JPH0438620A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、コンピュータ、ワープロなどの電子機器の外
部記憶装置として広く用いられている磁気ディスクなど
の磁気記録媒体の製造方法に関する。

〔従来技術〕

通常の連続薄膜媒体で構成される磁気ディスクでは磁性
層をテクスチャと呼ばれる円周状の、表面粗さＲａが５
〜２０ｎｍである微細溝を加工した非磁性基材上に形成
する。テクスチャはヘッドの粘着防止やディスクの摩擦
係数を低減するなどの友めには不可欠であるが、磁性層
の表面に凹凸を生じるため、ヘッドとの隙間が大きくな
る凹部ではヘッドからの磁界が広がることが知られてい
る。一般に、記録密度を向上させるにはヘッドと磁性層
の隙間はへラドギャップに比べて十分に小さく、且つ、
可能なかぎ９一定していることが望ましく、浮上したヘ
ッドと磁性層との隙間を一定に保つために、微粒子を磁
性層に被着するなどして凹凸を形成する保礁膜などが提
案されている（特開平１−２１１２３６号公報）。

〔発明が解決しようとする課題〕

上記従来技術は、粒径が２０ｎｍ程度の帯電した微粒子
を磁性層に被着させて凹凸を設けるものであるが、粒径
の均一性や被着粒子の分布等に問題がある。′−！た、
磁性層上に設けた凹凸はさらに炭素膜で被覆されるため
、保護膜が粒径に比べて少なくとも二倍程度は厚くなる
ことや、表面凹凸の粗さＲａが従来のテクスチャに比べ
て大きくなるなどの問題もある。

本発明の目的は、簡単な工程によシ磁性層上に均一なテ
クスチャに相当する、表面組さＲａが５〜２０ｎｍの凹
凸をもち、膜厚が１０ｎｍ〜５０ｎｍの保護膜を設けた
磁気記録媒体の製造方法を提供することにある・ 〔課題を解決するための手段〕 本発明者等は種々の研究の結果、連続薄膜からなる磁気
記録媒体の電磁変換特性を改善し、且つ、ヘッドの粘着
防止やディスクの摩擦係数の低減により耐久性を向上す
るには、磁性層を被覆する保護膜の表面にテクスチャと
同等の表面粗さで凹凸を設けることが最も効果的である
との知見を得て本発明をなすに至ったもので、上記目的
を造成するために本発明は微細な隙間をもつ障害物を介
して、化学気相成長（ＣＶＤ）、スパッタリング、イオ
ンビーム蒸着などを行い、非晶質炭素、炭素化合物、珪
素化合物、ホウ素化合物および金属酸化物あるいは金属
窒化物等の材料から成る保護膜を堆積させるか、炭素系
保護膜で被覆した磁性層の表面を酸素プラズマ発生して
エツチングする。

この場合、形成される凹凸はプラズマ反応容器等に設け
た障害物の隙間の形状を反映するもので、表面粗さＲａ
が５〜２０ｎｍの表面を保護膜に形成するには、孔径が
０．１〜１０μｍの微細な隙間をもつ障害物を基板表面
から０．２　ｍ　ｍ以内の位置に設ければよく、障害物
には、テフロン、ポリプロピレン、セルロースなどフィ
ルタ材として知られるポリマのメツシュを用いることが
できるほか、同等の孔径をもつものであれば、金属ワイ
ヤ、ガラスファイバ等ら成るメツシュを用いることもで
きる。また、凹凸状保護膜だけで十分に磁性層を被覆で
きなｈ場合は、さらに保護膜を設けるか、あるいは、予
め磁性層に保護膜を薄く設けてから凹凸状保護膜を形成
するとよい。

〔作用〕

本発明の磁気記録媒体で形成される保護膜の凹凸はプラ
ズマ反応容器等に設けた障害物の隙間の形状を反映した
もので、障害物の細孔を通してのみ保護膜が堆積、ある
いは、エツチングされるためである。従って、障害物に
、例えば、スクＩＪ−ンフィルタ等に用いられている均
一で変形がなく、孔径が０．１〜１０μｍである連続な
ポリマのメツシー等を設ければ、テクスチャに相当する
凹凸を保護膜に形成することができる。

〔実施例〕

以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明するＯ 第２図は、高周波プラズマ中でＣＶＤによシ凹凸状の硬
質炭素保護膜を形成する几めの成膜装置を示す。第Ｓ図
は、炭素系保護膜の表面をエツチングして凹凸を設ける
ためのエツチング装置を示す。第１図は、本発明の実施
例を示す磁気記録媒体の断面図を示す。

先ず、第２図を説明する。

本図に示す基板１は、少女くとも、強磁性体を主体とす
る磁性層を積層したディスク状基板で、スペーサ２によ
って高周波電極３に保持される。

マスク４は、孔径が２ｊＩｍのテフロン製のメツシー５
からなり、メツシュ５から基板１までの距離は０．１ｍ
ｍである。このプラダ１反応容器に下記の条件でＣＨ４
プラズマを発生したところ、ＣｖＤによりメツシュ形状
を反映して、表面粗さＲ＆が約１０ｎｍの凹凸をもつ非
晶質炭素から成る保護膜が形成された。

