０枚以上の磁気ディスクを搭載するハードディスクドライブ装置内において、前記磁気ディスクに接するように設けられるリング状のスペーサであって、
前記スペーサの外周端面の表面粗さＲｚは１．５μｍ以上である、ことを特徴とするスペーサ。 - 前記外周端面の表面粗さＲｚは２０μｍ以下である、請求項１に記載のスペーサ。
- 前記外周端面には、前記スペーサの外周に沿って延びる溝が形成されている、請求項１又は２に記載のスペーサ。
- 前記溝の深さは、平均値で２０μｍ以下である、請求項３に記載のスペーサ。
- 前記外周端面のスキューネスは、１．２以下である、請求項１〜４のいずれか１項に記載のスペーサ。
- 前記スペーサは、ガラスで構成されている、請求項１〜５のいずれか１項に記載のスペーサ。
- 前記スペーサは、金属で構成されている、請求項１〜５のいずれか１項に記載のスペーサ。
- 前記スペーサの表面に導電膜が形成されている、請求項１〜７のいずれか１項に記載のスペーサ。
- 前記導電膜は、クロム、チタン、タンタル、タングステン、これらの金属を含む合金、またはニッケル合金のいずれかを含む、請求項８に記載のスペーサ。
- 前記磁気ディスクは、磁気ディスク用ガラス基板に少なくとも磁性膜を成膜したものである、請求項１〜９のいずれか１項に記載のスペーサ。
- 請求項１〜１０のいずれか１項に記載のスペーサを含むハードディスクドライブ装置。
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