反応ガス　　ＣＨ４ 雰囲気圧　　８．０Ｐａ 投入電力　　５００Ｗ 処理時間　　１　ｍｉｎ・ 以上の実施例では保餓膜を形成するのに、ＣＨ４の高周
波プラズマの作用によるＣＶＤ法を用りた場合の例で説
明したが、非晶質炭素膜を堆積させることのできる他の
方法のすべてに適用可能である。また、保護膜は、炭素
化合物、珪累化合物、ホウ素化合物、および、金属酸化
物、あるいは、金属窒化物等の材料を用いてもよい。

次に、第３図を説明する。

本図に示す基板８は、少なくとも、強磁性体を主体とす
る磁性層に炭素系保護膜を積層したディスク状基板で、
スペーサ９＆Ｃよシ台座１０に保持される。マスク１１
は、孔径が２μｍのテフロン製のメツシュ１２からなる
。基板８とメツシュ１２０間隔はａｌｍｍである。この
プラズマ反応容器に下記の条件で０２プラズマを発生し
たとζろ、エツチングによシ炭素系保護膜の表面に凹凸
が形成された。すなわち、 反応ガス　　０２ 雰囲気圧　　ＩＺ５Ｐａ 印加電圧　　４２０ｖ 処理時間　　３０ｓｅｃ なお、上記の実施例に示す酸素プラズマは、直流放電に
より発生したものであるが、交流放電、高周波放電、マ
イクロ波放電など他の放電形式で発生した酸素プラズマ
でも同様の効果が得られることは勿論である。

続いて、第１図について説明する。

本実施例の磁気ディスクは、非磁性基材と、磁性層と、
保護層と、潤滑層とを積層した構造からなる。非磁性基
材はＡ１製のディスク用基板１４と、その上に形成した
Ｎ１−Ｐめっき膜１５とからなる。磁性層はｃｒ下地膜
１６と、Ｇｏ−Ｎｉ系合金もしくはＱ　ｏ　−Ｏｒ系合
金の磁性膜１７とからなる。保睦層は、第３図あるい＃
ｉ第１図に示す装置によシ表面粗さＲａが約１０ｎｍの
凹凸を設けた硬質炭素膜１８からなる。潤滑膜は、フッ
累系潤滑剤１９からなる。

このような磁気ディスクに実際の磁気ヘッドを適用して
耐ＣＳＳ特性の評価を行ったところ、常に、Ｃ８Ｓサイ
クル三万回以上を耐久し、テクスチャ全役けた同じ膜厚
と層構成からなる磁気ディスクの耐ＣＳＳ特性を上回る
結果を得た。

〔発明の効果〕

本発明によれば、従来のテクスチャに相当する凹凸を容
易に保護膜に形成することができる・また、本発明は、
電磁変換特性を劣化させることなくヘッドの粘着を防止
し、静摩擦係数の低い、耐久性に優れる磁気記録媒体を
提供することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例を示す磁気記録媒体の断面図
、第２図は高周波プラズマ中でＣＶＤよシ凹凸状の硬質
炭素保展膜を形成するための成膜装置の説明図、第３図
は炭素系保護膜の表面をエツチングして凹凸を設けるた
めのエツチング装置、の説明図である。 １．８・・・・・・基板、２　、９・旧・・スペーサ、
３・旧・・高周波電極、４，１１・・・・・・マスク、
５．１２・・・・・・メツシュ、６・・・・・・インピ
ーダンス整合回路、７・・・・・・高周波電源、１０・
・・・・・台座、１３・旧・・高電圧電源、１４・・・
・・・ディスク用基板、１５・旧・・Ｎ１−Ｐめっき膜
、１６・・・・・・Ｏｒ下地膜、１７・旧・・磁性膜、
１８・・・・・・硬質炭素膜、１９・・・・・・フッソ
系潤滑剤。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、非磁性基材の表面に、磁性層を形成する工程と、微
   細な隙間をもつ障害物を介して化学気相成長、スパッタ
   リング、イオンビーム蒸着等を行い、前記隙間の部分に
   対応する前記磁性層の表面に保護膜を堆積する工程とを
   含むことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 ２、非磁性基材の表面に、磁性層を形成する工程と、前
   記磁性層の表面に炭素系保護膜を形成する工程と、前記
   炭素系保護膜の表面に微細な隙間をもつ障害物を設けて
   酸素プラズマを作用させて表面に凹凸を設ける工程とを
   含むことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 ３、請求項１または２において、前記障害物は孔径が０
   ．１〜１０μｍのテフロン、ポリプロピレン、セルロー
   ス等から選ばれる連続で均一なポリマのメッシュから成
   る磁気記録媒体の製造方法。 ４、請求項１または２において、前記非磁性基材上に、
   強磁性体を主体とする磁性層と、炭素系薄膜からなる保
   護層と、潤滑層とを、順次、積層し、前記保護層に表面
   粗さＲａが５〜２０ｎｍの凹凸を形成する磁気記録媒体
   の製造方法。